JPH02207578A - 気体レーザ発振器 - Google Patents
気体レーザ発振器Info
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- JPH02207578A JPH02207578A JP8928189A JP2818989A JPH02207578A JP H02207578 A JPH02207578 A JP H02207578A JP 8928189 A JP8928189 A JP 8928189A JP 2818989 A JP2818989 A JP 2818989A JP H02207578 A JPH02207578 A JP H02207578A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
- H01S3/0385—Shape
- H01S3/0387—Helical shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高周波励起される気体レーザ発振器に関するも
のである。
のである。
従来の技術
気体レーザ発振器の励起方式として最近高周波励起方式
が注目されている。この高周波励起は、直流励起方式に
比べ次に示す特徴を有する。
が注目されている。この高周波励起は、直流励起方式に
比べ次に示す特徴を有する。
（１）外部電極に構成することができ、電極は直接レー
ザガスに触れないだめに、ガスの劣化が少なく、特に化
学反応性の高いＣｏ霊レーザに良い。
ザガスに触れないだめに、ガスの劣化が少なく、特に化
学反応性の高いＣｏ霊レーザに良い。
（２）縦放電とし、対向する電極間隔を小さくできるた
め、動作電圧を従来技術の約１７１０と低くすることが
できる。従って電源の固体素子化が可能となる。
め、動作電圧を従来技術の約１７１０と低くすることが
できる。従って電源の固体素子化が可能となる。
（３）放電の拡がりと均一性が良く、出力安定性と良質
なレーザモードが得られる。
なレーザモードが得られる。
（４） リアクティブバラストであるため、エネルギ
ー変換効率が高い。
ー変換効率が高い。
以上の理由から、直流励起方式に比べ小型、高効率、高
品質なレーザ発振器となる。従って高精度切断加工を行
うＣＯクレーザに適している。
品質なレーザ発振器となる。従って高精度切断加工を行
うＣＯクレーザに適している。
従来、高周波励起気体レーザでは、第３図に示すような
電極構成が一般的に良く知られている（特公昭６０−３
１７０号公報）。
電極構成が一般的に良く知られている（特公昭６０−３
１７０号公報）。
第３図において、１は誘電体パイプで、誘電体である５
ｉＯｓ、ＡムＯｓ等の材質を用いた円筒管で構成される
。この誘電体パイプ１の外周に金属電極２．２′が同一
間隔で交互にらせん状に巻き付けられて形成されている
。これらの電極形成法は一般的に、印刷あるいは蒸着法
等により金属薄膜として施されることが多い。金属電極
２．２′ は整合器４を介して高周波電源５に接続され
ている。金属電極２．２′間に印加される高周波電界に
より誘電体パイプ１内の放電空間に放電励起される。
ｉＯｓ、ＡムＯｓ等の材質を用いた円筒管で構成される
。この誘電体パイプ１の外周に金属電極２．２′が同一
間隔で交互にらせん状に巻き付けられて形成されている
。これらの電極形成法は一般的に、印刷あるいは蒸着法
等により金属薄膜として施されることが多い。金属電極
２．２′ は整合器４を介して高周波電源５に接続され
ている。金属電極２．２′間に印加される高周波電界に
より誘電体パイプ１内の放電空間に放電励起される。
発明が解決しようとする課題
このような高周波電源を用い放電励起する様な気体レー
ザでは、レーザ電極の配置や形状によって放電状態が不
均一となり、場合によっては局所的な放電となり結果と
してレーザ出力の低下はもちろんのこと出力安定性を著
しく悪くする。最悪の場合放電は停止する。
ザでは、レーザ電極の配置や形状によって放電状態が不
均一となり、場合によっては局所的な放電となり結果と
してレーザ出力の低下はもちろんのこと出力安定性を著
しく悪くする。最悪の場合放電は停止する。
そこで、これらの問題点を解決するため放電部を拡げ均
一にするため電極の間隔を密にし、あるいは狭くして極
力不放電部をなくす工夫が行なわれている。
一にするため電極の間隔を密にし、あるいは狭くして極
力不放電部をなくす工夫が行なわれている。
しかし電極間隔を密にもしくは狭くするには限界がある
。すなわち電極間に印加される電圧は数ＫＶに達するた
め大気中に於ける絶縁破壊を起すという問題点があった
。
。すなわち電極間に印加される電圧は数ＫＶに達するた
め大気中に於ける絶縁破壊を起すという問題点があった
。
本発明は、かかる問題点を解決するためになされたもの
であり、レーザ電極の間隔を極カ短く密に構成するとと
もに、絶縁破壊のない高周波励起の気体レーザ発振器を
提供することを目的としたものである。
であり、レーザ電極の間隔を極カ短く密に構成するとと
もに、絶縁破壊のない高周波励起の気体レーザ発振器を
提供することを目的としたものである。
課題を解決するための手段
本発明は、上記課題を解決するために、放電管を構成す
る誘電体パイプの外周に対向配置される一対の金属電極
の更に外周に絶縁層を被覆したものである。
る誘電体パイプの外周に対向配置される一対の金属電極
の更に外周に絶縁層を被覆したものである。
作用
上記技術的手段による作用は次の様になる。即ち各金属
電極の電極間に絶縁層を形成することにより大気中での
電極間のインピーダンスが高くなるため、レーザ放電す
る印加電圧では大気中で絶縁破壊せず防止することがで
きる。
電極の電極間に絶縁層を形成することにより大気中での
電極間のインピーダンスが高くなるため、レーザ放電す
る印加電圧では大気中で絶縁破壊せず防止することがで
きる。
また電極表面が直接大気中に露出しないためにゴミや埃
などによる表面抵抗を下げることなく絶縁破壊を防止し
、更に電極表面の酸化防止に役立つため長寿命化できる
利点を有する。
などによる表面抵抗を下げることなく絶縁破壊を防止し
、更に電極表面の酸化防止に役立つため長寿命化できる
利点を有する。
実施例
以下本発明の実施例を、図面に基いて詳細に説明する。
第１図及び第２図は、本発明の実施例を示す断面図であ
る。同図は、同軸型気体レーザに用いられるレーザ管の
構成を示す図であり、１は石英管等の材質からなる円筒
状の誘電体パイプであって、その外周に金属電極２．２
′が印刷もしくはメタル容射等によって形成される。図
示の例では各金属電極２．２′をらせん状に巻回した例
を示したが、放電管空間６をはさんで対向配置されてい
ればどのような形状でもよい。
る。同図は、同軸型気体レーザに用いられるレーザ管の
構成を示す図であり、１は石英管等の材質からなる円筒
状の誘電体パイプであって、その外周に金属電極２．２
′が印刷もしくはメタル容射等によって形成される。図
示の例では各金属電極２．２′をらせん状に巻回した例
を示したが、放電管空間６をはさんで対向配置されてい
ればどのような形状でもよい。
放電パイプ１の外周に配置される極性の異なる金属電極
２．２′の更に外周全域に亘って絶縁層３を被覆させる
。
２．２′の更に外周全域に亘って絶縁層３を被覆させる
。
絶縁層３の材質として例えばセラミクス等を均一に金属
電極２．２′が露出しない様に被覆させれば良い。金属
電極２．２′と高周波電源５とのコンタクト部は必要部
分のみ被覆していない。
電極２．２′が露出しない様に被覆させれば良い。金属
電極２．２′と高周波電源５とのコンタクト部は必要部
分のみ被覆していない。
電極２には整合器４を介して高周波電源５がも高周波電
圧が印加され、誘電体パイプ１内の放電管空間６に流れ
るレーザガスを励起してレーザ光を取り出す。金属電極
２．２′は放電を均一に行うだめ相互の間隔を小さくし
て密に形成する。一方各金属電極２．２′間には絶縁層
３が形成されているため、各金属電極２．２′間に高周
波電圧が印加されても大気中における税縁破壊は生ぜず
、安定した放電が行われる。
圧が印加され、誘電体パイプ１内の放電管空間６に流れ
るレーザガスを励起してレーザ光を取り出す。金属電極
２．２′は放電を均一に行うだめ相互の間隔を小さくし
て密に形成する。一方各金属電極２．２′間には絶縁層
３が形成されているため、各金属電極２．２′間に高周
波電圧が印加されても大気中における税縁破壊は生ぜず
、安定した放電が行われる。
発明の効果
以上本発明によれば、誘電体パイプの外周に小さな間隔
で密に形成した一対のレーザ電極の外周部に絶縁層を被
覆することにより、電極間の絶縁破壊を防止することが
可能であり、かつ電極間隔が小さいので放電管内を均一
にしかも放電域を広げ安定に且つ確実にグロー放電が得
られ、最も効率の良い出力安定性の高い、高周波励起気
体レーザ発振器を提供することができる。また、電極の
表面劣化を防止でき寿命の長い放電管となる。
で密に形成した一対のレーザ電極の外周部に絶縁層を被
覆することにより、電極間の絶縁破壊を防止することが
可能であり、かつ電極間隔が小さいので放電管内を均一
にしかも放電域を広げ安定に且つ確実にグロー放電が得
られ、最も効率の良い出力安定性の高い、高周波励起気
体レーザ発振器を提供することができる。また、電極の
表面劣化を防止でき寿命の長い放電管となる。
第１図は、本発明の一実施例である気体レーザ管の断面
側面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線断面図、第３図は従
来例の高周波気体レーザのレーザ管構成を示す斜視図で
ある。 １・・・誘電体パイプ、２・・・金属電極、３・・・絶
縁層、４・・・整合器、５・・・高周波電源。
側面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線断面図、第３図は従
来例の高周波気体レーザのレーザ管構成を示す斜視図で
ある。 １・・・誘電体パイプ、２・・・金属電極、３・・・絶
縁層、４・・・整合器、５・・・高周波電源。
Claims (2)
- （１）誘電体で形成された放電管と、前記放電管の外周
面に対向配置された一対の電極と、前記放電管および一
対の電極の外周部全域にわたって形成された絶縁層と、
前記一対の電極間に高周波電圧を印加して前記電極間の
放電管内部に放電を発生させる手段とを具備したことを
特徴とする気体レーザ発振器。 - （２）一対の金属電極がらせん状に巻回されている請求
項１記載の気体レーザ発振器。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8928189A JPH02207578A (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | 気体レーザ発振器 |
| US07/473,524 US5172389A (en) | 1989-02-07 | 1990-02-01 | Gas laser apparatus |
| EP90301293A EP0382510A1 (en) | 1989-02-07 | 1990-02-07 | Gas laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8928189A JPH02207578A (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | 気体レーザ発振器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02207578A true JPH02207578A (ja) | 1990-08-17 |
Family
ID=12241746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8928189A Pending JPH02207578A (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | 気体レーザ発振器 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5172389A (ja) |
| EP (1) | EP0382510A1 (ja) |
| JP (1) | JPH02207578A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR960016183B1 (ko) * | 1991-07-29 | 1996-12-04 | Fanuc Ltd | 레이저용 방전관 |
| EP0553687B1 (en) * | 1992-01-22 | 1996-12-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laser apparatus |
| US6751847B1 (en) * | 1999-11-04 | 2004-06-22 | Fsu Research Foundation, Inc. | Laser-assisted fabrication of NMR resonators |
| US6810061B2 (en) * | 2001-08-27 | 2004-10-26 | Komatsu Ltd. | Discharge electrode and discharge electrode manufacturing method |
| US6757309B1 (en) * | 2001-11-07 | 2004-06-29 | Laser Diode Array, Inc. | Low inductance laser diode arrays, laser diode array assemblies, and fabrication thereof |
| DE102007020427B4 (de) * | 2007-04-27 | 2012-10-04 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | Laserentladungsrohr für einen Gaslaser und Herstellungsverfahren dafür |
| US10593776B2 (en) | 2016-05-05 | 2020-03-17 | Auroma Technologies, Co., Llc. | Dielectric electrode assembly and method of manufacture thereof |
| US10333268B2 (en) * | 2016-05-05 | 2019-06-25 | Access Laser | Dielectric electrode assembly and method of manufacture thereof |
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Family Cites Families (14)
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| US4618961A (en) * | 1982-12-16 | 1986-10-21 | Sutter Jr Leroy V | Configuration of electrodes for transversely excited gas lasers |
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| US4589114A (en) * | 1984-06-19 | 1986-05-13 | Sutter Jr Leroy V | Optical mode control for a gas laser |
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| US4764932A (en) * | 1985-12-13 | 1988-08-16 | Continental Laser Corporation | Ion laser having direct liquid cooling of segmented discharge tube |
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| US4689798A (en) * | 1986-07-31 | 1987-08-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army | Transverse ring RF line for CO2 laser |
| JPS6360577A (ja) * | 1986-09-01 | 1988-03-16 | Mitsubishi Electric Corp | 無声放電式ガスレ−ザ装置 |
| JPS6398163A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-04-28 | Fanuc Ltd | 交流放電管 |
-
1989
- 1989-02-07 JP JP8928189A patent/JPH02207578A/ja active Pending
-
1990
- 1990-02-01 US US07/473,524 patent/US5172389A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-07 EP EP90301293A patent/EP0382510A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6466983A (en) * | 1987-09-07 | 1989-03-13 | Komatsu Mfg Co Ltd | Gas laser device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0382510A1 (en) | 1990-08-16 |
| US5172389A (en) | 1992-12-15 |
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