JPS6348085Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、電磁石装置、詳しくは、平生は永久
磁石の磁力によりヨークの吸着面にアーマチユア
を吸着して保持し、励磁用コイルに通電すること
によつて吸着面におけるアーマチユアの吸着力が
打ち消されてアーマチユアが吸着面より離間動作
する、いわゆる釈放型の電磁石装置に関する。

一般に、釈放型の電磁石装置は第１図に示すよ
うに構成されている。即ち、１対のヨーク１，２
間には、その後端近傍で永久磁石３が挾持されて
いると共に、このヨーク１，２の後端面および上
記永久磁石３に接して例えば鉄板等の強磁性体か
らなるバイパス部材４が側磁路を形成するように
設けられており、また一方のヨーク１には通電時
に永久磁石３より発生した磁束を打ち消すように
励磁されるように巻かれたコイル５が嵌装されて
いる。上記１対のヨーク１，２の先端面１ａ，２
ａはアーマチユア６を吸着するための吸着面とな
つていて、同吸着面１ａ，２ａは高い吸着力を得
るために高い面精度で加工されている。

一方、このヨーク１，２の吸着面１ａ，２ａと
対向する位置にはアーマチユア６が配設されてお
り、同アーマチユア６はアーマチユア支持レバー
７の一端部にカシメ付け等によつて固設されたア
ーマチユア支持軸８に同アーマチユア６の支持孔
６ａを嵌入させることによつて同支持軸８に回転
自在に配設されている。アーマチユア支持軸８の
上部には周溝８ａが形成されており、同周溝８ａ
にＥリング９を嵌合させることによつてアーマチ
ユア６の抜け落ちが防止されている。また、アー
マチユア支持レバー７の上記支持軸８の近傍に
は、アーマチユア６の回転位置を規制するための
ストツパー部７ａ，７ｂが形成されている。アー
マチユア支持レバー７の回動中心となる位置には
あおりガタを防止するため同支持レバー７の面と
垂直な方向に比較的長く形成された円筒形状の軸
受部１０が固設されており、同軸受部１０に図示
しない固定軸が嵌合されることによりアーマチユ
ア支持レバー７は同固定軸を中心に回動自在にな
つている。さらに、このアーマチユア支持レバー
７は不動部材との間にばね１１が張設されてい
て、同ばね１１の付勢力により時計方向の回動習
性を与えられている。

このように構成された電磁石装置においては、
アーマチユア支持レバー７が図示しないリセツト
部材によつて上記ばね１１による回動習性に抗し
て反時計方向に回動させられることにより、アー
マチユア６がヨーク１，２の吸着面１ａ，２ａに
当接すると、永久磁石３の磁力により吸着面１
ａ，２ａにアーマチユア６が吸着され、同吸着力
は上記ばね１１の付勢力よりも大きいので、平生
は、同吸着状態が保持されることになる。そし
て、この吸着状態において、上記励磁用コイル５
に通電が行なわれると、同コイル５の通電によつ
て発生する磁束により、アーマチユア６を吸着す
るためのヨーク１，２中の磁束が減少し、このた
め、上記ばね１１の付勢力によつてアーマチユア
支持レバー７が時計方向に回動してアーマチユア
６がヨーク１，２の吸着面１ａ，２ａより離間す
る。

上記の釈放型電磁石装置において、上記コイル
５が通電されない状態のときと通電状態にあると
きとでのヨーク１，２を通過する磁束の変化につ
いて第２図Ａ，Ｂによつて説明すると、永久磁石
３およびヨーク１，２を通過する磁束は２分され
ており、永久磁石３のＮ極→ヨーク１→アーマチ
ユア６→ヨーク２→永久磁石３のＳ極を通る磁束
により磁気回路１２が形成され、永久磁石３のＮ
極→ヨーク１→バイパス部材４→ヨーク２→永久
磁石３のＳ極を通る磁束により磁気回路１３が形
成されている。ヨーク１，２およびアーマチユア
６はパーマロイ等の高透磁率材料により形成さ
れ、バイパス部材４はヨーク１，２やアーマチユ
ア６の材料よりも磁気抵抗の高い、鉄板等の強磁
性体で形成されているので、コイル５に通電する
以前は、磁気回路１２の方が磁気回路１３よりも
磁気抵抗が低く、このため、永久磁石３より発し
た磁束は、第２図Ａに実線と破線で示すように、
磁気回路１２の方を磁気回路１３よりも多く通
り、従つて、ヨーク１，２の吸着面１ａ，２ａに
アーマチユア６が高い吸着力で吸着し保持され
る。コイル５が通電状態になると、コイル５には
永久磁石３が発生する磁束と逆向きの磁束が発生
するので、このとき上記磁気回路１２の磁気抵抗
が磁気回路１３の磁気抵抗よりも増大する。この
ため、第２図Ｂに示すように、アーマチユア６を
通る磁気回路１２の磁束は減少し、バイパス部材
４を通る磁気回路１３の磁束は増加するので、ヨ
ーク１，２の吸着面１ａ，２ａにおけるアーマチ
ユア６の吸着力が減少し、アーマチユア６の吸着
状態が解除される。

こゝで、特にカメラ用の釈放型電磁石装置にお
いては、アーマチユア６を高い吸着力で保持する
と共に、コイル５の通電時にはできるだけ少ない
消費電力で上記吸着力を大きく減少させるように
し、同時に電磁石装置の全体を小型化することが
高い信頼性を得るために重要である。コイル５の
通電時に上記吸着力を大きく減少させるものとし
て、上記バイパス部材４の果す役割は大きく、電
磁気学における磁束の式、Φ＝μe・μo・Ｆ・
Ａ／ｌ（Φ；磁束、μe；比透磁率、μo；真空中の
透磁率、Ｆ；起磁力、Ａ；断面積、ｌ；磁気回路
の長さ）からも、コイル５で発生する磁束は上記
バイパス部材４を含む磁気回路１３の透磁率に比
例することが明らかである。即ち、上記コイル５
の通電時のヨークの吸着力を大きく減少させるに
は磁気回路１３（以下側磁路という）の磁気抵抗
を減少させればよいが、一方で高い吸着力を得よ
うとすると、第２図Ａに示したように、アーマチ
ユア６を通る磁気回路１２に十分な磁束を流す必
要があるので、磁気抵抗を不用意に減少させるこ
とはできない。しかも、コイル５に通電したとき
には、上記のようにバイパス部材４を通過する磁
束が増加するので、この増加した磁束で側磁路は
磁気飽和しないだけの余裕が必要となる。

以上の理由から、高い吸着力を得ると共に、コ
イル５の通電時に吸着力を大きく減少させようと
すると、強い永久磁石を用いると共にバイパス部
材４を大きくしなければならないが、バイパス部
材４の占める体積はカメラ内部のスペース上無視
できないものであるので、この側磁路を形成する
ためのバイパス部材４はできる限り小さいことが
望ましい。そこで、従来は、第３，４図に示すよ
うに、プレス加工の容易な0.4mm〜１mm程度の厚
味を持つ鉄板等の強磁性体からなるバイパス部材
１４ａ，１４ｂ，１４ｃを、磁気飽和しないだけ
の断面積が得られるように必要とする枚数を重ね
て、永久磁石３および同磁石を挾んだヨーク１，
２の上側面或いは下側面に当接させた状態で側磁
路が形成されるように接着させていた。しかし、
このように、バイパス部材１４ａ，１４ｂ，１４
ｃを接着させるようにしたものにおいては、例え
ば、第５図に拡大して示すように、ヨーク１，２
や永久磁石３の寸法精度および接着等のずれによ
つてエアギヤツプ１５ａ，１５ｂを生じてバイパ
ス部材１４ａ，１４ｂの密着が不完全になり、側
磁路としての磁気抵抗が極端に増大するだけでな
く、そのばらつきも大きくなるという欠点があつ
た。また、バイパス部材１４ｂの比透磁率は、エ
アギヤツプ１５ｂによつてできる磁気抵抗により
減少し、バイパス部材１４ｂと１４ｃとの間にわ
ずかなエアギヤツプ１５ｃが存在する場合には、
更にバイパス部材１４ｃの比透磁率を低下させて
しまう。このようにしてバイパス部材１４ｃが最
早側磁路としての役割を殆んど果さないという結
果になつてしまつた場合は、更にバイパス部材１
４ｄを設けても全く無意味になる。

本考案の目的は、上述した問題点に鑑み、上記
ヨークの、永久磁石を保持した部分に、枠体形状
のバイパス部材を嵌着し、このバイパス部材に形
成された貫通孔よりバイパス部材とヨークとの隙
間に強磁性体の微粒子を含む充填剤を補助バイパ
ス部材として適宜量注入するようにした電磁石装
置を提供するにある。

以下、本考案を図示の実施例によつて説明す
る。

第６図は、本考案の一実施例を示す電磁石装置
の組立斜視図である。この電磁石装置は永久磁石
３を挾持したヨーク１，２の後端部２０に、前記
従来のバイパス部材４の代りに、強磁性体によつ
て一体に形成されてなる箱型枠体のバイパス部材
２１が装着されるようにしたものである。その他
の、アーマチユア６を回動自在に支持してなるア
ーマチユア支持レバー等の構成は第１図に示すも
のと同様であるので図示を省略する。即ち、直方
体形状に形成された箱型枠体のバイパス部材２１
は内部に直方体形状の空間部２２を有しており、
その前面の開口部２２ａは、上記ヨーク１，２の
後端部２０が上記空間部２２に比較的容易に嵌挿
されるように、上記永久磁石３を挾持したヨーク
１，２の後端面２０ａよりも僅かに広く形成され
ている。そして、このバイパス部材２１の上面の
ほゞ中央部には、内部の上記空間部２２に連通す
る貫通孔２３が穿設されている。

一方、このバイパス部材２１が装着される上記
ヨーク１，２の後端部２０においては、ヨーク
１，２と永久磁石３とは接着剤により固着されて
いるものであるが、この固着に際してヨーク１，
２および永久磁石３の下面２０ｂを面精度の高い
基準面に当て付けながら固着するか、或いは、固
着後に上記下面２０ｂを研摩するなどして、ヨー
ク１，２と永久磁石３の固着後における下面２０
ｂを、高精度に平坦な面に仕上げている。

このあと、上記ヨーク１，２の後端部２０は、
第７図に示すように、上記バイパス部材２１の開
口部２２ａより空間部に、上記後端面２０ａがバ
イパス部材２１の内部後端面２１ａに衝合する位
置まで嵌合挿入され、同状態で上記後端部２０と
バイパス部材２１とが接着剤等により固着され
る。従つて、ヨーク１，２および永久磁石３は少
なくともその下面において平面性が高いため、極
めて僅かのエアギヤツプ或いは接着剤層を介して
バイパス部材２１の内部下面２１ｂに密着するこ
とになる。また、上記ヨーク１，２の後端面２０
ａをも高精度に研摩加工しておけば、この後端面
２０ａでもバイパス部材２１の内部後端面２１ａ
に密着されるものとなる。こうして、上記ヨーク
１，２の後端部２０がバイパス部材２１に密着し
て一体化されると、これによつて、バイパス部材
２１の、上記後端部２０に密着した部分は全て側
磁路としての役割を果たすことになる。従つて、
この箱型枠体のバイパス部材２１は永久磁石３お
よびヨーク１，２の後端部２０を囲繞した状態で
装着されることにより、従来の板状のバイパス部
材に較べて密着性が高くかつ均一であり、部品精
度等のばらつきの影響を受けにくいものとなつて
おり、小型で効率よく側磁路が形成されることに
なる。

上記のように永久磁石３を挾んだヨーク１，２
の後端部２０にバイパス部材２１が装着されたあ
と、第８図に示すように、上記バイパス部材２１
の貫通孔２３に、注入器２５の先端部２５ａを挿
し込み、同注入器２５により、例えば、パーマロ
イ等の強磁性体の微粒子を接着剤や油などと混合
した液状の充填剤２６を、磁気特性を測定しなが
ら上記貫通孔２３を通じてバイパス部材２１内に
注入する。前述したように、バイパス部材２１の
空間部２２は上記ヨーク１，２の後端部２０より
僅かに大きく、また、同後端部２０はバイパス部
材２１の内部下面２１ｂに密着しているので、上
記後端部２０はバイパス部材２１の内部上面２１
ｃとの間に隙間２４が形成されており、このた
め、同隙間２４に上記充填剤２６が注入される。
この充填剤２６の注入量はその電磁石装置によつ
て異なり、磁気特性を測定しながら決定される。
即ち、上記バイパス部材２１を上記ヨーク１，２
の後端部２０に装着しても、電磁石装置全体から
見れば、永久磁石３の起磁力等にも無視できない
ばらつきがあるので、これらのばらつきを補正す
るためにも、上記充填剤２６は補助バイパス部材
として用いられる。液状の充填剤２６はヨーク
１，２や永久磁石３の表面になじんで上記隙間２
４に満たされるので、同充填剤２６とヨーク１，
２、永久磁石３および上記バイパス部材２１との
密着性が高くなり、補助バイパス部材としての効
率を高めることができる。この強磁性体の微粒子
を含む充填剤２６が一定の磁気抵抗を有すること
は予め充填剤の磁気測定を行なうことにより知る
ことができるので、上記充填剤２６の強磁性体の
微粒子の混合比を変えることにより、補助バイパ
ス部材としての効率を自由に変えることも可能で
ある。また、箱型枠体のバイパス部材２１がヨー
ク１，２の後端部２０を囲繞していることによつ
て上記充填剤２６は流出することなく、バイパス
部材２１内に固化されて納まり、また全体のスペ
ースも変化せず小型に構成される。このようにし
て構成された上記電磁石装置は小型でかつ高性能
な釈放型電磁石装置となる。

上記電磁石装置のバイパス部材２１は上記ヨー
ク１，２の後端面２０ａと衝合する内部後端面２
１ａを有した箱型枠体形状のものであるが、これ
に限らず、上記内部後端面２１ａも存在しない両
端が開口した筒型枠体のバイパス部材を用いるよ
うにしてもよく、また、そのほか、自由な枠体形
状に形成することができる。

以上述べたように、本考案によれば、ヨークの
永久磁石を保持した部分に、枠体形状のバイパス
部材を嵌装させ、バイパス部材とヨークとの隙間
に、強磁性体の微粒子を含有した充填剤を補助バ
イパス部材として注入しているため、バイパス部
材および補助バイパス部材の密着性が高くバイパ
ス効率が良好であると共に、充填剤の流出がな
く、かつ全体のスペースにも変化がなく小型とな
り低電力で効率の良い、カメラ用として適した釈
放型の電磁石装置を安価に構成でき、また強磁性
体の微粒子の混合比を適宜に変えることにより補
助バイパス部材の透磁率の強さを自由に管理で
き、さらに充填剤の注入量は総合磁気特性を測定
しながら調整できるので、磁気特性のばらつきが
ほとんどなく信頼性が非常に高いものとなる等の
優れた効果を発揮する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、従来の電磁石装置の一例を示す組立
斜視図、第２図Ａ，Ｂは、上記第１図に示す電磁
石装置の励磁用コイルの非通電状態と通電状態と
をそれぞれ説明する平面図、第３図は、上記第１
図に示す電磁石装置に補助バイパス部材を設けた
電磁石装置の側面図、第４図は、上記第３図に示
す電磁石装置の−線に沿う背面図、第５図
は、上記第４図を拡大した、従来の電磁石装置の
不具合を説明する背面図、第６図は、本考案の一
実施例を示す電磁石装置の組立斜視図、第７図
は、上記第６図に示す電磁石装置の補助バイパス
部材を充填する前の要部断面図、第８図は、上記
第６図に示す電磁石装置の補助バイパス部材を充
填中の断面図である。 １，２……ヨーク、１ａ，２ａ……吸着面、３
……永久磁石、４……バイパス部材、５……励磁
用コイル、６……アーマチユア、２０……永久磁
石を挾持したヨークの後端部、２１……箱型枠体
のバイパス部材、２３……貫通孔、２４……隙
間、２５……注入器、２６……充填剤。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 永久磁石の組み込まれたヨークのアーマチユア
   吸着面に、上記永久磁石の磁力によつてアーマチ
   ユアを吸着させ、ヨークに巻装された励磁用コイ
   ルへの通電時に、上記吸着面におけるアーマチユ
   アとの吸着力を減少させてアーマチユアを上記ヨ
   ークの吸着面より離間させるようにした釈放型の
   電磁石装置において、 上記ヨークの、永久磁石を保持した部分を、内
   部に連通する貫通孔を有した強磁性体からなる枠
   体形状のバイパス部材に嵌装したのち、上記貫通
   孔を通じて、強磁性体の微粒子を含有したバイパ
   ス補正用の充填剤を上記バイパス部材とヨークと
   の隙間に注入し、バイパス部材とヨークとを一体
   化してなる電磁石装置。