JPS6366255A

JPS6366255A - ポリカ−ボネ−ト系樹脂組成物

Info

Publication number: JPS6366255A
Application number: JP21055286A
Authority: JP
Inventors: Kazuyoshi Shigematsu; 重松　一吉; Takashi Nakagawa; 隆中川; Hideji Sakamoto; 坂元　秀治
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1986-09-09
Filing date: 1986-09-09
Publication date: 1988-03-24

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、光学機器用の素材として有用なポリカーボネ
ート系樹脂組成物に関し、更に詳しくは、透明性に優れ
、複屈折の小さいポリカーボネート系樹脂組成物に関す
る。

［従来の技術］一般に、光学機器用素材として用いられているポリカー
ボネート樹脂は、ビスフェノールＡ［２，２−ビス（４
′−ヒドロキシフェニル）プロパン］と、これにホスゲ
ンや炭酸ジフェニルなど、炭酸エステルを生成する化合
物とを反応させて製造されている。このポリカーボネー
ト樹脂は、耐熱性、透明性９機械的強度に優れた性質を
有しているが、しかし、射出成形などの熱成形加工の際
に応力ひずみが発生するため得られた製品は複屈折が大
きいなどの欠点がある。

このような欠点を解決するためにポリ力−ポネートにポ
リスチレンを配合して光学的性質を改良する試みがなさ
れている。（特開昭６１−１９６５６号公報参照）。

［発明が解決しようとする問題点］しかしながら、特開昭６１−１９６５６号公報記載の芳
香族ポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるポリカ
ーボネートとポリスチレンは非相溶性の樹脂であるため
に、これらを互いに均一に分散させることは困難であり
、その結果、得られたポリカーボネート系樹脂組成物は
光の散乱、光学的歪みが大きくなる。

本発明は、上記の問題点を解決し、透明性に優れ、かつ
複屈折の小さいポリカーボネート系樹脂組成物を提供す
ることを目的とする。

Ｕ問題点を解決するための手段］本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意検討を重ねた結
果、後述するポリカーボネート系共重合体と、スチレン
系重合体を所定量配合することにより、得られたポリカ
ーボネート系樹脂組成物は透明性に優れ、かつ複屈折が
小さくなることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、〔式中、ＸＩ　　、Ｙ”　　、Ｙｚｉ士同じであっても
異なっていてもよく、それぞれ水素、炭素数１〜５のア
ルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１
２のアラルキル基を表わし、Ｘｉは炭素数６〜１２のア
リール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表わし；Ｒ
１、Ｒ２，Ｈ３，Ｈ４は同じであっても異なっていても
よく、それぞれ水素、ハロゲン、炭素数１〜５のアルキ
ル基を表わす〕で示される繰返し単位から成るポリカー
ボネート系共重合体５０〜９５重量％と、スチレン系重
合体５〜５０重量％とから成ることを特徴とする。

本発明のポリカーボネート系樹脂組成物の一方の構成成
分であるポリカーボネート系共重合体は式（１）で示さ
れる繰返し単位と式（２）で示される繰返し単位から成
る共重合体であり、共重合体の形態としては、ランダム
共重合体、ブロック共重合体のいずれでもよい。

まず、式（１）で示される繰返し栄位中、Ｘｉ　　、Ｘ
ｉ　、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ上記したものであればよい
が、なかでもｘｌとしては、例えば、水素原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、フチル基、ペンチル基、フ
ェニル＆、Ｐ−メチルフェニル基、ビフェニル基、ベン
ジル基、２−フエニルニチル基、ジフェニルメチル基が
好ましく、ｘｌとしては、例えば、フェニル基、ｐ−メ
チルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−フェノ
キシフェこル基、ビフェニル基、ベンジル基、２−フェ
ニルエチル基、ジフェニルメチル基が好ましい。Ｒ”、
Ｒ２としては、例えば、水素原子、塩素原子、臭素原子
、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチ
ル基が好ましい。

次に、式（２）で示される繰返し単位中、Ｙｌ　　、Ｙ
２　、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ上記したものであればよい
が、なかでもＹｌ、ｙ２としては、例えば、水素原子、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ビフェニル基
、ベンジル基。

２−フェこルエチル基、ジフェニルメチル基が好ましい
。Ｒ３，Ｒ４としては、例えば、水素原子、塩素原子、
臭素原子、メチル基、エチル基。

プロピル基、ペンチル基が好ましい。

本発明にかかるポリカーボネート系共重合体は、公知の
方法で製造すればよく、例えば、２価のフェノールとホ
スゲンとをアルカリ−塩化メチレンの存在下で反応させ
て調製することができる。

本発明にかかるポリカーボネート系共重合体を製造する
のに用いる２価のフェノールのうちで、式（１）で示さ
れる繰返し単位を構成するのに使用できる２価のフェノ
ールとしては、例えば、１−フェニル−１，１−ビス（
４−ヒドロキシフェニル）メタン、１−フェニル−１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１−フェ
ニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フロパ
ン、１−フェニル−１，１−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）エタン、１−（４−メチルフェニル
）−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
１−（４−メトキシフェニル）−１，１−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）エタン、■−フェニルー３，３−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１．１−ジフェ
ニル−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、１，１−ジフェニル−１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）メタン、■−ビフェニリルー１．１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１−（４−フェノ
キシフェニル）　−１、１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）エタン、■−フェニルー１，１−ビス（３−ブロ
ム−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，３−ジフェ
ニル−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ンをあげることができ、特に、１−フェニル−１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１−フェニル
−１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル
）エタン、１−フェニル−３，３−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）ブタン、１，１−ジフェニル−１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）メタンが好ましい。

また、式（２）で示される繰返し単位を構成するのに使
用できる２価のフェノールとしては、例えば、２，２−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２．２−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（
３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フロパン、１−
フェニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エ
タン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタ
ン、２，２−ビス（３−ブロム−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１−フェニル−３，３−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ブタン、１゜３−ジフェニル−２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−
ジフェニル−１゜１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
メタンをあげることができ、特に、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１−フェニ
ル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンが
好ましい。

かかるポリカーボネート系共重合体中には、上記した式
（１）で示される繰返し単位が２〜４０モル％含有され
ていることが好ましい。２モル％未満の場合には、スチ
レン系樹脂との相溶性が悪く、互いに均一に分散させる
ことが困難となり、その結果、得られるポリカーボネー
ト系樹脂組成物の光の散乱や光学的な歪みが大きくなる
。また、４０モル％を超える場合には、ポリカーボネー
ト系共重合体の溶融時の流動性が低下し、その結果、得
られるポリカーボネート系樹脂組成物の光学的な歪みが
大きくなるからである。更に好ましくは５〜３５モル％
である。

また、かかるポリカーボネート系共重合体は、塩化メチ
レンを溶媒とする０　、５ｇ／ｄＫＬ濃度の溶液の２０
’Ｃにおける還元粘度［ηｓｐ／ｃ］が０．２〜１．Ｏ
ｄ見／ｇであることが好ましく、０．２ｄ４Ｑ、７ｇ未
満であると、ポリカーボネート系共重合体の機械的強度
が低下するので、得られるポリカーボネート系樹脂組成
物の機械的強度が低下する。また、１．Ｏｄｕ／ｇを超
えると、ポリカーボネート系共重合体の溶融時の流動性
が低下し、その結果、得られるポリカーボネート系樹脂
組成物の光学的な歪みが増大するからである。

更に好ましくは０．３５〜０．６０ｄ文／ｇである。

次に、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物の他方の
構成成分であるスチレン系重合体としては、例えば、ポ
リスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（ｍ−
メチルスチレン）、ポリ（ｐ−クロルスチレン）、ポリ
（ｍ−クロルスチレン）、ポリ（α−メチルスチレン）
、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−アク
リロニトリル共重合体、スチレン−アクリル酸メチル共
重合体、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体などを
あげることができ、特に、ポリスチレン、スチレン−無
水マレイン酸共重合体、スチレン−メタクリル酸メチル
共重合体は好ましいものである。

また、かかるスチレン系重合体の分子量としては、重量
平均分子量で５００００〜３０００００であることが好
ましく５００００未満であるとスチレン系重合体の機械
的強度が低下するので、得られるポリカーボネート系樹
脂組成物の機械的強度が低下する。また、３００．００
０を超えると、ポリカーボネート系共重合体との相溶性
が低下し、相互に均一に分散させることが困難となるの
で、この結果書られるポリカーポネ−１・系樹脂組成物
は光の散乱や光学的な歪みが増大するからである。更に
詳しくは１０００００〜２５００００である。

次に、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、上記
ポリカーボネート系共重合体５０〜９５重量％と、スチ
レン系重合体５〜５０重量％とを配合することによって
得られる。

ポリカーボネート系共重合体の配合量がポリカーボネー
ト系樹脂組成物全体の９５重量％を超える場合、すなわ
ち、スチレン系重合体の配合量が５重量％未満の場合に
は、ポリカーボネート系樹脂組成物の複屈折が大きくな
るので不適である。ポリカーボネート系共重合体の配合
量がポリカーボネート系樹脂組成物全体の５００重量％
未満場合、すなわち、スチレン系重合体の配合量が５０
重量％を超える場合には、ポリカーボネート系樹脂組成
物の複屈折が大きくなり、かつ機械的強度が低下する。

好ましくは、ポリカーボネート系共重合体６０〜９０重
量％、スチレン系重合体１０〜４０重量％である。

このポリカーボネート系樹脂組成物を製造するにあたっ
ては、ポリカーボネート系共重合体とスチレン系重合体
とを上記の配合量で配合し、これらを通常の方法で混練
すればよい。

［実施例］実施例１〜１２（１）ポリカーボネート系共重合体の製造内容積１文の
フラスコに、第１表の第１欄に示す２価のフェノールの
表示量を６％儂度の水酸化ナトリウム水溶液４８０ｄに
溶解させた溶液と、塩化メチレン２５０ｄとを加えた後
、撹拌しながらホスゲンガスを９００．７／分の供給割
合で１４分間吹き込んだ。次いで、反応液を静置分離し
てクロロホルメート基末端を有する重合度２〜３のポリ
カーボネートオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。こ
の溶液を無水硫酸ナトリウムで脱水したのち、この溶液
３００−を塩化メチレンで４５０４に希釈し、ここに分
子量調節剤としてｐ−ターシャリ−ブチルフェノール２
．０ｇを加え、次いでこれに第１表の第２欄に示す２価
のフェノールを表示量加え、更に触媒として７％濃度の
トリエチルアミン水溶液１．０−および１２規定の水酸
化ナトリウム水溶液５ｄを加えた後、撹拌しながら１時
間反応を行なった。反応生成物を洗浄した後、メタノー
ル中に注入して、第２表に示す繰返し単位を有するポリ
カーポネ−１・系共重合体を得た。

これらのポリカーボネート系共重合体の収量、塩化メチ
レンを溶媒とする０　、　５　ｇ　／　ｄ　ｌ濃度の溶
液の２０℃における還元粘度〔ηｓｐ／ｃ）およびガラ
ス転移温度を第２表に示した。

（２）ポリカーボネート系樹脂組成物の製造およびその
評価試験上記（１）で得られたポリカーボネート系共重合体とス
チレン系重合体を第３表に示した量配合し、射出成形機
［住友重機■製：ミニマット］を用いて、２８０℃にお
いて射出成形した。成形品の形状は肉厚２．７５ｍｍ、
幅１２．ｂ６１．０＋＋ｎ＋であり、この成形品の中央
部における複屈折についてエリプソメーターを用いて波
長６３３ｎｍの光の光路差を測定した。さらに、透明性
について、分光光度計（日立製作新製）を用いて波長６
３３ｎｍの光の透過率を測定した。これらの結果を第３
表に示した。

比較例２．２−ビス（４′−ヒドロキシフェニル）フロパンを
原料とする粘度平均分子Ｍ１５　、０００のポリカーボ
ネート■　［出光石油化学■製：出光ポリカーボネート
　Ｎ−２２００］　　６０重量％と、スチレン系重合体
（Ｉ）４０重量％とを配合したことを除いては実施例１
の（２）と同様にしてポリカーボネート系樹脂組成物を
製造し、その評価試験を行なった。

参照例１〜３第３表に示したポリカーボネート系共重合体もしくはス
チレン系重合体を第３表に示した成形温度で射出成形し
、実施例１の（２）と同様にして評価試験を行なった。

これらの結果を第３表に示した。

第１表チ：１，１−ジフェニルー２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン第３表イン酸含有量１４重量％［発明の効果］以上の説明から明らかなように、本発明のポリカーボネ
ート系樹脂組成物は透明性に優れ、かつ複屈折が著しく
小さいために光学機器用の素材として有用であり、その
工業的価値は大である。

Claims

【特許請求の範囲】式： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（１）および式： ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（２）〔式中、Ｘ＾１、Ｙ＾１、Ｙ＾２は同じであっても異な
っていてもよく、それぞれ水素、炭素数１〜５のアルキ
ル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１２の
アラルキル基を表わし；Ｘ＾２は炭素数６〜１２のアリ
ール基、炭素数７〜２０のアラルキル基を表わし；Ｒ＾
１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４は同じであっても異なって
いてもよく、それぞれ水素、ハロゲン、炭素数１〜５の
アルキル基を表わす〕で示される繰返し単位から成るポ
リカーボネート系共重合体５０〜９５重量％と、スチレ
ン系重合体５〜５０重量％とから成ることを特徴とする
ポリカーボネート系樹脂組成物。