JPS6337994A - 情報の記録方法およびその方法に用いられる情報記録媒体 - Google Patents
情報の記録方法およびその方法に用いられる情報記録媒体Info
- Publication number
- JPS6337994A JPS6337994A JP61181442A JP18144286A JPS6337994A JP S6337994 A JPS6337994 A JP S6337994A JP 61181442 A JP61181442 A JP 61181442A JP 18144286 A JP18144286 A JP 18144286A JP S6337994 A JPS6337994 A JP S6337994A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer blend
- light
- state
- substrate
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 claims abstract description 89
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 58
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 111
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 11
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 8
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 claims description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract description 14
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 abstract description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 13
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 9
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 9
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 7
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 7
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical compound C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIYWOHBEPVGIQN-UHFFFAOYSA-N 1h-benzo[g]indole Chemical group C1=CC=CC2=C(NC=C3)C3=CC=C21 HIYWOHBEPVGIQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 3,8-dioxabicyclo[8.2.2]tetradeca-1(12),10,13-triene-2,9-dione Chemical compound O=C1OCCCCOC(=O)C2=CC=C1C=C2 WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical compound C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical class [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011557 critical solution Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- WSGCRAOTEDLMFQ-UHFFFAOYSA-N nonan-5-one Chemical compound CCCCC(=O)CCCC WSGCRAOTEDLMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920001004 polyvinyl nitrate Polymers 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、高エネルギー密度のレーザービームによる新
規な情報の記録方法、およびその方法に用いられる新規
な情報記録媒体に関する。さらに詳しくは本発明は、相
変化に基づく情報の記録方法、および相変化に基づいて
情報の記録と消去を行ないうる情報記録媒体に関する。
規な情報の記録方法、およびその方法に用いられる新規
な情報記録媒体に関する。さらに詳しくは本発明は、相
変化に基づく情報の記録方法、および相変化に基づいて
情報の記録と消去を行ないうる情報記録媒体に関する。
[発明の技術的背景]
近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は通常は光ディスクとも称され、ビ
デオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容
量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディス
ク・メモリーなどの広範な用途に使用されうるものであ
る。
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は通常は光ディスクとも称され、ビ
デオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容
量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディス
ク・メモリーなどの広範な用途に使用されうるものであ
る。
光ディスクは基本的に、プラスチック、ガラス等からな
る円盤状の透明基板と、この上に設けられた記録層とか
ら構成される。記録層の材料としては、Bi、Sn、I
n、Te等の金属または半金属;およびシアニン系、金
属錯体系、キノン系等の色素が知られている。
る円盤状の透明基板と、この上に設けられた記録層とか
ら構成される。記録層の材料としては、Bi、Sn、I
n、Te等の金属または半金属;およびシアニン系、金
属錯体系、キノン系等の色素が知られている。
光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばレーザービ
ームをこの光ディスクに照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。
ームをこの光ディスクに照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。
記録層の変化としては、孔(ピット)形成、凹部形成お
よび居間の気泡(バブル)形成による変形が代表的であ
り、なかでも孔形成による記録は最も盛んに行なわれて
いる方法である。また、他の記録方法としては、二層の
記録層間の反応を利用する方法、相変化を利用する方法
および磁化反転を利用する方法などが知られている。相
変化を利用して記録する系としては、As−Te−Ge
系の非晶前記Q層をガラス転移点以上に昇温させること
により結晶化させて記録する系が知られている。
よび居間の気泡(バブル)形成による変形が代表的であ
り、なかでも孔形成による記録は最も盛んに行なわれて
いる方法である。また、他の記録方法としては、二層の
記録層間の反応を利用する方法、相変化を利用する方法
および磁化反転を利用する方法などが知られている。相
変化を利用して記録する系としては、As−Te−Ge
系の非晶前記Q層をガラス転移点以上に昇温させること
により結晶化させて記録する系が知られている。
光ディスクからの情報の読み取りもまた、レーザービー
ムを光ディスクに照射することにより行なわれ、記録層
の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出
することにより情報が再生される。
ムを光ディスクに照射することにより行なわれ、記録層
の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出
することにより情報が再生される。
なお、光ディスクとしては、−回の記R(8き込み)の
みが可teなもの(書き換え不能タイプ)と、記録と消
去を繰返し行なうことが町涜なタイプ(書き換え可能タ
イプ)とがある。
みが可teなもの(書き換え不能タイプ)と、記録と消
去を繰返し行なうことが町涜なタイプ(書き換え可能タ
イプ)とがある。
光ディスクに記録された情報の消去は、記録が記録層の
可逆変化による場合以外には行なうことができず、孔形
成等の外形変化による場合には光ディスクは書き換え不
能タイプとなる。
可逆変化による場合以外には行なうことができず、孔形
成等の外形変化による場合には光ディスクは書き換え不
能タイプとなる。
記録層材料としては従来より上記のように金属及び半金
属などの無機物質または色素が用いられてきた。一方、
加工性、安全性およびコストなどの点で優れている有機
高分子物質を記録材料として用いる記録層について従来
全く提案されていなかった。しかし、ごく最近になって
、光記録の記録材料として弗化ビニリデン系ポリマーと
ポリメタクリル酸メチルからなるポリマーブレンドを用
い、該物質の相溶状態−相分離状態間の状態変化を利用
して情報を記録する方法が提案されている(宮田、他、
”ポリマーブレンドによる光記録材料”第一回東京農工
大学先端科学技術展資料集、P、31.19811i)
、 Lかしながら、上記ポリマーブレンド自体はレー
ザービーム等の光に対する吸収が小さいために、該ポリ
マーブレンド単独では実際には充分な情報の記録を行な
うことができず、そのまま実用化することは困難である
。
属などの無機物質または色素が用いられてきた。一方、
加工性、安全性およびコストなどの点で優れている有機
高分子物質を記録材料として用いる記録層について従来
全く提案されていなかった。しかし、ごく最近になって
、光記録の記録材料として弗化ビニリデン系ポリマーと
ポリメタクリル酸メチルからなるポリマーブレンドを用
い、該物質の相溶状態−相分離状態間の状態変化を利用
して情報を記録する方法が提案されている(宮田、他、
”ポリマーブレンドによる光記録材料”第一回東京農工
大学先端科学技術展資料集、P、31.19811i)
、 Lかしながら、上記ポリマーブレンド自体はレー
ザービーム等の光に対する吸収が小さいために、該ポリ
マーブレンド単独では実際には充分な情報の記録を行な
うことができず、そのまま実用化することは困難である
。
[発明の目的]
本発明は、記録材料として有機高分子物質を用いる新規
な情報の記録方法、およびそれに用いられる新規な情報
記録媒体を提供することをその目的とするものである。
な情報の記録方法、およびそれに用いられる新規な情報
記録媒体を提供することをその目的とするものである。
[発明の要旨]
本発明は、温度変化により相溶状態と相分離状態間で状
態変化を起こしうるポリマーブレンドに接触下に光吸収
性物質を配し、この光吸収性物質にレーザー光を照射し
て吸収させることにより、該光吸収性物質を発熱させ、
この発熱によって該ポリマーブレンドをその相溶状態と
相分離状態間の曇点以上に昇温させて、レーザー光照射
された光吸収性物質部分に接するポリマーブレンドを状
態変化させ、次に急冷することにより、このポリマーブ
レンドの状態変化を固定することからなる情報の記録方
法にある。
態変化を起こしうるポリマーブレンドに接触下に光吸収
性物質を配し、この光吸収性物質にレーザー光を照射し
て吸収させることにより、該光吸収性物質を発熱させ、
この発熱によって該ポリマーブレンドをその相溶状態と
相分離状態間の曇点以上に昇温させて、レーザー光照射
された光吸収性物質部分に接するポリマーブレンドを状
態変化させ、次に急冷することにより、このポリマーブ
レンドの状態変化を固定することからなる情報の記録方
法にある。
上記の情報の記録方法は、基板と、この基板の片面もし
くは両面に設けられた、温度変化により相溶状態と相分
離状態間で状態変化を起こしうるポリマーブレンドおよ
び光吸収性物質を含む記録層よりなる情報記録媒体を利
用することにより。
くは両面に設けられた、温度変化により相溶状態と相分
離状態間で状態変化を起こしうるポリマーブレンドおよ
び光吸収性物質を含む記録層よりなる情報記録媒体を利
用することにより。
有利に実施できる。
上記の方法により一旦記録された情報を消去して再度記
録を行なうための消去操作は、該ポリマーブレンドに光
を均一に照射して、光吸収性物質を発熱させ、この発熱
によってポリマーブレンドをその相溶状態と相分離状態
間の曇点以上に昇温させたのち、これを徐冷する操作を
行なうことにより容易に実施することができる。この操
作によってポリマーブレンドを元の状態(未記録状態)
に戻すことができる。なお、ポリマーブレンドの元の状
態(未記録状態)への復帰は、単に相溶状態と相分離状
態間の曇点以上の温度に加熱したのち、これを徐冷する
操作によっても可能である。
録を行なうための消去操作は、該ポリマーブレンドに光
を均一に照射して、光吸収性物質を発熱させ、この発熱
によってポリマーブレンドをその相溶状態と相分離状態
間の曇点以上に昇温させたのち、これを徐冷する操作を
行なうことにより容易に実施することができる。この操
作によってポリマーブレンドを元の状態(未記録状態)
に戻すことができる。なお、ポリマーブレンドの元の状
態(未記録状態)への復帰は、単に相溶状態と相分離状
態間の曇点以上の温度に加熱したのち、これを徐冷する
操作によっても可能である。
また、情報の部分的な書き換えは、書き換え対象部分の
ポリマーブレンドに接触している光吸収性物質にレーザ
ー光を照射して吸収させることにより、該光吸収性物質
を発熱させ、この発熱にょうて対象部分のポリマーブレ
ンドをその相溶状態と相分離状態間の曇点以上に昇温さ
せて、そのポリマーブレンドを状態変化させ、次に徐冷
する方法を利用することにより容易に実現する。
ポリマーブレンドに接触している光吸収性物質にレーザ
ー光を照射して吸収させることにより、該光吸収性物質
を発熱させ、この発熱にょうて対象部分のポリマーブレ
ンドをその相溶状態と相分離状態間の曇点以上に昇温さ
せて、そのポリマーブレンドを状態変化させ、次に徐冷
する方法を利用することにより容易に実現する。
本発明においてr曇点1とは、ポリマーブレンドがその
組成において、相溶状態と相分離状態間で状態変化を起
こす温度をいう、この状態変化は通常、外観上では透明
状態から不透明状態(または半透明状態)への変化とし
て現われる。
組成において、相溶状態と相分離状態間で状態変化を起
こす温度をいう、この状態変化は通常、外観上では透明
状態から不透明状態(または半透明状態)への変化とし
て現われる。
本発明に用いられるポリマーブレンドには下限臨界共溶
温度(LC5T)型のものと上限臨界共溶温度(UC3
T)型のものとがある。下限臨界共溶温度型のものは、
曇点以上の温度にて相分離状態を示し、一方上限臨界共
溶温度型のものは、曇点以上の温度にて相溶状態を示す
、いずれのポリマーブレンドも、温度に依存して相溶状
態と相分離状態間で状態変化を生じ、相溶状態ではブレ
ンドされたポリマーが均一に混合していて透明であるが
、相分離状態では各成分ポリマーの屈折率が異なるため
に白濁する。ポリマーブレンドは、また、曇点以上で一
旦白濁もしくは透明化したのち徐冷すると元の状態に戻
るが、一方急冷した場合には常温でもそのままの白濁度
(透明度)を保持する性質を有する。
温度(LC5T)型のものと上限臨界共溶温度(UC3
T)型のものとがある。下限臨界共溶温度型のものは、
曇点以上の温度にて相分離状態を示し、一方上限臨界共
溶温度型のものは、曇点以上の温度にて相溶状態を示す
、いずれのポリマーブレンドも、温度に依存して相溶状
態と相分離状態間で状態変化を生じ、相溶状態ではブレ
ンドされたポリマーが均一に混合していて透明であるが
、相分離状態では各成分ポリマーの屈折率が異なるため
に白濁する。ポリマーブレンドは、また、曇点以上で一
旦白濁もしくは透明化したのち徐冷すると元の状態に戻
るが、一方急冷した場合には常温でもそのままの白濁度
(透明度)を保持する性質を有する。
従って、本発明の方法においては、記録材料であるポリ
マーブレンドに光吸収性物質を接触させておいて、その
光吸収性物質にレーザービームを照射することにより、
光吸収性物質はビームエネルギーを吸収したのち発熱し
、この熱を受けてポリマーブレンドが曇点以上となって
状態変化を起こし、白濁もしくは透明化する。そして、
そののちポリマーブレンドを急冷することにより、レー
ザービームの照射部分はこの白濁もしくは透明化した状
態に固定され、これにより情報の記録が行なわれる。な
お、情報の再生は従来のように比較的弱いレーザービー
ムの照射により行なうことができる。すなわち、透明度
の差による反射率もしくは透過率の違いに基づいて情報
を読み取ることができる。
マーブレンドに光吸収性物質を接触させておいて、その
光吸収性物質にレーザービームを照射することにより、
光吸収性物質はビームエネルギーを吸収したのち発熱し
、この熱を受けてポリマーブレンドが曇点以上となって
状態変化を起こし、白濁もしくは透明化する。そして、
そののちポリマーブレンドを急冷することにより、レー
ザービームの照射部分はこの白濁もしくは透明化した状
態に固定され、これにより情報の記録が行なわれる。な
お、情報の再生は従来のように比較的弱いレーザービー
ムの照射により行なうことができる。すなわち、透明度
の差による反射率もしくは透過率の違いに基づいて情報
を読み取ることができる。
さらに、部分的に状態変化を起こしたポリマーブレンド
を再び曇点以上に昇温させたのち徐冷することにより、
光照射部分(記録部分)を元の状態に戻すことができる
。この操作によって、ポリマーブレンド全体が元の透明
もしくは白濁した状態に回復して、記録された情報が消
去される。なお、記録の部分的な消去は、消去対象部分
のポリマーブレンドに上記と5同様な操作を施すことに
より容易に実現する。
を再び曇点以上に昇温させたのち徐冷することにより、
光照射部分(記録部分)を元の状態に戻すことができる
。この操作によって、ポリマーブレンド全体が元の透明
もしくは白濁した状態に回復して、記録された情報が消
去される。なお、記録の部分的な消去は、消去対象部分
のポリマーブレンドに上記と5同様な操作を施すことに
より容易に実現する。
従って、本発明の情報記録媒体は、記録層が上記のポリ
マーブレンドと光吸収性物質とからなり、随時、情報の
記録および消去が可能なE−ORAV(Erasabl
e−Direct Read After Write
)型の記録媒体として有用である。
マーブレンドと光吸収性物質とからなり、随時、情報の
記録および消去が可能なE−ORAV(Erasabl
e−Direct Read After Write
)型の記録媒体として有用である。
なお、本発明の情報記録媒体は、各種の形態をとること
ができる。すなわち、本発明の情報記録媒体は、ビデオ
・ディスク、オーディオψディスク、フレキシブル・デ
ィスク、さらには大容量静止画像ファイルおよび大容量
コンピュータ用ディスク・メモリーなどの光ディスク、
あるいは光記録カード、光記録シート、光記録テープな
どの種々の形態の情報記録媒体として有効に利用するこ
とができる。
ができる。すなわち、本発明の情報記録媒体は、ビデオ
・ディスク、オーディオψディスク、フレキシブル・デ
ィスク、さらには大容量静止画像ファイルおよび大容量
コンピュータ用ディスク・メモリーなどの光ディスク、
あるいは光記録カード、光記録シート、光記録テープな
どの種々の形態の情報記録媒体として有効に利用するこ
とができる。
そして、本発明の情報記録媒体の製造に際しては、記録
層材料がポリマーであることから塗布法によって容易に
記録層を形成することができ、従って、製造操作の簡略
化、製造時間の短縮、および製造コストの低減が容易に
実現する。
層材料がポリマーであることから塗布法によって容易に
記録層を形成することができ、従って、製造操作の簡略
化、製造時間の短縮、および製造コストの低減が容易に
実現する。
[発明の構成]
本発明の情報記録媒体の実施態様を第1図乃至第3図を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
第1図〜第3図はそれぞれ、本発明の情報記録媒体の層
構成の例を示す断面図である。
構成の例を示す断面図である。
第1図において、記録媒体は基板lとその片面に設けら
れた記録層2とから構成される。記録層2は実質的にポ
リマーブレンドと光吸収性物質とからなる。
れた記録層2とから構成される。記録層2は実質的にポ
リマーブレンドと光吸収性物質とからなる。
第2図において、記録媒体は基板lとその両面に設けら
れた記録層2.2′とから構成される。
れた記録層2.2′とから構成される。
本発明の情報記録媒体には、反射層および/または保護
層が備えられていてもよい。
層が備えられていてもよい。
たとえば、第3図において、記録媒体は順に基板l、記
録R2、反射層3および保護層4から構成される。
録R2、反射層3および保護層4から構成される。
ただし、本発明の記録媒体は上記の態様に限定されるも
のではなく、たとえば情報の記録、再生等を基板と反対
側からレーザ光を照射して行なう場合には、反射層は記
録層と基板との間に設けられる。また、基板と記QNJ
との間には下塗層、プレグルーブ層など公知の各種の中
間層が設けられていてもよい。
のではなく、たとえば情報の記録、再生等を基板と反対
側からレーザ光を照射して行なう場合には、反射層は記
録層と基板との間に設けられる。また、基板と記QNJ
との間には下塗層、プレグルーブ層など公知の各種の中
間層が設けられていてもよい。
本発明の情報記録媒体は、たとえば以下に述べるような
方法により製造することができる。
方法により製造することができる。
記録層は、実質的に光吸収性物質を分散状態で含有支持
するポリマーブレンドからなる層である。
するポリマーブレンドからなる層である。
本発明において記録層の材料として用いられるポリマー
ブレンドは、二種以上のポリマーの混合物であって、相
溶状態と相分離状態との間で状態変化を起こしうるもの
である。ただし、ポリマーと七ツマ−との組合せの場合
でも同様な挙動を示すごとがあり、そのような組成のも
のも本発明のポリマーブレンドに含まれる。
ブレンドは、二種以上のポリマーの混合物であって、相
溶状態と相分離状態との間で状態変化を起こしうるもの
である。ただし、ポリマーと七ツマ−との組合せの場合
でも同様な挙動を示すごとがあり、そのような組成のも
のも本発明のポリマーブレンドに含まれる。
ポリマーブレンドには、大別して、常温では透明な相溶
状態であって曇点以上の高温で相分離して白濁する下限
臨界共溶温度(LC3T)型のものと、逆に常温では白
濁した相分離状態であって曇点以上の高温で相溶して透
明になる上限臨界共溶温度(U CS T)型のものと
がある。
状態であって曇点以上の高温で相分離して白濁する下限
臨界共溶温度(LC3T)型のものと、逆に常温では白
濁した相分離状態であって曇点以上の高温で相溶して透
明になる上限臨界共溶温度(U CS T)型のものと
がある。
第4図に、LC3T型のポリマーブレンドの相図の例を
示す、横軸は二種のポリマーをブレンドした場合の片方
のポリマーの容積分率を示し、縦軸は温度を示す。
示す、横軸は二種のポリマーをブレンドした場合の片方
のポリマーの容積分率を示し、縦軸は温度を示す。
第4図において、曲線上の各点がその組成における曇点
である。この曇点より低温で領域(884図の曲線下側
)が相溶状態(透明)を示し、曇点以上の高温領域(第
4図の曲線上側)が相分離状態(白濁)を示す、またポ
リマーブレンドは温度Tc(最も低い曇点の温度)より
低い温度では如何なる組成であっても均一に混合してい
るところから、この温度Tcを下限臨界共溶温度と呼ぶ
。
である。この曇点より低温で領域(884図の曲線下側
)が相溶状態(透明)を示し、曇点以上の高温領域(第
4図の曲線上側)が相分離状態(白濁)を示す、またポ
リマーブレンドは温度Tc(最も低い曇点の温度)より
低い温度では如何なる組成であっても均一に混合してい
るところから、この温度Tcを下限臨界共溶温度と呼ぶ
。
また、UC3T型のポリマーブレンドの場合には反対に
、相図が上に凸型の曲線となり、同様に上限臨界共溶温
度が決定される。
、相図が上に凸型の曲線となり、同様に上限臨界共溶温
度が決定される。
ポリマーブレンドの曇点は、ポリマーの種類、その組成
、さらに無定形ポリマーの場合にはその分子量分布や分
子量によっても異なるが60〜400℃の範囲にあるの
が好ましく、特に好ましいのは80〜300℃の範囲で
ある。
、さらに無定形ポリマーの場合にはその分子量分布や分
子量によっても異なるが60〜400℃の範囲にあるの
が好ましく、特に好ましいのは80〜300℃の範囲で
ある。
LC3T型のポリマーブレンドの例としては、1)無定
形ポリマー同志の組合せ: ポリスチレンとポリビニルメチルエーテル、スチレンe
アクリロニトリル共重合体とポリ−(−カプロラクトン
、スチレン暢アクリロニトリル共重合体とポリメチルメ
タクリレート、ポリ硝酸ビニルとポリメチルアクリレー
ト、エチレン・酢酸ビニル共重合体と塩素化ゴム、ポリ
−(−カプロラクトンとポリカーボネート(ビスフェノ
ールAffi)、p−クロロスチレン令o−クロロスチ
レン共重合体とポリ(2,6−シメチルー1.4−)二
二しンオキサイド)、ポリカーボネート(ビスフェノー
ルA型)とエチレンオキサイドブロック共重合体、ブチ
レンテレフタレート・テトラヒドロフランブロック共重
合体とポリ塩化ビニル、熱可塑性ポリウレタン〔ポリ−
(−カプロラクトンソフトブロック]とポリ塩化ビニル
: 2)1!i晶性ポリマーと無定形ポリマーの組合せ: ポリ弗化ビニリデンとポリメチルアクリレート、ポリ弗
化ビニリデンとポリエチルアクリレート、ポリ弗化ビニ
リデンとポリメチルメタクリレート、ポリ弗化ビニリデ
ンとポリエチルメタクリレート、ポリ弗化ビニリデンと
ポリビニルメチルケトン;および 3)結晶性ポリマーと結晶性七ツマ−の組合せ: ポリエチレンオキサイドとトリオキサン、ポリ−ε−カ
プロラクトンとトリオキサン:を挙げることができる。
形ポリマー同志の組合せ: ポリスチレンとポリビニルメチルエーテル、スチレンe
アクリロニトリル共重合体とポリ−(−カプロラクトン
、スチレン暢アクリロニトリル共重合体とポリメチルメ
タクリレート、ポリ硝酸ビニルとポリメチルアクリレー
ト、エチレン・酢酸ビニル共重合体と塩素化ゴム、ポリ
−(−カプロラクトンとポリカーボネート(ビスフェノ
ールAffi)、p−クロロスチレン令o−クロロスチ
レン共重合体とポリ(2,6−シメチルー1.4−)二
二しンオキサイド)、ポリカーボネート(ビスフェノー
ルA型)とエチレンオキサイドブロック共重合体、ブチ
レンテレフタレート・テトラヒドロフランブロック共重
合体とポリ塩化ビニル、熱可塑性ポリウレタン〔ポリ−
(−カプロラクトンソフトブロック]とポリ塩化ビニル
: 2)1!i晶性ポリマーと無定形ポリマーの組合せ: ポリ弗化ビニリデンとポリメチルアクリレート、ポリ弗
化ビニリデンとポリエチルアクリレート、ポリ弗化ビニ
リデンとポリメチルメタクリレート、ポリ弗化ビニリデ
ンとポリエチルメタクリレート、ポリ弗化ビニリデンと
ポリビニルメチルケトン;および 3)結晶性ポリマーと結晶性七ツマ−の組合せ: ポリエチレンオキサイドとトリオキサン、ポリ−ε−カ
プロラクトンとトリオキサン:を挙げることができる。
UC3T型のポリマーブレンドの例としては、ポリスチ
レンとポリイソプレン、ポリスチレンとポリイソブチン
、ポリプロピレンオキサイドとポリブタジェン、ポリイ
ソブチンとポリジメチルシロキサンなどの無定形ポリマ
ー同志の組合せを挙げることができる。
レンとポリイソプレン、ポリスチレンとポリイソブチン
、ポリプロピレンオキサイドとポリブタジェン、ポリイ
ソブチンとポリジメチルシロキサンなどの無定形ポリマ
ー同志の組合せを挙げることができる。
なお、これらのポリマーはLC3T、UC3Tを示す範
囲内で適宜他のモノマーとの共重合体とすることができ
る。
囲内で適宜他のモノマーとの共重合体とすることができ
る。
以下余白
本発明に用いられる光吸収性物質はレーザー光に対する
吸収率が高く、光吸収により発熱作用を示すものである
。
吸収率が高く、光吸収により発熱作用を示すものである
。
記録再生用レーザーとして近赤外光を発振する半導体レ
ーザーの利用が実用化されている点から、光吸収性物質
としては700〜900nmの近赤外領域の光に対する
吸収率が高い色素が好ましい、その例としては。
ーザーの利用が実用化されている点から、光吸収性物質
としては700〜900nmの近赤外領域の光に対する
吸収率が高い色素が好ましい、その例としては。
i)シアニン系色素:
[11(CHx)zN−((H−CI)s−CHIN(
CHx)2G!;LOs−(ただし、nは2または3で
ある) 以下令白 N(CHx)2 ”N
(CH3)2RR (ただし、Rは水素原子またはN(CH3)2である) RX R (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン原子で
ある) RY−R (ただし、Rは置換または未置換アルキル基、アルコキ
シ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素原
子またはハロゲン原子であり、Y−はハロゲン、バーク
ロレート、置換または未l換ベンゼンスルホネート、パ
ラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチル
スルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカル
ボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレー
トであり、nはθ〜3の整数である)]6】 Φ−
L=’P (x−)s(ただし、Φおよび市はそれぞ
れインドール環残基またはベンゾインドール環残基であ
り、Lはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、トリ
カルボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成する
ための連結基であり、X−は陰イオンであり、mはOま
たはlである) ii)スクワリリウム系色素: C(CH3)3 叶 C(CH3hi i
i)チオールニッケル錯塩系色素:(ただし、Xは水素
原子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは
1〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である
)iV)ナフトキノン系、アントラキノン系色素:(た
だし、Rは水素原子またはOC2H5である)であり、
ここでXはアルキル基であり、X゛は水素原子、アルキ
ル基、アリル基、アミ7基または置換アミノ基である) 0 Nl2 0 ONH2S などを挙げることができる。これらの色素以外にトリア
リルメタン系色素、フタロシアニン系色素、インモニウ
ム系色素およびニトロソ化合物なども用いることができ
る。
CHx)2G!;LOs−(ただし、nは2または3で
ある) 以下令白 N(CHx)2 ”N
(CH3)2RR (ただし、Rは水素原子またはN(CH3)2である) RX R (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン原子で
ある) RY−R (ただし、Rは置換または未置換アルキル基、アルコキ
シ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素原
子またはハロゲン原子であり、Y−はハロゲン、バーク
ロレート、置換または未l換ベンゼンスルホネート、パ
ラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチル
スルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカル
ボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレー
トであり、nはθ〜3の整数である)]6】 Φ−
L=’P (x−)s(ただし、Φおよび市はそれぞ
れインドール環残基またはベンゾインドール環残基であ
り、Lはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、トリ
カルボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成する
ための連結基であり、X−は陰イオンであり、mはOま
たはlである) ii)スクワリリウム系色素: C(CH3)3 叶 C(CH3hi i
i)チオールニッケル錯塩系色素:(ただし、Xは水素
原子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、nは
1〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基である
)iV)ナフトキノン系、アントラキノン系色素:(た
だし、Rは水素原子またはOC2H5である)であり、
ここでXはアルキル基であり、X゛は水素原子、アルキ
ル基、アリル基、アミ7基または置換アミノ基である) 0 Nl2 0 ONH2S などを挙げることができる。これらの色素以外にトリア
リルメタン系色素、フタロシアニン系色素、インモニウ
ム系色素およびニトロソ化合物なども用いることができ
る。
以下余白
記Q層の形成は、まず上記のポリマーブレンドおよび光
吸収性物質を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、こ
の塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥
することにより行なうことができる。
吸収性物質を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、こ
の塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥
することにより行なうことができる。
塗布液調製用の溶剤としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、ジメチルホルムアミド、メチルインブチルケトン、
シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノール、n−プ
ロパツール、インプロパツール、n−ブタノールなどの
ポリマーブレンドおよび光吸収性物質を溶解もしくは分
散する溶剤およびこれらの混合溶剤を挙げることができ
る。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑
剤、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよ
い。
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、ジメチルホルムアミド、メチルインブチルケトン、
シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノール、n−プ
ロパツール、インプロパツール、n−ブタノールなどの
ポリマーブレンドおよび光吸収性物質を溶解もしくは分
散する溶剤およびこれらの混合溶剤を挙げることができ
る。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑
剤、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよ
い。
塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。
塗布液中におけるポリマーブレンドと光吸収性物質の混
合比は、ポリマーブレンドおよび光吸収性物質の種類に
よっても異なるが、一般には100:0.1−100:
ioo (ffl量比)の範囲にあり、好ましくは1
00:1−100:50の範囲である。また、記録層は
単層でも重層でもよいが、その層厚は光情報記録に要求
される光学6度の点から一般に0.01−10gmの範
囲にあり、好ましくは0.02〜Igmの範囲である。
合比は、ポリマーブレンドおよび光吸収性物質の種類に
よっても異なるが、一般には100:0.1−100:
ioo (ffl量比)の範囲にあり、好ましくは1
00:1−100:50の範囲である。また、記録層は
単層でも重層でもよいが、その層厚は光情報記録に要求
される光学6度の点から一般に0.01−10gmの範
囲にあり、好ましくは0.02〜Igmの範囲である。
また、前述のように、記録層は基板の片面のみならず両
面に設けられていてもよい(第2図参照)。
面に設けられていてもよい(第2図参照)。
本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス;セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂:ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ
樹脂;およびポリカーボネート樹脂、アモルファスポリ
オレフィン、ポリエステルを挙げることができる。これ
らのうちで寸度安定性、透明性および平面性などの点か
ら、好ましいものは、ポリメチルメタクリレート、ポリ
カーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオ
レフィン、ポリエステルおよびガラスである。尚、これ
らの材料はフィルム状として、または剛性のある基板と
して使うことができる。
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス;セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂:ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ
樹脂;およびポリカーボネート樹脂、アモルファスポリ
オレフィン、ポリエステルを挙げることができる。これ
らのうちで寸度安定性、透明性および平面性などの点か
ら、好ましいものは、ポリメチルメタクリレート、ポリ
カーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオ
レフィン、ポリエステルおよびガラスである。尚、これ
らの材料はフィルム状として、または剛性のある基板と
して使うことができる。
記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記Q層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられていてもよい、下塗層の材料としては、た
とえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタ
クリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体
、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミ
ド、スチレン・スルホン酸共重合体、スチレンΦビニル
トルエン共重合体、り6ルスルホン化ポリエチレン、ニ
トロセルロース、ポリ塩化ビニル、m素化ポリオレフィ
ン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニ
ル共重合体、エチレン争酢酸ビニル共重合体、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物
質;シランカップリング剤などの有機物置;および無機
酸化物(Si02、A120.等)、無機弗化物(Mg
Fz)などの無機物質を挙げることができる。
接着力の向上および記Q層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられていてもよい、下塗層の材料としては、た
とえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタ
クリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体
、ポリビニルアルコール、N−メチロールアクリルアミ
ド、スチレン・スルホン酸共重合体、スチレンΦビニル
トルエン共重合体、り6ルスルホン化ポリエチレン、ニ
トロセルロース、ポリ塩化ビニル、m素化ポリオレフィ
ン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニ
ル共重合体、エチレン争酢酸ビニル共重合体、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物
質;シランカップリング剤などの有機物置;および無機
酸化物(Si02、A120.等)、無機弗化物(Mg
Fz)などの無機物質を挙げることができる。
ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン・無水マレイン酸共重
合体などの親水性基および/または無水マレイン酸基を
有するポリャーからなる下塗層が設けられているのが望
ましい。
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン・無水マレイン酸共重
合体などの親水性基および/または無水マレイン酸基を
有するポリャーからなる下塗層が設けられているのが望
ましい。
下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、デイツプコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。下
塗層の層厚は一般にo、oos〜20pmの範囲にあり
、好ましくは0、O1〜10鉢mの範囲である。
分散したのち、この塗布液をスピンコード、デイツプコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。下
塗層の層厚は一般にo、oos〜20pmの範囲にあり
、好ましくは0、O1〜10鉢mの範囲である。
また、基板(または下塗層)上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種の七ツマ−(またはオリゴマー)と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種の七ツマ−(またはオリゴマー)と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる0
次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜loOgmの範囲にあり、好ま
しくは0.1〜5071mの範囲である。
タンパ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる0
次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜loOgmの範囲にあり、好ま
しくは0.1〜5071mの範囲である。
また、基板材料がプラスチックの場合は、射出成形ある
いは押出成形などにより直接基板にプレグルーブを設け
てもよい。
いは押出成形などにより直接基板にプレグルーブを設け
てもよい。
記Q層の上には、情報の再生時におけるS/N比の向上
および記録時における感度の向上の目的で、反射層が設
けられてもよい、このような構成の場合には、情報の記
録、再生はレーザービームを記録層に、基板側から照射
することにより行なわれる。なお反射層を、記録層の上
ではなく、基板(または下塗層)と記録層との間に設け
てもよい、このような構成の場合には、情報の記録、再
生はレーザービームを記録層に、記録層の上方(基板側
とは反対側)から照射することにより行なわれる。
および記録時における感度の向上の目的で、反射層が設
けられてもよい、このような構成の場合には、情報の記
録、再生はレーザービームを記録層に、基板側から照射
することにより行なわれる。なお反射層を、記録層の上
ではなく、基板(または下塗層)と記録層との間に設け
てもよい、このような構成の場合には、情報の記録、再
生はレーザービームを記録層に、記録層の上方(基板側
とは反対側)から照射することにより行なわれる。
反射層は、実質的に光反射性物質からなる層である。
光反射性物質はレーザー光に対する反射率が高い物質で
あり、その例としてはMg、Se、Y、TE、Zr、H
f、V、Nb、Ta、Cr、Mo、 W、 Mn、
Re、 F e、 Co、 N i
、Ru、 Rh、 Pd、 I r、 Pt
、 Cu、 Ag、Au、 Zn、 Cd、
An、 Ga、 I n、 Si 、Ge、
Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属および半金属
を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは
、An、CrおよびNiである。これらの物質は単独で
用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合
金として用いてもよい。
あり、その例としてはMg、Se、Y、TE、Zr、H
f、V、Nb、Ta、Cr、Mo、 W、 Mn、
Re、 F e、 Co、 N i
、Ru、 Rh、 Pd、 I r、 Pt
、 Cu、 Ag、Au、 Zn、 Cd、
An、 Ga、 I n、 Si 、Ge、
Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属および半金属
を挙げることができる。これらのうちで好ましいものは
、An、CrおよびNiである。これらの物質は単独で
用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合
金として用いてもよい。
反射層は、たとえば上記光反射性物質を用いて蒸着、ス
パッタリング、イオンブレーティングなどの方法により
記録層、基板、または下塗層の上に形成することができ
る0反射層の層厚は一般には100〜3000大の範囲
にある。
パッタリング、イオンブレーティングなどの方法により
記録層、基板、または下塗層の上に形成することができ
る0反射層の層厚は一般には100〜3000大の範囲
にある。
なお、記録層を基板の片面にのみ設けて情報の記録再生
を基板側から行なう場合には、反射層は記録層の基板と
は反対側に設けられてもよい。
を基板側から行なう場合には、反射層は記録層の基板と
は反対側に設けられてもよい。
ざらに、記録層もしくは反射層の基板に面する側とは反
対側(露出表面側)には、記Q層を物理的および化学的
に保護する目的で保護層が設けられてもよい、また、保
mBは基板の記II層が設けられていない側にも耐傷性
、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
対側(露出表面側)には、記Q層を物理的および化学的
に保護する目的で保護層が設けられてもよい、また、保
mBは基板の記II層が設けられていない側にも耐傷性
、耐湿性を高める目的で設けられてもよい。
保護層に用いられる材料の例としては、5tO1Si0
2、MgF2.5n02等の無機物質;熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。
2、MgF2.5n02等の無機物質;熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。
保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接MMを介して記録層(または反射層)上お
よび/または基板上にラミネートすることにより形成す
ることができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、
塗布等の方法により設けられてもよい、また、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に
溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を記録層お
よび/または基板上に塗布乾燥することによっても形成
することができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのま
まもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち
、この塗布液を記録層および/または基板上に塗布し、
UV光を照射して硬化させることによっても形成するこ
とができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、
酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて
添加してもよい。
フィルムを接MMを介して記録層(または反射層)上お
よび/または基板上にラミネートすることにより形成す
ることができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、
塗布等の方法により設けられてもよい、また、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に
溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を記録層お
よび/または基板上に塗布乾燥することによっても形成
することができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのま
まもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち
、この塗布液を記録層および/または基板上に塗布し、
UV光を照射して硬化させることによっても形成するこ
とができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、
酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて
添加してもよい。
保護層の層厚は一般には0.11−1O01Lの範囲に
ある。
ある。
次に、本発明の情報の記録方法および消去方法を、前記
第1図に示した基板と記録層とから構成された情報記録
媒体を例にとって説明する。
第1図に示した基板と記録層とから構成された情報記録
媒体を例にとって説明する。
情報の記録を行なう場合には、Ga−Asレーザー等の
近赤外光を発振する半導体レーザーを用いて、公知の方
法に従って集光されたレーザービームを情報記録媒体の
基板側表面(もしくは記録層表面)に照射する。レーザ
ービームが照射されると、記録層中のビーム照射部分の
近赤外吸収色素等の光吸収性物質は直ちにビームエネル
ギーを吸収して発熱する。この光吸収性物質の発熱によ
り、記録層中にあって該光吸収性物質と接触しているポ
リマーブレンドが昇温されて曇点以上の温度に高められ
、状態変化を起こす、たとえばポリマーブレンドがLC
5T型である場合には、透明な相溶状態にあったポリマ
ーブレンドは昇温により相分離を生じて白濁する。
近赤外光を発振する半導体レーザーを用いて、公知の方
法に従って集光されたレーザービームを情報記録媒体の
基板側表面(もしくは記録層表面)に照射する。レーザ
ービームが照射されると、記録層中のビーム照射部分の
近赤外吸収色素等の光吸収性物質は直ちにビームエネル
ギーを吸収して発熱する。この光吸収性物質の発熱によ
り、記録層中にあって該光吸収性物質と接触しているポ
リマーブレンドが昇温されて曇点以上の温度に高められ
、状態変化を起こす、たとえばポリマーブレンドがLC
5T型である場合には、透明な相溶状態にあったポリマ
ーブレンドは昇温により相分離を生じて白濁する。
次に、記録媒体を急冷すると、相分離したポリマーブレ
ンドは常温でも白濁した状態に維持される。従って、レ
ーザービームの照射部分のみが白濁して、情報を記録す
ることができる。なお、UC3T型のポリマーブレンド
の場合には、逆にレーザービームの照射部分のみが相溶
状態に維持されて透明となる。
ンドは常温でも白濁した状態に維持される。従って、レ
ーザービームの照射部分のみが白濁して、情報を記録す
ることができる。なお、UC3T型のポリマーブレンド
の場合には、逆にレーザービームの照射部分のみが相溶
状態に維持されて透明となる。
記録媒体からの情報の再生は従来の情報の読み取りと同
様の方法により行なうことができ、再生用のレーザービ
ームを記録層側あるいは基板側に照射してその反射光を
測定し、記録層の白濁部分と透明部分における光反射率
の差に基づいて情報を再生することができる。なお、記
録層の片面に反射層が設けられている場合には、光反射
率の差を一層顕著にすることができ、再生のS/N比を
高めることができる0反対に、反射層が設けられていな
い場合にはレーザービームの透過光を測定することによ
り、光透過率の差に基づいて情報を再生することもでき
る。
様の方法により行なうことができ、再生用のレーザービ
ームを記録層側あるいは基板側に照射してその反射光を
測定し、記録層の白濁部分と透明部分における光反射率
の差に基づいて情報を再生することができる。なお、記
録層の片面に反射層が設けられている場合には、光反射
率の差を一層顕著にすることができ、再生のS/N比を
高めることができる0反対に、反射層が設けられていな
い場合にはレーザービームの透過光を測定することによ
り、光透過率の差に基づいて情報を再生することもでき
る。
また、情報の消去を行なう場合には、上記と同様の半導
体レーザー等を用いて、記録層の状態変化を生じている
部分(LC3T型であれば、白濁部分)のみに、あるい
は記録層全面に該光線を照射する。光照射された記録層
中の光吸収性物質はその光エネルギーを吸収して発熱し
、この光吸収性物質付近のポリマーブレンドは昇温され
て曇点以上の温度に高められる。なお、前述のように消
去の際のポリマーブレンドの加熱は、赤外線ヒーターな
どのような熱源を用いてポリマーブレンドに直接熱エネ
ルギーを与えることにより行なってもよい。
体レーザー等を用いて、記録層の状態変化を生じている
部分(LC3T型であれば、白濁部分)のみに、あるい
は記録層全面に該光線を照射する。光照射された記録層
中の光吸収性物質はその光エネルギーを吸収して発熱し
、この光吸収性物質付近のポリマーブレンドは昇温され
て曇点以上の温度に高められる。なお、前述のように消
去の際のポリマーブレンドの加熱は、赤外線ヒーターな
どのような熱源を用いてポリマーブレンドに直接熱エネ
ルギーを与えることにより行なってもよい。
次に、記録媒体を徐冷すると、相分離状態にあるポリマ
ーブレンドは曇点より低温になるにつれて相溶状態に変
化し、常温で元の透明な状態に回復する。従って、記録
層全体が透明となり、記録されていた情報を消去するこ
とができる。消去用の光照射パワーは、ポリマーブレン
ドを・1点以上にすることができる限りにおいて記録パ
ワーよりも小さくてよい。
ーブレンドは曇点より低温になるにつれて相溶状態に変
化し、常温で元の透明な状態に回復する。従って、記録
層全体が透明となり、記録されていた情報を消去するこ
とができる。消去用の光照射パワーは、ポリマーブレン
ドを・1点以上にすることができる限りにおいて記録パ
ワーよりも小さくてよい。
第5図は、情報の記録および消去におけるポリマーブレ
ンドの状態変化を概略的に示すグラフである。横軸は時
間を示す。
ンドの状態変化を概略的に示すグラフである。横軸は時
間を示す。
第5図において、最上部のグラフPはポリマーブレンド
に照射される光の照射パワーの変化を表わしており、P
、および22部分はそれぞれ情報の記録および消去に相
当する。グラフTは、ポリマーブレンドの温度変化を表
わしており、T、および12部分はそれぞれ急冷および
徐冷に相当する。Taはポリマーブレンドのその組成に
おける曇点であり、記録、消去いずれの場合であっても
ポリマーブレンドは−H曇点以上の温度まで高められる
。
に照射される光の照射パワーの変化を表わしており、P
、および22部分はそれぞれ情報の記録および消去に相
当する。グラフTは、ポリマーブレンドの温度変化を表
わしており、T、および12部分はそれぞれ急冷および
徐冷に相当する。Taはポリマーブレンドのその組成に
おける曇点であり、記録、消去いずれの場合であっても
ポリマーブレンドは−H曇点以上の温度まで高められる
。
最下部のグラフSは、ポリマーブレンドの状態変化を表
わしており、状態Aは未記録状l (LC3T型であれ
ば透明な相溶状態を意味し、UCST型であれば白濁し
た相分離状態を意味する)を表わし、状態Bは記録状$
(LC3T型であれば白濁した相分離状態を意味し、U
C5T型であれば透明な相溶状態を意味する)を表わす
。
わしており、状態Aは未記録状l (LC3T型であれ
ば透明な相溶状態を意味し、UCST型であれば白濁し
た相分離状態を意味する)を表わし、状態Bは記録状$
(LC3T型であれば白濁した相分離状態を意味し、U
C5T型であれば透明な相溶状態を意味する)を表わす
。
ただし、本発明の情報の記録消去方法において使用され
る情報記録媒体は前述の構成に限定されるものではなく
、記録媒体が少なくともポリマーブレンドと光吸収性物
質を含み、かつ光吸収性物質がポリマーブレンドと接触
下にある限り、任意の構成をとることが可能である。た
とえば、光吸収性物質を記録層ではなく基板中に含有さ
せることもできる。
る情報記録媒体は前述の構成に限定されるものではなく
、記録媒体が少なくともポリマーブレンドと光吸収性物
質を含み、かつ光吸収性物質がポリマーブレンドと接触
下にある限り、任意の構成をとることが可能である。た
とえば、光吸収性物質を記録層ではなく基板中に含有さ
せることもできる。
以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。
以下余白
[実施例1]
ポリスチレンとポリビニルメチルエーテルの組合せのL
C5T型ポリマーブレンドのトルエン溶液と、シアニン
系色素(前記構造式[5]、Cl3 Cl0r
CH3) のジクロロエタン溶液とを充分に混合して、塗布液を調
製した。塗布液中におけるポリマーブレンドとシアニン
系色素との混合比は100: 10(重量比)であった
。
C5T型ポリマーブレンドのトルエン溶液と、シアニン
系色素(前記構造式[5]、Cl3 Cl0r
CH3) のジクロロエタン溶液とを充分に混合して、塗布液を調
製した。塗布液中におけるポリマーブレンドとシアニン
系色素との混合比は100: 10(重量比)であった
。
トラッキングガイドが設けられた円盤状のセルキャスト
アクリル樹脂基板(外径:130mm、内径=15mm
、厚さ:1−2mm、トラックピッチ:1.6JLm)
上に、上記塗布液をスピンコード法により塗布したのち
乾燥させて、乾燥膜厚が0.1μmの記録層を設けた。
アクリル樹脂基板(外径:130mm、内径=15mm
、厚さ:1−2mm、トラックピッチ:1.6JLm)
上に、上記塗布液をスピンコード法により塗布したのち
乾燥させて、乾燥膜厚が0.1μmの記録層を設けた。
このようにして、第1図に示したような基板と記Q層と
からなる情報記録媒体を製造した。
からなる情報記録媒体を製造した。
次に、この情報記録媒体に半導体レーザー光(波長:8
30nm、照射パワー:lOmW、ビーム径:1.64
m)を照射して情報の書き込みを行なったのち、半導体
レーザー(波長=830nm、照射パワー:0.6mW
、ビーム径=1゜64m)を照射して情報の読み取りを
行なったところ、二値情報が得られた。
30nm、照射パワー:lOmW、ビーム径:1.64
m)を照射して情報の書き込みを行なったのち、半導体
レーザー(波長=830nm、照射パワー:0.6mW
、ビーム径=1゜64m)を照射して情報の読み取りを
行なったところ、二値情報が得られた。
[実施例2〕
実施例1において、ポリマーブレンドとしてポリ弗化ビ
ニリデンとポリメチルメタクリレートの組合せのLC3
T型ポリマーブレンドをジメチルアセトアミド溶液とし
て用いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
ニリデンとポリメチルメタクリレートの組合せのLC3
T型ポリマーブレンドをジメチルアセトアミド溶液とし
て用いること以外は実施例1の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
得られた情報記録媒体に実施例1の方法と同様の操作を
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、エイ1情報が得られた。
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、エイ1情報が得られた。
[比較例1]
実施例2において、光吸収性物質(シアニン系色素)を
用いないこと以外は実施例2の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
用いないこと以外は実施例2の方法と同様の処理を行な
うことにより、基板および記録層からなる情報記録媒体
を製造した。
得られた情報記録媒体に実施例1の方法と同様の操作を
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、二値情報は得られなかった。
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、二値情報は得られなかった。
[実施例3]
トラッキングガイドが設けられたセルキャストアクリル
樹脂基板上に、ポリマーブレンドとしてポリ弗化ビニリ
デンとポリメチルメタクリレートの組合せのLC3T型
ポリマーブレンドを用いること以外は実施例1の方法と
同様の処理を行なって記録層を設け、次いでアルミニウ
ムを真空蒸着することにより層厚が1000又の反射層
を記録層の上に形成した。
樹脂基板上に、ポリマーブレンドとしてポリ弗化ビニリ
デンとポリメチルメタクリレートの組合せのLC3T型
ポリマーブレンドを用いること以外は実施例1の方法と
同様の処理を行なって記録層を設け、次いでアルミニウ
ムを真空蒸着することにより層厚が1000又の反射層
を記録層の上に形成した。
次いで、ポリエステルフィルムを接着剤を用いて反射層
上にラミネートすることにより、層厚が100終mの保
護層を形成した。
上にラミネートすることにより、層厚が100終mの保
護層を形成した。
このようにして、第3図に示されたような、順に基板、
記録層、反射層および保護層からなる情報記録媒体を製
造した。
記録層、反射層および保護層からなる情報記録媒体を製
造した。
得られた情報記録媒体に実施例1の方法と同様の操作を
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、高いS/N比で二値情報が得られた。
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、高いS/N比で二値情報が得られた。
第1図〜第3図はそれぞれ、本発明の情報記録媒体の構
成例を示す断面図である。 第4図は、LC5T型のポリマーブレンドの相図を示す
。 第5図は、情報の記録および消去におけるポリマーブレ
ンドの経時状態変化を示すグラフである。 l:基板、2,2°:記録層、3:反射層、4:保護層 特許出願人 富士写真フィルム株式会社代 理 人 弁
理士 柳 川 泰 男M1図 第2図 第3図 容積分率
成例を示す断面図である。 第4図は、LC5T型のポリマーブレンドの相図を示す
。 第5図は、情報の記録および消去におけるポリマーブレ
ンドの経時状態変化を示すグラフである。 l:基板、2,2°:記録層、3:反射層、4:保護層 特許出願人 富士写真フィルム株式会社代 理 人 弁
理士 柳 川 泰 男M1図 第2図 第3図 容積分率
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、温度変化により相溶状態と相分離状態間で状態変化
を起こしうるポリマーブレンドに接触下に光吸収性物質
を配し、この光吸収性物質にレーザー光を照射して吸収
させることにより、該光吸収性物質を発熱させ、この発
熱によって該ポリマーブレンドをその相溶状態と相分離
状態間の曇点以上に昇温させて、レーザー光照射された
光吸収性物質部分に接するポリマーブレンドを状態変化
させ、次に急冷することにより、このポリマーブレンド
の状態変化を固定することからなる情報の記録方法。 2、ポリマーブレンドが下限臨界共溶温度型ポリマーブ
レンドであって、急冷によりポリマーブレンドが相分離
状態で固定されることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の情報の記録方法。 3、ポリマーブレンドが上限臨界共溶温度型ポリマーブ
レンドであって、急冷によりポリマーブレンドが相溶状
態で固定されることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の情報の記録方法。 4、基板と、この基板の片面もしくは両面に設けられた
、温度変化により相溶状態と相分離状態間で状態変化を
起こしうるポリマーブレンドおよび光吸収性物質を含む
記録層よりなることを特徴とする情報記録媒体。 5、上記ポリマーブレンドが、60乃至400℃の範囲
に、相溶状態と相分離状態間の曇点を有するものである
ことを特徴とする特許請求の範囲第4項記載の情報記録
媒体。 6、上記ポリマーブレンドが下限臨界共溶温度型ポリマ
ーブレンドであることを特徴とする特許請求の範囲第4
項記載の情報記録媒体。 7、上記ポリマーブレンドが上限臨界共溶温度型ポリマ
ーブレンドであることを特徴とする特許請求の範囲第4
項記載の情報記録媒体。 8、上記記録層の基板に面する側もしくはその反対側に
反射層が設けられていることを特徴とする特許請求の範
囲第4項記載の情報記録媒体。 9、上記記録層の基板に面する側の反対側の面に保護層
が設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第4
項記載の情報記録媒体。 10、上記記録層の基板に面する側の反対側の面に反射
層と保護層とがこの順に設けられていることを特徴とす
る特許請求の範囲第4項記載の情報記録媒体。 11、上記基板の記録層に面する側の表面にプレグルー
ブが設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第
4項記載の情報記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61181442A JPS6337994A (ja) | 1986-07-31 | 1986-07-31 | 情報の記録方法およびその方法に用いられる情報記録媒体 |
US07/080,542 US4860273A (en) | 1986-07-31 | 1987-07-31 | Method of recording information and information recording medium employed for the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61181442A JPS6337994A (ja) | 1986-07-31 | 1986-07-31 | 情報の記録方法およびその方法に用いられる情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6337994A true JPS6337994A (ja) | 1988-02-18 |
Family
ID=16100841
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61181442A Pending JPS6337994A (ja) | 1986-07-31 | 1986-07-31 | 情報の記録方法およびその方法に用いられる情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6337994A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63236685A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-10-03 | レーム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 支持体上に光学的に読み取り可能な情報を記録し、蓄積し、かつ表示する方法 |
-
1986
- 1986-07-31 JP JP61181442A patent/JPS6337994A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63236685A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-10-03 | レーム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 支持体上に光学的に読み取り可能な情報を記録し、蓄積し、かつ表示する方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4860273A (en) | Method of recording information and information recording medium employed for the same | |
JP2686841B2 (ja) | 情報記録媒体及び光情報記録方法 | |
JP2514846B2 (ja) | 光情報記録方法及び情報記録媒体 | |
JPS6337994A (ja) | 情報の記録方法およびその方法に用いられる情報記録媒体 | |
JPS63159090A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
JPS6337995A (ja) | 情報記録媒体 | |
JP2652279B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
JP2615546B2 (ja) | レーザー用記録材料および画像形成法 | |
JPS6342045A (ja) | 情報記録媒体 | |
JPS6339381A (ja) | 情報記録媒体 | |
JPS63175239A (ja) | 光情報記録方法 | |
JPS63153745A (ja) | 情報記録媒体の製造法 | |
JPS6337996A (ja) | 情報記録媒体 | |
JPS63153193A (ja) | 光情報記録方法 | |
JP2794643B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
JP3087902B2 (ja) | 情報記録媒体及びその製造方法 | |
JPH06309695A (ja) | 光情報記録媒体及びその記録、消去方法 | |
JPH0375190A (ja) | 情報記録媒体 | |
JPS6342046A (ja) | エア−サンドイツチ型情報記録媒体 | |
JP2542262B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
JPS63259854A (ja) | 光情報記録方法および情報記録媒体 | |
JPS63153738A (ja) | 情報記録媒体及びその製造法 | |
JPS63281240A (ja) | 情報記録媒体およびその製造法 | |
JPH0376686A (ja) | 情報記録媒体の製造方法 | |
JPH02265041A (ja) | 光情報記録媒体の成膜方法 |