JPS61111198A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
- Publication number
- JPS61111198A JPS61111198A JP59231738A JP23173884A JPS61111198A JP S61111198 A JPS61111198 A JP S61111198A JP 59231738 A JP59231738 A JP 59231738A JP 23173884 A JP23173884 A JP 23173884A JP S61111198 A JPS61111198 A JP S61111198A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- pure water
- biological
- biological treatment
- microorganisms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F3/00—Biological treatment of water, waste water, or sewage
- C02F3/02—Aerobic processes
- C02F3/12—Activated sludge processes
- C02F3/1205—Particular type of activated sludge processes
- C02F3/1215—Combinations of activated sludge treatment with precipitation, flocculation, coagulation and separation of phosphates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Biodiversity & Conservation Biology (AREA)
- Microbiology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biological Treatment Of Waste Water (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Purification Treatments By Anaerobic Or Anaerobic And Aerobic Bacteria Or Animals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は超純水製造装置に係り、特に生物処理手段を組
み入れて、水中の微生物の増殖を抑制するようにした超
純水製造装置に関する。
み入れて、水中の微生物の増殖を抑制するようにした超
純水製造装置に関する。
〔従来の技術］
ＬＳＩや超ＬＳＩの製造においては、多量の純水や超純
水が用いられている。超純水は理論純水（Ｈ２Ｏのみか
らなる水）の比抵抗１８．２４ＭΩ−ｃｍに極めて近く
、１７〜１８ＭΩａＣｍの比抵抗を有する純水である。
水が用いられている。超純水は理論純水（Ｈ２Ｏのみか
らなる水）の比抵抗１８．２４ＭΩ−ｃｍに極めて近く
、１７〜１８ＭΩａＣｍの比抵抗を有する純水である。
一般に、超純水製造プロセスは、活性炭、イオン交換樹
脂、ＵＶ酸化、逆浸透膜（ＲＯ）、限外濾過膜（Ｕ Ｆ
）等で構成されている。
脂、ＵＶ酸化、逆浸透膜（ＲＯ）、限外濾過膜（Ｕ Ｆ
）等で構成されている。
例えば、超純水を用いた半導体ウェー／＼洗浄システム
からの洗浄廃液回収工程における超純水製造プロセスは
：５２１Δに示す通りである。第２図に示す装置におい
ては、半導体洗浄工程ｌからの廃水を、まず回収システ
ムＡの活性炭吸着塔２において活性炭吸着処理し、イオ
ン交換塔３で処理して税塩した後、更に必要なときには
逆浸透膜装置（図示せず）を介して紫外線酸化装置４で
処理している。紫外線酸化装置４においては、有機物を
ほぼ完全に酸化分解させるために、一般に、酸化剤とし
て過酸化水素を添加し、過酸化水素存在下で紫外線を照
射して処理が行なわれる。
からの洗浄廃液回収工程における超純水製造プロセスは
：５２１Δに示す通りである。第２図に示す装置におい
ては、半導体洗浄工程ｌからの廃水を、まず回収システ
ムＡの活性炭吸着塔２において活性炭吸着処理し、イオ
ン交換塔３で処理して税塩した後、更に必要なときには
逆浸透膜装置（図示せず）を介して紫外線酸化装置４で
処理している。紫外線酸化装置４においては、有機物を
ほぼ完全に酸化分解させるために、一般に、酸化剤とし
て過酸化水素を添加し、過酸化水素存在下で紫外線を照
射して処理が行なわれる。
このような活性炭吸着塔２、イオン交換塔３及び紫外線
酸化装置４からなる回収システムＡからの処理水は、純
水製造システムＢに戻される。この純水製造システムＢ
は、前処理システムＣ（凝集槽５及び二種濾過器６から
なる。）、１次純水システムＤ（逆浸透膜装置７、脱気
塔８及びイオン交換装置９からなφ、）及びサブシステ
ムＥｌ′（紫外線殺菌装置１０、混床式イオン交換装置
１１及び限外１１！過膜装置１２からなる。）から構成
されている。
酸化装置４からなる回収システムＡからの処理水は、純
水製造システムＢに戻される。この純水製造システムＢ
は、前処理システムＣ（凝集槽５及び二種濾過器６から
なる。）、１次純水システムＤ（逆浸透膜装置７、脱気
塔８及びイオン交換装置９からなφ、）及びサブシステ
ムＥｌ′（紫外線殺菌装置１０、混床式イオン交換装置
１１及び限外１１！過膜装置１２からなる。）から構成
されている。
Ｃ発明が解決しようとする問題点］
このような純水製造装置で得られる超純水や純水のよう
な貧栄養の水中においても、微生物は極めて微量ではあ
るが存在し、純水中にＰＰｂオーダーでも有機物質が存
在すると、微生物は増殖して、ＲＯ装置等の純水製造装
置にトラブルが生じる原因となる。
な貧栄養の水中においても、微生物は極めて微量ではあ
るが存在し、純水中にＰＰｂオーダーでも有機物質が存
在すると、微生物は増殖して、ＲＯ装置等の純水製造装
置にトラブルが生じる原因となる。
［問題点を解決するための手段］
本発明は、膜処理装置及びイオン交換塔を有する超純水
製造装置において、更に、微量のエネルギー源及び／又
は栄養源を除去するために、微生物のエネルギー原反□
び栄養源の存在のもとに生物処理する生物反応槽と、こ
の生物反応槽で増殖した菌体を分離・除去するための菌
体分離器とからなる生物処理手段を付加するようにした
ものである。
製造装置において、更に、微量のエネルギー源及び／又
は栄養源を除去するために、微生物のエネルギー原反□
び栄養源の存在のもとに生物処理する生物反応槽と、こ
の生物反応槽で増殖した菌体を分離・除去するための菌
体分離器とからなる生物処理手段を付加するようにした
ものである。
即ち１本発明は、
膜処理装置及びイオン交換樹脂を内蔵したイオン交換塔
を備えた。超純水処理手段。
を備えた。超純水処理手段。
及び
微生物のエネルギー源及び栄養源の存在下に生物処理す
る生物反応槽と、該生物反応槽からの処理水が導入され
る菌体分離器とを有する生物処理手段、 を備えてなる超純水製造装置、 を要旨とする。
る生物反応槽と、該生物反応槽からの処理水が導入され
る菌体分離器とを有する生物処理手段、 を備えてなる超純水製造装置、 を要旨とする。
下水や産業廃水等、有機物を比較的多く含む水を生物処
理することは慣用技術に属する。
理することは慣用技術に属する。
しかし、超純水のように極めて貧栄養下の水を生物処理
することは従来全く行なわれていなかった。また、そも
そも生物処理は不可能と考えられていた。
することは従来全く行なわれていなかった。また、そも
そも生物処理は不可能と考えられていた。
それは、超純水のような貧栄養下での生物増殖機構は全
く解明されていなかったことに加え、このような水を生
物処理することは、微生物を加えることになるので、逆
に水を汚染するものと考えられていたからである。
く解明されていなかったことに加え、このような水を生
物処理することは、微生物を加えることになるので、逆
に水を汚染するものと考えられていたからである。
そこで、本発明者らは、従来の純水製造プロセスにおけ
る微生物の挙動を研究した結果、このプロセスでは、有
機性炭素は大部分除去されるものの、処理水中にはＴＯ
Ｃ濃度で５０ｐｐｂ程度の有機物質がなおも残存し、そ
して、微生物は、水中のＴＯＣが１ｐｐｂ存在すれば、
これを資化することにより４〜５Ｘ１０３Ｎ／ｍｕに増
殖し、ＴＯＣが５０ｐｐｂ残存する場合には約２×１０
’Ｎ／ｍｕとなり、ＲＯ，ＵＦ膜等の目詰りの原因とな
り、純水製造に悪影響を及ぼすことが分った。実際、測
定の結果（バイオアッセイ値）、超純水中では、微生物
が菌数として１０３ＸＩＯ’Ｎ／ｍ文にまで増殖するに
十分な有機物が残存しており、これに更に、配管、樹脂
等の設備からのリンあるいは窒素の溶出又は洗浄薬品等
により、リン等が付加された場合には４微生物は更に容
易に増殖し、１ｏ５Ｎ／ｍ文以上にも達することが確認
された。
る微生物の挙動を研究した結果、このプロセスでは、有
機性炭素は大部分除去されるものの、処理水中にはＴＯ
Ｃ濃度で５０ｐｐｂ程度の有機物質がなおも残存し、そ
して、微生物は、水中のＴＯＣが１ｐｐｂ存在すれば、
これを資化することにより４〜５Ｘ１０３Ｎ／ｍｕに増
殖し、ＴＯＣが５０ｐｐｂ残存する場合には約２×１０
’Ｎ／ｍｕとなり、ＲＯ，ＵＦ膜等の目詰りの原因とな
り、純水製造に悪影響を及ぼすことが分った。実際、測
定の結果（バイオアッセイ値）、超純水中では、微生物
が菌数として１０３ＸＩＯ’Ｎ／ｍ文にまで増殖するに
十分な有機物が残存しており、これに更に、配管、樹脂
等の設備からのリンあるいは窒素の溶出又は洗浄薬品等
により、リン等が付加された場合には４微生物は更に容
易に増殖し、１ｏ５Ｎ／ｍ文以上にも達することが確認
された。
なお、従来の純水製造装置において、紫外線殺菌処理が
行なわれているが（第２図の装置ではサブシステムＥの
１０）、紫外線照射処理は一過性のものであり、微量の
微生物がその後再び増殖することが分った。
行なわれているが（第２図の装置ではサブシステムＥの
１０）、紫外線照射処理は一過性のものであり、微量の
微生物がその後再び増殖することが分った。
而して１本発明者らは、純水中の微生物の増殖機構につ
いて上述したような研究の結果、微生物はリンが極めて
低濃度例えば１０ｐｐｔとなるまで速い除去速度でＴＯ
Ｃ、リンその他の栄養塩を除去して増殖し、ＴＯＣ，リ
ン又は窒素が欠乏した時へで、増殖が急激に抑制される
という事実が判明した。
いて上述したような研究の結果、微生物はリンが極めて
低濃度例えば１０ｐｐｔとなるまで速い除去速度でＴＯ
Ｃ、リンその他の栄養塩を除去して増殖し、ＴＯＣ，リ
ン又は窒素が欠乏した時へで、増殖が急激に抑制される
という事実が判明した。
本発明はこのような知見を発明完成の背景として有する
ものであり 未発明の好ましい一態様においては、純水
製造手段からの純水を、生物処理手段にて処理し、該水
中に含まれるＴＯＣ成分を除去する。この際、好ましく
は栄養源を添加して生物処理する。前述のように、通常
、純水中にはイオン交換樹脂等から溶出してくる窒素が
溶解しているので、添加する栄養源としてはリンを添加
するのが好ましい。リンの添加量は、純水中のＴＱＣが
殆ど除去された時点でリンが殆ど全て消費ｔ
されるような量とするのが最も好ましいが、この量
よりも若干、増減しても良い。
ものであり 未発明の好ましい一態様においては、純水
製造手段からの純水を、生物処理手段にて処理し、該水
中に含まれるＴＯＣ成分を除去する。この際、好ましく
は栄養源を添加して生物処理する。前述のように、通常
、純水中にはイオン交換樹脂等から溶出してくる窒素が
溶解しているので、添加する栄養源としてはリンを添加
するのが好ましい。リンの添加量は、純水中のＴＱＣが
殆ど除去された時点でリンが殆ど全て消費ｔ
されるような量とするのが最も好ましいが、この量
よりも若干、増減しても良い。
このようにしてＴＯＣ成分が十分に除去されれば、その
後、微生物が増殖することはない。
後、微生物が増殖することはない。
ＴＯＣの除去の程度としては、純水中のＴＯＣが１ｏｐ
ｐｂ以下好ましくは１ｐｐｂ以下となるようにするのが
好ましい。
ｐｂ以下好ましくは１ｐｐｂ以下となるようにするのが
好ましい。
本発明の好ましい他の態様においては、純水製造手段か
らの処理水を、生物処理手段にて処理し、該純水中に含
まれるリンを１ｏｐｐｔ以下まで除去する。このように
リンを除去すれば、その後リンが該純水に付加されない
限り、微生物が増殖することはない。
らの処理水を、生物処理手段にて処理し、該純水中に含
まれるリンを１ｏｐｐｔ以下まで除去する。このように
リンを除去すれば、その後リンが該純水に付加されない
限り、微生物が増殖することはない。
本発明の更に他の態様としては、純水製造手段からの処
理水を生物処理手段にて処理し、該純水中に含まれる窒
素を除去することである。
理水を生物処理手段にて処理し、該純水中に含まれる窒
素を除去することである。
本発明において、このような貧栄養下における生物処理
に用いられる菌種としては、オリゴトロフィックバクテ
リア（Ｏｒｉｇｏｔｒｏｐｈｉｃ ｂａｃｔａｒｉａ）
等が好適である。オリゴトロフィックバクテリアは超純
水のような極度にＴＯＣ濃度の低い水中において生育す
る微生物であって、これを用いることにより、処理水中
のＴＯＣ濃度を５０ｐｐＨ以下１例えば１０”１ｐｐｂ
以下程度に、リン又は窒素濃度であればｔｏｐｐｔ以下
程度まで低減することが可能となる。
に用いられる菌種としては、オリゴトロフィックバクテ
リア（Ｏｒｉｇｏｔｒｏｐｈｉｃ ｂａｃｔａｒｉａ）
等が好適である。オリゴトロフィックバクテリアは超純
水のような極度にＴＯＣ濃度の低い水中において生育す
る微生物であって、これを用いることにより、処理水中
のＴＯＣ濃度を５０ｐｐＨ以下１例えば１０”１ｐｐｂ
以下程度に、リン又は窒素濃度であればｔｏｐｐｔ以下
程度まで低減することが可能となる。
第３図は超純水中のＴＯＣ濃度（ａ軸）とオリゴトロフ
ィックバクテリアの増殖速度（縦軸）との関係の一例を
示すグラフである。この例は酢酸を基質とし、その添加
量を変えることにより水中のＴＯＣ濃度を０〜３５ｐＰ
ｂの間で変えている１図示の如く、この例ではＴＯＣ１
！１度の減少に伴って増殖速度用（ｈｒ−’）も次第に
減少し、ＴＯＣ濃度が４５ｐｐｂ以下になると増殖速度
用は直線的に少なくなる。一方、ＴＯＣ濃度が増加して
も延の増加率は次第に減少し、増殖速度の最大値８Ｌａ
ａｘは０．２４ｈｒ−’であった。この例から、酢酸を
基質とした場合は、Ｏ，１２〜ｏ、２４ｈｒ−’の増殖
速度でオリゴトロフィックバクテリアが増殖し、純水中
のＴＯＣ濃度を５ｐｐｂ以下にまで、かなり速い速度で
低下され得るこぶが認められる。
ィックバクテリアの増殖速度（縦軸）との関係の一例を
示すグラフである。この例は酢酸を基質とし、その添加
量を変えることにより水中のＴＯＣ濃度を０〜３５ｐＰ
ｂの間で変えている１図示の如く、この例ではＴＯＣ１
！１度の減少に伴って増殖速度用（ｈｒ−’）も次第に
減少し、ＴＯＣ濃度が４５ｐｐｂ以下になると増殖速度
用は直線的に少なくなる。一方、ＴＯＣ濃度が増加して
も延の増加率は次第に減少し、増殖速度の最大値８Ｌａ
ａｘは０．２４ｈｒ−’であった。この例から、酢酸を
基質とした場合は、Ｏ，１２〜ｏ、２４ｈｒ−’の増殖
速度でオリゴトロフィックバクテリアが増殖し、純水中
のＴＯＣ濃度を５ｐｐｂ以下にまで、かなり速い速度で
低下され得るこぶが認められる。
［作用］
純水処理手段から得られる水は、Ｔｏ Ｃｒ＆分や塩類
の含有量が少ないものであり、半導体の洗浄工程等に使
用し得る。しかるに、叙上の如く、このままでは微生物
が増殖し易い、そこで、この処・理水を更に生物処理手
段にて処理する。
の含有量が少ないものであり、半導体の洗浄工程等に使
用し得る。しかるに、叙上の如く、このままでは微生物
が増殖し易い、そこで、この処・理水を更に生物処理手
段にて処理する。
この生物処理手段においては、エネルギー源及び栄養源
の存在下で好気的に生物処理が行なわれ、純水に含まれ
ていた微量のＴσＣ成分及び／又はリン成分がほぼ完全
に除去される。
の存在下で好気的に生物処理が行なわれ、純水に含まれ
ていた微量のＴσＣ成分及び／又はリン成分がほぼ完全
に除去される。
これにより、得られる超純水は、微生物の増殖のおそれ
のない、際めれ優れた水質のものとなる。
のない、際めれ優れた水質のものとなる。
［実施例］
以下に本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。
明する。
第１図は本発明の純水製造装置を、第２図に示す洗浄廃
液回収工程に採用した例を示す系統図である。なお第１
図において、Ａ、Ｃ，Ｄ、Ｈのシステムの構成は第２図
のものと同様であるので、同一部材に回−符吟を付し、
その構成の説明を省略する。
液回収工程に採用した例を示す系統図である。なお第１
図において、Ａ、Ｃ，Ｄ、Ｈのシステムの構成は第２図
のものと同様であるので、同一部材に回−符吟を付し、
その構成の説明を省略する。
第１図において１回収システムＡの紫外線殺菌装置４を
通過した水は、生物反応槽１３に導入され好気的に生物
処理される。即ち、生物反応槽１３は、生物固定手段、
例えば材質がセラミックからなるハニカムチューブ等の
固定床、又はセラミックの粒状等の流動床を内蔵してい
る。従って、これら充填材からは、無機あるいは有機物
の溶出は無視できる。そして、微生物のエネルギー源及
び栄養源の存在下に微生物が十分に繁殖（増殖）するに
必要な時間以上反応が行なわれる。なお、通常、純水中
には溶存酸素が数ｐｐｍ存在するので、この反応は好気
的に進行するが、溶存酸素が少ないときには、純醜素等
で曝気し、好気的条件を与えることが必要である。この
反応により、ｅ生物は活性化し、水中のＴＯＣ成分を資
化する。而して 本実施例においては、生物反応槽１３
内の水に、微生物の増殖に十分な量のリン及び窒素が含
まれており、反応＃Ｉ！１３内の水に含まれるＴＯＣ成
分が殆ど完全に無くなるまでこの生物反応が継続する。
通過した水は、生物反応槽１３に導入され好気的に生物
処理される。即ち、生物反応槽１３は、生物固定手段、
例えば材質がセラミックからなるハニカムチューブ等の
固定床、又はセラミックの粒状等の流動床を内蔵してい
る。従って、これら充填材からは、無機あるいは有機物
の溶出は無視できる。そして、微生物のエネルギー源及
び栄養源の存在下に微生物が十分に繁殖（増殖）するに
必要な時間以上反応が行なわれる。なお、通常、純水中
には溶存酸素が数ｐｐｍ存在するので、この反応は好気
的に進行するが、溶存酸素が少ないときには、純醜素等
で曝気し、好気的条件を与えることが必要である。この
反応により、ｅ生物は活性化し、水中のＴＯＣ成分を資
化する。而して 本実施例においては、生物反応槽１３
内の水に、微生物の増殖に十分な量のリン及び窒素が含
まれており、反応＃Ｉ！１３内の水に含まれるＴＯＣ成
分が殆ど完全に無くなるまでこの生物反応が継続する。
生物反応槽１３におけるかかる反応により、有機炭素は
ＣＯ２あるいは菌体となる。菌体は後続の菌体分離器１
４において、マイクロフィルター等で捕捉され分離され
る。マイクロフィルターとしてはメンブレンフィルター
、セラミックからなる多孔質濾過等が利用できる。菌体
が分離された水はＴＯＣが極めて低濃度であるため、微
生物の増殖能力は殆どない、この水はその後１次純水シ
ステムＤの供給側に導入される。
ＣＯ２あるいは菌体となる。菌体は後続の菌体分離器１
４において、マイクロフィルター等で捕捉され分離され
る。マイクロフィルターとしてはメンブレンフィルター
、セラミックからなる多孔質濾過等が利用できる。菌体
が分離された水はＴＯＣが極めて低濃度であるため、微
生物の増殖能力は殆どない、この水はその後１次純水シ
ステムＤの供給側に導入される。
なお、第１図に示す装置において、紫外線殺菌装置４か
らの水のリン又は窒素濃度がＴＯＣ濃度に対して著しく
低い場合には、生物反応槽１３における生物処理速度が
非常に遅くなる。このような場合には、生物が増殖し、
有機性炭素を資化できるように、生物反応槽入口部にお
いて微量のリン又は窒素を添加しても良い、この場合、
リンは水中のＢＯＤ成分量に対し、重量比でＢＯＤ／リ
ン！４１００／１程度、窒素はＺｏｏ１５程度となるよ
うに添加するのが好ましい。
らの水のリン又は窒素濃度がＴＯＣ濃度に対して著しく
低い場合には、生物反応槽１３における生物処理速度が
非常に遅くなる。このような場合には、生物が増殖し、
有機性炭素を資化できるように、生物反応槽入口部にお
いて微量のリン又は窒素を添加しても良い、この場合、
リンは水中のＢＯＤ成分量に対し、重量比でＢＯＤ／リ
ン！４１００／１程度、窒素はＺｏｏ１５程度となるよ
うに添加するのが好ましい。
なお、第１図の実施例においては、第２図に示す装置の
回収システムＡと１次純水システムＤとの間、に生物処
理システムＦを設けた構成としているが、本発明におい
ては、生物処理システムＦを１次純水システムとサブシ
ステムＥとの間に設けた構成としても良い、あるいは、
回収システムＤのイオン交換塔３と紫外線酸化装置４と
の間に、更には、この紫外線酸化装置４に代えて設けた
構成としても良い。
回収システムＡと１次純水システムＤとの間、に生物処
理システムＦを設けた構成としているが、本発明におい
ては、生物処理システムＦを１次純水システムとサブシ
ステムＥとの間に設けた構成としても良い、あるいは、
回収システムＤのイオン交換塔３と紫外線酸化装置４と
の間に、更には、この紫外線酸化装置４に代えて設けた
構成としても良い。
また、第１図の実施例においては、生物反応槽１３で、
ＴＯＣが残留しなくなるように必要に応じてリンあるい
は窒素を添加し生物反応を行なっているが１本発明にお
いては、リン又は窒素が残留しなくなるように生物反応
させても良い、この場合は、純水製造装置全体を、リン
や窒素の溶出のおそれのない材質で構成するのが好まし
い。
ＴＯＣが残留しなくなるように必要に応じてリンあるい
は窒素を添加し生物反応を行なっているが１本発明にお
いては、リン又は窒素が残留しなくなるように生物反応
させても良い、この場合は、純水製造装置全体を、リン
や窒素の溶出のおそれのない材質で構成するのが好まし
い。
また本発明においては、生物処理を行なうに際し リン
とＴＯＣＩｉ分とが共に殆ど全て微生物に消化されるよ
うリン及び／又はＴＯＣ成分の調整を行なうようにして
も良い。
とＴＯＣＩｉ分とが共に殆ど全て微生物に消化されるよ
うリン及び／又はＴＯＣ成分の調整を行なうようにして
も良い。
上記の説明では半導体洗浄工程からの排出水を処理して
超純水に再生するよう構成した例について説明したが、
本発明は、当然ながら、他のプロセスからの回収水処理
設備、あるいは、王水、井水等から純水を製造するプロ
セス等、その他の各種の設備に適用し得る。
超純水に再生するよう構成した例について説明したが、
本発明は、当然ながら、他のプロセスからの回収水処理
設備、あるいは、王水、井水等から純水を製造するプロ
セス等、その他の各種の設備に適用し得る。
［効果］
以上詳述した通り１本発明の純水製造装置は、生物処理
手段を組み入れ、微生物の増殖反応を利用してＴＯＣ及
び／又はリン成分を除去するものであり、ＴＯＣ及び／
又はリン成分を、低コストで極めて低濃度にまで除去す
ることができる。
手段を組み入れ、微生物の増殖反応を利用してＴＯＣ及
び／又はリン成分を除去するものであり、ＴＯＣ及び／
又はリン成分を、低コストで極めて低濃度にまで除去す
ることができる。
本発明の装置により製造された純水は、微生物増殖の要
因であるＴＯＣ及び／又はリン成分の濃度が極めて低い
ことから、微生物の増殖は確実に抑制される。従って、
未発明装置においては、微生物増殖に起因するスライム
の発生が抑制され、ＲＯあるいはＵＦ膜面等のスライム
付着等の各種の機器トラブルが防止される。そして、Ｒ
Ｏ又はＵＦの洗浄回数も低減され、装置の運転を円滑に
行ない、効率的な純水製造を実施することが゛できる。
因であるＴＯＣ及び／又はリン成分の濃度が極めて低い
ことから、微生物の増殖は確実に抑制される。従って、
未発明装置においては、微生物増殖に起因するスライム
の発生が抑制され、ＲＯあるいはＵＦ膜面等のスライム
付着等の各種の機器トラブルが防止される。そして、Ｒ
Ｏ又はＵＦの洗浄回数も低減され、装置の運転を円滑に
行ない、効率的な純水製造を実施することが゛できる。
第１図は本発明の純水製造装置を採用した純水製造−回
収システムを示す系統図、第２図は一般的な純水製造−
回収システムを示す系統図、第３図は超純水のＴＯＣ濃
喰と微生物の増殖速度との関係を示すグラフである。
′Ａ・・・・・・回収システム、 Ｂ・・・・・・純水製造システム、 Ｃ・・・・・・前処理システム、 Ｄ・・・・・・１次純水システム、 Ｅ・・・・・・サブシステム、− Ｆ・・・・・・生物処理システム、 ４・・・・・・紫外線酸化装置、 ７・・・・・・逆浸透膜装置、 ！’ １２・・・・・・限外ｍｉｓ装
置、９・・・・・・イオン交換装置、 １３・・・・・・生物反応槽、 １４・・・・・・菌体分離器。 □代理人 弁理士 重 野 剛 第３図 ＴＯＣ儂麦（ｐｐｂ） 手続補正書 １ 事件の表示 昭和５９年特許願第２３１７３８号 ２ 発明の名称 超純水製造装置 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 （１０６） 栗田工業株式会社４ 代理
人 住 所 東京都港区赤坂４丁目８番１９号〒１０７
赤坂表町ビル５０２号 自 発 ７ 補正の内容 （１） 明細書第６頁第１０行ないし第１１行にｒ１０
３Ｘ１０’Ｎ／ｎｉ」とあるのを１１０３〜１０ ’
Ｎ ／ ｍ ｌ ｊ と訂正する。 （２） 明細書第９頁第１３行に「少なく」とあるのを
「小さく」と訂正する。 （３） 明細書第１０頁第１２行に「際めれ」とあるの
を１極めて」と訂正する。 （４） 明細書第１１頁第３行ないし第４行及び同第１
２頁第１２行ないし第１３行に「紫外線殺菌装置」とあ
るのを、それぞれ、「紫外線酸化装置」と訂正する。 以 上
収システムを示す系統図、第２図は一般的な純水製造−
回収システムを示す系統図、第３図は超純水のＴＯＣ濃
喰と微生物の増殖速度との関係を示すグラフである。
′Ａ・・・・・・回収システム、 Ｂ・・・・・・純水製造システム、 Ｃ・・・・・・前処理システム、 Ｄ・・・・・・１次純水システム、 Ｅ・・・・・・サブシステム、− Ｆ・・・・・・生物処理システム、 ４・・・・・・紫外線酸化装置、 ７・・・・・・逆浸透膜装置、 ！’ １２・・・・・・限外ｍｉｓ装
置、９・・・・・・イオン交換装置、 １３・・・・・・生物反応槽、 １４・・・・・・菌体分離器。 □代理人 弁理士 重 野 剛 第３図 ＴＯＣ儂麦（ｐｐｂ） 手続補正書 １ 事件の表示 昭和５９年特許願第２３１７３８号 ２ 発明の名称 超純水製造装置 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 （１０６） 栗田工業株式会社４ 代理
人 住 所 東京都港区赤坂４丁目８番１９号〒１０７
赤坂表町ビル５０２号 自 発 ７ 補正の内容 （１） 明細書第６頁第１０行ないし第１１行にｒ１０
３Ｘ１０’Ｎ／ｎｉ」とあるのを１１０３〜１０ ’
Ｎ ／ ｍ ｌ ｊ と訂正する。 （２） 明細書第９頁第１３行に「少なく」とあるのを
「小さく」と訂正する。 （３） 明細書第１０頁第１２行に「際めれ」とあるの
を１極めて」と訂正する。 （４） 明細書第１１頁第３行ないし第４行及び同第１
２頁第１２行ないし第１３行に「紫外線殺菌装置」とあ
るのを、それぞれ、「紫外線酸化装置」と訂正する。 以 上
Claims (5)
- （１）膜処理装置及びイオン交換樹脂を内蔵したイオン
交換塔を備えた超純水処理手段、 及び 微生物のエネルギー源及び栄養源の存在下に生物処理す
る生物反応槽と、該生物反応槽からの処理水が導入され
る菌体分離器とを有する生物処理手段、 を備えてなる超純水製造装置。 - （２）生物処理手段は水中からＴＯＣ成分を除去するた
めの手段であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
に記載の超純水製造装置。 - （３）生物処理手段は水中からリンを除去するための手
段であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
の超純水製造装置。 - （４）生物処理手段は水中から窒素を除去するための手
段であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
の超純水製造装置。 - （５）生物処理手段の微生物はオリゴトロ フィックバクテリアであることを特徴とする特許請求の
範囲第１項ないし第４項のいずれか１項に記載の超純水
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23173884A JPH0645036B2 (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23173884A JPH0645036B2 (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 超純水製造装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21119096A Division JP2887284B2 (ja) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | 超純水の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61111198A true JPS61111198A (ja) | 1986-05-29 |
| JPH0645036B2 JPH0645036B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=16928260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23173884A Expired - Fee Related JPH0645036B2 (ja) | 1984-11-02 | 1984-11-02 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0645036B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6336890A (ja) * | 1986-07-28 | 1988-02-17 | Kurita Water Ind Ltd | 高純度水の製造装置 |
| JPS6359388A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-15 | Mitsubishi Electric Corp | 純水の製造方法 |
| EP0585036A1 (en) * | 1992-08-25 | 1994-03-02 | Kurita Water Industries Ltd. | Apparatus for producing ultra-pure water |
| JP2002336887A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2002336886A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| DE102008009219A1 (de) | 2008-02-06 | 2009-08-13 | Christ Water Technology Ag | Aufbereitung von Wasser mit Mikroorganismen |
| JP2009215186A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Kurita Engineering Co Ltd | アミン液の再生方法 |
| JP2011183274A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| JP2011183273A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| US8916048B2 (en) | 2010-03-05 | 2014-12-23 | Kurita Water Industries Ltd. | Water treatment method and method for producing ultrapure water |
| JP2016172207A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | 栗田工業株式会社 | 有機物含有水の膜処理方法及び膜処理装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5049857A (ja) * | 1973-09-04 | 1975-05-02 | ||
| JPS53149873A (en) * | 1977-06-03 | 1978-12-27 | Kurita Water Ind Ltd | Preparatin of ultra-pure water |
| JPS58220000A (ja) * | 1982-06-17 | 1983-12-21 | Toshiba Corp | 超純水製造システム |
-
1984
- 1984-11-02 JP JP23173884A patent/JPH0645036B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5049857A (ja) * | 1973-09-04 | 1975-05-02 | ||
| JPS53149873A (en) * | 1977-06-03 | 1978-12-27 | Kurita Water Ind Ltd | Preparatin of ultra-pure water |
| JPS58220000A (ja) * | 1982-06-17 | 1983-12-21 | Toshiba Corp | 超純水製造システム |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6336890A (ja) * | 1986-07-28 | 1988-02-17 | Kurita Water Ind Ltd | 高純度水の製造装置 |
| JPS6359388A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-15 | Mitsubishi Electric Corp | 純水の製造方法 |
| EP0585036A1 (en) * | 1992-08-25 | 1994-03-02 | Kurita Water Industries Ltd. | Apparatus for producing ultra-pure water |
| US5385664A (en) * | 1992-08-25 | 1995-01-31 | Kurita Water Industries Ltd. | Apparatus for producing ultrapure water |
| JP2002336887A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2002336886A (ja) * | 2001-05-11 | 2002-11-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| DE102008009219A1 (de) | 2008-02-06 | 2009-08-13 | Christ Water Technology Ag | Aufbereitung von Wasser mit Mikroorganismen |
| JP2009215186A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Kurita Engineering Co Ltd | アミン液の再生方法 |
| JP2011183274A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| JP2011183273A (ja) * | 2010-03-05 | 2011-09-22 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び超純水製造方法 |
| US8916048B2 (en) | 2010-03-05 | 2014-12-23 | Kurita Water Industries Ltd. | Water treatment method and method for producing ultrapure water |
| JP2016172207A (ja) * | 2015-03-16 | 2016-09-29 | 栗田工業株式会社 | 有機物含有水の膜処理方法及び膜処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0645036B2 (ja) | 1994-06-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3468784B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| Enzminger et al. | Treatment of landfill leachates | |
| JP4835536B2 (ja) | 被処理液の有機物と窒素の除去方法 | |
| US9085475B2 (en) | Ultrapure water producing method and apparatus | |
| JP3323040B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPS61111198A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP3227863B2 (ja) | 超純水の製造方法 | |
| JPH11114596A (ja) | 超純水製造方法および超純水製造装置 | |
| JP2007527311A (ja) | 過塩素酸イオンのようなオシキアニオンのイオン交換樹脂上での生分解 | |
| EP1807361B1 (en) | Anoxic biological reduction system and method | |
| JP2001038390A (ja) | 超純水の製造方法 | |
| US6113787A (en) | Process and device for treatment of water from a biodegradeable process | |
| JPS6336890A (ja) | 高純度水の製造装置 | |
| JP3651306B2 (ja) | 微量有機物含有水の処理方法及び処理装置 | |
| JP2887284B2 (ja) | 超純水の製造方法 | |
| JPS6331592A (ja) | 超純水製造方法 | |
| Al-Rashed et al. | Nitrate removal from drinking water using different reactor/membrane types: a comprehensive review | |
| JP3433601B2 (ja) | 排水の回収、浄化装置 | |
| WO2022030234A1 (ja) | 純水製造装置及び純水製造方法 | |
| US5863444A (en) | Water denitrification process using air stripping (REC-3603) | |
| JPS61111192A (ja) | 純水中の微生物の増殖を抑制する方法 | |
| JPH04349996A (ja) | 窒素除去装置 | |
| JPH01284385A (ja) | 純水及び超純水の製造方法及びその製造装置 | |
| JP3467234B2 (ja) | 水道原水中の硝酸性窒素の除去方法 | |
| JPH0232960B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |