JPS6359388A - 純水の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
- Purification Treatments By Anaerobic Or Anaerobic And Aerobic Bacteria Or Animals (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Treatment Of Biological Wastes In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は比抵抗１ＭΩ・ｃ ＋ｎ ｎｔＪ後の１次純水
を、さらに逆浸透膜処理およびイオン交換処理すること
により純水を製造する方法であって、待に１次純水中の
コロイド状物質を除去した純水の製造方法に関するもの
である。
を、さらに逆浸透膜処理およびイオン交換処理すること
により純水を製造する方法であって、待に１次純水中の
コロイド状物質を除去した純水の製造方法に関するもの
である。
［従来の技術］
原水の中には金属イオン、有機物、泥、コロイド状シリ
カまたはコロイド状金属（Ｆｅ 、 Ｐ、 Ｓ等）等の
コロイド状物質、酸素および空気等の溶σガスおよびバ
クテリア等が含まれている。
カまたはコロイド状金属（Ｆｅ 、 Ｐ、 Ｓ等）等の
コロイド状物質、酸素および空気等の溶σガスおよびバ
クテリア等が含まれている。
半導体工業、光ディスクおよび陽気ディスク工業、電子
デバイス工業、原子カニ業、医薬および食品工業等の分
野では、これらの不純物を除去した比抵抗１５Ｍ０・ｃ
ｌＩ１１１′Ｉ侵の純水が要求されている。特に、その
中でｂ電子デバイス工業、半導体工業、原子カニ業にお
いては、コロイド状シリカおよびコロイド状金属等のコ
ロイド状物質が完全に除去された純水が要求されている
。
デバイス工業、原子カニ業、医薬および食品工業等の分
野では、これらの不純物を除去した比抵抗１５Ｍ０・ｃ
ｌＩ１１１′Ｉ侵の純水が要求されている。特に、その
中でｂ電子デバイス工業、半導体工業、原子カニ業にお
いては、コロイド状シリカおよびコロイド状金属等のコ
ロイド状物質が完全に除去された純水が要求されている
。
第２図は従来の純水製造工程のフロー図である。
その概要を説明する。原水を凝集沈澱濾過し、粗大ごみ
等を除去する。この凝集沈澱濾過２の段階で、殺菌剤で
ある次亜塩素酸が加えられる。次いで、カチオン交換樹
脂塔５でナトリウムイオン、カルシウムイオン等のカチ
オンを捉える。次いで脱炭酸ガス塔６で溶存炭酸ガスを
除去し、アニオン交ｙＡ樹脂塔７で塩素イオン等のアニ
オンを捉える。ここに、比抵抗１ＭΩ・Ｃｌ１１前後の
１次純水が得られる。
等を除去する。この凝集沈澱濾過２の段階で、殺菌剤で
ある次亜塩素酸が加えられる。次いで、カチオン交換樹
脂塔５でナトリウムイオン、カルシウムイオン等のカチ
オンを捉える。次いで脱炭酸ガス塔６で溶存炭酸ガスを
除去し、アニオン交ｙＡ樹脂塔７で塩素イオン等のアニ
オンを捉える。ここに、比抵抗１ＭΩ・Ｃｌ１１前後の
１次純水が得られる。
さらにこの１次純水をプレフィルタ−１０で濾過し逆浸
透膜（複数個）１１で処理する。この逆浸透膜でイオン
の９０％、コロイド物質の９０％、バクテリアの死骸等
の有機物９０％が除去される。
透膜（複数個）１１で処理する。この逆浸透膜でイオン
の９０％、コロイド物質の９０％、バクテリアの死骸等
の有機物９０％が除去される。
この逆浸透膜１１の工程で、逆浸透膜自身の加水分解を
防ぐためにｐＨＩ整薬として、殺菌をも兼ねる次亜塩素
酸を加える。逆浸透膜処理水槽１３を経由してぎた純水
はアニオン・カチオン混床塔１４でさらに脱イオンされ
、次いでフィルター１５で濾過される。そして比抵抗１
５ＭΩ・Ｃｌ１１前後後の純水を得ている。
防ぐためにｐＨＩ整薬として、殺菌をも兼ねる次亜塩素
酸を加える。逆浸透膜処理水槽１３を経由してぎた純水
はアニオン・カチオン混床塔１４でさらに脱イオンされ
、次いでフィルター１５で濾過される。そして比抵抗１
５ＭΩ・Ｃｌ１１前後後の純水を得ている。
このように従来の純水製造工程のフローの特徴は、純水
中のバクテリアを′ｖｌｉ底的に殺菌していることであ
る。すなわち凝集沈澱濾過２工程で、あるいは逆浸透１
１１１の工程で、殺菌剤である次亜塩素酸を投入してい
る。また、逆浸透ｌ１ｌ１１１が１）Ｈ７の純水系で用
いられる種類のものである場合は、殺菌処理には次亜塩
素酸を用いず、その代わりに熱交換機９とプレフィルタ
−１０との間で紫外線を用いてバクテリアを殺菌する。
中のバクテリアを′ｖｌｉ底的に殺菌していることであ
る。すなわち凝集沈澱濾過２工程で、あるいは逆浸透１
１１１の工程で、殺菌剤である次亜塩素酸を投入してい
る。また、逆浸透ｌ１ｌ１１１が１）Ｈ７の純水系で用
いられる種類のものである場合は、殺菌処理には次亜塩
素酸を用いず、その代わりに熱交換機９とプレフィルタ
−１０との間で紫外線を用いてバクテリアを殺菌する。
このようにバクテリアの殺菌に注力する理由は、バクテ
リアが繁畑するとフィルター１５の目詰まりを起こし、
重大な事態となるからである。
リアが繁畑するとフィルター１５の目詰まりを起こし、
重大な事態となるからである。
［発明が解決しようとする問題点１
以上のように従来の純水製造工程では、バクテリアによ
るフィルター目詰まりを防ぐために、バクテリアの繁殖
防止に重点が置かれていた。したがって、純水中の微細
なコロイド状シリカやコロイド状金属（Ｆｅ、Ｐ、Ｓ等
）等のコロイド状物質の除去にはあまり注意が払われて
いなかった。
るフィルター目詰まりを防ぐために、バクテリアの繁殖
防止に重点が置かれていた。したがって、純水中の微細
なコロイド状シリカやコロイド状金属（Ｆｅ、Ｐ、Ｓ等
）等のコロイド状物質の除去にはあまり注意が払われて
いなかった。
その結果、純水中の大きなコロイド物質は逆浸透膜、フ
ィルタ等で約９０％まで除去されていたが、残りの直径
０．０１μｍ以下の小さなコロイド物質はこれらによっ
ては捉えられず、部分的にユースポイント１６まで通り
扱けてくるという問題があった。
ィルタ等で約９０％まで除去されていたが、残りの直径
０．０１μｍ以下の小さなコロイド物質はこれらによっ
ては捉えられず、部分的にユースポイント１６まで通り
扱けてくるという問題があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、１次純水中の直径０．０１μｍ以下のコロ
イド物質をも除去できる純水の製造方法を提供すること
を目的とする。
れたもので、１次純水中の直径０．０１μｍ以下のコロ
イド物質をも除去できる純水の製造方法を提供すること
を目的とする。
［問題点を解決するための手段］
この発明にかかるコロイド状物質を含まない純水の製造
方法は、原水を凝集沈澱濾過し、カチオン交換し、脱二
酸化炭素化し、アニオン交換して得た１次純水を、さら
に逆浸透膜処理し、次いでカチオン・アニオン交換する
ことによって純水を製造する方法である。そしてその逆
浸透膜処理に先立ち、従来法の考えとは逆に１次純水中
のバクテリアをむしろ強制的に繁殖させ、次いで殺菌す
る工程を含むことを特徴とする。
方法は、原水を凝集沈澱濾過し、カチオン交換し、脱二
酸化炭素化し、アニオン交換して得た１次純水を、さら
に逆浸透膜処理し、次いでカチオン・アニオン交換する
ことによって純水を製造する方法である。そしてその逆
浸透膜処理に先立ち、従来法の考えとは逆に１次純水中
のバクテリアをむしろ強制的に繁殖させ、次いで殺菌す
る工程を含むことを特徴とする。
［作用］
この発明においては、バクテリアがそのエネルギー源と
してコロイド状物質を餌にすることを利用している。す
なわち、バクテリアを繁殖させ、コロイド状物質をその
バクテリアに良べさせ、バクテリアを大きく成長させる
。そしてこれを殺菌することにより、バクテリアの死骸
である大きな固型微粒子とする。この大ぎな固型微粒子
は逆浸透膜を通過できなくなる。
してコロイド状物質を餌にすることを利用している。す
なわち、バクテリアを繁殖させ、コロイド状物質をその
バクテリアに良べさせ、バクテリアを大きく成長させる
。そしてこれを殺菌することにより、バクテリアの死骸
である大きな固型微粒子とする。この大ぎな固型微粒子
は逆浸透膜を通過できなくなる。
［実施例］
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第１図はこの発明の一実施例のバクテリアを繁殖させ、
次いでこれを殺菌する工程を取入れた純水製造工程であ
る。
次いでこれを殺菌する工程を取入れた純水製造工程であ
る。
従来法に加えて、アニオン交換樹脂塔７と逆浸透膜１１
の間にバクテリア繁殖＋ｆｆ１８と紫外線酸化槽２０と
過酸化水素分解塔２２と紫外線殺菌灯２３の工程が加わ
っている。さらに、逆漫透膜処理水槽１３と７ニオン・
カチオン混床塔１４の間に真空脱気塔２４が加わってい
る。
の間にバクテリア繁殖＋ｆｆ１８と紫外線酸化槽２０と
過酸化水素分解塔２２と紫外線殺菌灯２３の工程が加わ
っている。さらに、逆漫透膜処理水槽１３と７ニオン・
カチオン混床塔１４の間に真空脱気塔２４が加わってい
る。
以下、これらの動作について説明する。
バクテリア繁殖槽１８に、凝集沈澱濾過され、カチオン
交換され、脱炭酸ガス化処理され、アニオン交換された
純水を入れて、加熱ヒータ１９にて水温を３０℃ないし
６０”Ｃに温める。このバクテリア繁殖槽１８に、純水
を１ないし４時間以上、可能な限り十分に滞留させる。
交換され、脱炭酸ガス化処理され、アニオン交換された
純水を入れて、加熱ヒータ１９にて水温を３０℃ないし
６０”Ｃに温める。このバクテリア繁殖槽１８に、純水
を１ないし４時間以上、可能な限り十分に滞留させる。
このバクテリア繁殖槽１８内で、バクテリアは純水中の
直径０．０１μＩ以下の微細なコロイド状物質を食べて
、直径０．２μ讃以上の大きさになる。
直径０．０１μＩ以下の微細なコロイド状物質を食べて
、直径０．２μ讃以上の大きさになる。
その後、紫外１酸化槽２０へこの純水を移す。
この紫外線酸化槽２０内に、過酸化水素を添加し、低圧
水銀ランプを用いて低圧紫外線を照射し、バクテリアを
殺菌する。これにＪ：り直径０．２μ慣以上の大きさの
固型微粉子（バクテリアの死骸）になる。過酸化水素を
加えたのはバクテリアの殺菌を完全にするためである。
水銀ランプを用いて低圧紫外線を照射し、バクテリアを
殺菌する。これにＪ：り直径０．２μ慣以上の大きさの
固型微粉子（バクテリアの死骸）になる。過酸化水素を
加えたのはバクテリアの殺菌を完全にするためである。
次いで純水を過酸化水素分解塔２２に移し、活性炭を用
いて、純水中の過酸化水素を分解させる。次いで純水を
１次純水槽８へ移す。ここで０２ガスが純水中にバブリ
ングされ、残留コロイド状物質を酸化し、固型状微粒子
にする。
いて、純水中の過酸化水素を分解させる。次いで純水を
１次純水槽８へ移す。ここで０２ガスが純水中にバブリ
ングされ、残留コロイド状物質を酸化し、固型状微粒子
にする。
次いで純水は熱交換器９を通過し、紫外穆殺菌灯２３で
処理される。この紫外ａ殺菌処理は１次純水槽８および
熱交換器９で繁殖したバクテリアを殺菌するために行な
われる。
処理される。この紫外ａ殺菌処理は１次純水槽８および
熱交換器９で繁殖したバクテリアを殺菌するために行な
われる。
次いで、純水は逆浸透ＩＩ（複数個）′１１の濃縮水側
へ入れられる。そして、逆浸透膜（複数個）の最初の膜
での純水の回収率を３０ないし５０％に下げ、バクテリ
アの死骸である固型微粒子および残留コロイド状物質の
酸化物である固型微粒子を含む残渣の純水を濃縮水側に
残す。この′ａ縮氷水１２工業用水として再利用される
。純水の回収率を３０ないし５０％に下げたのは、これ
ら固型微粉子の混入をできるだけ防ぐＩ；めである。
へ入れられる。そして、逆浸透膜（複数個）の最初の膜
での純水の回収率を３０ないし５０％に下げ、バクテリ
アの死骸である固型微粒子および残留コロイド状物質の
酸化物である固型微粒子を含む残渣の純水を濃縮水側に
残す。この′ａ縮氷水１２工業用水として再利用される
。純水の回収率を３０ないし５０％に下げたのは、これ
ら固型微粉子の混入をできるだけ防ぐＩ；めである。
逆浸透膜１１を通過してきた純水は逆浸透ＦＡ５ａ理水
槽１３に移されて、新たな空気中のバクテリア、ごみ等
が混入しないように、Ｎ２ガスシール２５される。
槽１３に移されて、新たな空気中のバクテリア、ごみ等
が混入しないように、Ｎ２ガスシール２５される。
次いで、この純水は真空脱気塔２４に移されて、真空脱
気される。真空脱気させる理由は、本発明に従って処理
された純水には、たとえば、バクテリアの死骸物の分解
から由来する炭酸ガス等のガスが含まれているから、そ
れを除去するためである。これを除去しないとユースポ
イント１６で小さな気泡が発生する。
気される。真空脱気させる理由は、本発明に従って処理
された純水には、たとえば、バクテリアの死骸物の分解
から由来する炭酸ガス等のガスが含まれているから、そ
れを除去するためである。これを除去しないとユースポ
イント１６で小さな気泡が発生する。
次いで、純水はアニオン・カチオン混床塔１４でざらに
脱イオンされ、ここにコロイド状物質が完全に除去され
た純水がユースポイント１６に提供される。
脱イオンされ、ここにコロイド状物質が完全に除去され
た純水がユースポイント１６に提供される。
なお、本実施例においては、バクテリアを繁煽させるの
に、加熱ヒータ１９で水温を加熱する方法を示したが、
この発明はこれに限定されない。
に、加熱ヒータ１９で水温を加熱する方法を示したが、
この発明はこれに限定されない。
たとえばバイオ用の純水を得る場合のように、特定のウ
ィルスやバクテリアを嫌うとぎは、それに応じ１；他の
特定の培養法を用い得る。
ィルスやバクテリアを嫌うとぎは、それに応じ１；他の
特定の培養法を用い得る。
［発明の効果〕
この発明では、以上説明したとおり、逆浸透膜処理に先
立ち１次純水中のバクテリアを強制的に繁殖させそして
これを殺菌することとしている。
立ち１次純水中のバクテリアを強制的に繁殖させそして
これを殺菌することとしている。
その結果、コロイド状物質はバクテリアを介して大きな
固型微粒子に変えられ、逆浸透膜を通過できなくなるの
で、コロイド物質が完全に除去された純水が得られる。
固型微粒子に変えられ、逆浸透膜を通過できなくなるの
で、コロイド物質が完全に除去された純水が得られる。
第１図はこの発明の一実施例の純水製造工程であり、第
２図は従来の純水製造工程である。 代理人 大 岩 増 雄 第１図 第２図 層７に 手続補正書く自発） ２、発明の名称 純水の製造方法 ３、補正をする者 代表者志岐守哉 ５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１） 明細間第５頁第４行のｒｏ、０１μｍＪを「０
．１μｍ」に訂正する。 （２） 明ｗＩ＠第５頁第９行ないし第１０行のｒｏ、
０１μｍＪをｒｏ、１μｍｌに訂正する。 （３） 明ｍ書第７頁第１０行ないし第１１行のｒｏ、
０１μｍＪを「０．１ｕｍＪに訂正する。 以上
２図は従来の純水製造工程である。 代理人 大 岩 増 雄 第１図 第２図 層７に 手続補正書く自発） ２、発明の名称 純水の製造方法 ３、補正をする者 代表者志岐守哉 ５、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 （１） 明細間第５頁第４行のｒｏ、０１μｍＪを「０
．１μｍ」に訂正する。 （２） 明ｗＩ＠第５頁第９行ないし第１０行のｒｏ、
０１μｍＪをｒｏ、１μｍｌに訂正する。 （３） 明ｍ書第７頁第１０行ないし第１１行のｒｏ、
０１μｍＪを「０．１ｕｍＪに訂正する。 以上
Claims (4)
- （１）原水を凝集沈澱濾過し、カチオン交換し、脱二酸
化炭素化し、アニオン交換して得た１次純水を、さらに
逆浸透膜処理し、カチオン・アニオン交換することによ
つて純水を製造する方法において、 前記逆浸透膜処理に先立ち、前記１次純水中のバクテリ
アを強制的に繁殖させ、次いで殺菌することを特徴とす
る純水の製造方法。 - （２）バクテリアを強制繁殖させるために加熱ヒータを
用いて１次純水を温めることを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の純水の製造方法。 - （３）バクテリアの殺菌のために紫外線を用いることを
特徴とする特許請求の範囲第１項または第２項記載の純
水の製造方法。 - （４）バクテリアの殺菌のために過酸化水素を用いるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第３項のい
ずれかに記載の純水の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP61204496A JPH0638954B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 純水の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61204496A JPH0638954B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 純水の製造方法 |
Publications (2)
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|---|---|
| JPS6359388A true JPS6359388A (ja) | 1988-03-15 |
| JPH0638954B2 JPH0638954B2 (ja) | 1994-05-25 |
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ID=16491490
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61204496A Expired - Fee Related JPH0638954B2 (ja) | 1986-08-29 | 1986-08-29 | 純水の製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JPH0638954B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5259972A (en) * | 1990-08-01 | 1993-11-09 | Nippon Rensui Company | Apparatus and method for purifying water |
| JP2002179207A (ja) * | 2000-12-12 | 2002-06-26 | Nix Inc | 収納幅可変式板材収納枠 |
| JP2007090266A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び装置 |
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| CN108128983B (zh) * | 2018-01-19 | 2020-11-24 | 河北大东环保科技有限公司 | 一种高含硫、高含盐气田采出水深度净化处理工艺 |
Citations (1)
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- 1986-08-29 JP JP61204496A patent/JPH0638954B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP4661503B2 (ja) * | 2005-09-29 | 2011-03-30 | 栗田工業株式会社 | 水処理方法及び装置 |
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|---|---|
| JPH0638954B2 (ja) | 1994-05-25 |
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