JPH04211184A - 放電励起エキシマレーザ装置 - Google Patents
放電励起エキシマレーザ装置Info
- Publication number
- JPH04211184A JPH04211184A JP3038495A JP3849591A JPH04211184A JP H04211184 A JPH04211184 A JP H04211184A JP 3038495 A JP3038495 A JP 3038495A JP 3849591 A JP3849591 A JP 3849591A JP H04211184 A JPH04211184 A JP H04211184A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- dielectric
- main discharge
- discharge
- flat plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005284 excitation Effects 0.000 title 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 6
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000005224 laser annealing Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［０００１１
【産業上の利用分野］本発明は、一対の主放電電極とと
もに補助電極を備えた放電励起エキシマレーザ装置に関
する。 ［０００２］ 【従来の技術】この種の従来技術としては、特開昭６１
９１９８２号公報に記載されたものがある。この特開昭
６１−９１９８２号公報によれば、放電励起エキシマレ
ーザ装置において、従来誘電体を構成するものとして用
いられてきた石英の代わりに、レーザガスに対して不活
性なアルミナセラミックスを用いて、レーザガスの長寿
命化を図る技術が開示されている。 ［０００３］
もに補助電極を備えた放電励起エキシマレーザ装置に関
する。 ［０００２］ 【従来の技術】この種の従来技術としては、特開昭６１
９１９８２号公報に記載されたものがある。この特開昭
６１−９１９８２号公報によれば、放電励起エキシマレ
ーザ装置において、従来誘電体を構成するものとして用
いられてきた石英の代わりに、レーザガスに対して不活
性なアルミナセラミックスを用いて、レーザガスの長寿
命化を図る技術が開示されている。 ［０００３］
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の放
電励起エキシマレーザ装置において、レーザ出力を高め
るためには、主放電電極と補助放電電極との間における
補助放電時の予備電離、すなわち補助電極からの紫外発
光による光電離効果と主放電空間への電子供給とを活発
化させることが必要である。 ［０００４］そして、このためには、■主放電電極およ
び補助放電電極間における電圧の立ち上がりを早める、
■誘電体の誘電率を高める、■誘電体の断面厚を薄くす
る、■誘電体と電極の密着性を良好にする必要があった
。また、電極間の絶縁性能を高める等の技術的課題があ
った。 ［０００５］Ｌかし、前記公報をはじめとする従来技術
においては、これらの点が十分に配慮されてはおらず、
特に前記■および■の誘電体の形状については無関心で
あった。 ［０００６］すなわち、従来技術において、補助電極を
囲む誘電体形状は、円筒状（丸型パイフ）あるいは平板
状のものであるため、補助電極と接触する内面が弯曲で
あるため研磨加工が困難であったり、内部への補助電極
の収容作業が煩雑である等の難点があった。 ［０００７］また、高出力を得るために３０ｋＶ程度の
高電圧を印加した場合に、前記形状の誘電体構造では絶
縁破壊を生じる可能性があった。 ［０００８］ これに対し、特公昭６３−６４０６９号
公報には、管状に構成された誘電体を用い、この管状誘
電体内に冷却用媒体を封入した放電励起パルスレーザが
記載されている。この公報では、誘電体を管状にしてそ
の内部に冷却用媒体を封入したことを主題としており、
誘電体を角型パイプ状にすべき旨の記載は全くない。 ［０００９］
電励起エキシマレーザ装置において、レーザ出力を高め
るためには、主放電電極と補助放電電極との間における
補助放電時の予備電離、すなわち補助電極からの紫外発
光による光電離効果と主放電空間への電子供給とを活発
化させることが必要である。 ［０００４］そして、このためには、■主放電電極およ
び補助放電電極間における電圧の立ち上がりを早める、
■誘電体の誘電率を高める、■誘電体の断面厚を薄くす
る、■誘電体と電極の密着性を良好にする必要があった
。また、電極間の絶縁性能を高める等の技術的課題があ
った。 ［０００５］Ｌかし、前記公報をはじめとする従来技術
においては、これらの点が十分に配慮されてはおらず、
特に前記■および■の誘電体の形状については無関心で
あった。 ［０００６］すなわち、従来技術において、補助電極を
囲む誘電体形状は、円筒状（丸型パイフ）あるいは平板
状のものであるため、補助電極と接触する内面が弯曲で
あるため研磨加工が困難であったり、内部への補助電極
の収容作業が煩雑である等の難点があった。 ［０００７］また、高出力を得るために３０ｋＶ程度の
高電圧を印加した場合に、前記形状の誘電体構造では絶
縁破壊を生じる可能性があった。 ［０００８］ これに対し、特公昭６３−６４０６９号
公報には、管状に構成された誘電体を用い、この管状誘
電体内に冷却用媒体を封入した放電励起パルスレーザが
記載されている。この公報では、誘電体を管状にしてそ
の内部に冷却用媒体を封入したことを主題としており、
誘電体を角型パイプ状にすべき旨の記載は全くない。 ［０００９］
【課題を解決するための手段】本発明は、レーザ出力を
高め、かつ、絶縁性能を高めるため、以下のような手段
をとった。 ［００１０１すなわち、本発明の装置は、レーザ光軸を
長手方向としてこのレーザ光軸を隔てて相対向するよう
に配置された一対の主放電電極と、この一対の主放電電
極の外側で、しかも、一方の主放電電極に対向して配置
された誘電体と、この誘電体を介して前記一方の主放電
電極に対向した補助電極とを備え、前記誘電体は筒状に
形成されているとともに主放電電極に対向した側が平板
状部となっており、前記補助電極は誘電体内に空間を残
した形で内包され、しかも、前記平板状部を挟んで前記
一方の主放電電極に対向していることを特徴とする放電
励起エキシマレーザ装置である。 ［００１１］
高め、かつ、絶縁性能を高めるため、以下のような手段
をとった。 ［００１０１すなわち、本発明の装置は、レーザ光軸を
長手方向としてこのレーザ光軸を隔てて相対向するよう
に配置された一対の主放電電極と、この一対の主放電電
極の外側で、しかも、一方の主放電電極に対向して配置
された誘電体と、この誘電体を介して前記一方の主放電
電極に対向した補助電極とを備え、前記誘電体は筒状に
形成されているとともに主放電電極に対向した側が平板
状部となっており、前記補助電極は誘電体内に空間を残
した形で内包され、しかも、前記平板状部を挟んで前記
一方の主放電電極に対向していることを特徴とする放電
励起エキシマレーザ装置である。 ［００１１］
【作用】前記した手段によれば、前記誘電体が筒状に形
成されて主放電電極に対向した側が平板状部となってお
り、前記補助電極が誘電体内に空間を残した形で内包さ
れ、しかも、前記平板状部を挟んで前記一方の主放電電
極に対向しているようにしたことで、絶縁性能を上げる
ことができる。 ［００１２］そして、前記平板状部の少なくとも一方の
表面が鏡面研磨されていると、この表面に主放電電極あ
るいは前記補助電極を密着させることができる。誘電体
を前記構成として、平板状部を薄くすると、予備電離電
子密度を大きくすることが可能となる。 ［００１３］表面研磨の程度は、表面の凹凸の高低差が
１００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下にするのがよ
い。 ［００１４］また、前記誘電体を平板状部を少なくとも
有する筒状とくに角型パイプ状にすることにより、絶縁
性能を向上でき、さらに、補助電極の収容工程も簡素化
できる。また、角型パイプの中でも、平板状部の両側か
らそれぞれ壁部を平板状部の一方に向けて延出させた断
面口字状の棒状部材と、この口字状の棒状部材の開放側
を覆って角形パイプ状とする平板状の蓋体部材とで誘電
体を構成することで、電極と接する口字状の平板状部両
面を研磨でき、レーザ出力を高められる。さらに角型パ
イプの形成が容易になる。 ［００１５１本発明で使用する誘電体の種類としては、
アルミナセラミックス等のセラミックス、石英ガラス、
ホウケイ酸ガラス（例えば、ダウコーニング社製、商品
名パイレックス）、チタン酸ストロンチウムなどの無機
材料などを例示できる。 ［００１６］
成されて主放電電極に対向した側が平板状部となってお
り、前記補助電極が誘電体内に空間を残した形で内包さ
れ、しかも、前記平板状部を挟んで前記一方の主放電電
極に対向しているようにしたことで、絶縁性能を上げる
ことができる。 ［００１２］そして、前記平板状部の少なくとも一方の
表面が鏡面研磨されていると、この表面に主放電電極あ
るいは前記補助電極を密着させることができる。誘電体
を前記構成として、平板状部を薄くすると、予備電離電
子密度を大きくすることが可能となる。 ［００１３］表面研磨の程度は、表面の凹凸の高低差が
１００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下にするのがよ
い。 ［００１４］また、前記誘電体を平板状部を少なくとも
有する筒状とくに角型パイプ状にすることにより、絶縁
性能を向上でき、さらに、補助電極の収容工程も簡素化
できる。また、角型パイプの中でも、平板状部の両側か
らそれぞれ壁部を平板状部の一方に向けて延出させた断
面口字状の棒状部材と、この口字状の棒状部材の開放側
を覆って角形パイプ状とする平板状の蓋体部材とで誘電
体を構成することで、電極と接する口字状の平板状部両
面を研磨でき、レーザ出力を高められる。さらに角型パ
イプの形成が容易になる。 ［００１５１本発明で使用する誘電体の種類としては、
アルミナセラミックス等のセラミックス、石英ガラス、
ホウケイ酸ガラス（例えば、ダウコーニング社製、商品
名パイレックス）、チタン酸ストロンチウムなどの無機
材料などを例示できる。 ［００１６］
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。 ［００１７］図１、図２において、Ｚはレーザ光の光軸
方向を示しており、この光軸を隔てて一対の主放電電極
、すなわち陽極１と陰極２とが互いに相対向するように
配置されている。陰極２は、格子状にあるいは櫛形状に
形成されている。この陰極２に対向して、陽極１と陰極
２の外側に誘電体３が配置されている。 ［００１８］前記誘電体３は、材質がセラミックスで、
図３に示したように、陰極２に対向した平板状部３ａの
両側からそれぞれ壁部３ｂを平板状部３ａの一方に向け
て延出させた断面口字状の棒状部材３ｃと、との口字状
の棒状部材３ｃの開放側を覆う平板状の蓋体部材３ｄと
を接合して角型パイプ状に形成されている。ここで、平
板状部３ａの両表面は高低差が５μｍ程度となるように
鏡面研磨されている。なお、棒状部材３ａと蓋体部材３
ｄの接合面にも鏡面加工を施すことが望ましい。これに
よって、境界面からの絶縁劣化を抑止することができる
。 ［００１９］そして、平板状部３ａの外側表面に前記陰
極２が密着されている。一方、この陰極２に対向し、か
つ平板状部３ａを挟む形で、断面偏平形状の補助電極４
が誘電体３内に空間Ｃを残して内包されている。この補
助電極４は前記平板状部３ａの内面に沿ってこの内面に
密着している。 ［００２０１なお、図１中、Ａは陽極１および補助電極
４と接続される電極端子、Ｂは陰極２と接続される電極
端子である。 ［００２１］次に、前記装置構造でのレーザ発生動作を
説明する。まず、電極端子ＡおよびＢに高電圧かつ短パ
ルス、たとえば３０ｋＶ程度で１００ｎｓｅｃ程度のパ
ルス状電圧が印加されると、このパルスの立ち上がり部
分において、陰極２−補助電極４間がコンデンサとして
機能して補助放電が発生する。この補助放電は、誘電体
３を経て陰極２の開口部において生じるコロナ放電であ
る。 このとき、本実施例による装置構造では、前記の如く陰
極２及び補助電極４と誘電体３との間の密着性が高く、
陰極２、誘電体３、補助電極４により形成されるコンデ
ンサの容量が向上しているため、大きいコロナ放電電流
が流れる（図４、ａ−ｂ間）。 ［００２２］ この補助放電（コロナ放電）から発生さ
れる紫外光による光電離効果と、放電からの電子が陰極
２を経て主放電空間Ｓに移動する効果によって、この主
放電空間Ｓには多量の電子が供給される（予備電離）。 ［００２３１次に、電極端子Ａ、 Ｂ間に印加されるパ
ルス電圧がさらに上昇すると、主放電が開始される（図
４、ｂ点）。このとき、この主放電空間Ｓに供給された
レーザガスが励起され、レーザ光が第１図のＺ方向に発
振する。なお、図４ （ｂ点）は１５〜３０ＫＶである
。 ［００２４］ ここで、レーザガスとしては、ＫｒＦエ
キシマレーザ装置の場合には、Ｈｅ、 Ｎｅ、 Ｋｒ、
Ｆ２を所定比率で混合したものが使用される。そして
、このレーザガスの種類を代えることによってレーザ光
の発振波長を変更することができる。本実施例では、こ
のようなＫｒＦエキシマレーザの他、ＸｅＣ１，ＡｒＦ
エキシマレーザ等を用いることができる。 ［００２５］平板状部の両側からそれぞれ壁部を平板状
部の一方に向けて延出させた断面コ字状の棒状部材と、
このコ字状の棒状部材の開放側を覆う平板状の蓋体部材
とで角型パイプ状の誘電体とした実施例では、入力エネ
ルギー４．８Ｊに対し、出力エネルギー１４０ｍＪが得
られ、効率３％と高効率な発振を行えた。 ［００２６］
する。 ［００１７］図１、図２において、Ｚはレーザ光の光軸
方向を示しており、この光軸を隔てて一対の主放電電極
、すなわち陽極１と陰極２とが互いに相対向するように
配置されている。陰極２は、格子状にあるいは櫛形状に
形成されている。この陰極２に対向して、陽極１と陰極
２の外側に誘電体３が配置されている。 ［００１８］前記誘電体３は、材質がセラミックスで、
図３に示したように、陰極２に対向した平板状部３ａの
両側からそれぞれ壁部３ｂを平板状部３ａの一方に向け
て延出させた断面口字状の棒状部材３ｃと、との口字状
の棒状部材３ｃの開放側を覆う平板状の蓋体部材３ｄと
を接合して角型パイプ状に形成されている。ここで、平
板状部３ａの両表面は高低差が５μｍ程度となるように
鏡面研磨されている。なお、棒状部材３ａと蓋体部材３
ｄの接合面にも鏡面加工を施すことが望ましい。これに
よって、境界面からの絶縁劣化を抑止することができる
。 ［００１９］そして、平板状部３ａの外側表面に前記陰
極２が密着されている。一方、この陰極２に対向し、か
つ平板状部３ａを挟む形で、断面偏平形状の補助電極４
が誘電体３内に空間Ｃを残して内包されている。この補
助電極４は前記平板状部３ａの内面に沿ってこの内面に
密着している。 ［００２０１なお、図１中、Ａは陽極１および補助電極
４と接続される電極端子、Ｂは陰極２と接続される電極
端子である。 ［００２１］次に、前記装置構造でのレーザ発生動作を
説明する。まず、電極端子ＡおよびＢに高電圧かつ短パ
ルス、たとえば３０ｋＶ程度で１００ｎｓｅｃ程度のパ
ルス状電圧が印加されると、このパルスの立ち上がり部
分において、陰極２−補助電極４間がコンデンサとして
機能して補助放電が発生する。この補助放電は、誘電体
３を経て陰極２の開口部において生じるコロナ放電であ
る。 このとき、本実施例による装置構造では、前記の如く陰
極２及び補助電極４と誘電体３との間の密着性が高く、
陰極２、誘電体３、補助電極４により形成されるコンデ
ンサの容量が向上しているため、大きいコロナ放電電流
が流れる（図４、ａ−ｂ間）。 ［００２２］ この補助放電（コロナ放電）から発生さ
れる紫外光による光電離効果と、放電からの電子が陰極
２を経て主放電空間Ｓに移動する効果によって、この主
放電空間Ｓには多量の電子が供給される（予備電離）。 ［００２３１次に、電極端子Ａ、 Ｂ間に印加されるパ
ルス電圧がさらに上昇すると、主放電が開始される（図
４、ｂ点）。このとき、この主放電空間Ｓに供給された
レーザガスが励起され、レーザ光が第１図のＺ方向に発
振する。なお、図４ （ｂ点）は１５〜３０ＫＶである
。 ［００２４］ ここで、レーザガスとしては、ＫｒＦエ
キシマレーザ装置の場合には、Ｈｅ、 Ｎｅ、 Ｋｒ、
Ｆ２を所定比率で混合したものが使用される。そして
、このレーザガスの種類を代えることによってレーザ光
の発振波長を変更することができる。本実施例では、こ
のようなＫｒＦエキシマレーザの他、ＸｅＣ１，ＡｒＦ
エキシマレーザ等を用いることができる。 ［００２５］平板状部の両側からそれぞれ壁部を平板状
部の一方に向けて延出させた断面コ字状の棒状部材と、
このコ字状の棒状部材の開放側を覆う平板状の蓋体部材
とで角型パイプ状の誘電体とした実施例では、入力エネ
ルギー４．８Ｊに対し、出力エネルギー１４０ｍＪが得
られ、効率３％と高効率な発振を行えた。 ［００２６］
【発明の効果】本発明によれば、放電励起エキシマレー
ザ装置において、誘電体が筒状に形成されているととも
に主放電電極に対向した側が平板状部となっており、補
助電極が誘電体内に空間を残した形で内包され、しかも
、前記平板状部を挟んで前記一方の主放電電極に対向す
るようにしたので、予備電離電子密度を増大させてレー
ザ光の出力を高めることができ、絶縁性能も良好とする
ことができる。従って、高出力を必要とする用途に好適
に使用できる。 ［００２７］また、本発明のエキシマレーザ装置は例え
ばリソグラフィー用光源、各種材料の微細加工（各種材
料の穴明は加工や表面改質を含む）、レーザーアニール
等に用いることができる。
ザ装置において、誘電体が筒状に形成されているととも
に主放電電極に対向した側が平板状部となっており、補
助電極が誘電体内に空間を残した形で内包され、しかも
、前記平板状部を挟んで前記一方の主放電電極に対向す
るようにしたので、予備電離電子密度を増大させてレー
ザ光の出力を高めることができ、絶縁性能も良好とする
ことができる。従って、高出力を必要とする用途に好適
に使用できる。 ［００２７］また、本発明のエキシマレーザ装置は例え
ばリソグラフィー用光源、各種材料の微細加工（各種材
料の穴明は加工や表面改質を含む）、レーザーアニール
等に用いることができる。
【図１】放電励起エキシマレーザ装置の電極部分を示す
正面断面図
正面断面図
【図２】放電励起エキシマレーザ装置の電極部分を示す
側面断面図
側面断面図
【図３】誘電体部分の正面断面図
【図４】陰極−補助電極間の補助放電（コロナ放電）の
発生状態を示すグラフ図
発生状態を示すグラフ図
■ 陽極
２ 陰極
３ 誘電体
３ａ 平板状部
３ｂ 壁部
３ｃ 棒状部材
３ｄ 蓋体部材
４ 補助電極
Ａ 電極端子
Ｂ 電極端子
Ｃ空間
Ｓ 主放電空間
Ｚ レーザ光の光軸方向
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
Claims (10)
- 【請求項１】 レーザ光軸を長手方向としてこのレーザ
光軸を隔てて相対向するように配置された一対の主放電
電極と、この一対の主放電電極の外側で、しかも、一方
の主放電電極に対向して配置された誘電体と、この誘電
体を介して前記一方の主放電電極に対向した補助電極と
を備え、前記誘電体は筒状に形成されているとともに主
放電電極に対向した側が平板状部となっており、前記補
助電極は誘電体内に空間を残した形で内包され、しかも
、前記平板状部を挟んで前記一方の主放電電極に対向し
ていることを特徴とする放電励起エキシマレーザ装置。 - 【請求項２】 レーザ光軸を長手方向としてこのレーザ
光軸を隔てて相対向するように配置された一対の主放電
電極と、この一対の主放電電極の外側で、しかも、一方
の主放電電極に対向して配置された誘電体と、この誘電
体を介して前記一方の主放電電極に対向した補助電極と
を備え、前記誘電体は筒状に形成されているとともに主
放電電極に対向した側が平板状部となっており、前記補
助電極は誘電体内に空間を残した形で内包され、しかも
、前記平板状部を挟んで前記一方の主放電電極に対向し
ており、前記誘電体は、平板状部の両側からそれぞれ壁
部を平板状部の一方に向けて延出させた断面コ字状の棒
状部材と、このコ字状の棒状部材の開放側を覆って角形
パイプ状とする平板状の蓋体部材とからなることを特徴
とする放電励起エキシマレーザ装置。 - 【請求項３】 レーザ光軸を長手方向としてこのレーザ
光軸を隔てて相対向するように配置された一対の主放電
電極と、この一対の主放電電極の外側で、しかも、一方
の主放電電極に対向して配置された誘電体と、この誘電
体を介して前記一方の主放電電極に対向した補助電極と
を備え、前記誘電体は筒状に形成されているとともに主
放電電極に対向した側が平板状部となっており、前記補
助電極は誘電体内に空間を残した形で内包され、しかも
、前記平板状部を挟んで前記一方の主放電電極に対向し
ており、前記平板状部の少なくとも一方の表面が鏡面研
磨され、この表面に主放電電極あるいは前記補助電極が
密着していることを特徴とする放電励起エキシマレーザ
装置。 - 【請求項４】 前記誘電体は、平板状部の両側からそれ
ぞれ壁部を平板状部の一方に向けて延出させた断面コ字
状の棒状部材と、このコ字状の棒状部材の開放側を覆っ
て角形パイプ状とする平板状の蓋体部材とからなること
を特徴とする請求項３記載の放電励起エキシマレーザ装
置。 - 【請求項５】 表面の凹凸の高低差が１００μｍ以下と
なるよう表面研磨されたことを特徴とする請求項３記載
の放電励起エキシマレーザ装置。 - 【請求項６】 表面の凹凸の高低差が１０μｍ以下とな
るよう表面研磨されたことを特徴とする請求項３記載の
放電励起エキシマレーザ装置。 - 【請求項７】 表面の凹凸の高低差が１００μｍ以下と
なるよう表面研磨されたことを特徴とする請求項４記載
の放電励起エキシマレーザ装置。 - 【請求項８】 表面の凹凸の高低差が１０μｍ以下とな
るよう表面研磨されたことを特徴とする請求項４記載の
放電励起エキシマレーザ装置。 - 【請求項９】 前記誘電体がセラミックスである請求項
１〜８のいずれかに記載の放電励起エキシマレーザ装置
。 - 【請求項１０】 棒状部材と蓋体部材の接合面に鏡面
加工を施した請求項４記載の放電励起エキシマレーザ装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5318890 | 1990-03-05 | ||
| JP2-53188 | 1990-03-05 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04211184A true JPH04211184A (ja) | 1992-08-03 |
Family
ID=12935901
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3038495A Pending JPH04211184A (ja) | 1990-03-05 | 1991-03-05 | 放電励起エキシマレーザ装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5251226A (ja) |
| EP (1) | EP0472735A4 (ja) |
| JP (1) | JPH04211184A (ja) |
| KR (1) | KR920702048A (ja) |
| CA (1) | CA2054756A1 (ja) |
| WO (1) | WO1991014302A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5293403A (en) * | 1992-09-30 | 1994-03-08 | The Unites States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Pulse discharge laser with passive arc protection |
| JP3428632B2 (ja) * | 1999-08-04 | 2003-07-22 | ウシオ電機株式会社 | ガスレーザ装置用コロナ予備電離電極 |
| JP3552979B2 (ja) * | 1999-09-16 | 2004-08-11 | ウシオ電機株式会社 | ＡｒＦエキシマレーザ装置 |
| US10574021B2 (en) | 2016-05-13 | 2020-02-25 | Corning Incorporated | Optical tube waveguide lasing medium and related method |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6191983A (ja) * | 1984-10-11 | 1986-05-10 | Mitsubishi Electric Corp | 放電励起短パルスレ−ザ装置 |
| DE3705165A1 (de) * | 1986-02-18 | 1987-08-20 | Mitsubishi Electric Corp | Mit entladungserregung arbeitende laservorrichtung fuer kurze impulse |
| JPH0636448B2 (ja) * | 1987-03-17 | 1994-05-11 | 三菱電機株式会社 | 放電励起レ−ザ装置 |
| JPH01307284A (ja) * | 1988-06-06 | 1989-12-12 | Agency Of Ind Science & Technol | 放電電極 |
| JPH02187086A (ja) * | 1989-01-13 | 1990-07-23 | Mitsubishi Electric Corp | 放電励起型短パルスレーザ装置 |
-
1991
- 1991-03-04 KR KR1019910701514A patent/KR920702048A/ko not_active Application Discontinuation
- 1991-03-04 EP EP19910904820 patent/EP0472735A4/en not_active Withdrawn
- 1991-03-04 CA CA002054756A patent/CA2054756A1/en not_active Abandoned
- 1991-03-04 US US07/775,937 patent/US5251226A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-04 WO PCT/JP1991/000288 patent/WO1991014302A1/ja not_active Application Discontinuation
- 1991-03-05 JP JP3038495A patent/JPH04211184A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2054756A1 (en) | 1991-09-06 |
| US5251226A (en) | 1993-10-05 |
| KR920702048A (ko) | 1992-08-12 |
| EP0472735A1 (en) | 1992-03-04 |
| EP0472735A4 (en) | 1992-05-13 |
| WO1991014302A1 (fr) | 1991-09-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6556609B2 (en) | Discharge unit for a high repetition rate excimer or molecular fluorine laser | |
| US5719896A (en) | Low cost corona pre-ionizer for a laser | |
| US5313486A (en) | Discharge excitation pulsed laser oscillation device | |
| JPH04211184A (ja) | 放電励起エキシマレーザ装置 | |
| JPH0716035B2 (ja) | 導波管レーザ | |
| EP0319898B1 (en) | Metal vapor laser apparatus | |
| US4817107A (en) | Laser plasma chamber | |
| JPH024148B2 (ja) | ||
| JP2001177173A (ja) | ガスレーザ発振器 | |
| EP0577870A1 (en) | Discharge excitation pulsed laser oscillation device | |
| JPH0144026B2 (ja) | ||
| JP3159528B2 (ja) | 放電励起エキシマレーザ装置 | |
| JPS63228685A (ja) | 放電励起レ−ザ装置 | |
| JP2827680B2 (ja) | 金属蒸気レーザ装置 | |
| JPH0535585B2 (ja) | ||
| JPH0645359U (ja) | レーザ発振器用放電電極 | |
| JPH03250676A (ja) | ガスレーザ装置 | |
| JPS5848487A (ja) | ガスレ−ザ発振器 | |
| JPH05327087A (ja) | レーザ装置の放電安定化構造 | |
| JPS63228778A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JPH0818133A (ja) | 気体パルスレーザ | |
| JPH07162060A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
| JPH02278777A (ja) | 内部ミラー型Ｈｅ―Ｎｅレーザ管 | |
| JPH02150083A (ja) | 放電励起レーザ装置 | |
| JPH053153B2 (ja) |