JPS6352040A - Ｉｃｐ発光分析装置におけるスペクトル表示方法 - Google Patents
Ｉｃｐ発光分析装置におけるスペクトル表示方法Info
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- JPS6352040A JPS6352040A JP19639986A JP19639986A JPS6352040A JP S6352040 A JPS6352040 A JP S6352040A JP 19639986 A JP19639986 A JP 19639986A JP 19639986 A JP19639986 A JP 19639986A JP S6352040 A JPS6352040 A JP S6352040A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title description 2
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 8
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 7
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は、Ｉ ＣＰ（結合誘導プラズマ）発光分析装置
におけるスペトクル表示方法に関する。
におけるスペトクル表示方法に関する。
（ロ）従来技術とその問題点
一般に、ＩＣＰ発光分析装置は、高周波電源からプラズ
マトーチに高周波電力を供給する一方、分析対象となる
試料を霧化装置で霧化した後、プラズマトーチ内に導入
して発光させる。そして、この光を分光器で各元素のス
ペトクルに分光し、分光した各元素のスペクトルを光電
子増倍管で検出して電気信号に変換した後、この出力信
号から各元素のスペクトル強度を求め、元素の同定、定
量分析を行なう。
マトーチに高周波電力を供給する一方、分析対象となる
試料を霧化装置で霧化した後、プラズマトーチ内に導入
して発光させる。そして、この光を分光器で各元素のス
ペトクルに分光し、分光した各元素のスペクトルを光電
子増倍管で検出して電気信号に変換した後、この出力信
号から各元素のスペクトル強度を求め、元素の同定、定
量分析を行なう。
ところで、上記の光電子増倍管は、光に対する出力信号
のゲインがダイノードに印加する負高圧によって変化す
るので、測定中に単に光電子増倍管の負高圧を変化させ
ると、変化前後のスペクトル強度を直接比較できず、シ
ｒコがって、元素の定量分析等ができない。このため、
従来のＩＣＰ分析装置では、測定中は負高圧を固定した
状態で試料を分析していた。この場合のスペクトル強度
のダイナミックレンジは最大で１０’１ｆ１９であり、
したがって、測定されたスペクトル強度を表示するには
、スケールレンジをリニアな関係に設定しておくことで
十分対応することができに。
のゲインがダイノードに印加する負高圧によって変化す
るので、測定中に単に光電子増倍管の負高圧を変化させ
ると、変化前後のスペクトル強度を直接比較できず、シ
ｒコがって、元素の定量分析等ができない。このため、
従来のＩＣＰ分析装置では、測定中は負高圧を固定した
状態で試料を分析していた。この場合のスペクトル強度
のダイナミックレンジは最大で１０’１ｆ１９であり、
したがって、測定されたスペクトル強度を表示するには
、スケールレンジをリニアな関係に設定しておくことで
十分対応することができに。
一方、本発明者らは、光電子増倍管の負高圧とゲインの
相関データを予め求めておき、光電子増倍管に入力する
光強度の大きさに応じて負高圧を変化させてゲインを自
動的に制御することで元素の含有量が試料によって大き
く異なる場合でし、確実に分析ができるようにした装置
を提供した（特願昭６１−６０３０３号参照）。
相関データを予め求めておき、光電子増倍管に入力する
光強度の大きさに応じて負高圧を変化させてゲインを自
動的に制御することで元素の含有量が試料によって大き
く異なる場合でし、確実に分析ができるようにした装置
を提供した（特願昭６１−６０３０３号参照）。
この装置で測定できるスペクトル強度のダイナミックレ
ンジは最大で１０８〜１０１２程度となり従来に比較し
てかなり大きくなる。したかって、従来のようにスケー
ルレンジをリニアな関係のままで表示する場合には、試
料間で測定値の比較ができないことがある。たとえば、
第３図に示すように、一つの試料のＭｎスペクトルの強
度がフルスケール１００の場合（同図（ａ））に表示で
きたとし、一方、池の試料に含まれるＭｎのスペクトル
強度がフルスケール＋００００の場合（同図（ｂ））に
表示できた場合において、２つの測定値を直接比較する
ためフルスケール＋００００の状態で重ね表示したとき
には、同図（Ｃ）に示すように、フルスケール１００の
場合のＭｎ測定値（図中破線で示される）か小さく表示
されてしまい両者を比較することができない。逆にフル
スケール１００の下で両側定値を比較する場合には、フ
ルスケールｔｏｏｏｏで測定した試料のＭｎスペクトル
がスケールオーバしてしまう。このため、元素の同定や
定量分析に支障をきたす等の難点があった。
ンジは最大で１０８〜１０１２程度となり従来に比較し
てかなり大きくなる。したかって、従来のようにスケー
ルレンジをリニアな関係のままで表示する場合には、試
料間で測定値の比較ができないことがある。たとえば、
第３図に示すように、一つの試料のＭｎスペクトルの強
度がフルスケール１００の場合（同図（ａ））に表示で
きたとし、一方、池の試料に含まれるＭｎのスペクトル
強度がフルスケール＋００００の場合（同図（ｂ））に
表示できた場合において、２つの測定値を直接比較する
ためフルスケール＋００００の状態で重ね表示したとき
には、同図（Ｃ）に示すように、フルスケール１００の
場合のＭｎ測定値（図中破線で示される）か小さく表示
されてしまい両者を比較することができない。逆にフル
スケール１００の下で両側定値を比較する場合には、フ
ルスケールｔｏｏｏｏで測定した試料のＭｎスペクトル
がスケールオーバしてしまう。このため、元素の同定や
定量分析に支障をきたす等の難点があった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、大きなダイナミックレンジの下で測定された光強度
の異なる多数のスペクトルを同時に表示でき、相互の比
較が容易にできるようにすることを目的とする。
て、大きなダイナミックレンジの下で測定された光強度
の異なる多数のスペクトルを同時に表示でき、相互の比
較が容易にできるようにすることを目的とする。
（ハ）問題点を解決するための手段
本発明は、上述の目的を達成するため、光電子増倍管か
ら出力される検出出力の大きさに応じてこの光電子増倍
管に印加する負高圧を変化させつつ、予め求めた負高圧
とゲインとの相関データに基づいてスペクトル強度を算
出し、このスペクトル強度を対数変換し、対数変換後の
スペクトル強度を対数目盛りで表示するようにしている
。
ら出力される検出出力の大きさに応じてこの光電子増倍
管に印加する負高圧を変化させつつ、予め求めた負高圧
とゲインとの相関データに基づいてスペクトル強度を算
出し、このスペクトル強度を対数変換し、対数変換後の
スペクトル強度を対数目盛りで表示するようにしている
。
（ニ）実施例
第１図は、本発明方法を適用するためのＩＣＰ発光分析
装置の構成図である。同図において、符号１はＩＣＰ発
光分析装置を示し、２は図外の分光器で分光された元素
のスペクトル光を検出する光電子増倍管、４は光電子増
倍管２のダイノードに負高圧Ｖｅを印加するための負高
圧電源、６は光電子増倍管２の検出出力を積分する積分
器、８は積分器６で積分された測光値をデジタル化する
Ａ／Ｄ変換器である。
装置の構成図である。同図において、符号１はＩＣＰ発
光分析装置を示し、２は図外の分光器で分光された元素
のスペクトル光を検出する光電子増倍管、４は光電子増
倍管２のダイノードに負高圧Ｖｅを印加するための負高
圧電源、６は光電子増倍管２の検出出力を積分する積分
器、８は積分器６で積分された測光値をデジタル化する
Ａ／Ｄ変換器である。
１０は積分器６の検出出力Ｖａと基準電圧ｖｂとを比較
し、その電圧差に応じた制御信号を負高圧電源４に出力
する差動増幅器、１２は予め記憶されている光電子増倍
管２に印加される負高圧ｖｅとゲインＧとの相関データ
に基づいて測定時のゲインＧを算出し、算出したゲイン
ＧでＡ ／ Ｄ変換器８からのデータを割り算してスペ
クトル強度を求める演算回路、１４は演算回路１２で算
出されたスペクトル強度のデータを記憶するメモリ、１
６はメモリ１４から読み出されたデータをアナログ化す
るＤ／Ａ変換器、１８はスペクトル強度の表示において
スケールレンジをリニア関係で表示する場合と対数目盛
で表示する場合とで接続を切り換える切り換え回路、２
０は測光値を対数変換するＬｏｇ変換器、２２はスペク
トル強度を縦軸に、横軸を波長としたスペクトルプロフ
ァイルを表示するＣＲＴである。なお、２４は負高圧電
源４の出力をデジタル化するＡ／Ｄ変換器である。
し、その電圧差に応じた制御信号を負高圧電源４に出力
する差動増幅器、１２は予め記憶されている光電子増倍
管２に印加される負高圧ｖｅとゲインＧとの相関データ
に基づいて測定時のゲインＧを算出し、算出したゲイン
ＧでＡ ／ Ｄ変換器８からのデータを割り算してスペ
クトル強度を求める演算回路、１４は演算回路１２で算
出されたスペクトル強度のデータを記憶するメモリ、１
６はメモリ１４から読み出されたデータをアナログ化す
るＤ／Ａ変換器、１８はスペクトル強度の表示において
スケールレンジをリニア関係で表示する場合と対数目盛
で表示する場合とで接続を切り換える切り換え回路、２
０は測光値を対数変換するＬｏｇ変換器、２２はスペク
トル強度を縦軸に、横軸を波長としたスペクトルプロフ
ァイルを表示するＣＲＴである。なお、２４は負高圧電
源４の出力をデジタル化するＡ／Ｄ変換器である。
次に、本発明方法について説明する。
図外のプラズマトーチで試料を発光し、その光を分光器
で分光した後、光電子増倍管２でスペクトル光を検出す
る。この検出出力を積分器６で積分し、その積分値Ｖｄ
をＡ／Ｄ変換器８でデジタル化した後、演算回路１２に
送出するとともに、差動増幅器ｌＯにも与える。そして
、差動増幅器ｌＯでこの検出出力Ｖｄを基準電圧ｖｂと
比較し、差動増幅器ｌＯの出力を負高圧電源４に加え、
これによって、光電子増倍管２のダイノードに印加する
負高圧Ｖｅを制御して光電子増倍管２のゲインを変化さ
せる。上記に並行して、負高圧電源・１の印加重圧Ｖｅ
をＡ ／ Ｄ変換器２４でデノタル化した後、演算回路
１２に送出する。これにより、演算回路１２には、積分
器６からの出力と負高圧電源４からの負高圧Ｖｅの値と
が共に入力される。
で分光した後、光電子増倍管２でスペクトル光を検出す
る。この検出出力を積分器６で積分し、その積分値Ｖｄ
をＡ／Ｄ変換器８でデジタル化した後、演算回路１２に
送出するとともに、差動増幅器ｌＯにも与える。そして
、差動増幅器ｌＯでこの検出出力Ｖｄを基準電圧ｖｂと
比較し、差動増幅器ｌＯの出力を負高圧電源４に加え、
これによって、光電子増倍管２のダイノードに印加する
負高圧Ｖｅを制御して光電子増倍管２のゲインを変化さ
せる。上記に並行して、負高圧電源・１の印加重圧Ｖｅ
をＡ ／ Ｄ変換器２４でデノタル化した後、演算回路
１２に送出する。これにより、演算回路１２には、積分
器６からの出力と負高圧電源４からの負高圧Ｖｅの値と
が共に入力される。
一方、演算回路１２には、予め負高圧ＶｅとゲインＧと
の相関データが記憶されているので、この相関データか
ら測定時のゲインＧを算出し、算出したゲインＧでＡ／
Ｄ変換器８からのデータを割り算してスペクトル強度を
求める。そして、求めたスペクトル強度のデータをメモ
リ１４に記憶する。
の相関データが記憶されているので、この相関データか
ら測定時のゲインＧを算出し、算出したゲインＧでＡ／
Ｄ変換器８からのデータを割り算してスペクトル強度を
求める。そして、求めたスペクトル強度のデータをメモ
リ１４に記憶する。
スペクトルプロファイルを表示する場合には、メモリ１
４から測光値のデータを読み出し、そのデータをＤ／Ａ
変換器１６でアナログ化する。この場合、スケールレン
ジを対数目盛で表示するには、切り換え回路１８をＬｏ
ｇ変換器２０側に切り換えてＡ／Ｄ変換器１６の出力を
Ｌｏｇ変換器２０で対数変換し、対数変換後のスペクト
ル強度を縦軸に、波長を横軸としてＣＲＴ２２に第２図
に示すようなスペクトルプロファイルを表示する。この
表示においては、縦軸のスケールレンジが対数目盛とな
っているので、たとえば、一つの試料のＭｎのスペクト
ル強度がフルスケール１００で表示できた場合（同図（
ａ））と、他の試料のＭｉのスペクトル強度がフルスケ
ールｔｏｏｏｏで表示できた場合（同図（ｂ））とを直
接比較するため、フルスケール１００００で重ね表示し
た場合でも、同図（Ｃ）に示すように、フルスケール１
００の場合のＭｎ測定値（図中破線で示される）もある
程度の大きさのレベルで表示されるので、両者を直接比
較することが可能となる。このため、元素の同定や定量
分析に有効となる。
４から測光値のデータを読み出し、そのデータをＤ／Ａ
変換器１６でアナログ化する。この場合、スケールレン
ジを対数目盛で表示するには、切り換え回路１８をＬｏ
ｇ変換器２０側に切り換えてＡ／Ｄ変換器１６の出力を
Ｌｏｇ変換器２０で対数変換し、対数変換後のスペクト
ル強度を縦軸に、波長を横軸としてＣＲＴ２２に第２図
に示すようなスペクトルプロファイルを表示する。この
表示においては、縦軸のスケールレンジが対数目盛とな
っているので、たとえば、一つの試料のＭｎのスペクト
ル強度がフルスケール１００で表示できた場合（同図（
ａ））と、他の試料のＭｉのスペクトル強度がフルスケ
ールｔｏｏｏｏで表示できた場合（同図（ｂ））とを直
接比較するため、フルスケール１００００で重ね表示し
た場合でも、同図（Ｃ）に示すように、フルスケール１
００の場合のＭｎ測定値（図中破線で示される）もある
程度の大きさのレベルで表示されるので、両者を直接比
較することが可能となる。このため、元素の同定や定量
分析に有効となる。
（ホ）効果
以上のように本発明によれば、測光値のダイナミックレ
ンジが大きい場合にも光強度の異なる多数のスペクトル
を同時に表示できるため、スペクトル強度を相互に直接
比較できるようになる。このため、元素の同定、定量が
従来よりら一層容易になる等の優れた効果が発揮される
。
ンジが大きい場合にも光強度の異なる多数のスペクトル
を同時に表示できるため、スペクトル強度を相互に直接
比較できるようになる。このため、元素の同定、定量が
従来よりら一層容易になる等の優れた効果が発揮される
。
第１図は本発明方法を適用するためのＩＣＰ発光分析装
置のブロック図、第２図は本発明のスペクトル強度のス
ケールレンジを対数目盛で表示する例を示すスペクトル
プロファイル、第３図は従来のスペクトル強度のスケー
ルレンジをリニアな関係で表示する例を示すスペクトル
プロファイルである。
置のブロック図、第２図は本発明のスペクトル強度のス
ケールレンジを対数目盛で表示する例を示すスペクトル
プロファイル、第３図は従来のスペクトル強度のスケー
ルレンジをリニアな関係で表示する例を示すスペクトル
プロファイルである。
Claims (1)
- （１）光電子増倍管から出力される検出出力の大きさに
応じてこの光電子増倍管に印加する負高圧を変化させつ
つ、予め求めた負高圧とゲインとの相関データに基づい
てスペクトル強度を算出し、このスペクトル強度を対数
変換し、対数変換後のスペクトル強度を対数目盛りで表
示することを特徴とするＩＣＰ発光分析装置におけるス
ペトクル表示方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196399A JPH0823529B2 (ja) | 1986-08-21 | 1986-08-21 | Ｉｃｐ発光分析装置におけるスペクトル表示方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196399A JPH0823529B2 (ja) | 1986-08-21 | 1986-08-21 | Ｉｃｐ発光分析装置におけるスペクトル表示方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6352040A true JPS6352040A (ja) | 1988-03-05 |
| JPH0823529B2 JPH0823529B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=16357218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61196399A Expired - Lifetime JPH0823529B2 (ja) | 1986-08-21 | 1986-08-21 | Ｉｃｐ発光分析装置におけるスペクトル表示方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0823529B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8997514B2 (en) | 2009-04-03 | 2015-04-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Air-conditioning apparatus with a control unit operating as an evaporator |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58139036A (ja) * | 1982-02-15 | 1983-08-18 | Japan Spectroscopic Co | 分光光度計 |
| JPS6131944A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-14 | Hitachi Ltd | 発光スペクトル分析装置 |
-
1986
- 1986-08-21 JP JP61196399A patent/JPH0823529B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58139036A (ja) * | 1982-02-15 | 1983-08-18 | Japan Spectroscopic Co | 分光光度計 |
| JPS6131944A (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-14 | Hitachi Ltd | 発光スペクトル分析装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8997514B2 (en) | 2009-04-03 | 2015-04-07 | Mitsubishi Electric Corporation | Air-conditioning apparatus with a control unit operating as an evaporator |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0823529B2 (ja) | 1996-03-06 |
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