JP2580255B2 - ポリカ―ボネ―ト系樹脂組成物 - Google Patents
ポリカ―ボネ―ト系樹脂組成物Info
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- JP2580255B2 JP2580255B2 JP63127079A JP12707988A JP2580255B2 JP 2580255 B2 JP2580255 B2 JP 2580255B2 JP 63127079 A JP63127079 A JP 63127079A JP 12707988 A JP12707988 A JP 12707988A JP 2580255 B2 JP2580255 B2 JP 2580255B2
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- bis
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、スチレンとメチルメタクリレートの組成比
（重量比）が7:3の共重合体樹脂に２ないし３種の異な
った構造を有するビスフェノール成分より導かれる芳香
族ポリカーボネート共重合体を配合してなる優れた透明
性を有するポリカーボネート系樹脂組成物に関する。特
に、詳しくは、透明性が優れ、光学的な歪みが小さい成
形物を提供する組成物に関する。
（重量比）が7:3の共重合体樹脂に２ないし３種の異な
った構造を有するビスフェノール成分より導かれる芳香
族ポリカーボネート共重合体を配合してなる優れた透明
性を有するポリカーボネート系樹脂組成物に関する。特
に、詳しくは、透明性が優れ、光学的な歪みが小さい成
形物を提供する組成物に関する。
（従来の技術およびその課題） 特公昭43−6295号には、ポリカーボネート樹脂とポリ
スチレンを混合させ、透明性を保持し且つ高軟化点を具
えるポリカーボネート樹脂を提供するとの報告が公告さ
れている。しかしながら、上記公告にも示されているが
ポリスチレンとの混合の際、混合するポリスチレンの量
が多くなるに従って成形物の透明性は次第に低下し、そ
の添加物量が30％を超えると曇りが大きくなり、該混合
物において全組成領域に渡り透明性樹脂を提供するもの
では到底ありえない。
スチレンを混合させ、透明性を保持し且つ高軟化点を具
えるポリカーボネート樹脂を提供するとの報告が公告さ
れている。しかしながら、上記公告にも示されているが
ポリスチレンとの混合の際、混合するポリスチレンの量
が多くなるに従って成形物の透明性は次第に低下し、そ
の添加物量が30％を超えると曇りが大きくなり、該混合
物において全組成領域に渡り透明性樹脂を提供するもの
では到底ありえない。
一方光学機器用の組成物の製造に用いられる成形材料
としては、透明性に優れ且つ光学的歪みの特に小さいこ
とが必須条件として要求される場合が多い。しかしなが
ら、かかる条件を充分満たし得るプラスチック成形材料
は極めて少ない。
としては、透明性に優れ且つ光学的歪みの特に小さいこ
とが必須条件として要求される場合が多い。しかしなが
ら、かかる条件を充分満たし得るプラスチック成形材料
は極めて少ない。
近年、光学用材料として、光学式情報記録基板が注目
されている。すなわち、レーザー光線のスポットビーム
をディスクにあてディスクに微細なピットで信号を記録
し、ピットによって記録された信号をレーザー光線の反
射又は透過光量を検出することによって読み出すダイレ
クト・リード・アフター・ライト（DRAW），イレーザブ
ル・ダイレクト・リード・アフター・ライト（EDRAW）
型光学式情報記録再生方式が注目されている。
されている。すなわち、レーザー光線のスポットビーム
をディスクにあてディスクに微細なピットで信号を記録
し、ピットによって記録された信号をレーザー光線の反
射又は透過光量を検出することによって読み出すダイレ
クト・リード・アフター・ライト（DRAW），イレーザブ
ル・ダイレクト・リード・アフター・ライト（EDRAW）
型光学式情報記録再生方式が注目されている。
このような記録再生方式に利用されるディスクには、
ディスク本体をレーザー光線が通過するために透明であ
ることは勿論のこと読み取り誤差を少なくするために光
学的均質性が強く求められる。ディスク本体形成時の樹
脂の冷却及び流動過程において生じた熱応力・分子配向
・ガラス転移点付近の容積変化による残留応力が主な原
因となりレーザー光線がディスク本体を通過する際に複
屈折が生ずる。この複屈折に起因する光学的不均一性が
大きいことは光学式ディスクとしては致命的欠陥であ
る。
ディスク本体をレーザー光線が通過するために透明であ
ることは勿論のこと読み取り誤差を少なくするために光
学的均質性が強く求められる。ディスク本体形成時の樹
脂の冷却及び流動過程において生じた熱応力・分子配向
・ガラス転移点付近の容積変化による残留応力が主な原
因となりレーザー光線がディスク本体を通過する際に複
屈折が生ずる。この複屈折に起因する光学的不均一性が
大きいことは光学式ディスクとしては致命的欠陥であ
る。
一般にポリメチルメタアクリレート（以下PMMAと略
す）は、プラスチック材料の中で抜群の透明性と耐候性
を有すると共に、複屈折が小さく成形性が良好で、機械
的強度もバランスしている代表的な光学用材料として使
用できることが知られている。
す）は、プラスチック材料の中で抜群の透明性と耐候性
を有すると共に、複屈折が小さく成形性が良好で、機械
的強度もバランスしている代表的な光学用材料として使
用できることが知られている。
しかし、PMMAは吸水性が比較的大きく高精度な寸法安
定性を必要とする用途材料に適していない。
定性を必要とする用途材料に適していない。
また、ビスフェノールＡのホモポリカーボネート（以
下PCと略す）は、PMMAと同程度の透明性を有するととも
に耐熱性，耐衝撃性に優れたエンジニアリングプラスチ
ックの一種で且つ吸水性が低い。
下PCと略す）は、PMMAと同程度の透明性を有するととも
に耐熱性，耐衝撃性に優れたエンジニアリングプラスチ
ックの一種で且つ吸水性が低い。
しかしながら、PCは光学的異方性の大きな官能基であ
るフェニル環を有し、複屈折性を生じやすく、また、成
形性に劣っている。
るフェニル環を有し、複屈折性を生じやすく、また、成
形性に劣っている。
一方PCを用いたとしても成形温度を高めるか、又は、
樹脂の平均分子量を低下させて溶融粘度を下げることに
より複屈折を低減することができるが、成形温度の上昇
は樹脂の熱分解を生じ、また、分子量の低下は機械的強
度の低下を生ずるなど各々限界がある。
樹脂の平均分子量を低下させて溶融粘度を下げることに
より複屈折を低減することができるが、成形温度の上昇
は樹脂の熱分解を生じ、また、分子量の低下は機械的強
度の低下を生ずるなど各々限界がある。
このような状況の中、光ディスク用PCの複屈折低減下
に関する多くに提案がなされている。
に関する多くに提案がなされている。
例えば、配向複屈折を低減化するためにPCの流動性
を改良するもの（特開昭58−126119,特開昭60−215051,
特開昭61−16962,特開昭61−78864,特開昭61−123658）
ビスフェノールＡ以外の骨格を二価フェノール又は、
脂肪族アルコールを用いて光弾性定数を低下させるもの
（特開昭60−83239,特開昭60−16321,特開昭60−16632
2,特開昭61−55116,特開昭61−55117,特開昭61−22302
5,特開昭62−2770,特開昭62−3443,特開昭62−39624）
ポリエステルカーボネートやポリエーテルカーボネー
ト構造をPCに導入して光弾性定数を低下するとともに流
動性を改質するもの。（特開昭60−188422,特開昭60−1
88426,特開昭62−36457） しかしながら、これら上記提案においては複屈折性が
PCの化学構造自身に起因することより、一様に複屈折の
低い基板を安定して製造することが困難な状況にある。
を改良するもの（特開昭58−126119,特開昭60−215051,
特開昭61−16962,特開昭61−78864,特開昭61−123658）
ビスフェノールＡ以外の骨格を二価フェノール又は、
脂肪族アルコールを用いて光弾性定数を低下させるもの
（特開昭60−83239,特開昭60−16321,特開昭60−16632
2,特開昭61−55116,特開昭61−55117,特開昭61−22302
5,特開昭62−2770,特開昭62−3443,特開昭62−39624）
ポリエステルカーボネートやポリエーテルカーボネー
ト構造をPCに導入して光弾性定数を低下するとともに流
動性を改質するもの。（特開昭60−188422,特開昭60−1
88426,特開昭62−36457） しかしながら、これら上記提案においては複屈折性が
PCの化学構造自身に起因することより、一様に複屈折の
低い基板を安定して製造することが困難な状況にある。
また、最近ポリマーブレンドによる複屈折消去効果が
提唱されている。［米国特許4373065,ポリマー（Polyme
r）;26巻,1619頁（1985年版），特開昭61−108617］こ
れらの基本原理は次の如くである。すなわち、正の複屈
折性ポリマーと負の複屈折性ポリマーを相溶させれば透
明性を失わせることなく正負の複屈折が相殺されて複屈
折のない成形物あるいは延伸物が得られるという原理に
基づいている。PCの固有複屈折を消去する材料として
は、フェニルマレイミド−スチレン共重合体，無水マレ
イン酸−スチレン共重合体（特開昭61−19656），およ
びＮ−フェニルマレイミドとＮ−ｔ−ブチルマレイミド
とスチレンとの三元共重合体（特開昭62−18466）等が
あげられる。
提唱されている。［米国特許4373065,ポリマー（Polyme
r）;26巻,1619頁（1985年版），特開昭61−108617］こ
れらの基本原理は次の如くである。すなわち、正の複屈
折性ポリマーと負の複屈折性ポリマーを相溶させれば透
明性を失わせることなく正負の複屈折が相殺されて複屈
折のない成形物あるいは延伸物が得られるという原理に
基づいている。PCの固有複屈折を消去する材料として
は、フェニルマレイミド−スチレン共重合体，無水マレ
イン酸−スチレン共重合体（特開昭61−19656），およ
びＮ−フェニルマレイミドとＮ−ｔ−ブチルマレイミド
とスチレンとの三元共重合体（特開昭62−18466）等が
あげられる。
（課題を解決するための手段） 本発明は、芳香族ポリカーボネート共重合体とスチレ
ンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:3か
らなる共重合体樹脂との混合系に関し、その混合比が全
領域において優れた透明性を維持できるポリカーボネー
ト系樹脂組成物を見い出し、また、特に詳しくは、透明
性に優れると共に光学的歪みの小さい成形品を見い出し
本発明に到達したものである。
ンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:3か
らなる共重合体樹脂との混合系に関し、その混合比が全
領域において優れた透明性を維持できるポリカーボネー
ト系樹脂組成物を見い出し、また、特に詳しくは、透明
性に優れると共に光学的歪みの小さい成形品を見い出し
本発明に到達したものである。
すなわち、本発明は、 （１） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と2,2−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ii）ｂモ
ル％と1,1−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン（iii）ｃモル％をカーボネート結合して得ら
れる芳香族ポリカーボネート共重合体40〜97重量％及び
スチレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が
7:3からなる共重合体60〜３重量％を混合してなる透明
なポリカーボネート系樹脂組成物。
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と2,2−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ii）ｂモ
ル％と1,1−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン（iii）ｃモル％をカーボネート結合して得ら
れる芳香族ポリカーボネート共重合体40〜97重量％及び
スチレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が
7:3からなる共重合体60〜３重量％を混合してなる透明
なポリカーボネート系樹脂組成物。
ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成
範囲に用いたa,b,c（モル％）は、下記数式（Ｉ）〜（I
V）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体であ
る。
範囲に用いたa,b,c（モル％）は、下記数式（Ｉ）〜（I
V）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体であ
る。
ａ＋ｂ＋ｃ＝100 ‥‥‥（Ｉ） ０≦Ｃ≦65 ‥‥‥（II） 20＋0.23c≦ａ≦45＋2.6cただし０≦ｃ≦40の時 ‥‥（III） 20＋0.23c≦ａ≦100−ｃただし40≦ｃ≦65の時 ‥‥（IV） ０＜a,b＜100 ‥‥（Ｖ） （２） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と1,1−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ii
−１）ｃモル％と1,1′−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン（iii−１）ｄモル％をカー
ボネート結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重
合体40〜97重量％及びスチレンとメチルメタクリレート
の組成比（重量比）が7:3からなる共重合体60〜３重量
％を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂組成物 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成
範囲に用いたa,c,d（モル％）は、下記数式（Ｉ−１）
〜（Ｖ−１）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合
体である。
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と1,1−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ii
−１）ｃモル％と1,1′−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン（iii−１）ｄモル％をカー
ボネート結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重
合体40〜97重量％及びスチレンとメチルメタクリレート
の組成比（重量比）が7:3からなる共重合体60〜３重量
％を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂組成物 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成
範囲に用いたa,c,d（モル％）は、下記数式（Ｉ−１）
〜（Ｖ−１）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合
体である。
ａ＋ｂ＋ｃ＝100 ‥‥‥（Ｉ−１） ０≦ｄ≦55 ‥‥‥（II−１） 35＋0.18d≦ａ≦60＋0.14dただし０≦ｄ≦35の時 ‥‥（III−１） 35＋0.18d≦ａ≦100−ｄただし35≦ｄ≦55の時 ‥‥（IV−１） ０＜ｃ≦65 ‥‥（Ｖ−１） （３） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と1,3−
ビス［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピ
ル］ベンゼン（ii−２）ｅモル％と1,1−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（iii）ｃモル％
をカーボネート結合して得られる芳香族ポリカーボネー
ト共重合体40〜97重量％及びスチレンとメチルメタクリ
レートの組成比（重量比）が7:3からなる共重合体60〜
３重量％を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂
組成物。
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と1,3−
ビス［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピ
ル］ベンゼン（ii−２）ｅモル％と1,1−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（iii）ｃモル％
をカーボネート結合して得られる芳香族ポリカーボネー
ト共重合体40〜97重量％及びスチレンとメチルメタクリ
レートの組成比（重量比）が7:3からなる共重合体60〜
３重量％を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂
組成物。
ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成
範囲に用いたa,e,c（モル％）は、下記数式（Ｉ−２）
〜（IV−２）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合
体である。
範囲に用いたa,e,c（モル％）は、下記数式（Ｉ−２）
〜（IV−２）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合
体である。
ａ＋ｅ＋ｃ＝100 ‥‥‥（Ｉ−２） ０≦ｃ＜100 ‥‥‥（II−２） 35≦ａ≦60ただし０≦ｃ≦40の時 ‥‥（III−２） 35≦ａ≦100−ｃただし40≦ｃ≦65の時 ‥‥（IV−２） （４） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と2,2,−
ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）
プロパン（ii−３）ｆモル％と1,1′−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−１−フェニルエタン（iii−２）ｇ
モル％をカーボネート結合して得られる芳香族ポリカー
ボネート共重合体40〜97重量％及びスチレンとメチルメ
タクリレートの組成比（重量比）が7:3からなる共重合
体60〜３重量％を混合してなる透明なポリカーボネート
系樹脂組成物。
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と2,2,−
ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）
プロパン（ii−３）ｆモル％と1,1′−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−１−フェニルエタン（iii−２）ｇ
モル％をカーボネート結合して得られる芳香族ポリカー
ボネート共重合体40〜97重量％及びスチレンとメチルメ
タクリレートの組成比（重量比）が7:3からなる共重合
体60〜３重量％を混合してなる透明なポリカーボネート
系樹脂組成物。
ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成
範囲に用いたa,f,g（モル％）は、下記数式（Ｉ−３）
〜（Ｖ−３）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合
体である。
範囲に用いたa,f,g（モル％）は、下記数式（Ｉ−３）
〜（Ｖ−３）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合
体である。
ａ＋ｆ＋ｇ＝100 ‥‥‥（Ｉ−３） ０≦ｇ≦90 ‥‥‥（II−３） ０＜ａ≦５＋0.36gただし０≦ｇ≦40の時 ‥‥（III−３） 0.25g−８≦ａ≦５＋0.36gただし40≦ｇ≦70の時 ‥‥（IV−３） 0.25g−８≦ａ≦100−ｇただし70≦ｇ≦90の時 ‥‥（Ｖ−３） ０＜a,f＜100 ‥‥（VI−３） （５） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャ
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と1,4−
ビス［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピ
ル］ベンゼン（ii−４）ｈモル％と1,1−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（iii）ｃモル％
をカーボネート結合して得られる芳香族ポリカーボネー
ト共重合体40〜97重量％及びスチレンとメチルメタクリ
レートの組成比（重量比）が7:3からなる共重合体60〜
３重量％を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂
組成物。
リーブチルフェニル）プロパン（ｉ）ａモル％と1,4−
ビス［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピ
ル］ベンゼン（ii−４）ｈモル％と1,1−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（iii）ｃモル％
をカーボネート結合して得られる芳香族ポリカーボネー
ト共重合体40〜97重量％及びスチレンとメチルメタクリ
レートの組成比（重量比）が7:3からなる共重合体60〜
３重量％を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂
組成物。
ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成
範囲に用いたa,h,c（モル％）は、下記数式（Ｉ−４）
〜（IV−４）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合
体である。
範囲に用いたa,h,c（モル％）は、下記数式（Ｉ−４）
〜（IV−４）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合
体である。
ａ＋ｈ＋ｃ＝100 ‥‥‥（Ｉ−４） ０≦ｃ≦100 ‥‥‥（II−４） 35≦ａ≦60ただし０≦ｃ≦40の時 ‥‥‥（III−４） 35≦ａ≦100−ｃただし40≦ｃ≦65の時 ‥‥‥（IV−４） それぞれの構成単位（ｉ）（ii）（iii）（ii−１）
（ii−２）（ii−３）（ii−４）（iii−１）（iii−
２）が上記範囲外であるとスチレンとメチルメタクリレ
ートの組成比（重量比）が7:3の共重合体との混合によ
って得られるポリカーボネート系樹脂組成物の透明性が
失われる。
（ii−２）（ii−３）（ii−４）（iii−１）（iii−
２）が上記範囲外であるとスチレンとメチルメタクリレ
ートの組成比（重量比）が7:3の共重合体との混合によ
って得られるポリカーボネート系樹脂組成物の透明性が
失われる。
尚、本発明の共重合体のビスフェノールＡ−ポリカー
ボネート換算の粘度平均分子量は13,000〜50,000が好ま
しい。13,000未満では共重合体が脆くなり、50,000を超
えると光学的歪みの小さい成形材料を供する上で支障を
きたす。
ボネート換算の粘度平均分子量は13,000〜50,000が好ま
しい。13,000未満では共重合体が脆くなり、50,000を超
えると光学的歪みの小さい成形材料を供する上で支障を
きたす。
また、上述の芳香族ポリカーボネート共重合体との混
合に用いられるスチレンとメチルメタクリレートの組成
比（重量比）が7:3の共重合体は、組成物中に好ましく
は３〜60重量％、より好まし20〜55重量％の範囲で含有
される。
合に用いられるスチレンとメチルメタクリレートの組成
比（重量比）が7:3の共重合体は、組成物中に好ましく
は３〜60重量％、より好まし20〜55重量％の範囲で含有
される。
すなわち、３重量％未満であると光学的均質性を保持
する上で支障をきたし、又、60重量％を超すと熱安定性
低下により成形品の着色機械的性質の低下などの支障を
きたす。
する上で支障をきたし、又、60重量％を超すと熱安定性
低下により成形品の着色機械的性質の低下などの支障を
きたす。
尚、上述のスチレンとメチルメタクリレートの組成比
（重量比）が7:3の共重合体は、数平均分子量にして10,
000〜200,000の間にある事が好ましく、この範囲外であ
ると機械的性質及び光学的均質性のいずれかにおいて支
障を生じる。
（重量比）が7:3の共重合体は、数平均分子量にして10,
000〜200,000の間にある事が好ましく、この範囲外であ
ると機械的性質及び光学的均質性のいずれかにおいて支
障を生じる。
本発明の芳香族ポリカーボネート共重合体の製造法と
しては、次の二つの方法がある。
しては、次の二つの方法がある。
エステル交換法 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン、2,2−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、1,1−ビス−（４−ヒドロシフ
ェニル）シクロヘキサン、4,4′−ジヒドロキシ−2,2,2
−トリフェニルエタン、1,1′−ビス−（４−ヒドロイ
シフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、2,2−ビ
ス−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プ
ロパン、1,1′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
ｐ−ジイソプロピルベンゼンおよび1,1−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘキサンの化合物に対し化学
量論的に当量よりやや過剰のジフェニルカーボネート
に、通常のカーボネート化触媒の存在下，約160〜180℃
の温度で常圧下，不活性ガスを導入した条件で約30分反
応させ、２時間かけて徐々に減圧しながら約180〜220℃
の温度下で最終的に10Torr,220℃で前縮合を終了する。
その後、10Torr,270℃で30分、5Torr,270℃で20分反応
し、次いで0.5Torr以下、好ましくは0.3Torr〜0.1Torr
の減圧下で270℃で1.5時間〜2.0時間後縮合を進める。
チルフェニル）プロパン、2,2−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、1,1−ビス−（４−ヒドロシフ
ェニル）シクロヘキサン、4,4′−ジヒドロキシ−2,2,2
−トリフェニルエタン、1,1′−ビス−（４−ヒドロイ
シフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、2,2−ビ
ス−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）プ
ロパン、1,1′−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
ｐ−ジイソプロピルベンゼンおよび1,1−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）シクロヘキサンの化合物に対し化学
量論的に当量よりやや過剰のジフェニルカーボネート
に、通常のカーボネート化触媒の存在下，約160〜180℃
の温度で常圧下，不活性ガスを導入した条件で約30分反
応させ、２時間かけて徐々に減圧しながら約180〜220℃
の温度下で最終的に10Torr,220℃で前縮合を終了する。
その後、10Torr,270℃で30分、5Torr,270℃で20分反応
し、次いで0.5Torr以下、好ましくは0.3Torr〜0.1Torr
の減圧下で270℃で1.5時間〜2.0時間後縮合を進める。
尚、カーボネート結合のためのカーボネート化触媒と
しては、リチウム系触媒，カリウム系触媒，ナトリウム
系触媒，カルシウム系触媒，錫系触媒等のアルカリ金
属，アルカリ土類金属触媒が適しており、例えば水酸化
リチウム，炭酸リチウム，水素化ホウ素カリウム，リン
酸水素カリウム，水酸化ナトリウム，水素化ホウ素ナト
リウム，水素化カルシウム，ジブチル錫オキシド，酸化
第１錫が挙げられる。これらのうち、カリウム系触媒を
用いることが好ましい。
しては、リチウム系触媒，カリウム系触媒，ナトリウム
系触媒，カルシウム系触媒，錫系触媒等のアルカリ金
属，アルカリ土類金属触媒が適しており、例えば水酸化
リチウム，炭酸リチウム，水素化ホウ素カリウム，リン
酸水素カリウム，水酸化ナトリウム，水素化ホウ素ナト
リウム，水素化カルシウム，ジブチル錫オキシド，酸化
第１錫が挙げられる。これらのうち、カリウム系触媒を
用いることが好ましい。
ホスゲン法 三つ口フラスコにかき混ぜ機，温度計，ガス導入管，
排気管を付けこれに2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３
−シャリーブチルフェニル）プロパン、1,1−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、4,4′−
ジヒドロキシ−2,2,2−トリフェニルエタン、1,1′−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピル
ベンゼン、2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプ
ロピルフェニル）プロパン、1,1′−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、2,2
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパンおよび1,
1−ビス（４−ヒドキシフェニル）シクロヘキサンの混
合物のピリジン溶液を入れ、これを激しくかき混ぜなが
らホスゲンガスを導入する。ホスゲンは猛毒であるから
強力なドラフト中で操作する。また排気末端には水酸化
ナトリウム10％水溶液で余剰ホスゲンを分解無毒化する
ユニットを付ける。ホスゲンはボンベから空の洗気瓶，
パラフィンを入れた洗気瓶（泡数を数える），空の洗気
瓶を通してフラスコに導入する。ガス導入管はかき混ぜ
機の上に差し込むようにし、析出するピリジン塩によっ
て詰まらないようにするため先端を漏斗状に広げてお
く。
排気管を付けこれに2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３
−シャリーブチルフェニル）プロパン、1,1−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、4,4′−
ジヒドロキシ−2,2,2−トリフェニルエタン、1,1′−ビ
ス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピル
ベンゼン、2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプ
ロピルフェニル）プロパン、1,1′−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、2,2
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパンおよび1,
1−ビス（４−ヒドキシフェニル）シクロヘキサンの混
合物のピリジン溶液を入れ、これを激しくかき混ぜなが
らホスゲンガスを導入する。ホスゲンは猛毒であるから
強力なドラフト中で操作する。また排気末端には水酸化
ナトリウム10％水溶液で余剰ホスゲンを分解無毒化する
ユニットを付ける。ホスゲンはボンベから空の洗気瓶，
パラフィンを入れた洗気瓶（泡数を数える），空の洗気
瓶を通してフラスコに導入する。ガス導入管はかき混ぜ
機の上に差し込むようにし、析出するピリジン塩によっ
て詰まらないようにするため先端を漏斗状に広げてお
く。
ガス導入に伴いピリジンの塩酸塩が析出して内容は濁
ってくる。反応温度は30℃以下になるように水冷する。
縮合の進行と共に粘ちょうになってくる。ホスゲン−塩
化水素錯体の黄色が消えなくなるまでホスゲンを通じ
る。反応終了後、メタノールを加えて重合体を沈殿せし
め、ろ別乾燥する。生成するポリカーボネートは塩化メ
チレン，ピリジン，クロロホルム，テトラヒドロフラン
等に溶けるから、これらの溶液からメタノールで再沈殿
して精製する。
ってくる。反応温度は30℃以下になるように水冷する。
縮合の進行と共に粘ちょうになってくる。ホスゲン−塩
化水素錯体の黄色が消えなくなるまでホスゲンを通じ
る。反応終了後、メタノールを加えて重合体を沈殿せし
め、ろ別乾燥する。生成するポリカーボネートは塩化メ
チレン，ピリジン，クロロホルム，テトラヒドロフラン
等に溶けるから、これらの溶液からメタノールで再沈殿
して精製する。
上記の芳香族ポリカーボネート共重合体とスチレンと
メチルメタクリレート共重合体樹脂とを均一に混合させ
る方法としては押し出し機、ニーダー、バンバリーミキ
サー等による公知の溶融混練手法あるいは塩化メチレン
等の共通溶媒に溶解させて溶媒混合させ、後乾燥させる
手法等を挙げることが出来る。
メチルメタクリレート共重合体樹脂とを均一に混合させ
る方法としては押し出し機、ニーダー、バンバリーミキ
サー等による公知の溶融混練手法あるいは塩化メチレン
等の共通溶媒に溶解させて溶媒混合させ、後乾燥させる
手法等を挙げることが出来る。
また、本発明による樹脂組成物は必要に応じ公知の滑
剤各種の安定剤を生成物の諸物性に害を与えない範囲で
含有させてもよい。
剤各種の安定剤を生成物の諸物性に害を与えない範囲で
含有させてもよい。
以下に本発明を実施例について説明するが、本発明は
これらの実施例によって限定されるものではない。尚、
以下の参考例および実施例に示した粘度平均分子量と
は、ビスフェノールＡ・ポリカーボネートの20℃におけ
る塩化メチレン溶液を用いて測定して、固有粘度［η］
と粘度平均分子量Mvの関係式として得られた ［η］＝1.11×10-4（Mv）0.82 ［イー．ミラー（E.Miiller）とオー．バイヤー（O.Bay
er）；米国特許2999844］の式を用い固有粘度から計算
したビスフェノールＡ・ポリカーボネート換算の分子量
である。
これらの実施例によって限定されるものではない。尚、
以下の参考例および実施例に示した粘度平均分子量と
は、ビスフェノールＡ・ポリカーボネートの20℃におけ
る塩化メチレン溶液を用いて測定して、固有粘度［η］
と粘度平均分子量Mvの関係式として得られた ［η］＝1.11×10-4（Mv）0.82 ［イー．ミラー（E.Miiller）とオー．バイヤー（O.Bay
er）；米国特許2999844］の式を用い固有粘度から計算
したビスフェノールＡ・ポリカーボネート換算の分子量
である。
（参考例及び実施例） 参考例１ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成 （エステル交換法） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン192重量部（47mol％）と2,2−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン19重量部
（3mol％）と1,1−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサン161重量部（50mol％）とジフェニルカー
ボネート264重量部を３三つ口フラスコに入れ、脱気,
N2パージを５回繰り返した後、シリコンバス180℃で窒
素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カーボネー
ト化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェノール
に溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に対して
３×10-3mol％量）を加え、180℃,N2下,30分撹はん醸成
した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分撹はんした
後、同温度下で更に50Torrに減圧し、30分反応させた。
次に徐々に温度を220℃まで上げ30分反応させ、ここま
での反応でフェノール留出理論量の80％を留出させた。
しかる後、同温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温
度を徐々に270℃に上げ、30分反応させた。更に同温度
下で5Torrに減圧し30分反応させ、フェノール留出理論
量のほぼ全量を留出させ、前縮合を終えた。
チルフェニル）プロパン192重量部（47mol％）と2,2−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン19重量部
（3mol％）と1,1−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）
シクロヘキサン161重量部（50mol％）とジフェニルカー
ボネート264重量部を３三つ口フラスコに入れ、脱気,
N2パージを５回繰り返した後、シリコンバス180℃で窒
素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カーボネー
ト化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェノール
に溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に対して
３×10-3mol％量）を加え、180℃,N2下,30分撹はん醸成
した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分撹はんした
後、同温度下で更に50Torrに減圧し、30分反応させた。
次に徐々に温度を220℃まで上げ30分反応させ、ここま
での反応でフェノール留出理論量の80％を留出させた。
しかる後、同温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温
度を徐々に270℃に上げ、30分反応させた。更に同温度
下で5Torrに減圧し30分反応させ、フェノール留出理論
量のほぼ全量を留出させ、前縮合を終えた。
次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合させた。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝17,344であった。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝17,344であった。
実施例１ 上記参考例１の芳香族ポリカーボネート共重合体をス
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
透過率 87％ 屈折率 1.5650 光弾性定数 21ブリュースターズ （Brewsters,10-12m2/N） 尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
n1−n2＝Ｃ（σ１−σ２） （１） 但し、 n1−n2:複屈折 σ１−σ2:残留応力 C:光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度） 363℃ 引張り破断強度 650Kgf/cm2 曲げ弾性率 23,556Kgf/cm2 曲げ降伏強度 700Kgf/cm2 Ｕ型ノッチ付きアイゾット衝撃強度 3.4Kgfcm/cm 参考例２ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成 （エステル交換法） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン196重量部（48mol％）と1,1−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン161
重量部（50mol％）と4,4′−ジヒドロキシ−2,2,2−ト
リフェニルエタン７重量部（2mol％）とジフェニルカー
ボネート264重量部を３三つ口フラスコに入れ、脱気,
N2パージを５回繰り返した後、シリコンバス180℃で窒
素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カーボネー
ト化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェノール
に溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に対して
３×10-3mol％量）を加え、180℃,N2下,30分撹はん醸成
した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分撹はんした
後、同温度下で更に50Torrに減圧し、30分反応させた。
次に徐々に温度を220℃まで上げ30分反応させ、ここま
での反応でフェノール留出理論量の80％を留出させた。
しかる後、同温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温
度を徐々に270℃に上げ、30分反応させた。更に同温度
下で5Torrに減圧し30分反応させ、フェノール留出理論
量のほぼ全量を留出させ、前縮合を終えた。
チルフェニル）プロパン196重量部（48mol％）と1,1−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン161
重量部（50mol％）と4,4′−ジヒドロキシ−2,2,2−ト
リフェニルエタン７重量部（2mol％）とジフェニルカー
ボネート264重量部を３三つ口フラスコに入れ、脱気,
N2パージを５回繰り返した後、シリコンバス180℃で窒
素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カーボネー
ト化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェノール
に溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に対して
３×10-3mol％量）を加え、180℃,N2下,30分撹はん醸成
した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分撹はんした
後、同温度下で更に50Torrに減圧し、30分反応させた。
次に徐々に温度を220℃まで上げ30分反応させ、ここま
での反応でフェノール留出理論量の80％を留出させた。
しかる後、同温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温
度を徐々に270℃に上げ、30分反応させた。更に同温度
下で5Torrに減圧し30分反応させ、フェノール留出理論
量のほぼ全量を留出させ、前縮合を終えた。
次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合させた。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝15,616であった。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝15,616であった。
参考例３ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成 （エステル交換法） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン204重量部（50mol％）と1,1−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン119
重量部（37mol％）と4,4′−ジヒドロキシ−2,2,2−ト
リフェニルエタン45重量部（13mol％）とジフェニルカ
ーボネート264重量部を３三つ口フラスコに入れ、脱
気,N2パージを５回繰り返した後、シリコンバス180℃で
窒素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カーボネ
ート化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェノー
ルに溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に対し
て３×10-3mol％量）を加え、180℃,N2下,30分撹はん醸
成した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分撹はんし
た後、同温度下で更に50Torrに減圧し、30分反応させ
た。次に徐々に温度を220℃まで上げ30分反応させ、こ
こまでの反応でフェノール留出理論量の80％を留出させ
た。しかる後、同温度下で10Torrに減圧し30分反応さ
せ、温度を徐々に270℃に上げ、30分反応させた。更に
同温度下で5Torrに減圧し30分反応させ、フェノール留
出理論量のほぼ全量を留出させ、前縮合を終えた。
チルフェニル）プロパン204重量部（50mol％）と1,1−
ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン119
重量部（37mol％）と4,4′−ジヒドロキシ−2,2,2−ト
リフェニルエタン45重量部（13mol％）とジフェニルカ
ーボネート264重量部を３三つ口フラスコに入れ、脱
気,N2パージを５回繰り返した後、シリコンバス180℃で
窒素を導入しながら溶融させた。溶融したら、カーボネ
ート化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェノー
ルに溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に対し
て３×10-3mol％量）を加え、180℃,N2下,30分撹はん醸
成した。次に同温度下100Torrに減圧し、30分撹はんし
た後、同温度下で更に50Torrに減圧し、30分反応させ
た。次に徐々に温度を220℃まで上げ30分反応させ、こ
こまでの反応でフェノール留出理論量の80％を留出させ
た。しかる後、同温度下で10Torrに減圧し30分反応さ
せ、温度を徐々に270℃に上げ、30分反応させた。更に
同温度下で5Torrに減圧し30分反応させ、フェノール留
出理論量のほぼ全量を留出させ、前縮合を終えた。
次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合させた。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝14,790であった。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝14,790であった。
実施例２ 上記参考例２の芳香族ポリカーボネート共重合体をス
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
透過率 86％ 屈折率 1.5630 光弾性定数 21ブリュースターズ （Brewsters,10-12m2/N） 尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
n1−n2＝Ｃ（σ１−σ２） （１） 但し、 n1−n2:複屈折 σ１−σ2:残留応力 C:光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度） 366℃ 引張り破断強度 620Kgf/cm2 曲げ弾性率 23,575Kgf/cm2 曲げ降伏強度 855Kgf/cm2 Ｕ型ノッチ付きアイゾット衝撃強度 4.4Kgfcm/cm 実施例３ 上記参考例３の芳香族ポリカーボネート共重合体をス
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
透過率 89％ 屈折率 1.5604 光弾性定数 20ブリュースターズ （Brewsters,10-12m2/N） 尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
n1−n2＝Ｃ（σ１−σ２） （１） 但し、 n1−n2:複屈折 σ１−σ2:残留応力 C:光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度） 357℃ 引張り破断強度 488Kgf/cm2 曲げ弾性率 25,021Kgf/cm2 曲げ降伏強度 428Kgf/cm2 Ｕ型ノッチ付きアイゾット衝撃強度 2.4Kgfcm/cm 参考例４ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成 （エステル交換法） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン196重量部（48mol％）と1,1′
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロ
ピルベンゼン29重量部（7mol％）と1,1−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン145重量部（45mol
％）とジフェニルカーボネート264重量部を３三つ口
フラスコに入れ、脱気,N2パージを５回繰り返した後、
シリコンバス180℃で窒素を導入しながら溶融させた。
溶融したら、カーボネート化触媒である水素化ホウ素カ
リウムを予めフェノールに溶かした溶液（仕込んだビス
フェノール全量に対して３×10-3mol％量）を加え、180
℃,N2下,30分撹はん醸成した。次に同温度下100Torrに
減圧し、30分撹はんした後、同温度下で更に50Torrに減
圧し、30分反応させた。次に徐々に温度を220℃まで上
げ30分反応させ、ここまでの反応でフェノール留出理論
量の80％を留出させた。しかる後、同温度下で10Torrに
減圧し30分反応させ、温度を徐々に270℃に上げ、30分
反応させた。更に同温度下で5Torrに減圧し30分反応さ
せ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前縮
合を終えた。
チルフェニル）プロパン196重量部（48mol％）と1,1′
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロ
ピルベンゼン29重量部（7mol％）と1,1−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン145重量部（45mol
％）とジフェニルカーボネート264重量部を３三つ口
フラスコに入れ、脱気,N2パージを５回繰り返した後、
シリコンバス180℃で窒素を導入しながら溶融させた。
溶融したら、カーボネート化触媒である水素化ホウ素カ
リウムを予めフェノールに溶かした溶液（仕込んだビス
フェノール全量に対して３×10-3mol％量）を加え、180
℃,N2下,30分撹はん醸成した。次に同温度下100Torrに
減圧し、30分撹はんした後、同温度下で更に50Torrに減
圧し、30分反応させた。次に徐々に温度を220℃まで上
げ30分反応させ、ここまでの反応でフェノール留出理論
量の80％を留出させた。しかる後、同温度下で10Torrに
減圧し30分反応させ、温度を徐々に270℃に上げ、30分
反応させた。更に同温度下で5Torrに減圧し30分反応さ
せ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前縮
合を終えた。
次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合させた。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝19,551であった。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝19,551であった。
実施例４ 上記参考例４の芳香族ポリカーボネート共重合体をス
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
透過率 90％ 屈折率 1.5676 光弾性定数 21ブリュースターズ （Brewsters,10-12m2/N） 尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
n1−n2＝Ｃ（σ１−σ２） （１） 但し、 n1−n2:複屈折 σ１−σ2:残留応力 C:光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度） 366℃ 引張り破断強度 632Kgf/cm2 曲げ弾性率 23,739Kgf/cm2 曲げ降伏強度 947Kgf/cm2 Ｕ型ノッチ付きアイゾット衝撃強度 4.4Kgfcm/cm 参考例５ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成 （エステル交換法） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン229重量部（56mol％）と4,4′
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−2,2,2−トリフ
ェニルエタン153重量部（44mol％）とジフェニルカーボ
ネート264重量部を３三つ口フラスコに入れ、脱気,N2
パージを５回繰り返した後、シリコンバス180℃で窒素
を導入しながら溶融させた。溶融したら、カーボネート
化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェノールに
溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に対して３
×10-3mol％量）を加え、180℃,N2下,30分撹はん醸成し
た。次に同温度下100Torrに減圧し、30分撹はんした
後、同温度下で更に50Torrに減圧し、30分反応させた。
次に徐々に温度を220℃まで上げ30分反応させ、ここま
での反応でフェノール留出理論量の80％を留出させた。
しかる後、同温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温
度を徐々に270℃に上げ、30分反応させた。更に同温度
下で5Torrに減圧し30分反応させ、フェノール留出理論
量のほぼ全量を留出させ、前縮合を終えた。
チルフェニル）プロパン229重量部（56mol％）と4,4′
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−2,2,2−トリフ
ェニルエタン153重量部（44mol％）とジフェニルカーボ
ネート264重量部を３三つ口フラスコに入れ、脱気,N2
パージを５回繰り返した後、シリコンバス180℃で窒素
を導入しながら溶融させた。溶融したら、カーボネート
化触媒である水素化ホウ素カリウムを予めフェノールに
溶かした溶液（仕込んだビスフェノール全量に対して３
×10-3mol％量）を加え、180℃,N2下,30分撹はん醸成し
た。次に同温度下100Torrに減圧し、30分撹はんした
後、同温度下で更に50Torrに減圧し、30分反応させた。
次に徐々に温度を220℃まで上げ30分反応させ、ここま
での反応でフェノール留出理論量の80％を留出させた。
しかる後、同温度下で10Torrに減圧し30分反応させ、温
度を徐々に270℃に上げ、30分反応させた。更に同温度
下で5Torrに減圧し30分反応させ、フェノール留出理論
量のほぼ全量を留出させ、前縮合を終えた。
次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合させた。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝19,735であった。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝19,735であった。
実施例５ 上記参考例５の芳香族ポリカーボネート共重合体をス
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
透過率 89％ 屈折率 1.5638 光弾性定数 19ブリュースターズ （Brewsters,10-12m2/N） 尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
n1−n2＝Ｃ（σ１−σ２） （１） 但し、 n1−n2:複屈折 σ１−σ2:残留応力 C:光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度） 363℃ 引張り破断強度 649Kgf/cm2 曲げ弾性率 24,605Kgf/cm2 曲げ降伏強度 760Kgf/cm2 Ｕ型ノッチ付きアイゾット衝撃強度 3.9Kgfcm/cm 参考例６ 芳香族ポリカーボネート共重合体の合成 （エステル交換法） 2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ターシャリーブ
チルフェニル）プロパン192重量部（47mol％）と1,1′
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロ
ピルベンゼン42重量部（10mol％）と1,1−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン138重量部（43mol
％）とジフェニルカーボネート264重量部を３三つ口
フラスコに入れ、脱気,N2パージを５回繰り返した後、
シリコンバス180℃で窒素を導入しながら溶融させた。
溶融したら、カーボネート化触媒である水素化ホウ素カ
リウムを予めフェノールに溶かした溶液（仕込んだビス
フェノール全量に対して３×10-3mol％量）を加え、180
℃,N2下,30分撹はん醸成した。次に同温度下100Torrに
減圧し、30分撹はんした後、同温度下で更に50Torrに減
圧し、30分反応させた。次に徐々に温度を220℃まで上
げ30分反応させ、ここまでの反応でフェノール留出理論
量の80％を留出させた。しかる後、同温度下で10Torrに
減圧し30分反応させ、温度を徐々に270℃に上げ、30分
反応させた。更に同温度下で5Torrに減圧し30分反応さ
せ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前縮
合を終えた。
チルフェニル）プロパン192重量部（47mol％）と1,1′
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロ
ピルベンゼン42重量部（10mol％）と1,1−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン138重量部（43mol
％）とジフェニルカーボネート264重量部を３三つ口
フラスコに入れ、脱気,N2パージを５回繰り返した後、
シリコンバス180℃で窒素を導入しながら溶融させた。
溶融したら、カーボネート化触媒である水素化ホウ素カ
リウムを予めフェノールに溶かした溶液（仕込んだビス
フェノール全量に対して３×10-3mol％量）を加え、180
℃,N2下,30分撹はん醸成した。次に同温度下100Torrに
減圧し、30分撹はんした後、同温度下で更に50Torrに減
圧し、30分反応させた。次に徐々に温度を220℃まで上
げ30分反応させ、ここまでの反応でフェノール留出理論
量の80％を留出させた。しかる後、同温度下で10Torrに
減圧し30分反応させ、温度を徐々に270℃に上げ、30分
反応させた。更に同温度下で5Torrに減圧し30分反応さ
せ、フェノール留出理論量のほぼ全量を留出させ、前縮
合を終えた。
次に同温度下で0.1〜0.3Torrで２時間後縮合させた。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝20,476であった。
窒素下にて生成物のポリマーを取り出し冷却した後、ジ
クロルメタンを溶媒に用いて20℃にて溶液粘度を測定し
た。この値から算出した粘度平均分子量（以下これをMv
と略す）は、Mv＝20,476であった。
実施例６ 上記参考例６の芳香族ポリカーボネート共重合体をス
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
チレンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:
3の共重合体MAS20（リチャードソン社商品名）を50重量
部:50重量部の割合で20φのブラベンダー・エクストゥ
ルーダー（Brabender Extruder）を用い混練し、ペレッ
ト化を行いポリカーボネート系樹脂組成物を得た。得ら
れたポリカーボネート系樹脂組成物について諸物性を測
定した結果を以下に示す。
透過率 87％ 屈折率 1.5618 光弾性定数 22ブリュースターズ （Brewsters,10-12m2/N） 尚、弾性定数は自作のものを用いて測定したが光弾性
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
定数の算出方法は試験片（100mm×10mm×1mm）に異なる
大きさの引張応力を長さ方向に追加し、下式（１）に各
々の値を代入してその傾きから光弾性定数を求めた。
n1−n2＝Ｃ（σ１−σ２） （１） 但し、 n1−n2:複屈折 σ１−σ2:残留応力 C:光弾性定数 熱分解温度（５％重量減少温度） 365℃ 引張り破断強度 667Kgf/cm2 曲げ弾性率 24,271Kgf/cm2 曲げ降伏強度 975Kgf/cm2 Ｕ型ノッチ付きアイゾット衝撃強度 4.5Kgfcm/cm （効果） 以上の結果から明らかな様に、本発明によるポリカー
ボネート樹脂組成物は、透明性に優れ、且つ光学的歪み
の小さい樹脂組成物であることがわかる。
ボネート樹脂組成物は、透明性に優れ、且つ光学的歪み
の小さい樹脂組成物であることがわかる。
また、エンジニアリングプラスチックスの用途として
も特に透明性が要求される分野に用いられる。
も特に透明性が要求される分野に用いられる。
Claims (5)
- 【請求項１】2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と2,2
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ｂモル
％）と1,1−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン（ｃモル％）をカーボネート結合して得られる
芳香族ポリカーボネート共重合体40〜97重量％及びスチ
レンとメチルメタクリレートの組成比（重量比）が7:3
からなる共重合体60〜３重量％を混合してなる透明なポ
リカーボネート系樹脂組成物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたa,b,c,（モル％）は、下記数式（Ｉ）〜
（Ｖ）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体であ
る。 ａ＋ｂ＋ｃ＝100 ・・・・（Ｉ） ０≦ｃ≦65 ・・・・・（II） 20＋0.23c≦ａ≦45＋2.6cただし０≦ｃ≦40の時 ・・・・（III） 20＋0.23c≦ａ≦100−ｃただし40≦ｃ≦65の時 ・・・・・（IV） ０＜a,b＜100 ・・・・（Ｖ） - 【請求項２】2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と1,1
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン
（ｃモル％）と1,1−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−１−フェニルエタン（ｄモル％）をカーボネート
結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重合体40〜
97重量％及びスチレンとメチルメタクリレートの組成比
（重量比）が7:3からなる共重合体60〜３重量％を混合
してなる透明なポリカーボネート系樹脂組成物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたa,c,d（モル％）は、下記数式（Ｉ−１）〜
（Ｖ−１）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体
である。 ａ＋ｂ＋ｃ＝100 ・・・・（Ｉ−１） ０≦ｄ≦55 ・・・・・（II−１） 35＋0.18d≦ａ≦60＋0.14dただし０≦ｄ≦35の時 ・・・・（III−１） 35＋0.18d≦ａ≦100−ｄただし35≦ｄ≦55の時 ・・・・・（IV−１） ０＜ｃ≦65 ・・・・（Ｖ−１） - 【請求項３】2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と1,3
−ビス［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピ
ル］ベンゼン（ｅモル％）と1,1−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）シクロヘキサン（ｃモル％）をカーボネ
ート結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重合体
40〜97重量％及びスチレンとメチルメタクリレートの組
成比（重量比）が7:3からなる共重合体60〜３重量％を
混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂組成物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたa,e,c（モル％）は、下記数式（Ｉ−２）〜
（IV−２）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体
である。 ａ＋ｅ＋ｃ＝100 ・・・・（Ｉ−２） ０≦ｃ≦65 ・・・・・（II−２） 35≦ａ≦60ただし０≦ｃ≦40の時 ・・・・（III−２） 35≦ａ≦100−ｃただし40≦ｃ≦65の時 ・・・・・（IV−２） - 【請求項４】2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と2,2,
−ビス−（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニ
ル）プロパン（ｆモル％）と1,1−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−１−フェニルエタン（ｇモル％）をカ
ーボネート結合して得られる芳香族ポリカーボネート共
重合体40〜97重量％及びスチレンとメチルメタクリレー
トの組成比（重量比）が7:3からなる共重合体60〜３重
量％を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂組成
物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたa,f,g（モル％）は、下記数式（Ｉ−３）〜
（VI−３）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体
である。 ａ＋ｆ＋ｇ＝100 ・・・・（Ｉ−３） ０≦ｇ≦90 ・・・・・（II−３） ０＜ａ≦５＋0.36gただし０≦ｇ≦40の時 ・・・・（III−３） 0.25g−８≦ａ≦５＋0.36gただし40≦ｇ≦70の時 ・・・・・（IV−３） 0.25g−８≦ａ≦100−ｇただし70≦ｇ≦90の時 ・・・・・（Ｖ−３） ０＜a,f＜100 ・・・・（VI−３） - 【請求項５】2,2−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ター
シャリーブチルフェニル）プロパン（ａモル％）と1,4
−ビス−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロ
ピル］ベンゼン（ｈモル％）と1,1−ビス−（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロヘキサン（ｃモル％）をカーボ
ネート結合して得られる芳香族ポリカーボネート共重合
体40〜97重量％及びスチレンとメチルメタクリレートの
組成比（重量比）が7:3からなる共重合体60〜３重量％
を混合してなる透明なポリカーボネート系樹脂組成物。 ここで、芳香族ポリカーボネート共重合体の樹脂組成範
囲に用いたa,h,c（モル％）は、下記数式（Ｉ−４）〜
（IV−４）を満足する芳香族ポリカーボネート共重合体
である。 ａ＋ｈ＋ｃ＝100 ・・・・（Ｉ−４） ０≦ｃ≦65 ・・・・・（II−４） 35≦ａ≦60ただし０≦ｃ≦40の時 ・・・・（III−４） 35≦ａ≦100−ｃただし40≦ｃ≦65の時 ・・・・・（IV−４）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63127079A JP2580255B2 (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | ポリカ―ボネ―ト系樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63127079A JP2580255B2 (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | ポリカ―ボネ―ト系樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01299863A JPH01299863A (ja) | 1989-12-04 |
| JP2580255B2 true JP2580255B2 (ja) | 1997-02-12 |
Family
ID=14951055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63127079A Expired - Lifetime JP2580255B2 (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | ポリカ―ボネ―ト系樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2580255B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111423683A (zh) * | 2020-04-24 | 2020-07-17 | 聚纶材料科技（深圳）有限公司 | 光学保护膜用光学树脂及其制备方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101234546A (zh) * | 2007-01-31 | 2008-08-06 | 住友化学株式会社 | 叠层膜 |
| CN110862665A (zh) * | 2019-11-21 | 2020-03-06 | 聚纶材料科技（深圳）有限公司 | 耐刮擦pc光学树脂材料及其制备方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366255A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-24 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカ−ボネ−ト系樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-05-26 JP JP63127079A patent/JP2580255B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111423683A (zh) * | 2020-04-24 | 2020-07-17 | 聚纶材料科技（深圳）有限公司 | 光学保护膜用光学树脂及其制备方法 |
| CN111423683B (zh) * | 2020-04-24 | 2022-04-15 | 聚纶材料科技（深圳）有限公司 | 光学保护膜用光学树脂及其制备方法 |
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|---|---|
| JPH01299863A (ja) | 1989-12-04 |
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