JPS60169178A - ガスレ−ザ装置 - Google Patents

ガスレ−ザ装置

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Publication number
JPS60169178A
JPS60169178A JP2470584A JP2470584A JPS60169178A JP S60169178 A JPS60169178 A JP S60169178A JP 2470584 A JP2470584 A JP 2470584A JP 2470584 A JP2470584 A JP 2470584A JP S60169178 A JPS60169178 A JP S60169178A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge
discharge tube
electrodes
dielectric material
pair
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2470584A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigenori Yagi
重典 八木
Masaki Kuzumoto
昌樹 葛本
Shuji Ogawa
小川 周治
Kimiharu Yasui
公治 安井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2470584A priority Critical patent/JPS60169178A/ja
Priority to US06/699,126 priority patent/US4785458A/en
Priority to DE8585101372T priority patent/DE3582179D1/de
Priority to EP85101372A priority patent/EP0152084B1/en
Priority to CA000474118A priority patent/CA1267714A/en
Publication of JPS60169178A publication Critical patent/JPS60169178A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/0305Selection of materials for the tube or the coatings thereon

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は無声放電式のガスレーザ装置、特に管状の放
電管の材料に関するものである。
〔従来技術〕
従来、この種の装置として第1図に示すものがあった。
第1図(a)は従来の無声放電式ガスレーザ装置を示す
正面図、第1図(b)は第1図(a)の1−I。
線に泊った断面図である0図において、(1)は通常パ
イレックスガラス等よりなる管状の放電管で。
内径13憫、厚さjnal、長さ1m程度のものである
。(21、+31は放電管il+の外壁に密着する一対
の電極、(4〕は高周波電源で、電極+21. +3)
に接続される〇また。前記放電管tl+の軸方向の両対
向端にはそれぞれ全反射鏡(5)及び部分反射鏡(6)
が取り付けられている。そして、この放電管tl+は内
部に送風機(9+及び熱交換器O1を備えた送気管+7
1. +81に接続されて循環的に連通されている。矢
印nuはレーザ光を示す。
次に、C02レーザ装置を例!(とり、動作脱明する。
放電管(1)内には、Co2. He、 N2の混合ガ
スが数10〜200 TOrr、の圧力で充填されてい
る。
この放電管(1)において、電極i21 、 +31 
K高周波電源(4)より例えば100 KHz 、 8
 KV程度の電圧が印加されると第1図(t+lに示す
ように、成極12i、13)間lで無声放電が起シ、そ
の結果、放電によりCO2分子が励起され、全反射鏡(
5)と部分反射鏡(61で構成される光共撮器内でレー
ザ%mが起る。レーザ光の一部は矢印allで示される
ように部分反射鏡(6)より外部に敗シ出される。一方
、放電によりガス温度が上昇するとレーザ出力が低下す
るので、送風機(9;によりガスを循環させて熱交換器
6Gで冷却し、これにより放電管(1)内のガス温度は
所定値以下に保持されている。
ところで、無声放電における投入電力は大略下式で与え
られることが発明者らの研究によって明らかにされてい
る。
(日中etal j高周波無声放電の等価回路と放電特
性についてJ電気学会 放電研究会資料KD −82−
2γ((1982年6月))) W 由πft8M。÷−n曲叩・tllf ;電源周波
数 =1rJOKHz ε6 ;誘電体の比誘電率 〜6 ε0 ;真空の誘電率 =0.88XIQ ”Fm−’
t ;誘電体の厚さ 〜IX10−3mxD;電極の幅
 〜1o×10″″m 4 ;放電電圧 〜IKV voP;印加電圧のゼロ・ピーク値 〜5KVl ;放
電管の長さ 〜1m 従って、上にdピ載の数値の装置においては放電長さが
1mで400W程度の電力が投入され、レーザ出力は約
SOW得られる。
従来の装置は以上のように構成さjtでおり、放電管+
11の材質はパイレックス等のガラス類であるため、比
誘電率ε8が6内外であり、電力投入を増大させるには
放電長さlの増大に依るしかなかった。即ち、装置の耐
電圧からはV。Pに実用的上限があり、また電源効率の
面からはfに実用的上限があり、さらに誘電体の耐電圧
と強度からtに実用的下限があるため、放電管il+の
長さを増大させるしかなかった。このため装置のコンパ
クト化。
出力大形化がむつかしい欠点があった。
〔発明の概要〕
この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので放電管を比誘″1率20〜800の
材質の誘電体にて構成し高磁力密度の放電を実現し、信
頼性が高くコンパクトなカスレLザ装置を提供すること
を目的としている。
〔発明の実施例〕
式(1)から、ε6の高い誘電体材質を放電管に用いる
ことが、装置の高出力化・コンパクト化に最も有効であ
ることが推定されるが、ε。の最適値、あるいはその実
用的上限についてこれまでの斯界のり[究にはそれを示
唆するものは何ら存在しなかったO 発明者らは比誘電率の異なる誘電体によって放電9発振
の実験を繰返しその結果比誘電率の実用的好適条件を発
見した。以下にその結果を示す。
第2図は種々の比誘電率の放電管にかける放電状!1j
Aを示す断面図で、放電の肉眼観測状態を大別して三つ
の領域、ε。が(a)10以下、 (b)1oo前後、
 (c) 1000以上の誘電体について示したもので
ある。実験結果について以下にのべる。
(a) ε。=3(石英ガラスにて実施)およびε。=
6(ホウケイ酸ガラスにて実施)の場合 前述したように放電電力密度が小さいことと。
第2図(a)に示すように放電が電極端部に集まり。
放電中央部が若干「中抜け」となることの二つの欠点が
ある。「中抜け」放電となる影響は出力されるレーザビ
ームの形がくずれ易い難点にっなかる0 なお、ε8=3と 68−6の場合を比較すると。
「中抜け」の状況はε8の増大につれて徐々に解消され
る傾向にあり、観測結果から推測するとε=20程度で
解消するとみなせる。
(b) t8=ea + g、=tzoおよび88−1
60の場合(酸化チタンにて実施) 放電電力密度は大幅に上昇し、放電の空間的分布も一様
性にすぐれている〇 実施例において+ t=1m+ t=2+rm、ε=1
20θ で放電電力 W=5KW、発振出力0.5KWで、対称
性に優れたTFiMooモードのレーザ出力を得ている
(0) gB=1200および’s ;1600の場合
(チタンサンバリウムにて実施) 放電を開始すべく印加電圧を上昇させると、電極f21
.131の端部Qυ、すnが起点となる誘電体表面の短
絡放電a2が電源周波数100KH2では数1no v
の低電圧下でも発生し、放電電力投入が非常に難しいこ
とが判明した。これは、G8が非常に高いため。
交流的には誘電体が短絡に近くなり、すべての電圧が電
極端@121 、 GJI K集中する故であると考え
られる。
電極端部(20,G11に起因する放電破壊の抑止は端
部構造の改良−例えば端部の尖端をなくす、比較的大き
なε。を有する絶縁物で端部を被覆する等の手段−によ
って幾分は可能である。その場合の放電管内における放
電には尚二つの欠点がある。即ち、過電圧変(V□p/
Vえ)を大きくしないと放電開始しない点と、放縦が中
央に集中しやすい点である。なお、ε=f200とε、
 = 1600の場合につθ いてくわしく観測すると、ε。を小さくするに従い。
上記問題点は低減される方向にある。観測結果から推測
すると、ε8= 800程度で上記問題点はほぼ解消さ
れると推定される。また、上記の(aL (b)の場合
、過電圧変(voP/v、)を大きくすることなく放電
をスムーズに開始し得たのは、εがさほど大きくないた
め、放縦開始時に放電管内側からみて電極端部(2Il
、 GOを5感じる〃電界分布が形成され、−即ち、放
電を開始させるに足る適度な電界強度不均一性が存在し
たーことによると考えられる。
以上の実施例においては、G8として、60から160
の値のもので良好な結果が得られたが、前述したように
68として20以上800以内であればよく、電源周波
数や目的とする出力の程度に応じ。
あるいは誘電体材料の入手の難易Kしたがい好適なG8
を選定すればよい。
〔発明の効果〕
以上述べたようにこの発明によれば、放電管に比誘電率
が20〜800の誘電体を使用したので。
大幅な放電電力密度の増大を安定に行なえることとなり
、装置のコンパクト化と、出力ビームの質の向上が可能
となる。
【図面の簡単な説明】 第1図(a)(blはそれぞれ従来の無声放電式ガスレ
ーザ装置を示す正面図及び断面図、第2図(a)(b)
(c)は種々の比誘電率をもつ誘電体で構成した放電管
における放電状態を示す断面図である。 (Iし・放電管、 +21 +31・・・電極、(Iト
・・レーザ光。 なお9図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄 第 2 図 C(1) (b) (C)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 誘電体より成る管状の放電管の外壁にある一対の電極に
    交流電圧を印加して上記両電極間に放電を起こし、レー
    ザ光を発振させるものにおいて。 上記放電管を比誘電率が20〜800の誘電体で構成し
    たことを特徴とするガスレーザ装置。
JP2470584A 1984-02-13 1984-02-13 ガスレ−ザ装置 Pending JPS60169178A (ja)

Priority Applications (5)

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JP2470584A JPS60169178A (ja) 1984-02-13 1984-02-13 ガスレ−ザ装置
US06/699,126 US4785458A (en) 1984-02-13 1985-02-07 Gas laser device
DE8585101372T DE3582179D1 (de) 1984-02-13 1985-02-08 Gaslaservorrichtung.
EP85101372A EP0152084B1 (en) 1984-02-13 1985-02-08 Gas laser device
CA000474118A CA1267714A (en) 1984-02-13 1985-02-12 Gas laser device

Applications Claiming Priority (1)

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WO1988002938A1 (en) * 1986-10-15 1988-04-21 Fanuc Ltd High-frequency electric discharge excited laser
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