JPH01299863A - ポリカーボネート系樹脂組成物 - Google Patents
ポリカーボネート系樹脂組成物Info
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- JPH01299863A JPH01299863A JP12707988A JP12707988A JPH01299863A JP H01299863 A JPH01299863 A JP H01299863A JP 12707988 A JP12707988 A JP 12707988A JP 12707988 A JP12707988 A JP 12707988A JP H01299863 A JPH01299863 A JP H01299863A
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、スチレンとメチルメタクリレートの組成比が
７＝３の共重合体樹脂に２ないし３種の異なった構造を
有するビスフェノール成分より導かれる芳香族ポリカー
ボネート共重合体を配合してなる優れた透明性を有する
ポリカーボネート系樹脂組成物に関する。特に、詳しく
は、透明性が優れ、光学的な歪みが小さい成形物を提供
する組成物に関する。
７＝３の共重合体樹脂に２ないし３種の異なった構造を
有するビスフェノール成分より導かれる芳香族ポリカー
ボネート共重合体を配合してなる優れた透明性を有する
ポリカーボネート系樹脂組成物に関する。特に、詳しく
は、透明性が優れ、光学的な歪みが小さい成形物を提供
する組成物に関する。
（従来の技術およびその課題）
特公昭４３−６２９５号には、ポリカーボネート樹脂と
ポリスチレンを混合させ、透明性を保持し且つ高軟化点
を具えるポリカーボネート樹脂を提供するとの報告が公
告されている。しかしながら、上記公告にも示されてい
るがボリスチレンとの混合の際、混合するポリスチレン
の量が多くなるに従って成形物の透明性は次第に低下し
、その添加物量が３０％を超えると曇りが大きくなり、
該混合物において全組成領域に渡り透明性樹脂を提供す
るものでは側底ありえない。
ポリスチレンを混合させ、透明性を保持し且つ高軟化点
を具えるポリカーボネート樹脂を提供するとの報告が公
告されている。しかしながら、上記公告にも示されてい
るがボリスチレンとの混合の際、混合するポリスチレン
の量が多くなるに従って成形物の透明性は次第に低下し
、その添加物量が３０％を超えると曇りが大きくなり、
該混合物において全組成領域に渡り透明性樹脂を提供す
るものでは側底ありえない。
一方光学機器用の成形物の製造に用いられる成形材料と
しては、透明性に優れ且つ光学的歪みの特に小さいこと
が必須条件として要求される場合が多い。しかしながら
、かかる条件を充分満たし得るプラスチック成形材料は
極めて少ない。
しては、透明性に優れ且つ光学的歪みの特に小さいこと
が必須条件として要求される場合が多い。しかしながら
、かかる条件を充分満たし得るプラスチック成形材料は
極めて少ない。
近年、光学用材料として、光学式情報記録基板が注目さ
れている。すなわち、レーザー光線のスポットビームを
ディスクにあてディスクに微細なピットで信号を記録し
、ピットによって記録された信号をレーザー光線の反射
又は透過光量を検出することによって読み出すダイレク
ト・リード・アフター・ライト（ＤＲＡＷ）、イレーザ
ブル・ダイレクト・リード・アフター・ライト（ＥＤＲ
ＡＷ）型光学式情報記録再生方式が注目されている。
れている。すなわち、レーザー光線のスポットビームを
ディスクにあてディスクに微細なピットで信号を記録し
、ピットによって記録された信号をレーザー光線の反射
又は透過光量を検出することによって読み出すダイレク
ト・リード・アフター・ライト（ＤＲＡＷ）、イレーザ
ブル・ダイレクト・リード・アフター・ライト（ＥＤＲ
ＡＷ）型光学式情報記録再生方式が注目されている。
このような記録再生方式に利用されるディスクには、デ
ィスク本体をレーザー光線が通過するために透明である
ことは勿論のこと読み取り誤差を少なくするために光学
的均質性が強く求められる。ディスク本体形成時の樹脂
の冷却及び流動過程において生じた熱応力・分子配向・
ガラス転移点付近の容積変化による残留応力が主な原因
となりレーザー光線がディスク本体を通過する際に複屈
折が生ずる。この複屈折に起因する光学的不均一性が大
きいことは光学式ディスクとしては致命的欠陥である。
ィスク本体をレーザー光線が通過するために透明である
ことは勿論のこと読み取り誤差を少なくするために光学
的均質性が強く求められる。ディスク本体形成時の樹脂
の冷却及び流動過程において生じた熱応力・分子配向・
ガラス転移点付近の容積変化による残留応力が主な原因
となりレーザー光線がディスク本体を通過する際に複屈
折が生ずる。この複屈折に起因する光学的不均一性が大
きいことは光学式ディスクとしては致命的欠陥である。
一般にポリメチルメタアクリレート（以下ＰＭＭＡと略
す）は、プラスチック材料の中で抜群の透明性と耐候性
を有すると共に、複屈折が小さく成形性が良好で、機械
的強度もバランスしている代表的な光学用材料として使
用できることが知られている。
す）は、プラスチック材料の中で抜群の透明性と耐候性
を有すると共に、複屈折が小さく成形性が良好で、機械
的強度もバランスしている代表的な光学用材料として使
用できることが知られている。
しかし、ＰＭＭＡは吸水性が比較的大きく高精度な寸法
安定性を必要とする用途材料に適していない。
安定性を必要とする用途材料に適していない。
また、ビスフェノールＡのホモポリカーボネート（以下
ＰＣと略す）は、ＰＭＭＡと同程度の透明性を有すると
ともに耐熱性、耐衝撃性に優れたエンジニアリングプラ
スチックの一種で且つ吸水性が低い。
ＰＣと略す）は、ＰＭＭＡと同程度の透明性を有すると
ともに耐熱性、耐衝撃性に優れたエンジニアリングプラ
スチックの一種で且つ吸水性が低い。
しかしながら、ＰＣは光学的異方性の大きな官能基であ
るフェニル環を有し、複屈折性を生じやすく、また、成
形性に劣っている。
るフェニル環を有し、複屈折性を生じやすく、また、成
形性に劣っている。
一方ＰＣを用いたとしても成形温度を高めるか、又は、
樹脂の平均分子量を低下させて溶融粘度を下げることに
より複屈折を低減することができるが、成形温度の上昇
は樹脂の熱分解を生じ、また、分子量の低下は機械的強
度の低下を生ずるなど各々限界がある。
樹脂の平均分子量を低下させて溶融粘度を下げることに
より複屈折を低減することができるが、成形温度の上昇
は樹脂の熱分解を生じ、また、分子量の低下は機械的強
度の低下を生ずるなど各々限界がある。
このような状況の中、光デイスク用ＰＣの複屈折低減下
に関する多くに提案がなされている。
に関する多くに提案がなされている。
例えば、■配向複屈折を低減化するためにＰＣの流動性
を改良するもの（特開昭５８−１２６１１９゜特開昭６
０−２１５０５１．特開昭６１−１６９６２．特開昭６
１−７８８６４、特開昭６ｌ−１２３６５８）■ビスフ
ェノールＡ以外の骨格を有する二価フェノール又は、脂
肪族アルコールを用いて光弾性定数を低下させるもの（
特開昭６０−８３２３９．特開昭６０−１６３２１．特
開昭６０−１６６３２２、特開昭６１−５５１１６．特
開昭６１−５５１１７．特開昭６１−２２３０２５．特
開昭６２−２７７０．特開昭６２−３４４３゜特開昭６
２−３９６２４）■ポリエステルカーボネートやポリエ
ーテルカーボネート構造をＰＣに導入して光弾性定数を
低下するとともに流動性を改質するもの。（特開昭６０
−１８８４２２ 、特開昭６０−１８８４２６ 、特開
昭６２−３６４５７ ）しかしながら、これら上記提案
においては複屈折性がＰＣの化学構造自身に起因するこ
とより、−様に複屈折の低い基板を安定して製造するこ
とが困難な状況にある。
を改良するもの（特開昭５８−１２６１１９゜特開昭６
０−２１５０５１．特開昭６１−１６９６２．特開昭６
１−７８８６４、特開昭６ｌ−１２３６５８）■ビスフ
ェノールＡ以外の骨格を有する二価フェノール又は、脂
肪族アルコールを用いて光弾性定数を低下させるもの（
特開昭６０−８３２３９．特開昭６０−１６３２１．特
開昭６０−１６６３２２、特開昭６１−５５１１６．特
開昭６１−５５１１７．特開昭６１−２２３０２５．特
開昭６２−２７７０．特開昭６２−３４４３゜特開昭６
２−３９６２４）■ポリエステルカーボネートやポリエ
ーテルカーボネート構造をＰＣに導入して光弾性定数を
低下するとともに流動性を改質するもの。（特開昭６０
−１８８４２２ 、特開昭６０−１８８４２６ 、特開
昭６２−３６４５７ ）しかしながら、これら上記提案
においては複屈折性がＰＣの化学構造自身に起因するこ
とより、−様に複屈折の低い基板を安定して製造するこ
とが困難な状況にある。
まり゛ミ最近ポリマーブレンドによる複屈折消去効果が
提唱されている。［米国特許４３７３０６５．ポリマー
（Ｐｏｌｙｍｅｒ）；２６巻、１６１９頁（１９８５年
版）、特開昭６１−１０８６１７］これらの基本原理は
次の如くである。すなわち、正の複屈折性ポリマーと負
の複屈折性ポリマーを相溶させれば透明性を失わせるこ
となく正負の複屈折が相殺されて複屈折のない成形物あ
るいは延伸物が得られるという原理に基づいている。Ｐ
Ｃの固有複屈折を消去する材料としては、フェニルマレ
イミド−スチレン共重合体、無水マレイン酸−スチレン
共重合体（特開昭６ｌ−１９６５６）、およびＮ−フェ
ニルマレイミドとＮ−ｔ−ブチルマレイミドとスチレン
との三元共重合体（特開昭６２−１８４６６）等があげ
られる。
提唱されている。［米国特許４３７３０６５．ポリマー
（Ｐｏｌｙｍｅｒ）；２６巻、１６１９頁（１９８５年
版）、特開昭６１−１０８６１７］これらの基本原理は
次の如くである。すなわち、正の複屈折性ポリマーと負
の複屈折性ポリマーを相溶させれば透明性を失わせるこ
となく正負の複屈折が相殺されて複屈折のない成形物あ
るいは延伸物が得られるという原理に基づいている。Ｐ
Ｃの固有複屈折を消去する材料としては、フェニルマレ
イミド−スチレン共重合体、無水マレイン酸−スチレン
共重合体（特開昭６ｌ−１９６５６）、およびＮ−フェ
ニルマレイミドとＮ−ｔ−ブチルマレイミドとスチレン
との三元共重合体（特開昭６２−１８４６６）等があげ
られる。
（課題を解決するための手段）
本発明は、芳香族ポリカーボ木−ト共重合体とスチレン
とメチルメタクリレートの組成比が７：３からなる共重
合体樹脂との混合系に関し、その混合比が全領域におい
て優れた透明性を維持できるポリカーボネート系樹脂組
成物を見い出し、また、特に詳しくは、透明性に優れる
と共に光学的歪みの小さい成形品を見い出し本発明に到
達したものである。
とメチルメタクリレートの組成比が７：３からなる共重
合体樹脂との混合系に関し、その混合比が全領域におい
て優れた透明性を維持できるポリカーボネート系樹脂組
成物を見い出し、また、特に詳しくは、透明性に優れる
と共に光学的歪みの小さい成形品を見い出し本発明に到
達したものである。
すなわち、本発明は、
（１） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と２
，２．ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ｉ
ｉ）ｂモル％と１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン（ｉｉｉ）０モル％をカーボネート
結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重合体１〜
９９重量％及びスチレンとメチルメタクリレートの組成
比が７：３からなる共重合体９９〜１重量％を混合して
なる透明なポリカーボネート系樹脂組成物。
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と２
，２．ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ｉ
ｉ）ｂモル％と１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン（ｉｉｉ）０モル％をカーボネート
結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重合体１〜
９９重量％及びスチレンとメチルメタクリレートの組成
比が７：３からなる共重合体９９〜１重量％を混合して
なる透明なポリカーボネート系樹脂組成物。
二こで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたａ、ｂ、ｃ（モル％）は、下記数式（Ｉ）〜
（ＩＶ）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体で
ある。
囲に用いたａ、ｂ、ｃ（モル％）は、下記数式（Ｉ）〜
（ＩＶ）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体で
ある。
ａ＋ｂ＋ｃ＝１００ ＝（Ｉ ）０≦ｃ＜ １０
０ −・−−−−（ＩＩ）２０ ＋ ０．２３ｃ
≦ａ≦４５ ＋ ２．６ｃただしＯ≦ｃ≦４０の時・・
・・・（ＩＩＩ） ２０ ＋ ０．２３ｃ≦ａ≦１００−ｃただし４０≦ｃ
≦６５の時・・・・（ＩＶ） （２） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と１
，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン（ｉｉ −１）ｃモル％と４，４′−ジヒドロキシ−
２，２，２−）リフェニルエタン（ｉｉｉ−１） ｄモ
ル％をカーボネート結合して得られる芳香族ポリカーボ
ネート共重合体１〜９９重量％及びスチレンとメチルメ
タクリレートの組成比が７：３からなる共重合体９９〜
１重量％を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂
組成範囲二で、芳香族ポリカーボネート共重合体の （
樹脂組成範囲に用いたａ、ｃ、ｄ（モル％）は、下記数
式（Ｉ−１）〜（ＩＶ−１）を満足する芳香族ポリカー
ボネート共重合体である。
０ −・−−−−（ＩＩ）２０ ＋ ０．２３ｃ
≦ａ≦４５ ＋ ２．６ｃただしＯ≦ｃ≦４０の時・・
・・・（ＩＩＩ） ２０ ＋ ０．２３ｃ≦ａ≦１００−ｃただし４０≦ｃ
≦６５の時・・・・（ＩＶ） （２） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と１
，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン（ｉｉ −１）ｃモル％と４，４′−ジヒドロキシ−
２，２，２−）リフェニルエタン（ｉｉｉ−１） ｄモ
ル％をカーボネート結合して得られる芳香族ポリカーボ
ネート共重合体１〜９９重量％及びスチレンとメチルメ
タクリレートの組成比が７：３からなる共重合体９９〜
１重量％を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂
組成範囲二で、芳香族ポリカーボネート共重合体の （
樹脂組成範囲に用いたａ、ｃ、ｄ（モル％）は、下記数
式（Ｉ−１）〜（ＩＶ−１）を満足する芳香族ポリカー
ボネート共重合体である。
ａ＋ｃ＋ｄ＝１００ ・・・・・・（１−１）０
≦ｄく５５ ・・・・・・（ＩＩ−１）３５
＋０．１８ｄ≦ａ≦６０＋０．１４ｄただし０≦ｄ≦３
５の時 ・・・・・
（ＩＩＩ−１）３５＋０．１８ｄ≦ａ≦１００−ｄただ
し３５≦ｄ≦５５の時・・・・（ＩＶ−１） （３） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と１
，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイ
ソプロピルベンゼン（ｉｉ−２）ｅモル％と１，１−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ｉｉ
ｉ） ａモル％をカーボネート結合して得られる芳香族
ポリカーボネート共重合体１〜９９重量％及びスチレン
とメチルメタクリレートの組成比が７：３からなる共重
合体９９〜１重量％を混合してなる透明なポリカーボネ
ート系樹脂組成物。
≦ｄく５５ ・・・・・・（ＩＩ−１）３５
＋０．１８ｄ≦ａ≦６０＋０．１４ｄただし０≦ｄ≦３
５の時 ・・・・・
（ＩＩＩ−１）３５＋０．１８ｄ≦ａ≦１００−ｄただ
し３５≦ｄ≦５５の時・・・・（ＩＶ−１） （３） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と１
，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイ
ソプロピルベンゼン（ｉｉ−２）ｅモル％と１，１−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ｉｉ
ｉ） ａモル％をカーボネート結合して得られる芳香族
ポリカーボネート共重合体１〜９９重量％及びスチレン
とメチルメタクリレートの組成比が７：３からなる共重
合体９９〜１重量％を混合してなる透明なポリカーボネ
ート系樹脂組成物。
ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたａ、ｅ、ｃ（モル％）は、下記数式（１−２
）〜（ＩＶ−２）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。
囲に用いたａ、ｅ、ｃ（モル％）は、下記数式（１−２
）〜（ＩＶ−２）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。
ａ＋ｅ＋ｃ＝１００ ・・・・・・（Ｉ−２）０
≦ｃ＜ １００ −−−−−・（ＩＩ −２
）３５≦ａ≦６０ただし０≦ｃ≦４０の時・・・・・（
ＩＩＩ−２） ３５≦ａ≦１００−ｃただし４０≦ｃ≦６５の時・・・
・（ＩＶ −２） （４） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と２
，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェ
ニル）プロパン（ｉｉ−３）ｆモル％と４，４′−ジヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフェニルエタン（ｉｉｉ−
２）ｇモル％をカーボネート結合して得られる芳香族ポ
リカーボネート共重合体１〜９９重量％及びスチレンと
メチルメタクリレートの組成比が７：３からなる共重合
体９９〜１重量％を混合してなる透明なポリカーボネー
ト系樹 “脂組成物。
≦ｃ＜ １００ −−−−−・（ＩＩ −２
）３５≦ａ≦６０ただし０≦ｃ≦４０の時・・・・・（
ＩＩＩ−２） ３５≦ａ≦１００−ｃただし４０≦ｃ≦６５の時・・・
・（ＩＶ −２） （４） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と２
，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェ
ニル）プロパン（ｉｉ−３）ｆモル％と４，４′−ジヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフェニルエタン（ｉｉｉ−
２）ｇモル％をカーボネート結合して得られる芳香族ポ
リカーボネート共重合体１〜９９重量％及びスチレンと
メチルメタクリレートの組成比が７：３からなる共重合
体９９〜１重量％を混合してなる透明なポリカーボネー
ト系樹 “脂組成物。
二こで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたａ、ｆ２ｇ（モル％）は、下記数式（Ｉ −
３）〜（Ｖ−３）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。
囲に用いたａ、ｆ２ｇ（モル％）は、下記数式（Ｉ −
３）〜（Ｖ−３）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。
ａ＋ｆ＋ｇ＝１００ ・−・・−（Ｉ −３）０
≦ｇ≦９０ −〜 ・・・・・・（ＩＩ −３）０≦ａ
≦５＋０．３６ｇただし０≦ｇ≦４０の時・・・・（Ｉ
ＩＩ −３） ０．２５ｇ−８≦ａ≦５＋０．３６ｇただし４０≦ｇ≦
７０の時・・・・（ＩＶ −３） ０．２５ｇ−８≦ａ≦１００−ｇただし７０≦ｇ≦９０
の時・・・・（Ｖ −３） （５） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と１
，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイ
ソプロピルベンゼン（ｉｉ−４）ｈモル％と、１，１−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ｉ
ｉｉ） ａモル％をカーボネート結合して得られる芳香
族ポリカーボネート共重合体１〜９９重量％及びスチレ
ンとメチルメタクリレートの組成比が７：３からなる共
重合体９９〜１重量％を混合してなる透明なポリカーボ
ネート系樹脂組成物。
≦ｇ≦９０ −〜 ・・・・・・（ＩＩ −３）０≦ａ
≦５＋０．３６ｇただし０≦ｇ≦４０の時・・・・（Ｉ
ＩＩ −３） ０．２５ｇ−８≦ａ≦５＋０．３６ｇただし４０≦ｇ≦
７０の時・・・・（ＩＶ −３） ０．２５ｇ−８≦ａ≦１００−ｇただし７０≦ｇ≦９０
の時・・・・（Ｖ −３） （５） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と１
，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイ
ソプロピルベンゼン（ｉｉ−４）ｈモル％と、１，１−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ｉ
ｉｉ） ａモル％をカーボネート結合して得られる芳香
族ポリカーボネート共重合体１〜９９重量％及びスチレ
ンとメチルメタクリレートの組成比が７：３からなる共
重合体９９〜１重量％を混合してなる透明なポリカーボ
ネート系樹脂組成物。
ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたａ、ｈ、ｃ（モル％）は、下記数式（Ｉ−４
）〜（ＩＶ−４）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。
囲に用いたａ、ｈ、ｃ（モル％）は、下記数式（Ｉ−４
）〜（ＩＶ−４）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。
ａ＋ｈ＋ｃ＝１００ ・・−（Ｉ −４）Ｏ≦ｃ
＜ １００ −−−・−・（ＩＩ −４）３５≦
ａ≦６０ただし０≦ｃ≦４０の時 ・・・・、（ＩＩＩ
−４）３５≦ａ≦１００−ｃただし４０≦ｃ≦６５の
時・・・・・（ＩＶ−４） それぞれの構成単位（ｉ Ｘ ｉｉ Ｘ ｉｉｉ Ｘ
１ｉ−Ｉ Ｘ１ｉ−２Ｘ １ｉ−３Ｘ １ｉ−４Ｘ １
ｉｉ−Ｉ Ｘ １ｉｉ−２）が上記範囲外であるとスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体との混合によって得られるポリカーボネート系樹脂組
成物の透明性が失われる。
＜ １００ −−−・−・（ＩＩ −４）３５≦
ａ≦６０ただし０≦ｃ≦４０の時 ・・・・、（ＩＩＩ
−４）３５≦ａ≦１００−ｃただし４０≦ｃ≦６５の
時・・・・・（ＩＶ−４） それぞれの構成単位（ｉ Ｘ ｉｉ Ｘ ｉｉｉ Ｘ
１ｉ−Ｉ Ｘ１ｉ−２Ｘ １ｉ−３Ｘ １ｉ−４Ｘ １
ｉｉ−Ｉ Ｘ １ｉｉ−２）が上記範囲外であるとスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体との混合によって得られるポリカーボネート系樹脂組
成物の透明性が失われる。
尚、本発明の共重合体のビスフェノールＡ−ポリカーボ
ネート換算の粘度平均分子量は１３．０００〜５０，０
００が好ましい。１３，０００未満では共重合体が脆く
なり、５０，０００を超えると光学的歪みの小さい成形
材料を供する上で支障をきたす。
ネート換算の粘度平均分子量は１３．０００〜５０，０
００が好ましい。１３，０００未満では共重合体が脆く
なり、５０，０００を超えると光学的歪みの小さい成形
材料を供する上で支障をきたす。
また、上述の芳香族ポリカーボネート共重合体との混合
に用いられるスチレンとメチルメタクリレートの組成比
が７：３の共重合体は、組成物中３〜６０重量％の範囲
で含有することが特に望ましい。
に用いられるスチレンとメチルメタクリレートの組成比
が７：３の共重合体は、組成物中３〜６０重量％の範囲
で含有することが特に望ましい。
すなわち、３重量％未満であると光学的均質性を保持す
る上で支障をきたし、又、６０重量％を超すと熱安定性
低下により成形品の着色機械的性質の低下などの支障を
きたす。
る上で支障をきたし、又、６０重量％を超すと熱安定性
低下により成形品の着色機械的性質の低下などの支障を
きたす。
尚、上述のスチレンとメチルメタクリレートの組成比が
７：３の共重合体は、数平均分子量にしてｉｏ、ｏｏｏ
〜２００，０００の間にある事が好ましく、この範囲外
であると機械的性質及び光学的均質性のいずれかにおい
て支障を生じる。
７：３の共重合体は、数平均分子量にしてｉｏ、ｏｏｏ
〜２００，０００の間にある事が好ましく、この範囲外
であると機械的性質及び光学的均質性のいずれかにおい
て支障を生じる。
本発明の芳香族ポリカーボネート共重合体の製造法とし
ては、次の二つの方法がある。
ては、次の二つの方法がある。
■エステル交換法
２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサン、４，４′−ジヒドロキ
シ−２，２，２−）リフェニルエタン、１，１′−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベ
ンゼン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプ
ロピルフェニル）プロパン、１．１′−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンおよ
び１，１．ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サンの化合物に対し化学量論的に当量よりやや過剰のジ
フェニルカーボネートに、通常のカーボネート化触媒の
存在下、約１６０〜１８０°Ｃの温度で常圧下、不活性
ガスを導入した条件で約３０分反応させ、２時間かけて
徐々に減圧しながら約１８０〜２２０°Ｃの温度下で最
終的に１０Ｔｏｒｒ、 ２２０°Ｃで前縮合を終了する
。その後、１０Ｔｏｒｒ、 ２７０°Ｃで３０分、５Ｔ
ｏｒｒ、 ２７０°Ｃで２０分反応し、次いで０．５
Ｔｏｒｒ以下、好ましくは０．３Ｔｏｒｒ〜０．ＩＴｏ
ｒｒの減圧下で２７０°Ｃで１．５時間〜２．０時間後
縮合を進める。
チルフェニル）プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサン、４，４′−ジヒドロキ
シ−２，２，２−）リフェニルエタン、１，１′−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベ
ンゼン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプ
ロピルフェニル）プロパン、１．１′−ビス−（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼンおよ
び１，１．ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サンの化合物に対し化学量論的に当量よりやや過剰のジ
フェニルカーボネートに、通常のカーボネート化触媒の
存在下、約１６０〜１８０°Ｃの温度で常圧下、不活性
ガスを導入した条件で約３０分反応させ、２時間かけて
徐々に減圧しながら約１８０〜２２０°Ｃの温度下で最
終的に１０Ｔｏｒｒ、 ２２０°Ｃで前縮合を終了する
。その後、１０Ｔｏｒｒ、 ２７０°Ｃで３０分、５Ｔ
ｏｒｒ、 ２７０°Ｃで２０分反応し、次いで０．５
Ｔｏｒｒ以下、好ましくは０．３Ｔｏｒｒ〜０．ＩＴｏ
ｒｒの減圧下で２７０°Ｃで１．５時間〜２．０時間後
縮合を進める。
尚、カーボネート結合のためのカーボネート化触媒とし
ては、リチウム系触媒、カリウム系触媒、ナトリウム系
触媒、カルシウム系触媒、錫系触媒等のアルカリ金属、
アルカリ土類金属触媒が適しており、例えば水酸化リチ
ウム、炭酸リチウム、水素化ホウ素カリウム、リン酸水
素カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化カルシウム、ジブチル錫オキシド。
ては、リチウム系触媒、カリウム系触媒、ナトリウム系
触媒、カルシウム系触媒、錫系触媒等のアルカリ金属、
アルカリ土類金属触媒が適しており、例えば水酸化リチ
ウム、炭酸リチウム、水素化ホウ素カリウム、リン酸水
素カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ホウ素ナトリウ
ム、水素化カルシウム、ジブチル錫オキシド。
酸化第１錫が挙げられる。これらのうち、カリウム系触
媒を用いることが好ましい。
媒を用いることが好ましい。
■ホスゲン法
三つロフラスコにかき混ぜ機、温度計、ガス導入管、排
気管を付けこれに２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３
−ターシャリーブチルフェニル）プロパン、１．１．ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４．
４’−ジヒドロキシ−２，２，２−トリフェニルエタン
、１，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−
ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシ、３−イソプロピルフェニル）プロパン、１．１’
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロ
ピルベンゼン、２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンおよび１．１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサンの混合物のピリジン溶液を入れ、
これを激しくかき混ぜながらホスゲンガスを導入する。
気管を付けこれに２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３
−ターシャリーブチルフェニル）プロパン、１．１．ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、４．
４’−ジヒドロキシ−２，２，２−トリフェニルエタン
、１，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−
ジイソプロピルベンゼン、２，２−ビス−（４−ヒドロ
キシ、３−イソプロピルフェニル）プロパン、１．１’
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロ
ピルベンゼン、２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパンおよび１．１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサンの混合物のピリジン溶液を入れ、
これを激しくかき混ぜながらホスゲンガスを導入する。
ホスゲンは猛毒であるから強力なドラフト中で操作する
。また排気末端には水酸化ナトリウム１０％水溶液で余
剰ホスゲンを分解無毒化するユニットを付ける。ホスゲ
ンはボンベから空の洗気瓶、パラフィンを入れた洗気瓶
（泡散を数える）、空の洗気瓶を通してフラスコに導入
する。
。また排気末端には水酸化ナトリウム１０％水溶液で余
剰ホスゲンを分解無毒化するユニットを付ける。ホスゲ
ンはボンベから空の洗気瓶、パラフィンを入れた洗気瓶
（泡散を数える）、空の洗気瓶を通してフラスコに導入
する。
ガス導入管はかき混ぜ機の上に差し込むようにし、析出
するピリジン塩によって詰まらないようにするため先端
を漏斗状に広げておく。
するピリジン塩によって詰まらないようにするため先端
を漏斗状に広げておく。
ガス導入に伴いピリジンの塩酸塩が析出して内容は濁っ
てくる。反応温度は３０°Ｃ以下になるように水冷する
。縮合の進行と共に粘ちょうになってくる。ホスゲン−
塩化水素錯体の黄色が消えなくなるまでホスゲンを通じ
る。反応終了後、メタノールを加えて重合体を沈殿せし
め、ろ別乾燥する。生成するポリカーボネートは塩化メ
チレン、ピリジン、クロロホルム、テトラヒドロフラン
等に溶けるから、これらの溶液からメタノールで再沈殿
して精製する。
てくる。反応温度は３０°Ｃ以下になるように水冷する
。縮合の進行と共に粘ちょうになってくる。ホスゲン−
塩化水素錯体の黄色が消えなくなるまでホスゲンを通じ
る。反応終了後、メタノールを加えて重合体を沈殿せし
め、ろ別乾燥する。生成するポリカーボネートは塩化メ
チレン、ピリジン、クロロホルム、テトラヒドロフラン
等に溶けるから、これらの溶液からメタノールで再沈殿
して精製する。
上記の芳香族ポリカーボネート共重合体とスチレンとメ
チルメタクリレート共重合体樹脂とを均一に混合させる
方法としては押し出し機、ニーダ−、バンバリーミキサ
−等による公知の溶融混線手法あるいは塩化メチレン等
の共通溶媒に溶解させて溶媒混合させ、後乾燥させる手
法等を挙げることが出来る。
チルメタクリレート共重合体樹脂とを均一に混合させる
方法としては押し出し機、ニーダ−、バンバリーミキサ
−等による公知の溶融混線手法あるいは塩化メチレン等
の共通溶媒に溶解させて溶媒混合させ、後乾燥させる手
法等を挙げることが出来る。
また、本発明による樹脂組成物は必要に応じ公知の滑剤
各種の安定剤を生成物の諸物性に害を与えない範囲で含
有させてもよい。
各種の安定剤を生成物の諸物性に害を与えない範囲で含
有させてもよい。
以下に本発明を実施例について説明するが、本発明はこ
れらの実施例によって限定されるものではない。尚、以
下の参考例および実施例に示した粘度平均分子量とは、
ビスフェノールＡ・ポリカーボネートの２０°Ｃにおけ
る塩化メチレン溶液を用いて測定して、固有粘度［ｒ１
］と粘度平均分子量Ｍｖの関係式として得られた ［ｒｌ］＝１．１１Ｘ１０−４ （Ｍｖ）０．８２［イ
ー、ミラー（Ｅ、Ｍｉｉｌｌｅｒ）とオー、バイヤー（
ｃ，Ｂａｙｅｒ）；米国特許２９９９８４４］の式を用
い固有粘度から計算したビスフェノールＡ・ポリカーボ
ネート換算の分子量である。
れらの実施例によって限定されるものではない。尚、以
下の参考例および実施例に示した粘度平均分子量とは、
ビスフェノールＡ・ポリカーボネートの２０°Ｃにおけ
る塩化メチレン溶液を用いて測定して、固有粘度［ｒ１
］と粘度平均分子量Ｍｖの関係式として得られた ［ｒｌ］＝１．１１Ｘ１０−４ （Ｍｖ）０．８２［イ
ー、ミラー（Ｅ、Ｍｉｉｌｌｅｒ）とオー、バイヤー（
ｃ，Ｂａｙｅｒ）；米国特許２９９９８４４］の式を用
い固有粘度から計算したビスフェノールＡ・ポリカーボ
ネート換算の分子量である。
（参考例及び実施例）
参考例１
芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン１９２重量部（４７ｍｏ１％）
と２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
１９重量部（３ｍｏ１％）と１，１−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロヘキサン１６１重量部（５０ｍ
ｏ１％）とジフェニルカーボネート２６４重量部を３１
三つロフラスコに入れ、脱気、Ｎ２パージを５回繰り返
した後、シリコンバス１８０°Ｃで窒素を導入しながら
溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒である水
素化ホウ素カリウムを予めフェノールに溶かした溶液（
仕込んだビスフェノール全量に対して３ Ｘ １０−３
ｍｏ１％量）を加え、１８０°Ｃ，Ｎ２下、３０分撹
はん醸成した。次に同温度下１００Ｔｏｒｒに減圧し、
３０分撹はんした後、同温度下で更に５０Ｔｏｒｒに減
圧し、３０分反応させた。次に徐々に温度を２２０°Ｃ
まで上げ３０盆反応させ、ここまでの反応でフェノール
留出理論量の８０％を留出させた。
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン１９２重量部（４７ｍｏ１％）
と２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
１９重量部（３ｍｏ１％）と１，１−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロヘキサン１６１重量部（５０ｍ
ｏ１％）とジフェニルカーボネート２６４重量部を３１
三つロフラスコに入れ、脱気、Ｎ２パージを５回繰り返
した後、シリコンバス１８０°Ｃで窒素を導入しながら
溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒である水
素化ホウ素カリウムを予めフェノールに溶かした溶液（
仕込んだビスフェノール全量に対して３ Ｘ １０−３
ｍｏ１％量）を加え、１８０°Ｃ，Ｎ２下、３０分撹
はん醸成した。次に同温度下１００Ｔｏｒｒに減圧し、
３０分撹はんした後、同温度下で更に５０Ｔｏｒｒに減
圧し、３０分反応させた。次に徐々に温度を２２０°Ｃ
まで上げ３０盆反応させ、ここまでの反応でフェノール
留出理論量の８０％を留出させた。
しかる後、同温度下で１０Ｔｏｒｒに減圧し３０分反応
させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反応させ
た。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反応さ
せ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前縮
合を終えた。
させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反応させ
た。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反応さ
せ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前縮
合を終えた。
次に同温度下で０．１〜０．３ Ｔｏｒｒで２時間後締
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１７，３４４であ
った。
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１７，３４４であ
った。
実施例１
上記参考例１の芳香族ポリカーボネート共重合体をスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
：５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
：５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
透過率 ８７％
屈折率 １．５６５０
光弾性定数 ２１ブリユースターズ
（Ｂｒｅｗｓｔｅｒｓ、 １０−１２ ｍ２ ／ Ｎ）
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
ｎｌ−ｎ２＝Ｃ（ａＩ Ｇ２） （１）但
し、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σ１−σ２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重重量減湿温）３６３°Ｃ引張り破断
強度 ６５０Ｋｇｆ ／ Ｃｍ２曲げ弾性率
２３，５５６Ｋｇｆ ／ Ｃｍ２曲げ
降伏強度 ７００Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ３．４Ｋｇｆｃｍ ／ ｃｍ 参考例２ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン１９６重量部（４８ｍｏ１％）
と１，１−ビス−（４゜ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン１６１重量部（５０ｍｏ１％）と４，４′−ジヒ
ドロキシ−２，２，２−）リフェニルエタン７重置部（
２ｍｏ１％）とジフェニルカーボネート２６４重量部を
３１三つロフラスコに入れ、脱気、Ｎ２パージを５回繰
り返した後、シリコンバス１８０°Ｃで窒素を導入しな
がら溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒であ
る水素化ホウ素カリウムを予めフェノールに溶かした溶
液（仕込んだビスフェノール全量に対して３ Ｘ １０
−３ ｍｏ１％量）を加え、１８０°Ｃ，Ｎ２下、３０
分撹はん醸成した。次に同温度下１００Ｔｏｒｒに減圧
し、３０分撹はんした後、同温度下で更に５０Ｔｏｒｒ
に減圧し、３０分反応させた。次に徐々に温度を２２０
°Ｃまで上げ３０分反応させ、ここまでの反応でフェノ
ール留出理論量の８０％を留出させた。
し、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σ１−σ２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重重量減湿温）３６３°Ｃ引張り破断
強度 ６５０Ｋｇｆ ／ Ｃｍ２曲げ弾性率
２３，５５６Ｋｇｆ ／ Ｃｍ２曲げ
降伏強度 ７００Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ３．４Ｋｇｆｃｍ ／ ｃｍ 参考例２ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン１９６重量部（４８ｍｏ１％）
と１，１−ビス−（４゜ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン１６１重量部（５０ｍｏ１％）と４，４′−ジヒ
ドロキシ−２，２，２−）リフェニルエタン７重置部（
２ｍｏ１％）とジフェニルカーボネート２６４重量部を
３１三つロフラスコに入れ、脱気、Ｎ２パージを５回繰
り返した後、シリコンバス１８０°Ｃで窒素を導入しな
がら溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒であ
る水素化ホウ素カリウムを予めフェノールに溶かした溶
液（仕込んだビスフェノール全量に対して３ Ｘ １０
−３ ｍｏ１％量）を加え、１８０°Ｃ，Ｎ２下、３０
分撹はん醸成した。次に同温度下１００Ｔｏｒｒに減圧
し、３０分撹はんした後、同温度下で更に５０Ｔｏｒｒ
に減圧し、３０分反応させた。次に徐々に温度を２２０
°Ｃまで上げ３０分反応させ、ここまでの反応でフェノ
ール留出理論量の８０％を留出させた。
しかる後、同温度下で１０ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反
応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反応さ
せた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反応
させ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前
縮合を終えた。
応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反応さ
せた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反応
させ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前
縮合を終えた。
次に同温度下で０．１〜０．３ Ｔｏｒｒで２時間後締
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１５，６１６であ
った。
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１５，６１６であ
った。
参考例３
芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン２０４重量部（５０ｍｏ１％）
と１，１．ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン１１９重量部（３７ｍｏ１％）と４，４′−ジヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフェニルエタン４５重量部
（１３ｍｏ１％）とジフェニルカーボネート２６４重量
部を３１三つロフラスコに入れ、脱気、Ｎ２パージを５
回繰り返した後、シリコンバス１８０°Ｃで窒素を導入
しながら溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒
である水素化ホウ素カリウムを予めフェノールに溶かし
た溶液（仕込んだビスフェノール全量に対して３ Ｘ
１０−３ ｍｏ１％量）を加え、１８０６Ｃ，Ｎ２下、
３０分撹はん醸成した。次に同温度下１００Ｔｏｒｒに
減圧し、３０分撹はんした後、同温度下で更に５０Ｔｏ
ｒｒに減圧し、３０分反応させた。次に徐々に温度を２
２０°Ｃまで上げ３０分反応させ、ここまでの反応でフ
ェノール留出理論量の８０％を留出させた。
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン２０４重量部（５０ｍｏ１％）
と１，１．ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘ
キサン１１９重量部（３７ｍｏ１％）と４，４′−ジヒ
ドロキシ−２，２，２−トリフェニルエタン４５重量部
（１３ｍｏ１％）とジフェニルカーボネート２６４重量
部を３１三つロフラスコに入れ、脱気、Ｎ２パージを５
回繰り返した後、シリコンバス１８０°Ｃで窒素を導入
しながら溶融させた。溶融したら、カーボネート化触媒
である水素化ホウ素カリウムを予めフェノールに溶かし
た溶液（仕込んだビスフェノール全量に対して３ Ｘ
１０−３ ｍｏ１％量）を加え、１８０６Ｃ，Ｎ２下、
３０分撹はん醸成した。次に同温度下１００Ｔｏｒｒに
減圧し、３０分撹はんした後、同温度下で更に５０Ｔｏ
ｒｒに減圧し、３０分反応させた。次に徐々に温度を２
２０°Ｃまで上げ３０分反応させ、ここまでの反応でフ
ェノール留出理論量の８０％を留出させた。
しかる後、同温度下で１０ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反
応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反応さ
せた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反応
させ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前
縮合を終えた。
応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反応さ
せた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反応
させ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前
縮合を終えた。
次に同温度下で０．１〜０．３ Ｔｏｒｒで２時間後締
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１４，７９０であ
った。
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１４，７９０であ
った。
実施例２
上記参考例２の芳香族ポリカーボネート共重合体をスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
＝５０重量部の割合で２ｏΦのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
＝５０重量部の割合で２ｏΦのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
透過率 ８６％
屈折率 １．５６３０
光弾性定数 ２１ブリユースターズ
（Ｂｒｅｗｓｔｅｒｓ、 １０−１２ ｍ２ ／ Ｎ）
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
ｎｌ−ｎ２＝ｃ（ａｌ−（Ｆ２） （１）但
し、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σ１−σ２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度）３６６°Ｃ引張り破断
強度 ６２０Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ弾性率
２３，５７５Ｋｇｆ／ ０ｍ２曲げ降
伏強度 ８５５Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型ノ
ツチ付きアイゾツト衝撃強度 ４．４Ｋｇｆｃｍ／ａｍ 実施例３ 上記参考例３の芳香族ポリカーボネート共重合体をスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
＝５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
し、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σ１−σ２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度）３６６°Ｃ引張り破断
強度 ６２０Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ弾性率
２３，５７５Ｋｇｆ／ ０ｍ２曲げ降
伏強度 ８５５Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型ノ
ツチ付きアイゾツト衝撃強度 ４．４Ｋｇｆｃｍ／ａｍ 実施例３ 上記参考例３の芳香族ポリカーボネート共重合体をスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
＝５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
透過率 ８９％
屈折率 １．５６０４
光弾性定数 ２０ブリユースターズ
（Ｂｒｅｗｓｔｅｒｓ、 １０−１２ ｍ２ ／ Ｎ）
゛ 尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾
性定数の゛算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きがら光弾性定数を求めた。
゛ 尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾
性定数の゛算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きがら光弾性定数を求めた。
ｎｌ−ｎ２＝ｃ（ａｌ−ＣＦ２） （１）但
し、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σ１−０２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度）３５７°Ｃ引張り破断
強度 ４８８Ｋｇｆ ／ ０ｍ２曲げ弾性率
２５，０２１Ｋｇｆ ／ ０ｍ２曲げ
降伏強度 ４２８Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ２．４Ｋｇｆｃｍ ／ ｃｍ 参考例４ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン１９６重量部（４８ｍｏ１％）
と１，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−
ジイソプロピルベンゼン２９重量部（７ｍｏ１％）と１
，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン１４５重量部（４５ｍｏ１％）とジフェニルカーボネ
ート２６４重量部を３１三つロフラスコに入れ、脱気、
Ｎ２バージを５回繰り返した後、シリコンバス１８０°
Ｃで窒素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カー
ボネート化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェ
ノールに溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に
対して３ Ｘ １０−３ ｍｏ１％量）を加え、１８０
°Ｃ，Ｎ２下、３０分撹はん醸成した。次に同温度下１
００Ｔｏｒｒに減圧し、３０分撹はんした後、同温度下
で更に５０Ｔｏｒｒに減圧し、３０分反応させた。次に
徐々に温度を２２０°Ｃまで上げ３０分反応させ、ここ
までの反応でフェノール留出理論量の８０％を留出させ
た。しかる後、同温度下で１０Ｔｏｒｒに減圧し３０分
反応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反応
させた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反
応させ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、
前縮合を終えた。
し、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σ１−０２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度）３５７°Ｃ引張り破断
強度 ４８８Ｋｇｆ ／ ０ｍ２曲げ弾性率
２５，０２１Ｋｇｆ ／ ０ｍ２曲げ
降伏強度 ４２８Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ２．４Ｋｇｆｃｍ ／ ｃｍ 参考例４ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン１９６重量部（４８ｍｏ１％）
と１，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−
ジイソプロピルベンゼン２９重量部（７ｍｏ１％）と１
，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン１４５重量部（４５ｍｏ１％）とジフェニルカーボネ
ート２６４重量部を３１三つロフラスコに入れ、脱気、
Ｎ２バージを５回繰り返した後、シリコンバス１８０°
Ｃで窒素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カー
ボネート化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェ
ノールに溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に
対して３ Ｘ １０−３ ｍｏ１％量）を加え、１８０
°Ｃ，Ｎ２下、３０分撹はん醸成した。次に同温度下１
００Ｔｏｒｒに減圧し、３０分撹はんした後、同温度下
で更に５０Ｔｏｒｒに減圧し、３０分反応させた。次に
徐々に温度を２２０°Ｃまで上げ３０分反応させ、ここ
までの反応でフェノール留出理論量の８０％を留出させ
た。しかる後、同温度下で１０Ｔｏｒｒに減圧し３０分
反応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反応
させた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分反
応させ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、
前縮合を終えた。
次に同温度下で０．１〜０．３ Ｔｏｒｒで２時間後締
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１９，５５１であ
った。
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１９，５５１であ
った。
実施例４
上記参考例４の芳香族ポリカーボネート共重合体をスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比が７＝３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
＝５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
レンとメチルメタクリレートの組成比が７＝３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
＝５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
透過率 ９０％
屈折率 １．５６７６
光弾性定数 ２１ブリユースターズ
（Ｂｒｅｗｓｔｅｒｓ、 １０−１２ ｍ２ ／ Ｎ）
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ、１０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ、１０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
ｎｌ−ｎ２＝Ｃ（（Ｆｌ ０２） （１）
但し、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σｌ−σ２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重重量減湿温）３６６°Ｃ引張り破断
強度 ６３２Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ弾性率
２３，７３９Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ
降伏強度 ９４７Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ４．４Ｋｇｆｃｍ ／ ｃｍ 参考例５ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン２２９重量部（５６ｍｏ１％）
と４，４′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２，
２，２−）リフェニルエタン１５３重量部（４４ｍｏ１
％）とジフェニルカーボネート２６４重量部を３１三つ
ロフラスコに入れ、脱気、Ｎ２パージを５回繰り返した
後、シリコンバス１８０°Ｃで窒素を導入しながら溶融
させた。溶融したら、カーボネート化触媒である水素化
ホウ素カリウムを予めフェノールに溶かした溶液（仕込
んだビスフェノール全量に対して３ Ｘ １０−３ ｍ
ｏ１％量）を加え、１８０°Ｃ，Ｎ２下、３０分撹はん
醸成した。
但し、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σｌ−σ２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重重量減湿温）３６６°Ｃ引張り破断
強度 ６３２Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ弾性率
２３，７３９Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ
降伏強度 ９４７Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ４．４Ｋｇｆｃｍ ／ ｃｍ 参考例５ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン２２９重量部（５６ｍｏ１％）
と４，４′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２，
２，２−）リフェニルエタン１５３重量部（４４ｍｏ１
％）とジフェニルカーボネート２６４重量部を３１三つ
ロフラスコに入れ、脱気、Ｎ２パージを５回繰り返した
後、シリコンバス１８０°Ｃで窒素を導入しながら溶融
させた。溶融したら、カーボネート化触媒である水素化
ホウ素カリウムを予めフェノールに溶かした溶液（仕込
んだビスフェノール全量に対して３ Ｘ １０−３ ｍ
ｏ１％量）を加え、１８０°Ｃ，Ｎ２下、３０分撹はん
醸成した。
次に同温度下１００Ｔｏｒｒに減圧し、３０分撹はんし
た後、同温度下で更に５０Ｔｏｒｒに減圧し、３０分反
応させた。次に徐々に温度を２２０°Ｃまで上げ３０分
反応させ、ここまでの反応でフェノール留出理論量の８
０％を留出させた。しかる後、同温度下で１０ Ｔｏｒ
ｒに減圧し３０分反応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに
上げ、３０分反応させた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒ
に減圧し３０分反応させ、フェノール留出理論量のほぼ
全量を留出させ、前縮合を終えた。
た後、同温度下で更に５０Ｔｏｒｒに減圧し、３０分反
応させた。次に徐々に温度を２２０°Ｃまで上げ３０分
反応させ、ここまでの反応でフェノール留出理論量の８
０％を留出させた。しかる後、同温度下で１０ Ｔｏｒ
ｒに減圧し３０分反応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに
上げ、３０分反応させた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒ
に減圧し３０分反応させ、フェノール留出理論量のほぼ
全量を留出させ、前縮合を終えた。
次に同温度下で０．１〜０．３ Ｔｏｒｒで２時間後締
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１９，７３５であ
った。
合させた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却
した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて溶
液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子量
（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝１９，７３５であ
った。
実施例５
上記参考例５の芳香族ポリカーボネート共重合体をスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比が７τ３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
＝５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
レンとメチルメタクリレートの組成比が７τ３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
＝５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
透過率 ８９％
屈折率 １．５６３８
光弾性定数 １９ブリユースターズ
（Ｂｒｅｗｓｔｅｒｓ、 １０−１２ ｍ２ ／ Ｎ）
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
ｎ１ｎ２＝ｃ（ｃｙｘ ０２） （１）但
し、 ｎｌ−ｎ２：、複屈折 σ１−０２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度）３６３°Ｃ引張り破断
強度 ６４９Ｋｇｆ ／ ｃｍ”曲げ弾性率
２４，６０５Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ
降伏強度 ７６０Ｋｇｆ ／ ｃｍ”Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ３．９Ｋｇｆｃｍ ／ ｃｍ 参考例６ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン１９２重量部（４７ｍｏ１％）
と１，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−
ジイソプロピルベンゼン４２重量部（１０ｍｏ１％）と
１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サン１３８重量部（４３ｍｏ１％）とジフェニルカーボ
ネート２６４重量部を３１三つロフラスコに入れ、脱気
、Ｎ２バージを５回繰り返した後、シリコンバス１８０
℃で窒素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カー
ボネート化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェ
ノールに溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に
対して３ Ｘ １０−３ ｍｏ１％量）を加え、１８０
°Ｃ，Ｎ２下、３０分撹はん醸成した。次に同温度下１
００Ｔｏｒｒに減圧し、３０分撹はんした後、同温度下
で更に５０Ｔｏｒｒに減圧し、３０分反応させた。次に
徐々に温度を２２０°Ｃまで上げ３０分反応させ、ここ
までの反応でフェノール留出理論量の８０％を留出させ
た。しかる後、同温度下で１０ Ｔｏｒｒに減圧し３０
分反応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反
応させた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分
反応させ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ
、前縮合を終えた。
し、 ｎｌ−ｎ２：、複屈折 σ１−０２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度）３６３°Ｃ引張り破断
強度 ６４９Ｋｇｆ ／ ｃｍ”曲げ弾性率
２４，６０５Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ
降伏強度 ７６０Ｋｇｆ ／ ｃｍ”Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ３．９Ｋｇｆｃｍ ／ ｃｍ 参考例６ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成（エステル交換
法） ２．２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン１９２重量部（４７ｍｏ１％）
と１，１′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−
ジイソプロピルベンゼン４２重量部（１０ｍｏ１％）と
１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキ
サン１３８重量部（４３ｍｏ１％）とジフェニルカーボ
ネート２６４重量部を３１三つロフラスコに入れ、脱気
、Ｎ２バージを５回繰り返した後、シリコンバス１８０
℃で窒素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カー
ボネート化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェ
ノールに溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に
対して３ Ｘ １０−３ ｍｏ１％量）を加え、１８０
°Ｃ，Ｎ２下、３０分撹はん醸成した。次に同温度下１
００Ｔｏｒｒに減圧し、３０分撹はんした後、同温度下
で更に５０Ｔｏｒｒに減圧し、３０分反応させた。次に
徐々に温度を２２０°Ｃまで上げ３０分反応させ、ここ
までの反応でフェノール留出理論量の８０％を留出させ
た。しかる後、同温度下で１０ Ｔｏｒｒに減圧し３０
分反応させ、温度を徐々に２７０°Ｃに上げ、３０分反
応させた。更に同温度下で５ Ｔｏｒｒに減圧し３０分
反応させ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ
、前縮合を終えた。
次に同温度下で０．１〜０．３ Ｔｏｒｒで２時間後締
合さ゛せた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷
却した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて
溶液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子
量（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝２０，４７６で
あった。
合さ゛せた。窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷
却した後、ジクロルメタンを溶媒に用いて２００Ｃにて
溶液粘度を測定した。この値から算出した粘度平均分子
量（以下これをＭｖと略す）は、Ｍｖ＝２０，４７６で
あった。
実施例６
上記参考例６の芳香族ポリカーボネート共重合体をスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
：５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
レンとメチルメタクリレートの組成比が７：３の共重合
体ＭＡＳ２０（リチャードソン社商品名）を５０重量部
：５０重量部の割合で２０Φのブラベンダー・エクスド
ウルーダ−（ＢｒａｂｅｎｄｅｒＥｘｔｒｕｄｅｒ ）
を用い混練し、ペレット化を行いポリカーボネート系樹
脂組成物を得た。得られたポリカーボネート系樹脂組成
物について諸物性を測定した結果を以下に示す。
透過率 ８７％
屈折率 １．５６１８
光弾性定数 ２２ブリユースターズ
（Ｂｒｅｗｓｔｅｒｓ、 １０−１２ ｍ２ ／ Ｎ）
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性定
数の算出方法は試験片 （１００ｍｍＸ １０ｍｍＸ １ｍｍ）に異なる大きさ
の引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各々の値
を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
ｎｌ−ｎ２＝ｃ（ａｌ−０２） （１）但し
、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σ１−Ｃｒ２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度）３６５°Ｃ引張り破断
強度 ６６７Ｋｇｆ ／ ａｍ２曲げ弾性率
２４，２７１Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ
降伏強度 ９７５Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ４．５Ｋｇｆｃｍ／ｃｍ （効果） 以上の結果から明らかな様に、本発明によるポリカーボ
ネート樹脂組成物は、透明性に優れ、且つ光学的歪みの
小さい樹脂組成物であることがわかる。
、 ｎｌ −ｎ２： 複屈折 σ１−Ｃｒ２： 残留応力 Ｃ： 光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度）３６５°Ｃ引張り破断
強度 ６６７Ｋｇｆ ／ ａｍ２曲げ弾性率
２４，２７１Ｋｇｆ ／ ｃｍ２曲げ
降伏強度 ９７５Ｋｇｆ ／ ｃｍ２Ｕ型
ノツチ付きアイゾツト衝撃強度 ４．５Ｋｇｆｃｍ／ｃｍ （効果） 以上の結果から明らかな様に、本発明によるポリカーボ
ネート樹脂組成物は、透明性に優れ、且つ光学的歪みの
小さい樹脂組成物であることがわかる。
また、エンジニアリングプラスチックスの用途としても
特に透明性が要求される分野に用いられる。
特に透明性が要求される分野に用いられる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と２，２−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ｂモル％
）と１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン（ｃモル％）をカーボネート結合して得られる
芳香族ポリカーボネート共重合体１〜９９重量％及びス
チレンとメチルメタクリレートの組成比が７：３からな
る共重合体９９〜１重量％を混合してなる透明なポリカ
ーボネート系樹脂組成物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたａ、ｂ、ｃ（モル％）は、下記数式（ I ）
〜（IV）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体で
ある。 ａ＋ｂ＋ｃ＝１００・・・・・・（ I ） ０≦ｃ≦６５・・・・・・（II） ２０＋０．２３ｃ≦ａ≦４５＋２．６ｃただし０≦ｃ≦
４０の時・・・・（III） ２０＋０．２３ｃ≦ａ≦１００−ｃただし４０≦ｃ≦６
５の時・・・・（IV） （２）２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と１，１−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ｃ
モル％）と４，４′−ジヒドロキシ−２，２，２−トリ
フェニルエタン（ｄモル％）をカーボネート結合して得
られる芳香族ポリカーボネート共重合体１〜９９重量％
及びスチレンとメチルメタクリレートの組成比が７：３
からなる共重合体９９〜１重量％を混合してなる透明な
ポリカーボネート系樹脂組成物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたａ、ｃ、ｄ（モル％）は、下記数式（ I −
１）〜（IV−１）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。 ａ＋ｃ＋ｄ＝１００・・・・・・（ I −１）０≦ｄ≦
５５・・・・・・（II−１） ３５＋０．１８ｄ≦ａ≦６０＋０．１４ｄただし０≦ｄ
≦３５の時・・・・（III−１） ３５＋０．１８ｄ≦ａ≦１００−ｄただし３５≦ｄ≦５
５の時・・・・（IV−１） （３）２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と１，１′
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロ
ピルベンゼン（ｅモル％）と１，１−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロヘキサン（ｃモル％）をカーボ
ネート結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重合
体１〜９９重量％及びスチレンとメチルメタクリレート
の組成比が７：３からなる共重合体９９〜１重量％を混
合してなる透明なポリカーボネート系樹脂組成物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたａ、ｅ、ｃ（モル％）は、下記数式（ I −
２）〜（IV−２）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。 ａ＋ｅ＋ｃ＝１００・・・・・・（ I −２） ０≦ｃ≦６５・・・・・・（II−２） ３５≦ａ≦６０ただし０≦ｃ≦４０の時・・・・（III
−２） ３５≦ａ≦１００−ｃただし４０≦ｃ≦６５の時・・・
・（IV−２） （４）２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と２，２−
ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）
プロパン（ｆモル％）と４，４′ジヒドロキシ−２，２
，２−トリフェニルエタン（ｇモル％）をカーボネート
結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重合体１〜
９９重量％及びスチレンとメチルメタクリレートの組成
比が７：３からなる共重合体９９〜１重量％を混合して
なる透明なポリカーボネート系樹脂組成物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたａ、ｆ、ｇ（モル％）は、下記数式（ I −
３）〜（Ｖ−３）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。 ａ＋ｆ＋ｇ＝１００・・・・・・（ I −３） ０≦ｇ≦９０・・・・・・（II−３） ０≦ａ≦５＋０．３６ｇただし０≦ｇ≦４０の時・・・
・（III−３） ０．２５ｇ−８≦ａ≦５＋０．３６ｇただし４０≦ｇ≦
７０の時・・・・（IV−３） ０．２５ｇ−８≦ａ≦１００−ｇただし７０≦ｇ≦９０
の時・・・・（Ｖ−３） （５）２，２−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と１，１′
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロ
ピルベンゼン（ｈモル％）と１，１−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロヘキサン（ｃモル％）をカーボ
ネート結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重合
体１〜９９重量％及びスチレンとメチルメタクリレート
の組成比が７：３からなる共重合体９９〜１重量％を混
合してなる透明なポリカーボネート系樹脂組成物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたａ、ｈ、ｃ（モル％）は、下記数式（ I −
４）〜（IV−４）を満足する芳香族ポリカーボネート共
重合体である。 ａ＋ｈ＋ｃ＝１００・・・・・・（ I −４） ０≦ｃ≦６５・・・・・・（II−４） ３５≦ａ≦６０ただし０≦ｃ≦４０の時・・・・（III
−４） ３５≦ａ≦１００−ｃただし４０≦ｃ≦６５の時・・・
・（IV−４）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63127079A JP2580255B2 (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | ポリカ―ボネ―ト系樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63127079A JP2580255B2 (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | ポリカ―ボネ―ト系樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01299863A true JPH01299863A (ja) | 1989-12-04 |
| JP2580255B2 JP2580255B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=14951055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63127079A Expired - Lifetime JP2580255B2 (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | ポリカ―ボネ―ト系樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2580255B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008207553A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-09-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層フィルム |
| CN110862665A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-03-06 | 聚纶材料科技（深圳）有限公司 | 耐刮擦pc光学树脂材料及其制备方法 |
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|---|---|---|---|---|
| CN111423683B (zh) * | 2020-04-24 | 2022-04-15 | 聚纶材料科技（深圳）有限公司 | 光学保护膜用光学树脂及其制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366255A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカ−ボネ−ト系樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-05-26 JP JP63127079A patent/JP2580255B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366255A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカ−ボネ−ト系樹脂組成物 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008207553A (ja) * | 2007-01-31 | 2008-09-11 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 積層フィルム |
| JP4720832B2 (ja) * | 2007-01-31 | 2011-07-13 | 住友化学株式会社 | 積層フィルム |
| CN110862665A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-03-06 | 聚纶材料科技（深圳）有限公司 | 耐刮擦pc光学树脂材料及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2580255B2 (ja) | 1997-02-12 |
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