JPH03250676A - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置Info
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- JPH03250676A JPH03250676A JP4549490A JP4549490A JPH03250676A JP H03250676 A JPH03250676 A JP H03250676A JP 4549490 A JP4549490 A JP 4549490A JP 4549490 A JP4549490 A JP 4549490A JP H03250676 A JPH03250676 A JP H03250676A
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 39
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明はレーザ管内に封入されたガスレーザ媒質を主
電極で発生する主放電によって励起してレーザ光を出力
させるガスレーザ装置に関する。
電極で発生する主放電によって励起してレーザ光を出力
させるガスレーザ装置に関する。
(従来の技術)
たとえば、エキシマレーザなどのガスレーザ装置は、ガ
スレーザ媒質が封入されたレーザ管内に、高圧電源から
電気エネルギが供給されることによって主放電を発生す
る主電極やその主放電の波形を成形するためのピーキン
グコンデンサなどが設けられている。
スレーザ媒質が封入されたレーザ管内に、高圧電源から
電気エネルギが供給されることによって主放電を発生す
る主電極やその主放電の波形を成形するためのピーキン
グコンデンサなどが設けられている。
このようなガスレーザ装置において、主放電が繰返して
点弧されると、ガスレーザ媒質の一部が分解してその成
分が変化することが避けられない。
点弧されると、ガスレーザ媒質の一部が分解してその成
分が変化することが避けられない。
そのため、長時間にわたって発振を繰返すと、出力が低
下したり、ついにはレーザ光が発振しなくなるなどのこ
とが生じる。
下したり、ついにはレーザ光が発振しなくなるなどのこ
とが生じる。
このようなことをなくすため、ガスレーザ媒質を少量ず
つ入れ替えたり、ガスレーザ媒質の分解を抑える成分を
混合したり、分解したガスレーザ媒質を触媒によって元
に戻すなどのことが行われている。さらに、レーザ管や
主電極などの金属材料は、ベーキング処理を施すことで
、表面に付着した不純物や不純ガスを事前に排除し、ガ
スレーザ媒質中に不純ガスが発生するのを防いでいる。
つ入れ替えたり、ガスレーザ媒質の分解を抑える成分を
混合したり、分解したガスレーザ媒質を触媒によって元
に戻すなどのことが行われている。さらに、レーザ管や
主電極などの金属材料は、ベーキング処理を施すことで
、表面に付着した不純物や不純ガスを事前に排除し、ガ
スレーザ媒質中に不純ガスが発生するのを防いでいる。
そして、これらの手段により、レーザ発振の出力が長期
間にわたって低下することがないようにしている。
間にわたって低下することがないようにしている。
ところで、このような手段を講じても、レーザ管内に設
けられるピーキングコンデンサはエポキシ樹脂などの有
機物で作られているため、主放電によって発生する紫外
線、イオン、電子あるいは熱などと化学反応を起こす。
けられるピーキングコンデンサはエポキシ樹脂などの有
機物で作られているため、主放電によって発生する紫外
線、イオン、電子あるいは熱などと化学反応を起こす。
それによって、ピーキングコンデンサを形成するエポキ
シ樹脂などの有機物からは不純ガスが発生するから、そ
の不純ガスによってレーザ出力の低下を招くということ
が生じる。
シ樹脂などの有機物からは不純ガスが発生するから、そ
の不純ガスによってレーザ出力の低下を招くということ
が生じる。
ピーキングコンデンサからの不純ガスの発生を防止する
ため、その表面にセラミックスなどの無機物をコーティ
ングするということが行われている。しかしながら、セ
ラミックスとエポキシ樹脂とでは熱膨脹率が異なるから
、セラミクスが割れてエポキシ樹脂が露出してしまうと
いうことがある。さらに、ピーキングコンデンサは発熱
するため、熱伝導率の悪いセラミックスでコーティング
すると、放熱性が悪くなるということもある。
ため、その表面にセラミックスなどの無機物をコーティ
ングするということが行われている。しかしながら、セ
ラミックスとエポキシ樹脂とでは熱膨脹率が異なるから
、セラミクスが割れてエポキシ樹脂が露出してしまうと
いうことがある。さらに、ピーキングコンデンサは発熱
するため、熱伝導率の悪いセラミックスでコーティング
すると、放熱性が悪くなるということもある。
(発明が解決しようとする課題)
このように、従来のガスレーザ装置においては、ピーキ
ングコンデンサから不純ガスが発生してレーザ出力の低
下を招くということがあり、それを防止するためにピー
キングコンデンサの表面を無機物でコーティングすると
、熱膨脹率の違いによって無機物が割れたり、放熱性が
悪くなるなどのことがある。
ングコンデンサから不純ガスが発生してレーザ出力の低
下を招くということがあり、それを防止するためにピー
キングコンデンサの表面を無機物でコーティングすると
、熱膨脹率の違いによって無機物が割れたり、放熱性が
悪くなるなどのことがある。
この発明は上記事情にもとずきなされたもので、その目
的とするところは、ピーキングコンデンサの表面に無機
物をコーティングせずに、不純ガスの発生を防止できる
ようにしたガスレーザ装置を提供することにある。
的とするところは、ピーキングコンデンサの表面に無機
物をコーティングせずに、不純ガスの発生を防止できる
ようにしたガスレーザ装置を提供することにある。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段及び作用)上記課題を解決
するためのこの発明は、ガスレーザ媒質が封入されたレ
ーザ管と、このレーザ管内に配設された主電極と、上記
レーザ管内に設けられ上記主電極で発生する主放電の波
形を成形するためのピーキングコンデンサとを具備した
ガスレーザ装置において、上記ピーキングコンデンサは
無機物によって形成された密閉容器内に収容する。
するためのこの発明は、ガスレーザ媒質が封入されたレ
ーザ管と、このレーザ管内に配設された主電極と、上記
レーザ管内に設けられ上記主電極で発生する主放電の波
形を成形するためのピーキングコンデンサとを具備した
ガスレーザ装置において、上記ピーキングコンデンサは
無機物によって形成された密閉容器内に収容する。
このような構成によれば、ピーキングコンデンサが主放
電によって発生する紫外線、イオン、電子あるいは熱な
どと化学反応を起こすのが防止されるから、不純ガスが
発生することがない。
電によって発生する紫外線、イオン、電子あるいは熱な
どと化学反応を起こすのが防止されるから、不純ガスが
発生することがない。
(実施例)
以下、この発明の一実施例を第1図乃至第2図を参照し
て説明する。第2図に示すガスレーザ装置はガスレーザ
媒質が封入されたレーザ管1を備えている。このレーザ
管1内には金属製の上部保持板2と下部保持板3とが上
下方向に離間対向して配設されている。各保持板2.3
の対向する面には、主電極を形成する陽極4と陰極5と
がそれぞれ電気的に導通した状態で取付は固定されてい
る。上記陰極5の上面には、その幅方向に離間した複数
の溝5aが長手方向に沿って形成され、これら溝5aに
は予備電離手段としてのコロナ電極6が設けられている
。このコロナ電極6は、金属ワイヤ6aを石英ガラスな
どの誘電体6b内に挿通して形成され、上記金属ワイヤ
6aは上記陽極4に電気的に接続されている。
て説明する。第2図に示すガスレーザ装置はガスレーザ
媒質が封入されたレーザ管1を備えている。このレーザ
管1内には金属製の上部保持板2と下部保持板3とが上
下方向に離間対向して配設されている。各保持板2.3
の対向する面には、主電極を形成する陽極4と陰極5と
がそれぞれ電気的に導通した状態で取付は固定されてい
る。上記陰極5の上面には、その幅方向に離間した複数
の溝5aが長手方向に沿って形成され、これら溝5aに
は予備電離手段としてのコロナ電極6が設けられている
。このコロナ電極6は、金属ワイヤ6aを石英ガラスな
どの誘電体6b内に挿通して形成され、上記金属ワイヤ
6aは上記陽極4に電気的に接続されている。
上記下部保持板3の一側には複数のピーキングコンデン
サ9がそれぞれ密閉容器8に収容されて配置されている
。つまり、ピーキングコンデンサ9を収容した複数の密
閉容器8が下部保持板3の長手方向に沿って所定間隔で
設置されている。
サ9がそれぞれ密閉容器8に収容されて配置されている
。つまり、ピーキングコンデンサ9を収容した複数の密
閉容器8が下部保持板3の長手方向に沿って所定間隔で
設置されている。
上記密閉容器8は第1図に示すように上記下部保持板3
の一部が底板10を兼ねている。その底板10となる部
分の上面には、断面り字状のコバール(jtKOV)製
のリング11が一辺を気密に固着して設けられている。
の一部が底板10を兼ねている。その底板10となる部
分の上面には、断面り字状のコバール(jtKOV)製
のリング11が一辺を気密に固着して設けられている。
このリング11の他辺には、下端面が開口したカップ状
に形成された壁体12が、その周壁1.2 aの下端を
一体的に気密に固定して設けられている。この壁体12
は、コバールと熱膨張率の近い材料であり、かつ無機物
であるガラスによって形成されている。また、壁体12
の土部壁12bの中央部分には開口部12cが形成され
、この開口部1.2 cにはコバール製の導電板13が
一体的に気密に設けられている。この導電板13と上記
底板10とはガラス製の上記壁体12によって電気的に
絶縁されている。
に形成された壁体12が、その周壁1.2 aの下端を
一体的に気密に固定して設けられている。この壁体12
は、コバールと熱膨張率の近い材料であり、かつ無機物
であるガラスによって形成されている。また、壁体12
の土部壁12bの中央部分には開口部12cが形成され
、この開口部1.2 cにはコバール製の導電板13が
一体的に気密に設けられている。この導電板13と上記
底板10とはガラス製の上記壁体12によって電気的に
絶縁されている。
さらに、上記底板10には金属製の排気バイブ14が接
続されている。つまり、密閉容器8は金属やガラスなど
の無機物で作られている。
続されている。つまり、密閉容器8は金属やガラスなど
の無機物で作られている。
なお、上記ピーキングコンデンサ9は、有機物であるエ
ポキシ樹脂によって形成された円柱状の樹脂部15を有
し、この樹脂部]−5の両端面の中心部に電極体16(
端子)が設けられている。そして、ピーキングコンデン
サ9は、電極体16の一端面を上記底板10(下部保持
板3)に電気的に導通させ、他端を導電板13に電気的
に導通させて密閉容器8内に収容されている。つまり、
底板10上に電極体]6の一端面を接触させてピーキン
グコンデンサ9を設置したならば、このピーキングコン
デンサ9に壁体12を被せる。壁体12の周壁12aの
下端にはリング11が予め固定されている。したがって
、壁体12をピーキングコンデンサ9に被せたのち、上
記リング11を底板10に接着あるいは溶接などの手段
で気密に固着することでピーキングコンデンサ9が密閉
容器8に収容される。
ポキシ樹脂によって形成された円柱状の樹脂部15を有
し、この樹脂部]−5の両端面の中心部に電極体16(
端子)が設けられている。そして、ピーキングコンデン
サ9は、電極体16の一端面を上記底板10(下部保持
板3)に電気的に導通させ、他端を導電板13に電気的
に導通させて密閉容器8内に収容されている。つまり、
底板10上に電極体]6の一端面を接触させてピーキン
グコンデンサ9を設置したならば、このピーキングコン
デンサ9に壁体12を被せる。壁体12の周壁12aの
下端にはリング11が予め固定されている。したがって
、壁体12をピーキングコンデンサ9に被せたのち、上
記リング11を底板10に接着あるいは溶接などの手段
で気密に固着することでピーキングコンデンサ9が密閉
容器8に収容される。
このように、ピーキングコンデンサ9を密閉容器8内に
収容したならば、排気バイブ14に図示しない吸引ポン
プを接続して密閉容器8内を真空にする。そののち、密
閉容器8内に絶縁オイル、絶縁ガスあるいはシリコンゴ
ムなどの熱伝導率が高く、電気絶縁性の優れた充填材(
図示せず)を注入したならば、上記排気バイブ14を封
止する。
収容したならば、排気バイブ14に図示しない吸引ポン
プを接続して密閉容器8内を真空にする。そののち、密
閉容器8内に絶縁オイル、絶縁ガスあるいはシリコンゴ
ムなどの熱伝導率が高く、電気絶縁性の優れた充填材(
図示せず)を注入したならば、上記排気バイブ14を封
止する。
上記上部保持板2の一側には上記下部保持板3に設けら
れた密閉容器8とほぼ同じ間隔で接続片18がL字状に
折曲形成されている。これら接続片18は上記密閉容器
8の上部壁12bの中央部分に設けられた導電板13に
電気的に接続されている。また、上記導電板13と上記
下部保持板3とには高圧パルス電源19が電気的に接続
されている。さらに、上記レーザ管1内には、その内部
に収容されたガスレーザ媒質を矢印方向に循環させる送
風機21およびこの送風機21によって循環させられる
ガスレーザ媒質を冷却するだめの熱交換器22が設置さ
れている。
れた密閉容器8とほぼ同じ間隔で接続片18がL字状に
折曲形成されている。これら接続片18は上記密閉容器
8の上部壁12bの中央部分に設けられた導電板13に
電気的に接続されている。また、上記導電板13と上記
下部保持板3とには高圧パルス電源19が電気的に接続
されている。さらに、上記レーザ管1内には、その内部
に収容されたガスレーザ媒質を矢印方向に循環させる送
風機21およびこの送風機21によって循環させられる
ガスレーザ媒質を冷却するだめの熱交換器22が設置さ
れている。
このように構成されたガスレーザ装置においては、高圧
パルス電源19を作動させて陽極4と陰l; 極5と府電気エネルギを与えると、まず陰極5とコロナ
電極部6aとの間でコロナ放電が発生して陰極4と陽極
5との間の放電空間部が予備電離される。
パルス電源19を作動させて陽極4と陰l; 極5と府電気エネルギを与えると、まず陰極5とコロナ
電極部6aとの間でコロナ放電が発生して陰極4と陽極
5との間の放電空間部が予備電離される。
放電空間部の予備電離が十分に進行すると、陽極4と陰
極5との間でピーキングコンデンサ9の容量に応じた波
形で主放電が点弧されるから、それによってガスレーザ
媒質が励起されてレーザ光が放電方向と直交する方向に
発生することになる。
極5との間でピーキングコンデンサ9の容量に応じた波
形で主放電が点弧されるから、それによってガスレーザ
媒質が励起されてレーザ光が放電方向と直交する方向に
発生することになる。
このような放電が行われることで、レーザ管1内にはイ
オン、電子、紫外線などが発生する。これらイオン、電
子、紫外線などは、有機物であるピーキングコンデンサ
9のエポキシ樹脂で作られた樹脂部15と化学反応して
不純ガスを発生する虞がある。しかしながら、上記ピー
キングコンデンサ9は無機物で作られた密閉容器8内に
気密状態で収容されているから、上記樹脂部15が放電
によって発生したイオン、電子、紫外線などと化学反応
を起こして不純ガスが発生するということがない。した
がって、不純ガスが発生してレーザ出力が低下するのを
防止することができる。
オン、電子、紫外線などが発生する。これらイオン、電
子、紫外線などは、有機物であるピーキングコンデンサ
9のエポキシ樹脂で作られた樹脂部15と化学反応して
不純ガスを発生する虞がある。しかしながら、上記ピー
キングコンデンサ9は無機物で作られた密閉容器8内に
気密状態で収容されているから、上記樹脂部15が放電
によって発生したイオン、電子、紫外線などと化学反応
を起こして不純ガスが発生するということがない。した
がって、不純ガスが発生してレーザ出力が低下するのを
防止することができる。
また、放電を繰返すことによる発熱でピーキングコンデ
ンサ9が膨脹しても、その膨脹は密閉容器8内に充填さ
れた絶縁ガス、絶縁オイルあるいはシリコンゴムなどの
充填材17によって吸収される。しかも、充填材は熱伝
導率がよいため、ビキングコンデンサ9で発生する熱を
効率よく放散させることができる。
ンサ9が膨脹しても、その膨脹は密閉容器8内に充填さ
れた絶縁ガス、絶縁オイルあるいはシリコンゴムなどの
充填材17によって吸収される。しかも、充填材は熱伝
導率がよいため、ビキングコンデンサ9で発生する熱を
効率よく放散させることができる。
第3図はこの発明の他の実施例を示す。すなわち、この
実施例は密閉容器8aが複数のピーキングコンデンサ9
を一列に並べて収容することができる大きさに形成した
もので、その構成は1つのピーキングコンデンサ9を収
容する密閉容器8と同様底板10(下部保持板3)、リ
ング11、壁体12、導電板13からなるものであり、
上記一実施例と同様ピーキングコンデンサ9の化学反応
を防止することができる。
実施例は密閉容器8aが複数のピーキングコンデンサ9
を一列に並べて収容することができる大きさに形成した
もので、その構成は1つのピーキングコンデンサ9を収
容する密閉容器8と同様底板10(下部保持板3)、リ
ング11、壁体12、導電板13からなるものであり、
上記一実施例と同様ピーキングコンデンサ9の化学反応
を防止することができる。
なお、第S図に示す実施例では密閉容器をピーキングコ
ンデンサが一列に収容できる大きさとしたが、二列に収
容できる大きさとしてもよく、その大きさはなんら限定
されるものでなく、さらに下部保持板3の一部を密閉容
器8の底板10として利用したが、上記底板10は下部
保持板3とは別の部材を用いるようにしてもよい。
ンデンサが一列に収容できる大きさとしたが、二列に収
容できる大きさとしてもよく、その大きさはなんら限定
されるものでなく、さらに下部保持板3の一部を密閉容
器8の底板10として利用したが、上記底板10は下部
保持板3とは別の部材を用いるようにしてもよい。
また、密閉容器8の底板10と導電板13とを電気的に
絶縁するため、壁体12をガラスで形成したが、ガラス
に代わり他の無機物からなる電気絶縁材料を用いるよう
にしてもよい。
絶縁するため、壁体12をガラスで形成したが、ガラス
に代わり他の無機物からなる電気絶縁材料を用いるよう
にしてもよい。
[発明の効果]
以上述べたようにこの発明は、ガスレーザ媒質が封入さ
れたレーザ管内に配設されるピーキングコンデンサを、
無機物によって形成された密閉容器内に密封状態で収容
するようにした。したがって、レーザ管内での放電によ
ってイオン、電子、紫外線などが発生しても、無機物に
よって形成された密閉容器やその内部に収容されたピー
キングコンデンサが化学変化を起こして不純ガスを発生
するということがないから、安定したレーザ出力を長期
間にわたって維持することができる。
れたレーザ管内に配設されるピーキングコンデンサを、
無機物によって形成された密閉容器内に密封状態で収容
するようにした。したがって、レーザ管内での放電によ
ってイオン、電子、紫外線などが発生しても、無機物に
よって形成された密閉容器やその内部に収容されたピー
キングコンデンサが化学変化を起こして不純ガスを発生
するということがないから、安定したレーザ出力を長期
間にわたって維持することができる。
第1図はこの発明の一実施例を示すピーキングコンデン
サが収容された密閉容器の断面図、第2図は同じくガス
レーザ装置の構成図、第3図はこの発明の他の実施例を
示す密閉容器の断面図である。 1・・・レーザ管、4・・・陽極(主電極)、5・・・
陰極(主電極) 9・・・ピーキングコンデンサ、10
・・・底板、11・・・リング、12・・・壁体、13
・・・導電板。
サが収容された密閉容器の断面図、第2図は同じくガス
レーザ装置の構成図、第3図はこの発明の他の実施例を
示す密閉容器の断面図である。 1・・・レーザ管、4・・・陽極(主電極)、5・・・
陰極(主電極) 9・・・ピーキングコンデンサ、10
・・・底板、11・・・リング、12・・・壁体、13
・・・導電板。
Claims (1)
- ガスレーザ媒質が封入されたレーザ管と、このレーザ管
内に配設された主電極と、上記レーザ管内に設けられ上
記主電極で発生する主放電の波形を成形するためのピー
キングコンデンサとを具備したガスレーザ装置において
、上記ピーキングコンデンサは無機物によって形成され
た密閉容器内に収容されていることを特徴とするガスレ
ーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4549490A JPH03250676A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | ガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4549490A JPH03250676A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | ガスレーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03250676A true JPH03250676A (ja) | 1991-11-08 |
Family
ID=12720956
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4549490A Pending JPH03250676A (ja) | 1990-02-28 | 1990-02-28 | ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03250676A (ja) |
-
1990
- 1990-02-28 JP JP4549490A patent/JPH03250676A/ja active Pending
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