JP2000178430A - ポリカーボネート樹脂組成物、光学部品およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 下記一般式（１−ａ）および一般式（２
−ａ）で表される構造単位を含有してなるポリカーボネ
ート共重合体と、亜リン酸エステル化合物を含む樹脂組
成物、該樹脂組成物を成形して得られる光学部品および
その製造方法。 （式中、Ｒ₁ はアルキル基、アルコキシ基、ニトロ基ま
たはハロゲン原子、Ｒ₂およびＲ₃ は水素原子またはア
ルキル基を表し、Ｒ₄ はアルキル基、アルコキシ基また
はハロゲン原子、ｋは０〜３の整数、ｌは０〜２の整数
を表す） 【効果】 着色が極めて少ない上、透明性、機械物性、
耐熱性等に優れ、且つ、低複屈折性を有し、溶融流動性
が良好で成形加工性に優れた樹脂組成物であり、光ディ
スク基板、ピックアップレンズ、液晶セル用プラスチッ
ク基板、プリズム、光ファイバーなどを代表とする光学
部品に有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特定の繰り返し単
位を含有してなるポリカーボネート共重合体と亜リン酸
エステル化合物を含むポリカーボネート樹脂組成物に関
し、さらには、該樹脂組成物を成形して得られる光学部
品およびその製造方法に関する。本発明の樹脂組成物は
着色が極めて少ない上、透明性、機械物性、耐熱性等に
優れ、且つ、低複屈折性を有し、さらには溶融流動性が
良好で成形加工性に優れており、光ディスク基板、ピッ
クアップレンズ、液晶セル用プラスチック基板、プリズ
ム、光ファイバーなどを代表とする光学部品に有用であ
る。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネートはエンジニアリングプ
ラスチックとして、自動車、電気、光学分野で幅広く使
用されている。現在、幅広く使用されているポリカーボ
ネートは、通常、２，２−ビス（４’−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン（以下、ビスフェノールＡと称する）と
ホスゲン等のハロゲン化カルボニル化合物より製造され
ている。ビスフェノールＡより製造されるポリカーボネ
ートは、透明性、耐熱性、低透湿性、耐衝撃性、寸法安
定性等の特性をバランス良く備えた樹脂であり、広く用
いられている。特に近年、光ディスク基板等の光学部品
分野で使用されている。情報記録媒体として使用される
光ディスクにおいては、ディスク本体をレーザー光線が
通過するために、ディスク基板は透明であることは勿論
のこと、読みとり誤差を少なくするために光学的均質性
が強く求められている。

【０００３】しかしながら、例えば、ビスフェノールＡ
から製造されるポリカーボネートを用いる場合には、デ
ィスク基板成型時の樹脂の冷却および流動過程において
生じた熱応力、分子配向、ガラス転移点付近の容積変化
等による残留応力が原因となり、レーザー光線がディス
ク基板を通過する際に複屈折が生じる。この複屈折に起
因する光学的不均一性が大きいことは、例えば、記録さ
れた情報の読みとり誤りを生じるなど、光ディスク基板
等の光学部品にとっては致命的欠陥となる。さらに、該
ポリカーボネートは溶融時の粘度が高いため、例えば、
記録密度を高めるためにより小さなピット径を有するデ
ィスク基板を射出成形して得るのが非常に困難である
等、成形加工性に問題があった。

【０００４】このような問題点を解決する方法として、
種々の新しいポリマー、例えば、スピロビインダノール
単独のホリカーボネート、またはスピロビインダノール
とビスフェノールＡとの共重合ポリカーボネート、等が
提案されている（特開昭６３−３１４２３５号公報な
ど）。しかしながら、前者のポリカーボネートは低複屈
折であるものの、例えば、成形加工した際に成形物にク
ラックが生じるなど、透明性、機械強度が悪く、実用的
に問題点を有していた。また、後者のポリカーボネート
は、ビスフェノールＡの含有率の増加に伴い、透明性お
よび機械物性は向上するものの、複屈折が大きくなり、
上述したような情報記録媒体等の光学部品としての使用
には問題点があった。さらに、これらのポリカーボネー
トは、既存のビスフェノールＡから製造されるポリカー
ボネートに比較して、溶融時の粘度はいくらか低くなっ
ているものの、上述したような精密加工性を要求される
情報記録媒体用のディスク基板を射出成形して得るには
実用上、十分な溶融流動性を有しているとは言い難く、
これらの問題点の解決が強く望まれていた。

【０００５】本発明者らは、上記の問題点を克服し、光
学部品用に有用な、透明性、機械物性、耐熱性等が良好
で、且つ、低複屈折性を有し、さらには溶融流動性が良
好で成形加工性に優れている樹脂として、後記一般式
（１−ａ）および一般式（２−ａ）で表される繰り返し
構造単位を含有してなるポリカーボネート共重合体を見
い出し、既に出願している（特願平１０−１１０３６１
号）。しかし、光学部品用途においては使用される樹脂
に対してとりわけ高い透明性が要求されている。すなわ
ち、光学部品の成形用樹脂にあっては、成形直後あるい
は初期色相が良好であることは当然であるが、経年劣化
による黄変や透明性の低下なども防止しなければならな
い。さらに、前述のように、より狭いトラック幅、より
短いトラック長を有する高記録密度のディスク基板等の
成形においては、転写性を高めるために、通常、約２５
０〜３００℃あるいはそれ以上の高温において、成型を
行う必要があり、色相の悪化、透明性の低下など溶融成
形時の安定性に関し、より安定性に優れた樹脂が求めら
れている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
の問題点を克服し、成形時の着色が極めて少ない上に、
透明性、機械物性、耐熱性等に優れ、且つ、低複屈折性
を有し、さらには溶融流動性が良好で、より低温での成
形が可能なポリカーボネート樹脂組成物ならびに該ポリ
カーボネート樹脂組成物を成形して得られる光学部品お
よびその製造方法を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決するため、鋭意検討した結果、本発明に到達し
た。すなわち、本発明は、下記一般式（１−ａ）およ
び一般式（２−ａ）（化２）で表される繰り返し構造単
位を含有してなるポリカーボネート共重合体と、該共重
合体１００重量部に対して、０．０００５〜５重量部の
亜リン酸エステル化合物とを含有することを特徴とする
ポリカーボネート樹脂組成物に関するものである。

【０００８】

【化２】 （式中、Ｒ₁ はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシ
基、ニトロ基あるいはハロゲン原子を表し、Ｒ₂ および
Ｒ₃ はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表
し、Ｒ₄ はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基ま
たはハロゲン原子を表し、ｋはそれぞれ独立に０〜３の
整数を表し、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す）

【０００９】また、本発明は、ポリカーボネート共重
合体が、一般式（１−ａ）および一般式（２−ａ）で表
される全繰り返し構造単位中に、５〜９０モル％の一般
式（１−ａ）で表される繰り返し構造単位を含むもので
ある前記の樹脂組成物、 ポリカーボネート共重合体の重量平均分子量が１００
００〜１５００００である前記またはのポリカーボ
ネート樹脂組成物、 前記〜のいずれかの樹脂組成物を成形して得られ
る光学部品、 前記〜のいずれかの樹脂組成物を用いて光学部品
を製造するにあたり、樹脂温度２４０〜３６０℃、金型
温度５０〜１５０℃で射出成形することを特徴とする光
学部品の製造方法、に関するものである。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に関して詳細に説明
する。本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、前記一
般式（１−ａ）および一般式（２−ａ）で表される繰り
返し構造単位を含有してなるポリカーボネート共重合体
と、亜リン酸エステル化合物とを含有することを特徴と
するものである。本発明の樹脂組成物において用いられ
るポリカーボネート共重合体（以下、本発明に係るポリ
カーボネート共重合体ともいう）は、一般式（１）（化
３）で表されるジヒドロキシ化合物と、一般式（２）
（化３）で表されるジヒドロキシ化合物を、カーボネー
ト前駆体と作用させ共重合させることにより得られるも
のであり、一般式（１）で表される化合物とカーボネー
ト前駆体とから誘導される一般式（１−ａ）で表される
繰り返し構造単位と、一般式（２）で表される化合物と
カーボネート前駆体とから誘導される一般式（２−ａ）
で表される繰り返し構造単位の両繰り返し構造単位を必
須繰り返し構造単位として有する共重合体であって、ラ
ンダム共重合体、交互共重合体あるいはブロック共重合
体のいずれであってもよい。

【００１１】

【化３】 （上式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、ｋおよびｌは前記
と同じ）

【００１２】これらのポリカーボネート共重合体の中で
も、耐熱性、機械物性等の諸物性のバランスを考慮する
と、一般式（１−ａ）および一般式（２−ａ）で表され
る全繰り返し構造単位中に含まれる一般式（１−ａ）で
表される繰り返し構造単位の割合は、好ましくは、５〜
９０モル％であり、より好ましくは、１０〜８０モル％
であり、さらに好ましくは、２０〜７０モル％である。

【００１３】一般式（１−ａ）において、Ｒ₁ はそれぞ
れ独立にアルキル基、アルコキシ基、ニトロ基またはハ
ロゲン原子を表し、好ましくは、置換基を有していても
よい直鎖、分岐または環状のアルキル基、置換基を有し
ていてもよい直鎖、分岐または環状のアルコキシ基、ニ
トロ基あるいはハロゲン原子を表し、好ましくは、置換
基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐また
は環状のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数
１〜２０のアルコキシ基、ニトロ基あるいはハロゲン原
子である。

【００１４】好ましくは、Ｒ₁ は、炭素数１〜１０の無
置換の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１０の
無置換の直鎖または分岐のアルコキシ基あるいは塩素原
子であり、より好ましくは、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、
ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ
基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基または塩素
原子である。置換基Ｒ₁ として、メチル基または塩素原
子は特に好ましい。また、一般式（１−ａ）において、
ｋはそれぞれ独立に０〜３の整数を表し、好ましくは、
０、１または２であり、より好ましくは、０または１で
ある。ｋとして、整数０は特に好ましい。

【００１５】一般式（２−ａ）において、Ｒ₂ およびＲ
₃ はそれぞれ独立に、水素原子またはアルキル基を表
す。Ｒ₂ およびＲ₃ は、好ましくは、水素原子または炭
素数１〜１０の直鎖、分岐または環状のアルキル基であ
り、より好ましくは、水素原子、炭素数１〜４の直鎖の
アルキル基であり、Ｒ₂ およびＲ₃ としてメチル基は特
に好ましい。

【００１６】Ｒ₄ はそれぞれ独立に、アルキル基、アル
コキシ基またはハロゲン原子を表し、好ましくは、置換
基を有していてもよい直鎖、分岐または環状のアルキル
基、置換基を有していてもよい直鎖、分岐または環状の
アルコキシ基あるいはハロゲン原子を表し、好ましく
は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の直鎖、
分岐または環状のアルキル基、置換基を有していてもよ
い炭素数１〜２０のアルコキシ基またはハロゲン原子を
表す。

【００１７】好ましくは、Ｒ₄ は炭素数１〜１０の無置
換の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１〜１０の無
置換の直鎖または分岐のアルコキシ基あるいはフッ素原
子、塩素原子であり、より好ましくは、メチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、メトキシ基、
エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ
−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
基、フッ素原子または塩素原子であり、置換基Ｒ₄とし
て、メチル基、フッ素原子は特に好ましい。また、一般
式（２−ａ）において、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整
数を表し、好ましくは、０または１である。ｌとして、
整数０は特に好ましい。

【００１８】一般式（１−ａ）で表される繰り返し構造
単位において、カーボネート結合の置換位置はスピロビ
インダン構造内のベンゼン環上で、それぞれ、４、５、
６または７位であるか、４’、５’、６’または７’位
である。一般式（１−ａ）で表される繰り返し構造単位
の中でも、下記式（１−ａ−Ａ）（化４）で表される繰
り返し構造単位が、また、一般式（２−ａ）で表される
繰り返し繰り返し構造単位の中でも、下記式（２−ａ−
Ａ）（化４）で表される繰り返し構造単位が特に好まし
い。

【００１９】

【化４】 （上式中、Ｒ₁ 、Ｒ₂ 、Ｒ₃ 、Ｒ₄ 、ｋおよびｌは前記
と同じ）

【００２０】本発明に係るポリカーボネート共重合体
は、前記したように、前記一般式（１）で表されるジヒ
ドロキシ化合物と前記一般式（２）で表されるジヒドロ
キシ化合物をカーボネート前駆体に作用させ共重合する
ことにより得られる（特願平１０−１１０３６１号）。
製造方法としては、公知の各種ポリカーボネート重合方
法〔例えば、実験化学講座第４版、（２８）高分子合
成、２３１〜２４２頁、丸善出版（１９８８年）に記載
の方法で、例えば、溶液重合法、エステル交換法または
界面重合法など〕が用いられる。代表的には、一般式
（１）で表されるジヒドロキシ化合物と一般式（２）で
表されるジヒドロキシ化合物にカーボネート前駆体（例
えば、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸ジフェニル等
の炭酸ジエステル化合物、ホスゲン等のハロゲン化カル
ボニル化合物など）を反応させる方法が用いられる。

【００２１】本発明に係るポリカーボネート共重合体の
分子量としては、特に限定されるものではないが、通
常、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフ
ィー）で測定する標準ポリスチレン換算の分子量として
重量平均分子量が、５０００〜２０００００であり、好
ましくは、１００００〜１５００００であり、より好ま
しくは、１５０００〜１２００００である。また、重量
平均分子量と数平均分子量の比として表される多分散性
インデックスとしては、特に限定されるものではない
が、好ましくは、１．５〜２０．０であり、より好まし
くは、２．０〜１５．０であり、さらに好ましくは、
２．０〜１０．０である。

【００２２】本発明に係るポリカーボネート共重合体
は、一般式（１−ａ）または一般式（２−ａ）で表され
る繰り返し構造単位で、異なる複数の繰り返し構造単位
を含有してなるポリカーボネート共重合体であってもよ
い。また、本発明の所望の効果を損なわない範囲におい
て、一般式（１−ａ）または一般式（２−ａ）で表され
る繰り返し構造単位以外の、他の繰り返し構造単位を含
有してなるポリカーボネート共重合体であってもよい。

【００２３】一般式（１−ａ）または一般式（２−ａ）
で表される繰り返し構造単位以外の他の繰り返し構造単
位は、一般式（１）または一般式（２）で表されるジヒ
ドロキシ化合物以外の他のジヒドロキシ化合物から誘導
される繰り返し構造単位であり、該ジヒドロキシ化合物
としては、各種公知の芳香族ジヒドロキシ化合物または
脂肪族ジヒドロキシ化合物を例示することができる。

【００２４】該芳香族ジヒドロキシ化合物の具体例とし
ては、例えば、ビス（4-ヒドロキシフェニル）メタン、
1,1-ビス(4'−ヒドロキシフェニル）エタン、1,2-ビス
（4'−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（4-ヒドロキ
シフェニル）フェニルメタン、ビス（4-ヒドロキシフェ
ニル）ジフェニルメタン、ビス（4-ヒドロキシフェニ
ル)-1-ナフチルメタン、1,1-ビス（4'−ヒドロキシフェ
ニル)-1-フェニルエタン、2,2-ビス（4'−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン〔”ビスフェノールＡ”〕、2-（4'−
ヒドロキシフェニル）-2-(3'−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、2,2-ビス（4'−ヒドロキシフェニル）ブタン、
1,1-ビス（4'−ヒドロキシフェニル）ブタン、2,2-ビス
（4'−ヒドロキシフェニル）-3−メチルブタン、2,2-ビ
ス(4'-ヒドロキシフェニル）ペンタン、3,3-ビス(4'-ヒ
ドロキシフェニル) ペンタン、2,2-ビス(4'-ヒドロキシ
フェニル) ヘキサン、2,2-ビス(4'-ヒドロキシフェニ
ル）オクタン、2,2-ビス(4'-ヒドロキシフェニル)-4-メ
チルペンタン、2,2-ビス(4'-ヒドロキシフェニル) ヘプ
タン、4,4-ビス(4'-ヒドロキシフェニル) ヘプタン、2,
2-ビス(4'-ヒドロキシフェニル) トリデカン、2,2-ビス
（4'−ヒドロキシフェニル）オクタン、2,2-ビス（3'−
メチル−4'−ヒドロキシフェニル）プロパン、2,2-ビス
（3'−エチル−4'−ヒドロキシフェニル）プロパン、2,
2-ビス（3'−ｎ−プロピル−4'−ヒドロキシフェニル）
プロパン、2,2-ビス（3'−イソプロピル−4'−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、2,2-ビス（3'−ｓｅｃ−ブチル
−4'−ヒドロキシフェニル）プロパン、2,2-ビス（3'−
ｔｅｒｔ−ブチル−4'−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、2,2-ビス（3'−シクロヘキシル−4'−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、2,2-ビス（3'−アリル−4'−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、2,2-ビス（3'−メトキシ−4'
−ヒドロキシフェニル）プロパン、2,2-ビス（3',5'-ジ
メチル−4'−ヒドロキシフェニル) プロパン、2,2-ビス
（2',3',5',6'-テトラメチル−4'−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シアノ
メタン、1-シアノ-3,3−ビス（4'−ヒドロキシフェニ
ル）ブタン、2,2-ビス（4'−ヒドロキシフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン等のビス（ヒドロキシアリール）ア
ルカン類、

【００２５】1,1-ビス（4'−ヒドロキシフェニル）シク
ロペンタン、1,1-ビス（4'−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘキサン、1,1-ビス（4'−ヒドロキシフェニル）シク
ロヘプタン、1,1-ビス（3'−メチル−4'−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン、1,1-ビス（3',5'-ジメチル−
4'−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、1,1-ビス
（3',5'-ジクロロ−4'−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン、1,1-ビス（3'−メチル−4'−ヒドロキシフェニ
ル）−４−メチルシクロヘキサン、1,1-ビス (4'−ヒド
ロキシフェニル)-3,3,5-トリメチルシクロヘキサン、2,
2-ビス（4'−ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、2,2-
ビス（4'−ヒドロキシフェニル）アダマンタン等のビス
（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、4,4'- ジヒ
ドロキシジフェニルエーテル、4,4'- ジヒドロキシ-3,
3'-ジメチルジフェニルエーテル、エチレングリコール
ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル等のビス（ヒ
ドロキシアリール）エーテル類、4,4'- ジヒドロキシジ
フェニルスルフィド、3,3'−ジメチル−4,4'−ジヒドロ
キシジフェニルスルフィド、3,3'−ジシクロヘキシル−
4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、3,3'−ジフ
ェニル−4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルフィド等の
ビス（ヒドロキシアリール）スルフィド類、4,4'−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホキシド、3,3'−ジメチル−4,
4'−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド等のビス（ヒ
ドロキシアリール）スルホキシド類、4,4'−ジヒドロキ
シジフェニルスルホン、4,4'- ジヒドロキシ-3,3'-ジメ
チルジフェニルスルホン等のビス（ヒドロキシアリー
ル）スルホン類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケト
ン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）ケト
ン等のビス（ヒドロキシアリール）ケトン類、

【００２６】さらには、7,7'−ジヒドロキシ−3,3',4,
4'-テトラヒドロ−4,4,4',4'-テトラメチル-2,2'-スピ
ロビ（２Ｈ−１−ベンゾピラン）、トランス-2,3- ビス
（4'−ヒドロキシフェニル）-2- ブテン、9,9-ビス（4'
−ヒドロキシフェニル）フルオレン、3,3-ビス（4'−ヒ
ドロキシフェニル）-2- ブタノン、1,6-ビス（4'−ヒド
ロキシフェニル）-1,6- ヘキサンジオン、α，α，
α’，α’−テトラメチル−α，α’−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−p-キシレン、α，α，α’，α’−
テトラメチル−α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−m-キシレン、4,4'−ジヒドロキシビフェニル、ハ
イドロキノン、レゾルシン等が挙げられる。さらに、例
えばビスフェノールＡ２モルとイソフタロイルクロライ
ドまたはテレフタロイルクロライド１モルとを反応させ
ることにより製造することができるエステル結合を含む
芳香族ジヒドロキシ化合物も有用である。

【００２７】該脂肪族ジヒドロキシ化合物の具体例とし
ては、１，２−ジヒドロキシエタン、１，３−ジヒドロ
キシプロパン、１，４−ジヒドロキシブタン、１，５−
ジヒドロキシペンタン、３−メチル−１，５−ジヒドロ
キシペンタン、１，６−ジヒドロキシヘキサン、１，７
−ジヒドロキシヘプタン、１，８−ジヒドロキシオクタ
ン、１，９−ジヒドロキシノナン、１，１０−ジヒドロ
キシデカン、１，１１−ジヒドロキシウンデカン、１，
１２−ジヒドロキシドデカン、ジヒドロキシネオペンチ
ル、２−エチル−１，２−ジヒドロキシヘキサン、２−
メチル−１，３−ジヒドロキシプロパン等のジヒドロキ
シアルカン、１，３−ジヒドロキシシクロヘキサン、
１，４−ジヒドキシシクロヘキサン及び２，２−ビス
（４’−ヒドロキシルシクロヘキシル）プロパン等のジ
ヒドロキシシクロアルカンを挙げることができ、さら
に、ｏ−ジヒドロキシキシリレン、ｍ−ジヒドロキシキ
シリレン、ｐ−ジヒドロキシキシリレン、１，４−ビス
（２’−ヒドロキシエチル）ベンゼン、１，４−ビス
（３’−ヒドロキシプロピル）ベンゼン、１，４−ビス
（４’−ヒドロキシブチル）ベンゼン、１，４−ビス
（５’−ヒドロキシペンチル）ベンゼン、１，４−ビス
（６’−ヒドロキシヘキシル）ベンゼン、２，２−ビス
［４’−（２”−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル］
プロパン等のジヒドロキシ化合物を挙げることができ
る。

【００２８】さらに、一般式（１−ａ）または一般式
（２−ａ）で表される繰り返し構造単位以外の他の繰り
返し構造単位として、上記ジヒドロキシ化合物以外の２
官能性化合物から誘導される繰り返し構造単位を含有し
ていてもよい。すなわち、該ジヒドロキシ化合物以外の
２官能性化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族
ジカルボン酸、芳香族ジアミン、脂肪族ジアミン、芳香
族ジイソシアネート、脂肪族ジイソシアネート等の化合
物が挙げられる。これらの２官能性化合物を用いること
により、カーボネート基以外に、イミノ基、エステル
基、エーテル基、イミド基、アミド基、ウレタン基、ウ
レア基等の基を含有するポリカーボネート共重合体が得
られ、本発明はかかるポリカーボネート共重合体も包含
するものである。

【００２９】一般式（１−ａ）または一般式（２−ａ）
で表される繰り返し構造単位以外の他の繰り返し構造単
位を含有する場合、全繰り返し構造単位中の一般式（１
−ａ）と一般式（２−ａ）で表される繰り返し構造単位
の占める割合は、本発明の所望の効果を損なわない範囲
であれば、特に制限されるものではないが、通常、５０
モル％以上であり、好ましくは、７０モル％以上であ
り、より好ましくは、９０モル％以上である。本発明の
効果を最大限に得るためには、他の繰り返し構造単位を
含有することなく、前記一般式（１−ａ）および一般式
（２−ａ）で表される繰り返し構造単位のみからなる共
重合体は特に好ましい。

【００３０】本発明に係るポリカーボネート共重合体に
おいて、末端基は、ヒドロキシ基、ハロホーメート基、
炭酸エステル基等の反応性の末端基であってもよく、ま
た、分子量調節剤で封止された不活性な末端基であって
もよい。本発明に係るポリカーボネート共重合体中の末
端基の量は特に制限はないが、通常、構造単位の総モル
数に対して、０．００１〜１０モル％であり、好ましく
は、０．０１〜５モル％であり、より好ましくは、０．
１〜３モル％である。

【００３１】本発明に係るポリカーボネート共重合体を
前記の方法に従い重合して製造する際に、分子量を調節
する目的で分子量調節剤の存在下に重合を行うことは好
ましいことである。かかる分子量調節剤としては特に限
定されるものではなく、公知のポリカーボネート重合の
際に使用される各種既知の分子量調節剤であればよく、
例えば、１価のヒドロキシ脂肪族化合物またはヒドロキ
シ芳香族化合物もしくはその誘導体（例えば、１価のヒ
ドロキシ脂肪族化合物またはヒドロキシ芳香族化合物の
アルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、１価のヒドロ
キシ脂肪族化合物またはヒドロキシ芳香族化合物のハロ
ホーメート化合物、１価のヒドロキシ脂肪族化合物また
はヒドロキシ芳香族化合物の炭酸エステルなど）、１価
のカルボン酸もしくはその誘導体（例えば、１価のカル
ボン酸のアルカリ金属またはアルカリ土類金属塩、１価
のカルボン酸の酸ハライド、１価のカルボン酸のエステ
ルなど）等が挙げられる。分子量調節剤の使用量は特に
制限するものでなく、目的の分子量に調節するために所
望に応じて用いればよいが、通常、重合するジヒドロキ
シ化合物の総モル数に対して、０．００１〜１０モル％
であり、好ましくは０．０１〜５モル％である。

【００３２】本発明の樹脂組成物は、前記の本発明に係
るポリカーボネート共重合体と、亜リン酸エステル化合
物とを含有することを特徴とするものである。本発明の
樹脂組成物中に含まれる亜リン酸エステルの量は、一般
式（１−ａ）および一般式（２−ａ）で表される繰り返
し構造単位を含有してなるポリカーボネート共重合体１
００重量部に対して、０．０００５〜５重量部であり、
好ましくは、０．００１〜３重量部、より好ましくは、
０．０１〜２重量部である。

【００３３】本発明で使用される亜リン酸エステル化合
物としては、公知の各種誘導体を使用することができ
る。亜リン酸エステル化合物の具体例として、例えば、
トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、ト
リブチルホスファイト、トリオクチルホスファイト、ト
リス（２−エチルヘキシルホスファイト）、トリノニル
ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリス（トリ
デシル）ホスファイト、トリオクタデシルホスファイ
ト、トリステアリルホスファイト、トリス（２−クロロ
エチル）ホスファイト、トリス（２，３−ジクロロプロ
ピルホスファイト）などのトリアルキルホスファイト
類、トリシクロヘキシルホスファイトなどのトリスシク
ロアルキルホスファイト類、トリフェニルホスファイ
ト、トリクレジルホスファイト、トリス（エチルフェニ
ル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホス
ファイトなどのトリスアリールホスファイト類、フェニ
ル−ジデシルホスファイト、ジフェニル−イソオクチル
ホスファイト、ジフェニル−２−エチルヘキシルホスフ
ァイト、ジフェニル−デシルホスファイト、ジフェニル
−トリデシルホスファイトなどのアリールアルキルホス
ファイト類、

【００３４】ビス（トリデシル）−ペンタエリスチリル
−ジホスファイト、ジステアリル−ペンタエリスチリル
−ジホスファイト、ジフェニル−ペンタエリスチリル−
ジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）−ペンタエリ
スチリル−ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフェニル）−ペンタエリスチリル−ジホスフ
ァイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メ
チルフェニル）−ペンタエリスチリル−ジホスファイ
ト、テトラフェニル−ジプロピレングリコール−ジホス
ファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−イソプロ
ピリデンジフェニル−ジホスファイト等のジホスファイ
ト類、テトラ（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）−４，４’−ジフェニルホスファイト、テトラフェ
ニルテトラ（トリデシル）ペンタエリスチリルテトラホ
スファイト、トリラウリルトリチオホスファイトなどを
挙げることができるが、これらに限定されるものではな
い。これらの亜リン酸エステル化合物は、単独もしくは
２種類以上組み合わせて、使用することができる。

【００３５】本発明のポリカーボネート樹脂組成物を製
造する方法としては、特に制限はなく、通常、樹脂組成
物を製造する各種公知の方法により行うことができる。
すなわち、 (1)重合反応後、後処理・精製工程を経て得
られたポリカーボネート溶液に対して、上記亜リン酸エ
ステル化合物を添加、混合した後に、ポリマーを固体
（例えば、粉体またはペレットなど）として単離する方
法（溶液ブレンド法）、(2) 一旦、前記ポリカーボネー
ト溶液からポリカーボネートを固体として単離した後、
該固体に対して上記亜リン酸エステル化合物を添加し
て、さらに公知の各種混合装置（例えば、ターンブルミ
キサー、ヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、スー
パーミキサーなど）により分散混合する方法、あるい
は、(3) 前述の通り、各種混合機により分散混合した
後、押出機、バンバリーミキサー、ロール等で溶融混練
する方法などが挙げられる。また、これらの方法を併用
しても差し支えない。

【００３６】本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、
本発明の所望の効果を損なわない範囲で、製造時あるい
は成形時に、さらに公知の各種添加剤、例えば、酸化防
止剤または熱安定剤（例えば、フェノール系、ヒンダー
ドフェノール系、硫黄系、リン酸金属塩、亜リン酸金属
塩など）、紫外線吸収剤、滑剤、有機ハロゲン化合物系
の難燃剤、離型剤、顔料、染料、流動性改良剤、帯電防
止剤、ガラス繊維、ガラスビーズ、硫酸バリウム、Ｔｉ
Ｏ₂ などを併せて添加することができる。

【００３７】本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、
所望の効果を損なわない範囲で、製造時あるいは成形時
に、２，２−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）プロパ
ンから誘導される芳香族ポリカーボネートと配合するこ
とにより、成形材料として使用することも可能である。
また、さらに他のポリマーと併用して成形材料として使
用することが可能である。他のポリマーとしては、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＡＢＳ樹
脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリトリフルオロエチレ
ン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリアセタール、ポ
リフェニレンオキシド、ポリブチレンテレフタレート、
ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリスル
ホン、ポリエーテルスルホン、パラオキシベンゾイル系
ポリエステル、ポリアリーレート、ポリスルフィド等が
挙げられる。

【００３８】本発明のポリカーボネート樹脂組成物は熱
可塑性であり、溶融状態で射出成形、押出成形、ブロー
成形、フィラー等への含浸等が可能であり、さらには、
圧縮成形、溶液キャスティングなど、各種公知の成形方
法により容易に成形可能である。

【００３９】本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、
成形材料として電気機器等のシャーシやハウジング材、
電子部品、自動車部品、光ディスク等の情報記録媒体の
基板、カメラや眼鏡のレンズ等の光学材料、ガラス代替
の建材等に成形することが可能である。とりわけ、本発
明のポリカーボネート樹脂組成物は、透明性、機械物
性、耐熱性に優れ、且つ、低複屈折性を有し、さらに溶
融流動性に優れていることから、各種光学部品用の成形
材料として非常に有用である。

【００４０】本発明の光学部品としては、光ディスク基
板、光磁気ディスク基板などの光記録媒体基板、ピック
アップレンズなどの光学レンズ、液晶セル用プラスチッ
ク基板、プリズム等の各種光学部品を挙げることができ
る。これらの光学部品は、本発明の樹脂組成物を、上述
したような従来より公知の各種成形方法（代表的には、
射出成形など）により成型することにより、好適に製造
することができる。

【００４１】本発明に係るポリカーボネート共重合体
は、汎用のビスフェノールＡポリカーボネートと比較し
て、低複屈折であり、溶融時流動性が良好であるという
特徴を有しており、比較的、低温での成形が可能とな
る。本発明の光学部品を製造する際に、好ましくは、樹
脂温度２５０〜３４０℃、金型温度６０〜１４０℃であ
り、より好ましくは、樹脂温度２６０〜３３０℃、金型
温度７０〜１３０℃である。成形時に樹脂温度が、あま
りに高すぎると樹脂の分解、着色等が避けられなくな
り、透明性が低下する。一方、樹脂温度があまりに低く
すぎると、溶融流動性が十分に得られず、金型の転写性
が悪くなったり、複屈折が大きくなる等の問題がある。
さらに、成形時の金型温度は、あまりに高すぎると離型
時の変形が大きくなる等の問題が生じ、あまりに低すぎ
ると得られる光学部品の複屈折が大きくなる等の問題が
生じる。

【００４２】本発明の光学部品を製造する好ましい方法
は、樹脂温度２４０〜３６０℃、金型温度５０〜１５０
℃の範囲で射出成形する方法である。このようにして得
られる本発明の光学部品は、低複屈折性を有し、諸性能
（例えば、光ディスクとしての光記録特性、耐久性な
ど）に優れており、非常に有用である。

【００４３】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明は以下の実施れに限定されるもので
はない。なお、以下の製造例および比較製造例で製造し
たポリカーボネートの物性の測定は以下の方法により行
った。 〔分子量の測定〕芳香族ポリカーボネートの０．２重量
％クロロホルム溶液をＧＰＣ（ゲル・パーミエーション
・クロマトグラフィー）〔昭和電工（株）製、Ｓｙｓｔ
ｅｍ−１１〕により測定し、重量平均分子量（Ｍｗ）を
求めた。尚、測定値は、標準ポリスチレン換算の値であ
る。 〔溶融粘度〕島津高化式フローテスター（ＣＦＴ５００
Ａ）を使用し、荷重１００ｋｇで直径０．１ｃｍ、長さ
１ｃｍのオリフィスを用いて測定した。

【００４４】製造例１ 内容量２リットルのバッフル付きフラスコに、格子翼を
備えた撹拌機、還流冷却管、ホスゲン（塩化カルボニ
ル）吹き込み用浸漬管を設けた。このフラスコに、原料
モノマーとして下記式（１−１）（化５）で表される
６，６’−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラ
メチル−１，１’−スピロビインダン７７．１ｇ（０．
２５モル）と下記式（２−１）（化５）で表されるα，
α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３−ジイ
ソプロピルベンゼン８６．６ｇ（０．２５モル）、水酸
化ナトリウム５６ｇ（１．４０モル）、分子量調節剤と
して４−tert−ブチルフェノール２．５８ｇ（３．４３
モル％対ジオール成分）、ならびに、６００ミリリット
ルの脱イオン水を装入し、水溶液を調製した。その後、
該水溶液に６００ミリリットルのジクロロメタンを添加
し、２相混合物とし、この２相混合物を撹拌しながら、
該混合物にホスゲン５９．４ｇ（０．６０モル）を９．
９ｇ／分の供給速度で供給した。

【００４５】

【化５】

【００４６】ホスゲンの供給終了後、０．０８ｇのトリ
エチルアミンを反応混合物に添加し、さらに９０分間撹
拌混合した。その後、撹拌を停止し、反応混合物を分液
し、ジクロロメタン相を塩酸水溶液により中和し、脱イ
オン水を使用して、水性洗浄液に電界質が実質的に検出
されなくなるまで洗浄した。その後、ジクロロメタン相
から、ジクロロメタンを蒸発留去することにより、下記
式（１−ａ−１）および下記式（２−ａ−１）（化６）
で表される繰り返し構造単位を含有してなるポリカーボ
ネート共重合体（ランダム共重合体）を白色粉状固体で
得た。重量平均分子量は５１０００であった。走査熱量
計（ＤＳＣ−３１００、マックサイエンス社製）で、０
℃から３００℃の温度範囲で示差熱分析を行ったとこ
ろ、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１４５℃であった。また
２４０℃における溶融粘度は４５００ポイズであった。

【００４７】

【化６】

【００４８】得られたポリカーボネート共重合体の１重
量％重水素化クロロホルム溶液の ¹Ｈ−ＮＭＲ（４００
ＭＨｚ）を測定した結果を下記に示した。 ・ ¹Ｈ−ＮＭＲ δ（ＣＤＣｌ₃ ）：１．３（ｓ，１２
Ｈ）、１．４（ｓ，１２Ｈ）、２．３（ｍ，８Ｈ）、
３．９〜４．５（ｍ，８Ｈ）、６．３〜７．２（ｍ，１
２Ｈ） ・ＩＲ（ＫＢｒ法）：１７８０ｃｍ^-1〔−Ｏ−Ｃ（＝
Ｏ）−Ｏ−〕 上記 ¹Ｈ−ＮＭＲ測定で、スピロビインダン環上のメチ
ル基とイソプロピリデン基に含まれるメチル基との積分
比を求めることによって、得られたポリカーボネート共
重合体中の式（１−ａ−１）で表される繰り返し構造単
位と、式（２−ａ−１）で表される繰り返し構造単位と
のモル比は５０：５０であることが確認された。

【００４９】比較製造例１ ビスフェノールＡとホスゲンから常法（界面重合法）に
従い、公知のポリカーボネートを製造した。すなわち、
内容量２リットルのバッフル付きフラスコに、格子翼を
備えた撹拌機、還流冷却管、ホスゲン吹き込み用浸漬管
を設けた。このフラスコに、１１４ｇ（０．５０モル）
のビスフェノールＡ、５６ｇ（１．４０モル）の水酸化
ナトリウム、２．５８ｇの４−tert−ブチルフェノール
および、６００ミリリットルの脱イオン水を装入し水溶
液を調製した。その後、該水溶液に６００ミリリットル
のジクロロメタンを添加し、２相混合物とし、この２相
混合物を撹拌しながら、該混合物に５９．４ｇ（０．６
０モル）のホスゲンを９．９ｇ／分の供給速度で供給し
た。ホスゲンの供給終了後、０．０８ｇのトリエチルア
ミンを反応混合物に添加し、さらに９０分間撹拌混合し
た。その後撹拌を停止し、反応混合物を分液し、ジクロ
ロメタン相を塩酸水溶液により中和し、脱イオン水を使
用して、水性洗浄液に電界質が実質的に検出されなくな
るまで洗浄した。その後、ジクロロメタン相から、ジク
ロロメタンを蒸発留去することにより、固体状態の芳香
族ポリカーボネートを得た。重量平均分子量は５１００
０であり、３００℃における溶融粘度は５４００ポイズ
であった。

【００５０】比較製造例２ 特開昭６３−３１４２３５号公報、実施例７に記載の方
法に従い、ビスフェノールＡとスピロビインダノールと
のポリカーボネート共重合体（モル比５０：５０）を製
造した。重量平均分子量は４４８００であり、２８０℃
における溶融粘度は４８００ポイズであった。

【００５１】実施例１（本発明の樹脂組成物の製造なら
びにディスク形基板の作製） 製造例１で製造したポリカーボネート共重合体１００重
量部、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）ホスファイト０．２重量部をヘンシェルミキサーに
て混合した後、単軸押出機（６５ｍｍ）にて溶融混練
し、ペレット化されれ樹脂組成物を得た。得られたペレ
ットを５０ｔの成形機にて射出成形して、厚さ０．６ｍ
ｍ、直径１２０ｍｍの簡易ディスク形の基板を得た。成
形条件は、成形温度２８０℃、金型温度９５℃であっ
た。

【００５２】実施例２ 製造例１において、脱イオン水を使用して、水性洗浄液
に電解質が実質的に検出されなくなるまで洗浄したポリ
カーボネート共重合体のジクロロメタン溶液１００重量
部（ポリマー濃度２２重量％、すなわち、ポリマー固体
分を２２重量部含有）に対して、トリオクチルホスファ
イトジフェニル−２−エチルヘキシルホスファイト０．
４４重量部（ポリマー固体分１００重量部に対して、１
重量部）を添加して室温で３０分間撹拌した。その後、
該ポリカーボネート溶液をメタノール５００重量部に排
出してポリマーを白色粉状固体として得る以外は、製造
例１に記載の方法と同様な方法で操作を行った。得られ
たポリカーボネート共重合体の樹脂組成物は、リンの元
素分析の結果、ポリカーボネート共重合体１００重量部
に対してトリオクチルホスファイトジフェニル−２−エ
チルヘキシルホスファイトを０．５重量部（０．５重量
％）含有していることが判った。この樹脂組成物を実施
例１に記載の方法と同様にして、ペレット化、さらに射
出成形することにより、簡易ディスク形の基板を得た。

【００５３】実施例３ 実施例１において、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔーブ
チルフェニル）ホスファイト０．２重量部の代わりに、
ジフェニル−２−エチルヘキシルホスファイト０．２重
量部を使用する以外は、実施例１に記載の方法と同様に
して、簡易ディスク形の基板を得た。

【００５４】実施例４ 実施例１において、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔーブ
チルフェニル）ホスファイト０．２重量部の代わりに、
ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェ
ニル）−ペンタエリスチリル−ジホスファイト０．１重
量部を使用する以外は、実施例１に記載の方法と同様に
して、簡易ディスク形の基板を得た。

【００５５】実施例５ 実施例１において、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔーブ
チルフェニル）ホスファイト０．２重量部の代わりに、
テトラフェニル−テトラ（トリデシル）−ペンタエリス
チリル−テトラホスファイト０．２重量部を使用する以
外は、実施例１に記載の方法と同様にして、簡易ディス
ク形の基板を得た。

【００５６】実施例６ 実施例５において、テトラフェニル−テトラ（トリデシ
ル）−ペンタエリスチリル−テトラホスファイト０．２
重量部に加えて、ペンタエリスチリル［３−（３，５−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロ
ピオネート］０．２重量部を使用する以外は、実施例５
に記載と同様にして、簡易ディスク形の基板を得た。

【００５７】比較例１ 比較製造例１で製造したポリカーボネート共重合体１０
０重量部、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニル）ホスファイト０．２重量部を、ヘンシェルミキサ
ーにて混合した後、単軸押出機（６５ｍｍ）にて溶融混
練し、ペレット化した樹脂組成物を得た。得られたペレ
ットを４０ｔの成形機にて射出成形して、厚さ０．６ｍ
ｍ、直径１２０ｍｍの簡易ディスク形の基板を得た。成
形条件は、成形温度３４０℃、金型温度９５℃であっ
た。

【００５８】比較例２ 比較製造例２で製造したポリカーボネート共重合体１０
０重量部、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニル）ホスファイト０．２重量部を、ヘンシェルミキサ
ーにて混合した後、単軸押出機（６５ｍｍ）にて溶融混
練し、ペレット化された樹脂組成物を得た。得られたペ
レットを５０ｔの成形機にて射出成形して、厚さ０．６
ｍｍ、直径１２０ｍｍの簡易ディスク形の基板を得た。
成形条件は、成形温度３２０℃、金型温度９５℃であっ
た。

【００５９】比較例３ 実施例１において、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔーブ
チルフェニル）ホスファイトを使用しない以外は、実施
例１に記載の方法と同様にして、簡易ディスク形の基板
を得た。

【００６０】〔評価方法〕各実施例および比較例で製造
した簡易ディスク形の基板を用いて、以下に示した項目
の評価試験を行った。結果を下記の第１表（表１）に示
した。 （１）外観 試験片の透明性、面状態を目視観察、評価した。 ○：ひび割れ、クラック、面荒れ等が無く、無色透明で
面状態の良いもの ×：ひび割れ、クラック、面荒れ等が観察されるもの （２）全光線透過率（以下、透過率と称する） ＡＳＴＭＤ−１００３法に従った。 （３）複屈折 精密歪計（東芝硝子株式会社・ＳＶＰ−３０−II）を用
いて、バビネ補整器型法により測定した。 （４）耐熱性 １２０℃で、熱風乾燥器中に、２４時間放置した後、試
験片を取り出して、肉眼で観察し評価した。 ○：成形物の着色、表面の歪、クラック等が無いもの ×：成形物の着色、表面の歪、クラック等が観察される
もの （５）色相 簡易ディスク形の基板のＹＩ値を測定した。

【００６１】

【表１】 第１表から明らかなように、本発明のポリカーボネート
共重合体を成形して得られる成形物は、透明性、耐熱性
等が良好で、且つ、低複屈折性を有していることが明き
らかとなった。

【００６２】実施例７（光ディスクの作製および評価） 実施例１で製造した樹脂組成物（ペレット状）を、１２
０℃にて１８時間乾燥した後、２８０℃にて射出成形を
行った。すなわち、金型に鏡面を有するスタンパーを装
着して、外径１３０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの円盤状の成
形物を得た。得られた基板の中心部を、内径１５ｍｍと
なるように打ち抜いて、ドーナツ状円盤とした。次に、
基板の片面にアルミの真空蒸着を行い、６００オングス
トロームの反射層を設けた。得られた光ディスクの複屈
折およびＢＥＲ（ビットエラーレート）を測定した。ビ
ットエラーレートは、波長７８０ｎｍ、線速２ｍ／ｓｅ
ｃ、０．８ｍＷのレーザー光を用いて、記録の読みとり
のエラーの発生率を測定した。結果を下記の第２表（表
２）に示した。

【００６３】比較例４ 比較例１で製造した樹脂組成物を使用して、上記実施例
７と同様な方法により光ディスクを製造した。得られた
光ディスクの複屈折およびＢＥＲ（ビットエラーレー
ト）を測定した結果を、下記の第２表に示した。

【００６４】比較例５ 比較例２で製造した樹脂組成物を使用して、上記実施例
７と同様な方法により光ディスクを製造した。得られた
光ディスクの複屈折およびＢＥＲ（ビットエラーレー
ト）を測定した結果を、下記の第２表に示した。

【００６５】比較例６ 比較例３で製造した樹脂組成物を使用して、上記実施例
７と同様な方法により光ディスクを製造した。得られた
光ディスクの複屈折およびＢＥＲ（ビットエラーレー
ト）を測定した結果を、以下の第２表に示した。

【００６６】

【表２】 第２表から明らかなように、本発明のポリカーボネート
共重合体と亜リン酸エステル化合物を含む樹脂組成物を
用いて、得られる光ディスクは複屈折の低下により、Ｂ
ＥＲが良好である。

【００６７】

【発明の効果】ポリカーボネート共重合体と亜リン酸エ
ステル化合物を含む本発明の樹脂組成物は、着色が極め
て少ない上、透明性、機械物性、耐熱性等に優れ、且
つ、低複屈折性を有し、さらには溶融流動性が良好で成
形加工性に優れており、光ディスク基板、ピックアップ
レンズ、液晶セル用プラスチック基板、プリズム、光フ
ァイバーなどを代表とする光学部品に有用である。本発
明の光学部品として、例えば、上記樹脂組成物を成形し
て得られる光ディスク基板は、複屈折が小さく光記録特
性に優れている。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸林 博雅 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 (72)発明者 詫摩 啓輔 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三井 化学株式会社内 Ｆターム(参考） 4F206 AA28 AB22 AC01 AG19 AH17 AH33 AH73 AH76 AH77 AH79 AM32 JA07 JF02 JL02 4J002 CG011 CG021 CP01 CP02 EW046 GS02

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１−ａ）および一般式（２
   −ａ）（化１）で表される繰り返し構造単位を含有して
   なるポリカーボネート共重合体と、該共重合体１００重
   量部に対して、０．０００５〜５重量部の亜リン酸エス
   テル化合物とを含有することを特徴とするポリカーボネ
   ート樹脂組成物。 【化１】 （式中、Ｒ₁ はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシ
   基、ニトロ基あるいはハロゲン原子を表し、Ｒ₂ および
   Ｒ₃ はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表
   し、Ｒ₄ はそれぞれ独立にアルキル基、アルコキシ基ま
   たはハロゲン原子を表し、ｋはそれぞれ独立に０〜３の
   整数を表し、ｌはそれぞれ独立に０〜２の整数を表す）
2. 【請求項２】 ポリカーボネート共重合体が、一般式
   （１−ａ）および一般式（２−ａ）で表される全繰り返
   し構造単位中に、５〜９０モル％の一般式（１−ａ）で
   表される繰り返し構造単位を含むものであることを特徴
   とする請求項１に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
3. 【請求項３】 ポリカーボネート共重合体の重量平均分
   子量が１００００〜１５００００である請求項１または
   ２に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載のポリカ
   ーボネート樹脂組成物を成形して得られる光学部品。
5. 【請求項５】 請求項１〜３のいずれかに記載のポリカ
   ーボネート樹脂組成物を用いて光学部品を製造するにあ
   たり、樹脂温度２４０〜３６０℃、金型温度５０〜１５
   ０℃で射出成形することを特徴とする光学部品の製造方
   法。