JPS6362249A - プロ−バ装置 - Google Patents

プロ−バ装置

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JPS6362249A
JPS6362249A JP61206308A JP20630886A JPS6362249A JP S6362249 A JPS6362249 A JP S6362249A JP 61206308 A JP61206308 A JP 61206308A JP 20630886 A JP20630886 A JP 20630886A JP S6362249 A JPS6362249 A JP S6362249A
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JP
Japan
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probing
wafer
chuck
alignment mechanism
loader
Prior art date
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Application number
JP61206308A
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English (en)
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JPH0727932B2 (ja
Inventor
Taketoshi Itoyama
糸山 武敏
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6362249A publication Critical patent/JPS6362249A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明はシリコンウェハに作り込まれた半導体集積回路
の電気的特性を入出力端子(パッド)にプローブ針を接
触させてテストするためのプローバ装置に係り、特に複
数のプロービングエリアを有する。複合ブローピンクシ
ステムを可能とするブローバ装置に関する。
[発明の技術的背景] 現在、広く用いられているプローバ装置は、第3図及び
第4図に示すように主としてウェハを搬送するローダ部
11と、搬送されたウェハをアラインメントするアライ
ンメント機構12とウェハを測定のために水平駆動する
プロービング部13と、プローブ針と接触しているウェ
ハ上のチップを測定するテストヘッド14とから成り、
プロービング部13はウェハ15を塔載したチャックト
ップ16をXY軸方向に駆動するチャックステージ17
を備えている。このようなプローバ装置においては、ロ
ーダ部11よりチャックトップ16上に搬送されたウェ
ハ15はアラインメント機構12でアラインメントされ
た後、チャックステージ17でプローブ針18と接触さ
せながら、テストヘッド14により測定される。このよ
うなプロービング工程はそれ自体で完結するものではな
く。
プロービングに続けて例えば不良品をマーキングしたり
冗長性(リダンダンシー)のあるチップ(IC)の場合
、(8復を行うことがあり、更にプロービング後の針跡
やマーキングのインクなどを確認する工程が必要である
。そのためにブローバ′!装置に二Jしら工程を行うた
めの機能を付加したり、プローバ装置とは別にこれらの
工程を行うための装置を設けたりしているが、いずれの
場合もウェハを測定、処理するのに長時間を要し高速化
の妨げとなっている。
又、このようなプローバ装置におけるアラインメント機
構は一般にレーザーあるいはCCDによるパターン認識
によってウェハをアラインメントさせており、非常に高
価でプローバ装置全体の価格を上昇させる要素となって
いる。
[発明の目的] 本発明は上記従来の問題点に鑑みなされたもので、高速
プロービング及び複合プロービングが可能で且つ低価格
の高速デバイス用プローバ装置を提供せんとするもので
ある。
[発明の概要] このような目的を達成するために1本発明のプロービン
グにおいては、1つのアラインメント機構に対し複数種
のウェハを載置し、複数のプロービングを可能にしたこ
とを特徴とし1例えばウェハを搬送するローダ部、該搬
送されたウェハをアラインメントするアラインメント機
構、該アラインメント機構に隣接する複数のプロービン
グ部及び該複数のプロービング部にそれぞれ設置される
テストヘッドから成るものである。
[発明の実施例] 以ド1本発明の好ましい実施例を図面に基き説明する。
第1図は1本発明の一実施例であるダブルブローバ装置
の全体を示す図で、ローダ部1,1′は装置の左右両側
に配備される。ローダ部1,1′はそれぞれ1〜4カセ
ツト(1カセツトにウェハ1〜25枚)収納し、ビルド
アップ構造で左右選択可能になっている。アラインメン
ト機構2は装置のほぼ中央部に位置し、レーザアライン
メント法等の公知のアラインメント法によりXY軸とウ
ェハのスクラブラインの位置合わせを行う。プロービン
グ部3.3′はアラインメント機構2の両側に2つ設け
られ、第2図に示すようにそ九ぞれ独立に動作可能なチ
ャックトップ4及び4′とそれらチャックトップ4及び
4′をXY軸に沿って駆動するチャックステージ(図示
せず)を有する。
これらチャックステージの上部にはリングインサート5
.5’機構を備えたヘッドプレートが配設される。リン
グインサート機端5.5′はウェハ上のチップのパッド
と接触する針を備えたプローブカードを装着する。ロー
ダ部1.1′とチャックトップ4又は4′との間のウェ
ハの搬送は上下、前後に移動するバキュームピンセット
と180度回転するトランスアームによって行う。これ
ら搬送機構は公知のものなので説明を省略する。チャッ
クトップ4とチャツクトップ4′間のウェハの搬送は1
80度回転するトランスアーム6によって行う。各プロ
ービング部3,3′の上方にヒンジ部を中心に回動する
テストヘッド7.7′がそれぞれ設置される(第1図で
はテストヘッド7.7′は後方の待機位置にある)。そ
して各プロービング部3.3′後方にはそれらテストヘ
ッド7.7′の重量(30〜100 Kg)を軽減する
ためのテストヘッド軽減機構8.8′が設置される。テ
ストヘッド軽減機構8はスプリング、バランサーなどか
ら成る。
テスト・\ラド軽減機構8.8′の間に、マイクロスコ
ープ9の支柱が配設される。マイクロスコープ9は、測
定開始時にオペレーターがチップパッドとプローブ針の
位置合わせを行う時に用いら九るもので1両プロービン
グ部3.3′に共通とする。プロービング部3.3′前
面には共通の操作パネル10が設けられている。電源及
びコントローラは両プロービング部3,3共通である。
以上のような構成において、ウェハの流九を説明する。
まず、ローダ部1のカセットに収納さ九たウェハは、ビ
ンセットアームによって1枚ずつ取り出されサブチャッ
ク(図示せず)上に載置された後、トランスアームによ
ってプロービング部3のチャックトップ4上に載置され
る。次いでチャックトップ4はアラインメント機構2に
移動し、ここで、チャックステージのXY軸とウェハの
スクラブラインが一致するようにファインアラインメン
トされた後、チャックステージでプロービングが開始さ
れる。これと並行して、もう一方のローダ部l′よりチ
ャックトップ4°にウェハを搬送し、アラインメント機
vt2でアラインメントし、もう一方のチャックステー
ジでもプロービングを行う。
このように、アラインメントのみを左右交互に行わせ、
プロービングは並行して行うことにより、プロービング
時間を大幅に短縮できる。
以上の説明においては、両プロービング部3゜3′で敏
行してプロービングを行うようにしているが、プロービ
ング部3.3′にマーキングシステム(不良チップにイ
ンクで印をつける)、インスペクシAンシステム(針跡
及びマーキングのインクをパターン認識するシステム)
、EPROM用の紫外線照射システムあるいはりダンダ
ンシーシステム(冗長性のあるICの修復システム)等
を付加することにより、一方のプロービング部でブロー
ピンクを行い、他方のプロービング部でマーキング、イ
ンスペクション、EPROM用チップの紫外線照射ある
いはICの修復等を行う複合システムも可能である。
[発明の効果] 以上の説明からも明らかなように本発明のプロービング
においては、一つのアラインメント機構に対し複数のプ
ロービング部を設けたので、高価なアラインメント機構
を一つで従来のプローバ複数台分の機能を待たせること
ができ、全体として低価格なプローバ装置を提供できる
更に複数のプロービング部によって並行プロービングを
行うことができるのでプロービング時間が大幅に短縮さ
れる。
又、プロービング部にマーキング、インスペクション等
の付帯機能を配備することにより、複合プロービングシ
ステムが可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のプローバ装置の一実施例の斜視図、第
2図は同平面図、第3図及び第・1図は従来のプローバ
装置の斜視図である。 1.1′・・・・・・・・ロータ部 2・・・・・・・・・・・・・アラインメント機構3.
3′・・・・・・・・プロービング部4.4′・・・・
・・・・チャックトップ5.5゛・・・・・・・・リン
グインサート機構6・・・・・・・・・・・・・トラン
スアーム7.7′・・・・・・・・テストヘッド8.8
′・・・・・・・・テストヘッド軽減機構9・・・・・
・・・・・・・・マイクロスコープ10・・・・・・・
・・・・操作パネル代理人 弁理士  守 谷 −雄 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ウェハを搬送するローダ部、該搬送されたウェハをアラ
    インメントする1個のアラインメント機構、該アライン
    メント機構に隣接する複数のプロービング部から成るプ
    ローバ装置。
JP61206308A 1986-09-02 1986-09-02 プロ−バ装置 Expired - Lifetime JPH0727932B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61206308A JPH0727932B2 (ja) 1986-09-02 1986-09-02 プロ−バ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61206308A JPH0727932B2 (ja) 1986-09-02 1986-09-02 プロ−バ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6362249A true JPS6362249A (ja) 1988-03-18
JPH0727932B2 JPH0727932B2 (ja) 1995-03-29

Family

ID=16521149

Family Applications (1)

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JP61206308A Expired - Lifetime JPH0727932B2 (ja) 1986-09-02 1986-09-02 プロ−バ装置

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JP (1) JPH0727932B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100909494B1 (ko) * 2006-05-11 2009-07-27 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 처리장치

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61131541A (ja) * 1984-11-30 1986-06-19 Nippon Maikuronikusu:Kk 半導体ウェハ検査装置
JPS61168236A (ja) * 1985-01-21 1986-07-29 Nippon Kogaku Kk <Nikon> ウエハ検査装置

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US7887280B2 (en) 2006-05-11 2011-02-15 Tokyo Electron Limited Processing apparatus

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JPH0727932B2 (ja) 1995-03-29

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