JPS6337995A - 情報記録媒体 - Google Patents
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 204
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 73
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 claims abstract description 71
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims abstract description 50
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 30
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 25
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 16
- 239000000975 dye Substances 0.000 abstract description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 9
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 19
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 11
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 11
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 description 9
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 8
- -1 poly(2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide) Polymers 0.000 description 8
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 6
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 5
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 5
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-trioxane Chemical compound C1OCOCO1 BGJSXRVXTHVRSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIYWOHBEPVGIQN-UHFFFAOYSA-N 1h-benzo[g]indole Chemical group C1=CC=CC2=C(NC=C3)C3=CC=C21 HIYWOHBEPVGIQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 3,8-dioxabicyclo[8.2.2]tetradeca-1(12),10,13-triene-2,9-dione Chemical compound O=C1OCCCCOC(=O)C2=CC=C1C=C2 WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enylhepta-1,6-diene Chemical compound C=CCC(CC=C)CC=C XURABDHWIADCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N Ethyl hydrogen sulfate Chemical compound CCOS(O)(=O)=O KIWBPDUYBMNFTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical class [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910001506 inorganic fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M methyl sulfate(1-) Chemical compound COS([O-])(=O)=O JZMJDSHXVKJFKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 229920002852 poly(2,6-dimethyl-1,4-phenylene oxide) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002285 poly(styrene-co-acrylonitrile) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001004 polyvinyl nitrate Polymers 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[発明の分野]
本発明は、高エネルギー密度のレーザービームによる情
報の記録方法に用いられる新規な情報記録媒体に関する
。さらに詳しくは本発明は、相変化に基づいて情報の記
録と消去を行ないうる情報記録媒体に関する。 [発明の技術的背景] 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は通常は光ディスクとも称され、ビ
デオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容
量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディス
ク・メモリーなどの広範な用途に使用されうるちのであ
る。 光ディスクは基本的に、プラスチック、ガラス等からな
る円盤状の透明基板と、この上に設けられた記録層とか
ら構成される。記録層の材料としては、Bi、Sn、I
n、Te等の金属または半金属:およびシアニン系、金
属錯体系、キノン系等の色素か知られている。 光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばレーザービ
ームをこの光ディスクに照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。 記録層の変化としては、孔(ピット)形成、凹部形成お
よび居間の気泡(バブル)形成による変形が代表的であ
り、なかでも孔形成による記録は最も盛んに行なわれて
いる方法である。また、他の記録方法としては、二層の
記録層間の反応を利用する方法、相変化を利用する方法
および磁化反転を利用する方法などが知られている。相
変化を利用して記録する系としては、As−Te−Ge
系の非晶質記録層をガラス転移点以上に昇温させること
により結晶化させて記録する系が知られている。 光ディスクからの情報の読み取りもまた、レーザービー
ムな光ディスクに照射することにより行なわれ、記録層
の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出
することにより情報が再生される。 なお、光ディスクとしては、−回の記j2(書き込み)
のみが可ス蔚なもの(書き換え不ス走タイプ)と、記録
と消去を繰返し行なうことか可濠なタイプ(書き換え可
使タイプ)とがある。 光ディスクに記録された情報の消去は、記録が記$i層
の可逆変化による場合以外には行なうことかできず、孔
形成等の外形変化による場合には光ディスクは書き換え
不能タイプとなる。 記録層材料としては従来より上記のように金属及び半金
属などの無機物質または色素が用いられてきた。一方、
加工性、安全性およびコストなどの点て優れている有機
高分子物質を記録材料として用いる記録層について従来
全く提案されていなかった。しかし、ごく最近になって
、5光記録の記録材料として弗化ビニリデン系ポリマー
とポリメタクリル酸メチルからなるポリマーブレンドを
用い、該物質の相溶状態−相分離状態間の状態変化を利
用して情報を記録する方法か提案されている(宮田、他
、 ”ポリマーブレンドによる光記録材料”第一回東京
農工大学先端科学技術展資料集、P、31.1986)
。しかしながら、上記ポリマーブレンド自体はレーザー
ビーム等の光に対する吸収か小さいために、該ポリマー
ブレンド単独ては実際には充分な情報の記録を行なうこ
とができず、そのまま実用化することは困難である。 [発明の目的] 本発明は、記録材料として有機高分子物質を用いた新規
な情報記録媒体を提供することをその目的とするもので
ある。 [発明の要旨] 本発明は、基板と、この基板の片面もしくは両面に設け
られた、温度変化により相溶状態と相分離状態間で状態
変化を起こしうるポリマーブレンドからなる記録層、お
よびこの記録層に接して設けられた光吸収性物質からな
る光吸収層を有することを特徴とする情報記録媒体にあ
る。 本発明の情報記録媒体において、記録層と光吸数層とは
互いに接していればよく、その順序に特に制限はない、
すなわち、記$1層と光吸収層のいずれか基板側に在っ
てもよい。 本発明の情報記録媒体は、その光吸収層にレーザー光を
照射して吸収させることにより、該光吸収性層の光吸収
性物質を発熱させ、この発熱によって該発熱部分に接す
る部分のポリマーブレンドをその相溶状態と相分離状態
間の着点以上に昇温させて、そのポリマーブレンドを状
態変化させ、次に急冷することにより、このポリマーブ
レンドの状態変化を固定する方法を利用することにより
情報の記録を行なうことができる。 上記の方法により一旦記録された情報を消去して再度記
録を行なうための消去操作は、光吸収層に光を均一に照
射して、光吸収性物質を発熱させ、この発熱によってポ
リマーブレンドをその相溶状態と相分離状態間の着点以
上に昇温させたのち、これを徐冷する操作を行なうこと
により容易に実施することができる。この操作によって
ポリマーブレンドを元の状態(未記録状態)に戻すこと
ができる。なお、ポリマーブレンドの元の状態(未記録
状8)への復帰は、ポリマーブレンドを単に相溶状態と
相分離状態間の着点以上の温度に加熱したのち、これを
徐冷する操作によっても回旋である。また、情報の部分
的な書き換えは、書き換え対象部分のポリマーブレンド
に接触している光吸収層にレーザー光を照射して吸収さ
せることにより、核層の光吸収性物質を発熱させ、この
発熱によって、対象部分のポリマーブレンドをその相溶
状態と相分離状態間の着点以上に昇温させて、そのポリ
マーブレンドを状態変化させ、次に徐冷する方法を利用
することにより容易に実現する。 本発明においてr着点」とは、ポリマーブレンドがその
組成において、相溶状態と相分離状態間で状態変化を起
こす温度をいう。この状態変化は通常、外観上では透明
状態から不透明状態(または半透明状態)への変化とし
て現われる。 本発明に用いられるポリマーブレンドには下限臨界共溶
温度(LC3T)型のものと上限臨界共溶温度(UC3
T)型のものとがある。下限臨界共溶温度型のものは、
着点以上の温度にて相分離状態を示し、一方上限臨界共
溶温度型のものは、着点以上の温度にて相溶状態を示す
、いずれのポリマーブレンドも、温度に依存して相溶状
態と相分離状態間で状態変化を生じ、相溶状態ではブレ
ンドされたポリマーが均一に混合していて透明であるが
、相分離状態では各成分ポリマーの屈折率が異なるため
に白濁する。ポリマーブレンドは、また、着点以上で一
旦白濁もしくは透明化したのち徐冷すると元の状態に戻
るが、一方急冷した場合には常温でもそのままの白濁度
(透明度)を保持する性質を有する。 従って、本発明の情報記録媒体において、記録材料であ
るポリマーブレンドの層(記録層)に光吸収性物質の層
(光吸収層)を接触させておき。 その光吸収性物質にレーザービームを照射することによ
り、光吸収性物質はビームエネルギーを吸収したのち発
熱し、この熱を受けてポリマーブレンドが着点以上とな
って状態変化を起こし、白濁もしくは透明化する。そし
て、そののちポリマーブレンドを急冷することにより、
レーザービームの照射部分はこの白濁もしくは透明化し
た状態に固定され、これにより情報の記録か行なわれる
。 なお、情報の再生は従来のように比較的弱いレーザービ
ームの照射により行なうことができる。すなわち、透明
度の差による反射率もしくは透過率の違いに基づいて情
報を読み取ることができる。 さらに、部分的に状態変化を起こしたポリマーブレンド
を再び着点以上に昇温させたのち徐冷することにより、
光照射部分(記録部分)を元の状態に戻すことができる
。この操作によって、ポリマーブレンド全体が元の透明
もしくは白濁した状態に回復して、記録された情報が消
去される。なお、記録の部分的な消去は、消去対象部分
のポリマーブレンドに上記と同様な操作を施すことによ
り容易に実現する。 従って、本発明の情報記録媒体は、上記のポリマーブレ
ンドからなる記録層と光吸収性物質からなる光吸収層と
からなり1wi時、情報の記録および消去が可使なE−
DRAW (Erasable−Direct Rea
dAfter Write)型の記録媒体として有用で
ある。 なお、本発明の情報記録媒体は、各種の形態をとること
ができる。すなわち1本発明の情報記録媒体は、ビデオ
・ディスク、オーディオ・ディスク、フレキシブル・デ
ィスク、さらには大容量静止画像ファイルおよび大容量
コンピュータ用ディスク・メモリーなどの光ディスク、
あるいは光記録カード、光記録シート、光記録テープな
どの種々の形態の情報記録媒体として有効に利用するこ
とができる。 そして、本発明の情報記録媒体の製造に際しては、記録
層材料がポリマーであることから塗布法によって容易に
記録層を形成することができ、従って、製造操作の簡略
化、製造時間の短縮、および製造コストの低減が容易に
実現する。 [発明の構成] 本発明の情報記録媒体の実施態様を第1図乃至第3図を
参照しながら説明する。 第1図〜第3図はそれぞれ、本発明の情報記録媒体の層
構成の例を示す断面図である。 第1図において、記録媒体は基板lとその片面に設けら
れた光吸収層285よび記録層3とから構成されている
。 第2図において、記録媒体は基板lとその両面に設けら
れた記録層3および光吸収層2、並びに記録層3”と光
吸収層2°から構成されている。 本発明の情報記録媒体には、反射層および/または保護
層が備えられていてもよい。 たとえば、第3因において、記録媒体は順に基板l、光
吸収層2、記i居3、反射層415よび保護層5から構
成される。 ただし、本発明の記録媒体は上記の態様に限定されるも
のではなく、たとえば情報の記録、再生等を基板と反対
側からレーザ光を照射して行なう場合には、反射層は基
板上(すなわち、記録層と光吸収層のうち基板側の層と
基板との間)に設けられる。また、基板上には下塗層、
プレグルーブ層など公知の各種の中間層が設けられてい
てもよい。 記録層は、実質的にポリマーブレンドからなる層である
。 本発明において記録層の材料として用いられるポリマー
ブレンドは、二種以上のポリマーの混合物であって、相
・溶状態と相分離状態との間で状態変化を起こしうるも
のである。ただし、ポリマーと七ツマ−との組合せの場
合でも同様な挙動を示すことがあり、そのような組成の
ものも本発明のポリマーブレンドに含まれる。 ポリマーブレンドには、大別して、常温では透明な相溶
状態であって着点以上の高温で相分離して白濁する下限
臨界共溶温度(LCST)型のものと、逆に常温では白
濁した相分離状態であって着点以上の高温で相溶して透
明になる上限臨界共溶温度(UC3T)型のものとがあ
る。 第4図に、LCST型のポリマーブレンドの相図の例を
示す。横軸は二種のポリマーをブレンドした場合の片方
のポリマーの容積分率を示し、縦軸は温度を示す。 第4図において、曲線上の各点かその組成における着点
である。この着点より低温で領域(第4図の曲線下側)
が相溶状態(透明)を示し、着点以上の高温領域(第4
図の曲線上側)が相分離状態(白濁)を示す、またポリ
マーブレンドは温度Tc(最も低い着点の温度)より低
い温度では如何なる組成であっても均一に混合している
ところから、この温度Tcを下限臨界共溶温度と呼ぶ。 また、UCST型のポリマーブレンドの場合には反対に
、相図が上に凸型の曲線となり、同様に上限臨界共溶温
度が決定される。 ポリマーブレンドの着点は、ポリマーの種類、その組成
、さらに無定形ポリマーの場合にはその分子量分布や分
子量によっても異なるが60〜400℃の範囲にあるの
が好ましく、特に好ましいのは80〜300℃の範囲で
ある。 LCST型のポリマーブレンドの例としては、l)無定
形ポリマー同志の組合せ: ポリスチレンとポリビニルメチルエーテル、スチレン・
アクリロニトリル共重合体とポリ−(−カプロラクトン
、スチレン・アクリロニトリル共重合体とポリメチルメ
タクリレート、ポリ硝酸ビニルとポリメチルアクリレー
ト、エチレン・酢酸ビニル共重合体と塩素化ゴム、ポリ
−(−カプロラクトンとポリカーボネート(ビスフェノ
ールA型)、p−クロロスチレン・O−クロロスチレン
共重合体とポリ(2,6−シメチルー1.4−フェニレ
ンオキサイド)、ポリカーボネート(ビスフェノールA
型)とエチレンオキサイドブロック共重合体、ブチレン
テレフタレート・テトラヒドロフランブロック共重合体
とポリ塩化ビニル、熱可塑性ポリウレタン[ポリ−(−
カプロラクトンソフトブロック]とポリ塩化ビニル; 2)結晶性ポリマーと無定形ポリマーの組合せ: ポリ弗化ビニリデンとポリメチルアクリレート、ポリ弗
化ビニリデンとポリエチルアクリレート、ポリ弗化ビニ
リデンとポリメチルメタクリレート、ポリ弗化ビニリデ
ンとポリエチルメタクリレート、ポリ弗化ビニリデンと
ポリビニルメチルケトン:および 3)結晶性ポリマーと結晶性モノマーの組合せ: ポリエチレンオキサイドとトリオキサン、ポリ−ε−カ
プロラクトンとトリオキサン:を挙げることができる。 UCST型のポリマーブレンドの例としては、ポリスチ
レンとポリイソプレン、ポリスチレンとポリイソブチン
、ポリプロピレンオキサイドとポリブタジェン、ポリイ
ソブチンとポリジメチルシロキサンなどの無定形ポリマ
ー同志の組合せを挙げることができる。 なお、これらのポリマーはLC3T、UCSTを示す範
囲内で適宜能の七ツマ−との共重合体とすることができ
る。 次に、光吸収層は光吸収性物質、すなわち光を吸収して
、発熱する物質を含む層である。 本発明に用いられる光吸収性物質はレーザー光に対する
吸収率が高く、光吸収により発熱作用を示すものである
。 記録再生用レーザーとして近赤外光を発振する半導体レ
ーザーの利用が実用化されている点から、光吸収性物質
としては700〜900nmの近赤外領域の光に対する
吸収率が高い色素が好ましい。その例としては、 i)シアニン系色素: [11(CH3)J−(C)l=CH)i−CH−◆N
(C)13)z C文 04−(ただし、nは2また
は3である) N(C:1lz)z ”
N(CH3)z[31C−CH−CH冨CH−C 11R (ただし、Rは水素原子またはN(CI+3)2である
) RX R (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン原子で
ある) RY−R (ただし、Rは置換または未置換アルキル基、アルコキ
シ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素原
子またはハロゲン原子であり、Y−はハロゲン、バーク
ロレート、置換または未着換ベンゼンスルホネート、パ
ラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチル
スルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカル
ボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレー
トであり、nはθ〜3の整数である)
報の記録方法に用いられる新規な情報記録媒体に関する
。さらに詳しくは本発明は、相変化に基づいて情報の記
録と消去を行ないうる情報記録媒体に関する。 [発明の技術的背景] 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は通常は光ディスクとも称され、ビ
デオ・ディスク、オーディオ・ディスク、さらには大容
量静止画像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディス
ク・メモリーなどの広範な用途に使用されうるちのであ
る。 光ディスクは基本的に、プラスチック、ガラス等からな
る円盤状の透明基板と、この上に設けられた記録層とか
ら構成される。記録層の材料としては、Bi、Sn、I
n、Te等の金属または半金属:およびシアニン系、金
属錯体系、キノン系等の色素か知られている。 光ディスクへの情報の書き込みは、たとえばレーザービ
ームをこの光ディスクに照射することにより行なわれ、
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてその光
学的特性を変えることにより情報が記録される。 記録層の変化としては、孔(ピット)形成、凹部形成お
よび居間の気泡(バブル)形成による変形が代表的であ
り、なかでも孔形成による記録は最も盛んに行なわれて
いる方法である。また、他の記録方法としては、二層の
記録層間の反応を利用する方法、相変化を利用する方法
および磁化反転を利用する方法などが知られている。相
変化を利用して記録する系としては、As−Te−Ge
系の非晶質記録層をガラス転移点以上に昇温させること
により結晶化させて記録する系が知られている。 光ディスクからの情報の読み取りもまた、レーザービー
ムな光ディスクに照射することにより行なわれ、記録層
の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出
することにより情報が再生される。 なお、光ディスクとしては、−回の記j2(書き込み)
のみが可ス蔚なもの(書き換え不ス走タイプ)と、記録
と消去を繰返し行なうことか可濠なタイプ(書き換え可
使タイプ)とがある。 光ディスクに記録された情報の消去は、記録が記$i層
の可逆変化による場合以外には行なうことかできず、孔
形成等の外形変化による場合には光ディスクは書き換え
不能タイプとなる。 記録層材料としては従来より上記のように金属及び半金
属などの無機物質または色素が用いられてきた。一方、
加工性、安全性およびコストなどの点て優れている有機
高分子物質を記録材料として用いる記録層について従来
全く提案されていなかった。しかし、ごく最近になって
、5光記録の記録材料として弗化ビニリデン系ポリマー
とポリメタクリル酸メチルからなるポリマーブレンドを
用い、該物質の相溶状態−相分離状態間の状態変化を利
用して情報を記録する方法か提案されている(宮田、他
、 ”ポリマーブレンドによる光記録材料”第一回東京
農工大学先端科学技術展資料集、P、31.1986)
。しかしながら、上記ポリマーブレンド自体はレーザー
ビーム等の光に対する吸収か小さいために、該ポリマー
ブレンド単独ては実際には充分な情報の記録を行なうこ
とができず、そのまま実用化することは困難である。 [発明の目的] 本発明は、記録材料として有機高分子物質を用いた新規
な情報記録媒体を提供することをその目的とするもので
ある。 [発明の要旨] 本発明は、基板と、この基板の片面もしくは両面に設け
られた、温度変化により相溶状態と相分離状態間で状態
変化を起こしうるポリマーブレンドからなる記録層、お
よびこの記録層に接して設けられた光吸収性物質からな
る光吸収層を有することを特徴とする情報記録媒体にあ
る。 本発明の情報記録媒体において、記録層と光吸数層とは
互いに接していればよく、その順序に特に制限はない、
すなわち、記$1層と光吸収層のいずれか基板側に在っ
てもよい。 本発明の情報記録媒体は、その光吸収層にレーザー光を
照射して吸収させることにより、該光吸収性層の光吸収
性物質を発熱させ、この発熱によって該発熱部分に接す
る部分のポリマーブレンドをその相溶状態と相分離状態
間の着点以上に昇温させて、そのポリマーブレンドを状
態変化させ、次に急冷することにより、このポリマーブ
レンドの状態変化を固定する方法を利用することにより
情報の記録を行なうことができる。 上記の方法により一旦記録された情報を消去して再度記
録を行なうための消去操作は、光吸収層に光を均一に照
射して、光吸収性物質を発熱させ、この発熱によってポ
リマーブレンドをその相溶状態と相分離状態間の着点以
上に昇温させたのち、これを徐冷する操作を行なうこと
により容易に実施することができる。この操作によって
ポリマーブレンドを元の状態(未記録状態)に戻すこと
ができる。なお、ポリマーブレンドの元の状態(未記録
状8)への復帰は、ポリマーブレンドを単に相溶状態と
相分離状態間の着点以上の温度に加熱したのち、これを
徐冷する操作によっても回旋である。また、情報の部分
的な書き換えは、書き換え対象部分のポリマーブレンド
に接触している光吸収層にレーザー光を照射して吸収さ
せることにより、核層の光吸収性物質を発熱させ、この
発熱によって、対象部分のポリマーブレンドをその相溶
状態と相分離状態間の着点以上に昇温させて、そのポリ
マーブレンドを状態変化させ、次に徐冷する方法を利用
することにより容易に実現する。 本発明においてr着点」とは、ポリマーブレンドがその
組成において、相溶状態と相分離状態間で状態変化を起
こす温度をいう。この状態変化は通常、外観上では透明
状態から不透明状態(または半透明状態)への変化とし
て現われる。 本発明に用いられるポリマーブレンドには下限臨界共溶
温度(LC3T)型のものと上限臨界共溶温度(UC3
T)型のものとがある。下限臨界共溶温度型のものは、
着点以上の温度にて相分離状態を示し、一方上限臨界共
溶温度型のものは、着点以上の温度にて相溶状態を示す
、いずれのポリマーブレンドも、温度に依存して相溶状
態と相分離状態間で状態変化を生じ、相溶状態ではブレ
ンドされたポリマーが均一に混合していて透明であるが
、相分離状態では各成分ポリマーの屈折率が異なるため
に白濁する。ポリマーブレンドは、また、着点以上で一
旦白濁もしくは透明化したのち徐冷すると元の状態に戻
るが、一方急冷した場合には常温でもそのままの白濁度
(透明度)を保持する性質を有する。 従って、本発明の情報記録媒体において、記録材料であ
るポリマーブレンドの層(記録層)に光吸収性物質の層
(光吸収層)を接触させておき。 その光吸収性物質にレーザービームを照射することによ
り、光吸収性物質はビームエネルギーを吸収したのち発
熱し、この熱を受けてポリマーブレンドが着点以上とな
って状態変化を起こし、白濁もしくは透明化する。そし
て、そののちポリマーブレンドを急冷することにより、
レーザービームの照射部分はこの白濁もしくは透明化し
た状態に固定され、これにより情報の記録か行なわれる
。 なお、情報の再生は従来のように比較的弱いレーザービ
ームの照射により行なうことができる。すなわち、透明
度の差による反射率もしくは透過率の違いに基づいて情
報を読み取ることができる。 さらに、部分的に状態変化を起こしたポリマーブレンド
を再び着点以上に昇温させたのち徐冷することにより、
光照射部分(記録部分)を元の状態に戻すことができる
。この操作によって、ポリマーブレンド全体が元の透明
もしくは白濁した状態に回復して、記録された情報が消
去される。なお、記録の部分的な消去は、消去対象部分
のポリマーブレンドに上記と同様な操作を施すことによ
り容易に実現する。 従って、本発明の情報記録媒体は、上記のポリマーブレ
ンドからなる記録層と光吸収性物質からなる光吸収層と
からなり1wi時、情報の記録および消去が可使なE−
DRAW (Erasable−Direct Rea
dAfter Write)型の記録媒体として有用で
ある。 なお、本発明の情報記録媒体は、各種の形態をとること
ができる。すなわち1本発明の情報記録媒体は、ビデオ
・ディスク、オーディオ・ディスク、フレキシブル・デ
ィスク、さらには大容量静止画像ファイルおよび大容量
コンピュータ用ディスク・メモリーなどの光ディスク、
あるいは光記録カード、光記録シート、光記録テープな
どの種々の形態の情報記録媒体として有効に利用するこ
とができる。 そして、本発明の情報記録媒体の製造に際しては、記録
層材料がポリマーであることから塗布法によって容易に
記録層を形成することができ、従って、製造操作の簡略
化、製造時間の短縮、および製造コストの低減が容易に
実現する。 [発明の構成] 本発明の情報記録媒体の実施態様を第1図乃至第3図を
参照しながら説明する。 第1図〜第3図はそれぞれ、本発明の情報記録媒体の層
構成の例を示す断面図である。 第1図において、記録媒体は基板lとその片面に設けら
れた光吸収層285よび記録層3とから構成されている
。 第2図において、記録媒体は基板lとその両面に設けら
れた記録層3および光吸収層2、並びに記録層3”と光
吸収層2°から構成されている。 本発明の情報記録媒体には、反射層および/または保護
層が備えられていてもよい。 たとえば、第3因において、記録媒体は順に基板l、光
吸収層2、記i居3、反射層415よび保護層5から構
成される。 ただし、本発明の記録媒体は上記の態様に限定されるも
のではなく、たとえば情報の記録、再生等を基板と反対
側からレーザ光を照射して行なう場合には、反射層は基
板上(すなわち、記録層と光吸収層のうち基板側の層と
基板との間)に設けられる。また、基板上には下塗層、
プレグルーブ層など公知の各種の中間層が設けられてい
てもよい。 記録層は、実質的にポリマーブレンドからなる層である
。 本発明において記録層の材料として用いられるポリマー
ブレンドは、二種以上のポリマーの混合物であって、相
・溶状態と相分離状態との間で状態変化を起こしうるも
のである。ただし、ポリマーと七ツマ−との組合せの場
合でも同様な挙動を示すことがあり、そのような組成の
ものも本発明のポリマーブレンドに含まれる。 ポリマーブレンドには、大別して、常温では透明な相溶
状態であって着点以上の高温で相分離して白濁する下限
臨界共溶温度(LCST)型のものと、逆に常温では白
濁した相分離状態であって着点以上の高温で相溶して透
明になる上限臨界共溶温度(UC3T)型のものとがあ
る。 第4図に、LCST型のポリマーブレンドの相図の例を
示す。横軸は二種のポリマーをブレンドした場合の片方
のポリマーの容積分率を示し、縦軸は温度を示す。 第4図において、曲線上の各点かその組成における着点
である。この着点より低温で領域(第4図の曲線下側)
が相溶状態(透明)を示し、着点以上の高温領域(第4
図の曲線上側)が相分離状態(白濁)を示す、またポリ
マーブレンドは温度Tc(最も低い着点の温度)より低
い温度では如何なる組成であっても均一に混合している
ところから、この温度Tcを下限臨界共溶温度と呼ぶ。 また、UCST型のポリマーブレンドの場合には反対に
、相図が上に凸型の曲線となり、同様に上限臨界共溶温
度が決定される。 ポリマーブレンドの着点は、ポリマーの種類、その組成
、さらに無定形ポリマーの場合にはその分子量分布や分
子量によっても異なるが60〜400℃の範囲にあるの
が好ましく、特に好ましいのは80〜300℃の範囲で
ある。 LCST型のポリマーブレンドの例としては、l)無定
形ポリマー同志の組合せ: ポリスチレンとポリビニルメチルエーテル、スチレン・
アクリロニトリル共重合体とポリ−(−カプロラクトン
、スチレン・アクリロニトリル共重合体とポリメチルメ
タクリレート、ポリ硝酸ビニルとポリメチルアクリレー
ト、エチレン・酢酸ビニル共重合体と塩素化ゴム、ポリ
−(−カプロラクトンとポリカーボネート(ビスフェノ
ールA型)、p−クロロスチレン・O−クロロスチレン
共重合体とポリ(2,6−シメチルー1.4−フェニレ
ンオキサイド)、ポリカーボネート(ビスフェノールA
型)とエチレンオキサイドブロック共重合体、ブチレン
テレフタレート・テトラヒドロフランブロック共重合体
とポリ塩化ビニル、熱可塑性ポリウレタン[ポリ−(−
カプロラクトンソフトブロック]とポリ塩化ビニル; 2)結晶性ポリマーと無定形ポリマーの組合せ: ポリ弗化ビニリデンとポリメチルアクリレート、ポリ弗
化ビニリデンとポリエチルアクリレート、ポリ弗化ビニ
リデンとポリメチルメタクリレート、ポリ弗化ビニリデ
ンとポリエチルメタクリレート、ポリ弗化ビニリデンと
ポリビニルメチルケトン:および 3)結晶性ポリマーと結晶性モノマーの組合せ: ポリエチレンオキサイドとトリオキサン、ポリ−ε−カ
プロラクトンとトリオキサン:を挙げることができる。 UCST型のポリマーブレンドの例としては、ポリスチ
レンとポリイソプレン、ポリスチレンとポリイソブチン
、ポリプロピレンオキサイドとポリブタジェン、ポリイ
ソブチンとポリジメチルシロキサンなどの無定形ポリマ
ー同志の組合せを挙げることができる。 なお、これらのポリマーはLC3T、UCSTを示す範
囲内で適宜能の七ツマ−との共重合体とすることができ
る。 次に、光吸収層は光吸収性物質、すなわち光を吸収して
、発熱する物質を含む層である。 本発明に用いられる光吸収性物質はレーザー光に対する
吸収率が高く、光吸収により発熱作用を示すものである
。 記録再生用レーザーとして近赤外光を発振する半導体レ
ーザーの利用が実用化されている点から、光吸収性物質
としては700〜900nmの近赤外領域の光に対する
吸収率が高い色素が好ましい。その例としては、 i)シアニン系色素: [11(CH3)J−(C)l=CH)i−CH−◆N
(C)13)z C文 04−(ただし、nは2また
は3である) N(C:1lz)z ”
N(CH3)z[31C−CH−CH冨CH−C 11R (ただし、Rは水素原子またはN(CI+3)2である
) RX R (ただし、Rはアルキル基であり、Xはハロゲン原子で
ある) RY−R (ただし、Rは置換または未置換アルキル基、アルコキ
シ基、アラルキル基、アルケニル基であり、Xは水素原
子またはハロゲン原子であり、Y−はハロゲン、バーク
ロレート、置換または未着換ベンゼンスルホネート、パ
ラトルエンスルホネート、メチルスルフェート、エチル
スルフェート、ベンゼンカルボキシレート、メチルカル
ボキシレートまたはトリフルオロメチルカルボキシレー
トであり、nはθ〜3の整数である)
【6】 Φ−
L=’iP (X−)@(ただし、Φおよび!はそれ
ぞれインドール環残基またはベンゾインドール環残基で
あり、Lはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、ト
リカルボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成す
るための連結基であり、X−は陰イオンであり、mは0
またはlである) ii)スクワリリウム系色素: 1ii)チオールニッケル錯塩系色素:(ただし、Xは
水素原子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、
nは1〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基で
ある)iV)ナフトキノン系、アントラキノン系色素:
(ただし、Rは水素原子またはOC,HSである)(た
だし、Rは0)1. Nl2、NIIXまたはNXt
テあてあり、ここでXはアルキル基であり、X゛は水素
原子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミ
ノ基である) QNIl、0 oso*s などを挙げることができる。これらの色素以外にトリア
リルメタン系色素、フタロシアニン系色素、インモニウ
ム系色素およびニトロソ化合物なども用いることができ
る。 以下令白 本発明の情報記録媒体において、光吸収性物質として、
金属または半金属を用いてもよイ、コレらは単独で使用
してもよく、組成物として併用してもよい、また、金属
または半金属と、それらの酸化物、ハロゲン化物、硫化
物とを併用してもよい。 光吸収性物質として用いられる金属と半金属の例として
はMg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta
、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、R
u、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn
、Cd、All、Ga、I n、Si、Ge、Te、P
b、Po、Sn、Biなどの金属および半金属を挙げる
ことができる。これらのうちで好ましいものはSn、B
iおよびInである。これらの物質は単独で用いてもよ
いし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用
いてもよい。 本発明の情報記録媒体において、記録層と光吸収層とは
いずれが上にあってもよい、すなわち、基板の上に記録
層と光吸収層とがこの順に積層されていてもよく、ある
いは基板の上に光吸収層と記録層とがこの順に積層され
ていてもよい。 以下の記載では、上記の後者の構成(第1図に記載の構
成)を例にとって、本発明の情報記録媒体の材料と製造
方法について説明する。 光吸収層の代表的な態様としては、実質的に光吸収性物
質のみからなる層、光吸収性物質が樹脂などの結合剤中
に分散されてなる層を挙げることができる。 色素型の光吸収性物質を用いた光吸収層の形成は、まず
光吸収性物質(および任意に結合剤)を適当な溶剤に溶
解して塗布液を調製し、この塗布液を基板(または記録
層)表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することに
より行なうことができる。 結合剤としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキス
トラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質;およ
びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ
イソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共
重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリ
メタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアル
コール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラー
ル樹脂、ゴム誘導体、フェノール中ホルムアルデヒド樹
脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子
物質を挙げることができる。 塗布液調製用の溶剤としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノール、n−プ
ロパ/−ル、インプロパツール、n−ブタノールなどの
ポリマーブレンドおよび光吸収性物質を溶解もしくは分
散する溶剤およびこれらの混合溶剤を挙げることができ
る。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑
剤、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよ
い。 塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。 光吸収層の材料として、色素型光吸収性物質に結合剤を
併用する場合には、光吸収性物質と結合剤との混合比は
、一般には、100:0.1〜100:Zoo(311
i比)の範囲にあり、好ましくは100:l”100:
50の範囲である。また、形成される光吸収層の層厚は
一般に0.01〜10gmの範囲にあり、好ましくは0
.02〜Igmの範囲である。また、前述のように、光
吸収層は基板の片面のみならず両面に設けられていても
よい(第2図参照)。 光吸収性物質として前記の金属、半金属などを用いる場
合には、光吸収層は、たとえば金属、半金属を用いて蒸
着、スパッタリング、イオンプレーテインクなどの方法
により基板(あるいは記録層)、または基板上の下塗層
の上に形成することができる、この場合の光吸収層の層
厚は一般には100〜3000又の範囲であり、好まし
くは、300〜1000又の範囲である。 記録層の形成は、まず上記のポリマーブレンドを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製し、この塗布液を、上記の
ようにして形成された光吸収層(あるいは基板表面)に
塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行なう
ことができる。 塗布液調製用の溶剤としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノール、n−プ
ロパツール、インプロパツール、n−ブタメールなどの
ポリマーブレンドを溶解もしくは分散する溶剤、および
これらの混合溶剤を挙げることができる。塗布液中には
、さらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、滑剤なと各
種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。 塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードニート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。 記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は光情報記
録に要求される光学濃度の点から一般に0.001−1
OBの範囲にあり、好ましくは0.02〜14mの範囲
である。また、前述のように、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい(第2図参照)。 本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス;セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂−:ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂:エポキ
シ樹脂;およびポリカーボネート樹脂、アモルファスポ
リオレフィン、ポリエステルを挙げることができる。こ
れらのうちで寸度安定性、透明性および平面性などの点
から、好ましいものは、ポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリ
オレフィン、ポリエステルおよびガラスである。尚、こ
れらの材料はフィルム状として、または剛性のある基板
として使うことができる。 光吸収層と記録層が設けられる側の基板表面には、平面
性の改善、接着力の向上および記録層の変質の防止の目
的で、下塗層が設けられていてもよい、下塗層の材料と
しては、たとえば、ポリメチルメタクリレート、アクリ
ル酸魯メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン
酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールア
クリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、スチレ
ン拳ビニルトルエン共重合体、グロルスルホン化ポリエ
チレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポ
リオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル
・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等
の高分子物質;シランカップリング剤などの有機物質;
および無機酸化物(Si02、A見203等)、無機弗
化物(MgF2)などの無機物質を挙げることができる
。 ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン働無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および/または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられているのが望
ましい。 下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、デイツプコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。下
塗層の層厚は一般にo 、oos〜20gmの範囲にあ
り、好ましくは0.001−1Oeの範囲である。 また、基板(または下塗層)上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー(またはオリゴマー)と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。 プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンバ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板憂載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる0
次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜1100pの範囲にあり、好ま
しくは0.1〜50pmの範囲である。 また、基板材料がプラスチックの場合は、射出成形ある
いは押出成形などにより直接基板にプレグルーブを設け
てもよい。 記QRの上(ただし、光吸収層が記録層の上、すなわち
基板から遠い側に設けられている場合には、その光吸収
層の上)には、情報の再生時におけるS/N比の向上お
よび記録時における感度の向上の目的で、反射層が設け
られてもよい、このような構成の場合には、情報の記録
、再生はレーザービームを記録層に、基板側から照射す
ることにより行なわれる。なお反射層を、記録層の上で
はなく、基板(または下塗層)と光吸収R(ただし、光
吸収層が記録層の上、すなわち基板から遠い側に設けら
れている場合には、記録層)との間に設けてもよい、こ
のような構成の場合には、情報の記録、再生はレーザー
ビームを記録層に、記録層の上方(基板側とは反対側)
から照射することにより行なわれる。 反射層は、実質的に光反射性物質からなる層である。 光反射性物質はレーザー光に対する反射率が高い物質で
あり、その例としてはMg、Se、Y、Ti、 Zr
、Hf、V、 Nb、Ta、 Cr、Mo、 W
、 Mn、 Re、 Fe、 Co、 N
i 、Ru、 Rh、 Pd、 I r、
Pt、 Cu、 Ag、Au、 Zn% C
d、 An 、 Ga、 In、 Si。 Ge、Te%Pb、Po、Sn、Biなどの金属および
半金属を挙げることができる。これらのうちで好ましい
ものは、Ai、CrおよびNiである。これらの物質は
単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでま
たは合金として用いてもよい、なお、光吸収層を金属ま
たは半金属から形成する・場合には、反射層の材料は、
その光吸収層を形成する金属または半金属よりも反射率
が高いものが選ばれる。また、この場合には、光吸収層
と反射層は共に記録層に対して同じ側に設けられる。 反射層は、たとえば上記光反射性物質を用いて蒸着、ス
パッタリング、イオンブレーティングなどの方法により
記録層、基板、または下塗層の上に形成することができ
る0反射層の層厚は一般には100〜3000Xの範囲
にある。 なお、光吸収層と記録層を基板の片面にのみ設けて情報
の記録再生を基板側から行なう場合には、反射層は記録
層の基板とは反対側に設けられてもよい。 さらに、記録層と光吸収層のうちの基板から遠い側の層
、もしくは反射層の基板に面する側とは反対側(露出表
面側)には、記録層、光吸収層または反射層を物理的お
よび化学的に保護する目的で保護層が設けられてもよい
、また保護層は、基板の記録層と光吸収層が設けられて
いない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられて
いてもよい。 保W層に用いられる材料の例としては、SiO,SiO
2、MgF、、5n02等の無機物質;熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。 保!INは、たとえばプラスチックの押出加工で得られ
たフィルムを接着層を介して記録Je(または光吸収層
あるいが反射層)上および/または基板上にラミネート
することにより形成することができる、あるいは真空蒸
着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられても
よい、また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、
これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、
この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成する
ことができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままも
しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、こ
の塗布液を塗布し、U■光を照射して硬化させることに
よっても形成することができる。これらの塗布液中には
、更に帯電防止剤。 酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて
添加してもよい。 保護層の層厚は一般には0.11−1O0pの範囲にあ
る。 次に、本発明の情報の記録方法および消去方法を、前記
第1図に示した基板、光吸収層および記録層とから構成
された情報記R媒体を例にとって説明する。 情報の記録を行なう場合には、Ga−Asレーザー等の
近赤外光を発振する半導体レーザーを用いて、公知の方
法に従って集光されたレーザービームを情報記録媒体の
基板側表面(もしくは光吸収層表面)に照射する。レー
ザービームが照射されると、光吸収層中のビーム照射部
分の近赤外吸収色素、金属、半金属等の光吸収性物質は
直ちにビームエネルギーを吸収して発熱する。この光吸
収性物質の発熱により、該光吸収性物質と接触している
記録層中のポリマーブレンドが昇温されて着点以上の温
度に高められ、状態変化を起こす。 たとえばポリマーブレンドがLC3T型である場合には
、透明な相溶状態にあったポリマーブレンドは昇温によ
り相分離を生じて白濁する。 次に、記録媒体を急冷すると、相分離したポリマーブレ
ンドは常温でも白濁した状態に維持される。従って、レ
ーザービームの照射部分のみが白濁して、情報を記録す
ることができる。なお、UCST型のポリマーブレンド
の場合には、逆にレーザービームの照射部分のみが相溶
状態に維持されて透明となる。 記録媒体からの情報の再生は従来の情報の読み取りと同
様の方法により行なうことができ、再生用のレーザービ
ームを記録層側あるいは基板側に照射してその反射光を
測定し、記録層の白濁部分と透明部分における光反射率
の差に基づいて情報を再生することができる。なお、記
録層の片面に反射層が設けられている場合には、光反射
率の差を一層顕著にすることができ、再生のS/N比を
高めることができる0反対に、反射層が設けられていな
い場合にはレーザービームの透過光を測定することによ
り、光透過率の差に基づいて情報を再生することもでき
る。 また、情報の消去を行なう場合には、上記と同様の半導
体レーザー等を用いて、記録層の状態変化を生じている
部分(LC3T型であれば、白濁部分)に接する光吸収
層に、あるいは光吸収性物質に該光線を照射する。光照
射された光吸収層中の光吸収性物質はその光エネルギー
を吸収して発熱し、この光吸収性物質に接する記録層の
ポリマーブレンドは昇温されて着点以上の温度に高めら
れる。なお、前述のように消去の際のポリマーブレンド
の加熱は、赤外線ヒーターなどのような熱源を用いてポ
リマーブレンドに直接熱エネルギーを与えることにより
行なってもよい。 次に、記録媒体を徐冷すると、相分離状態にあるポリマ
ーブレンドは着点より低温になるにつれて相溶状態に変
化し、常温で元の透明な状態に回復する。従って、記録
層全体が透明となり、記録されていた情報を消去するこ
とができる。消去用の光照射パワーは、ポリマーブレン
ドを着点以上にすることができる限りにおいて記録パワ
ーよりも小さくてよい。 第5図は、情報の記録および消去におけるポリマーブレ
ンドの状態変化を概略的に示すグラフである。横軸は時
間を示す。 第5図において、最上部のグラフPはポリマーブレンド
に照射される光の照射パワーの変化を表わしており、P
、および17部分はそれぞれ情報の記録および消去に相
当する。グラフTは、ポリマーブレンドの温度変化を表
わしており、T1およびT 2 a分はそれぞれ急冷お
よび徐冷に相当する、Taはポリマーブレンドのその組
成における着点であり、記録、消去いずれの場合であっ
てもポリマーブレンドは一旦着点以上の温度まで高めら
れる。 最下部のグラフSは、ポリマーブレンドの状態変化を表
わしており、状態Aは未記録状態(LC3T型であれば
透明な相溶状態を意味し、UC3T型であれば白濁した
相分離状態を意味する)を表わし、状態Bは記録状態(
LC3T型であれば白濁した相分離状態を意味し、UC
3T型であれば透明な相溶状態を意味する)を表わす。 以下に1本発明の実施例および比較例を記載する。 [実施例1] シアニン系色素(上記構造式【5〕、 をジクロロエタン(溶剤)に溶解して、塗布液を調製し
た。 トラッキングガイドが設けられた円盤状のセルキャスト
アクリル樹脂基板(外径:130mm、内径:15mm
、厚さ:1.2mm、トラックピッチ1.6JLm)上
に、上記塗布液をスピンコード法により塗布したのち乾
燥させて、乾燥膜厚が0.1ルmの光吸収層を設けた。 次に、ポリスチレンとポリビニルメチルエーテルの組合
せのLC5T型ポリマーブレンドをトルエンに溶解して
塗布液を調製した。この塗布液をスピンコード法により
光吸収層上に塗布したのち乾燥させて、乾燥膜厚が0.
1gmの記録層を設けた。 このようにして、順に基板、光吸収層および記録層から
なる第1図に示したような構成の情報記録媒体を製造し
た。 次に、この情報記録媒体に半導体レーザー光(波長=8
30nm、照射パワー:10mW、ビーム径:1.6g
m)を照射して情報の書き込みを行なったのち、半導体
レーザー(波長=830nm、照射パワー:0.6mW
、ビーム径=1゜6gm)を照射して情報の読み取りを
行なったところ、二値情報が得られた。 [実施例2] 実施例1において、ポリマーブレンドとしてポリ弗化ビ
こリデンとポリメチルメタクリレートの組合せのLCS
T型ポリマーブレンドをジメチルアセトアミド溶液とし
て用いて記録層を設けること以外は実施例1の方法と同
様の処理を行なうことにより、順に基板、光吸収層およ
び記録層からなる情報記録媒体を製造した。 得られた情報記録媒体に実施例1の方法と同様の操作を
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、二値情報が得られた。 [比較例1] 実施例2において、基板上に光吸収層を設けないで直接
に記録層を設けること以外は実施例2の方法と同様の処
理を行なうことにより、基板および記録層からなる情報
記録媒体を製造した。 得られた情報記録媒体に実施例1の方法と同様の操作を
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、二値情報は得られなかった。 [実施例3〕 トラッキングガイドが設けられたセルキャストアクリル
樹脂基板上に、実施例1の方法によって光吸収層を設け
、次いでその上に、ポリマーブレンドとしてポリ弗化ビ
ニリデンとポリメチルメタクリレートの組合せのLC5
T型ポリマーブレンドを用いて実施例1と同様の方法に
より記録層を設け、さらにその上にアルミニウムを真空
蒸着することにより層厚が1000Xの光反射層を形成
した。 次いで、ポリエステルフィルムを接着剤を用いて反射層
上にラミネートすることにより、層厚が1100yLの
保護層を形成した。 このようにして、順に基板、光吸収層、記録層、反射層
および保護層からなる第3図に示された構成を有する情
報記録媒体を製造した。 得られた情報記録媒体に実施例1の方法と同様の操作を
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、高いS/N比で二値情報が得られた。
L=’iP (X−)@(ただし、Φおよび!はそれ
ぞれインドール環残基またはベンゾインドール環残基で
あり、Lはモノカルボシアニン、ジカルボシアニン、ト
リカルボシアニンまたはテトラカルボシアニンを形成す
るための連結基であり、X−は陰イオンであり、mは0
またはlである) ii)スクワリリウム系色素: 1ii)チオールニッケル錯塩系色素:(ただし、Xは
水素原子、塩素原子、臭素原子またはメチル基であり、
nは1〜4の整数であり、Aは第四級アンモニウム基で
ある)iV)ナフトキノン系、アントラキノン系色素:
(ただし、Rは水素原子またはOC,HSである)(た
だし、Rは0)1. Nl2、NIIXまたはNXt
テあてあり、ここでXはアルキル基であり、X゛は水素
原子、アルキル基、アリル基、アミノ基または置換アミ
ノ基である) QNIl、0 oso*s などを挙げることができる。これらの色素以外にトリア
リルメタン系色素、フタロシアニン系色素、インモニウ
ム系色素およびニトロソ化合物なども用いることができ
る。 以下令白 本発明の情報記録媒体において、光吸収性物質として、
金属または半金属を用いてもよイ、コレらは単独で使用
してもよく、組成物として併用してもよい、また、金属
または半金属と、それらの酸化物、ハロゲン化物、硫化
物とを併用してもよい。 光吸収性物質として用いられる金属と半金属の例として
はMg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta
、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、R
u、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn
、Cd、All、Ga、I n、Si、Ge、Te、P
b、Po、Sn、Biなどの金属および半金属を挙げる
ことができる。これらのうちで好ましいものはSn、B
iおよびInである。これらの物質は単独で用いてもよ
いし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金として用
いてもよい。 本発明の情報記録媒体において、記録層と光吸収層とは
いずれが上にあってもよい、すなわち、基板の上に記録
層と光吸収層とがこの順に積層されていてもよく、ある
いは基板の上に光吸収層と記録層とがこの順に積層され
ていてもよい。 以下の記載では、上記の後者の構成(第1図に記載の構
成)を例にとって、本発明の情報記録媒体の材料と製造
方法について説明する。 光吸収層の代表的な態様としては、実質的に光吸収性物
質のみからなる層、光吸収性物質が樹脂などの結合剤中
に分散されてなる層を挙げることができる。 色素型の光吸収性物質を用いた光吸収層の形成は、まず
光吸収性物質(および任意に結合剤)を適当な溶剤に溶
解して塗布液を調製し、この塗布液を基板(または記録
層)表面に塗布して塗膜を形成したのち乾燥することに
より行なうことができる。 結合剤としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキス
トラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物質;およ
びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ
イソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共
重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリ
メタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアル
コール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラー
ル樹脂、ゴム誘導体、フェノール中ホルムアルデヒド樹
脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有機高分子
物質を挙げることができる。 塗布液調製用の溶剤としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノール、n−プ
ロパ/−ル、インプロパツール、n−ブタノールなどの
ポリマーブレンドおよび光吸収性物質を溶解もしくは分
散する溶剤およびこれらの混合溶剤を挙げることができ
る。塗布液中にはさらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑
剤、滑剤なと各種の添加剤を目的に応じて添加してもよ
い。 塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。 光吸収層の材料として、色素型光吸収性物質に結合剤を
併用する場合には、光吸収性物質と結合剤との混合比は
、一般には、100:0.1〜100:Zoo(311
i比)の範囲にあり、好ましくは100:l”100:
50の範囲である。また、形成される光吸収層の層厚は
一般に0.01〜10gmの範囲にあり、好ましくは0
.02〜Igmの範囲である。また、前述のように、光
吸収層は基板の片面のみならず両面に設けられていても
よい(第2図参照)。 光吸収性物質として前記の金属、半金属などを用いる場
合には、光吸収層は、たとえば金属、半金属を用いて蒸
着、スパッタリング、イオンプレーテインクなどの方法
により基板(あるいは記録層)、または基板上の下塗層
の上に形成することができる、この場合の光吸収層の層
厚は一般には100〜3000又の範囲であり、好まし
くは、300〜1000又の範囲である。 記録層の形成は、まず上記のポリマーブレンドを適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製し、この塗布液を、上記の
ようにして形成された光吸収層(あるいは基板表面)に
塗布して塗膜を形成したのち乾燥することにより行なう
ことができる。 塗布液調製用の溶剤としては、トルエン、キシレン、酢
酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチル
エチルケトン、ジクロルメタン、1.2−ジクロルエタ
ン、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノール、n−プ
ロパツール、インプロパツール、n−ブタメールなどの
ポリマーブレンドを溶解もしくは分散する溶剤、および
これらの混合溶剤を挙げることができる。塗布液中には
、さらに酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、滑剤なと各
種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。 塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードニート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。 記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は光情報記
録に要求される光学濃度の点から一般に0.001−1
OBの範囲にあり、好ましくは0.02〜14mの範囲
である。また、前述のように、記録層は基板の片面のみ
ならず両面に設けられていてもよい(第2図参照)。 本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス;セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂−:ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂:エポキ
シ樹脂;およびポリカーボネート樹脂、アモルファスポ
リオレフィン、ポリエステルを挙げることができる。こ
れらのうちで寸度安定性、透明性および平面性などの点
から、好ましいものは、ポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリ
オレフィン、ポリエステルおよびガラスである。尚、こ
れらの材料はフィルム状として、または剛性のある基板
として使うことができる。 光吸収層と記録層が設けられる側の基板表面には、平面
性の改善、接着力の向上および記録層の変質の防止の目
的で、下塗層が設けられていてもよい、下塗層の材料と
しては、たとえば、ポリメチルメタクリレート、アクリ
ル酸魯メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン
酸共重合体、ポリビニルアルコール、N−メチロールア
クリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、スチレ
ン拳ビニルトルエン共重合体、グロルスルホン化ポリエ
チレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポ
リオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル
・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体
、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等
の高分子物質;シランカップリング剤などの有機物質;
および無機酸化物(Si02、A見203等)、無機弗
化物(MgF2)などの無機物質を挙げることができる
。 ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレン働無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および/または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられているのが望
ましい。 下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、デイツプコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。下
塗層の層厚は一般にo 、oos〜20gmの範囲にあ
り、好ましくは0.001−1Oeの範囲である。 また、基板(または下塗層)上には、トラッキング用溝
またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸の形成の目的
で、プレグルーブ層が設けられてもよい、プレグルーブ
層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジエス
テル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの少な
くとも一種のモノマー(またはオリゴマー)と光重合開
始剤との混合物を用いることができる。 プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンバ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板憂載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる0
次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は一般に0.05〜1100pの範囲にあり、好ま
しくは0.1〜50pmの範囲である。 また、基板材料がプラスチックの場合は、射出成形ある
いは押出成形などにより直接基板にプレグルーブを設け
てもよい。 記QRの上(ただし、光吸収層が記録層の上、すなわち
基板から遠い側に設けられている場合には、その光吸収
層の上)には、情報の再生時におけるS/N比の向上お
よび記録時における感度の向上の目的で、反射層が設け
られてもよい、このような構成の場合には、情報の記録
、再生はレーザービームを記録層に、基板側から照射す
ることにより行なわれる。なお反射層を、記録層の上で
はなく、基板(または下塗層)と光吸収R(ただし、光
吸収層が記録層の上、すなわち基板から遠い側に設けら
れている場合には、記録層)との間に設けてもよい、こ
のような構成の場合には、情報の記録、再生はレーザー
ビームを記録層に、記録層の上方(基板側とは反対側)
から照射することにより行なわれる。 反射層は、実質的に光反射性物質からなる層である。 光反射性物質はレーザー光に対する反射率が高い物質で
あり、その例としてはMg、Se、Y、Ti、 Zr
、Hf、V、 Nb、Ta、 Cr、Mo、 W
、 Mn、 Re、 Fe、 Co、 N
i 、Ru、 Rh、 Pd、 I r、
Pt、 Cu、 Ag、Au、 Zn% C
d、 An 、 Ga、 In、 Si。 Ge、Te%Pb、Po、Sn、Biなどの金属および
半金属を挙げることができる。これらのうちで好ましい
ものは、Ai、CrおよびNiである。これらの物質は
単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せでま
たは合金として用いてもよい、なお、光吸収層を金属ま
たは半金属から形成する・場合には、反射層の材料は、
その光吸収層を形成する金属または半金属よりも反射率
が高いものが選ばれる。また、この場合には、光吸収層
と反射層は共に記録層に対して同じ側に設けられる。 反射層は、たとえば上記光反射性物質を用いて蒸着、ス
パッタリング、イオンブレーティングなどの方法により
記録層、基板、または下塗層の上に形成することができ
る0反射層の層厚は一般には100〜3000Xの範囲
にある。 なお、光吸収層と記録層を基板の片面にのみ設けて情報
の記録再生を基板側から行なう場合には、反射層は記録
層の基板とは反対側に設けられてもよい。 さらに、記録層と光吸収層のうちの基板から遠い側の層
、もしくは反射層の基板に面する側とは反対側(露出表
面側)には、記録層、光吸収層または反射層を物理的お
よび化学的に保護する目的で保護層が設けられてもよい
、また保護層は、基板の記録層と光吸収層が設けられて
いない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられて
いてもよい。 保W層に用いられる材料の例としては、SiO,SiO
2、MgF、、5n02等の無機物質;熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂、UV硬化性樹脂等の有機物質を挙げるこ
とができる。 保!INは、たとえばプラスチックの押出加工で得られ
たフィルムを接着層を介して記録Je(または光吸収層
あるいが反射層)上および/または基板上にラミネート
することにより形成することができる、あるいは真空蒸
着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられても
よい、また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、
これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、
この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成する
ことができる。UV硬化性樹脂の場合には、そのままも
しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、こ
の塗布液を塗布し、U■光を照射して硬化させることに
よっても形成することができる。これらの塗布液中には
、更に帯電防止剤。 酸化防止剤、UV吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて
添加してもよい。 保護層の層厚は一般には0.11−1O0pの範囲にあ
る。 次に、本発明の情報の記録方法および消去方法を、前記
第1図に示した基板、光吸収層および記録層とから構成
された情報記R媒体を例にとって説明する。 情報の記録を行なう場合には、Ga−Asレーザー等の
近赤外光を発振する半導体レーザーを用いて、公知の方
法に従って集光されたレーザービームを情報記録媒体の
基板側表面(もしくは光吸収層表面)に照射する。レー
ザービームが照射されると、光吸収層中のビーム照射部
分の近赤外吸収色素、金属、半金属等の光吸収性物質は
直ちにビームエネルギーを吸収して発熱する。この光吸
収性物質の発熱により、該光吸収性物質と接触している
記録層中のポリマーブレンドが昇温されて着点以上の温
度に高められ、状態変化を起こす。 たとえばポリマーブレンドがLC3T型である場合には
、透明な相溶状態にあったポリマーブレンドは昇温によ
り相分離を生じて白濁する。 次に、記録媒体を急冷すると、相分離したポリマーブレ
ンドは常温でも白濁した状態に維持される。従って、レ
ーザービームの照射部分のみが白濁して、情報を記録す
ることができる。なお、UCST型のポリマーブレンド
の場合には、逆にレーザービームの照射部分のみが相溶
状態に維持されて透明となる。 記録媒体からの情報の再生は従来の情報の読み取りと同
様の方法により行なうことができ、再生用のレーザービ
ームを記録層側あるいは基板側に照射してその反射光を
測定し、記録層の白濁部分と透明部分における光反射率
の差に基づいて情報を再生することができる。なお、記
録層の片面に反射層が設けられている場合には、光反射
率の差を一層顕著にすることができ、再生のS/N比を
高めることができる0反対に、反射層が設けられていな
い場合にはレーザービームの透過光を測定することによ
り、光透過率の差に基づいて情報を再生することもでき
る。 また、情報の消去を行なう場合には、上記と同様の半導
体レーザー等を用いて、記録層の状態変化を生じている
部分(LC3T型であれば、白濁部分)に接する光吸収
層に、あるいは光吸収性物質に該光線を照射する。光照
射された光吸収層中の光吸収性物質はその光エネルギー
を吸収して発熱し、この光吸収性物質に接する記録層の
ポリマーブレンドは昇温されて着点以上の温度に高めら
れる。なお、前述のように消去の際のポリマーブレンド
の加熱は、赤外線ヒーターなどのような熱源を用いてポ
リマーブレンドに直接熱エネルギーを与えることにより
行なってもよい。 次に、記録媒体を徐冷すると、相分離状態にあるポリマ
ーブレンドは着点より低温になるにつれて相溶状態に変
化し、常温で元の透明な状態に回復する。従って、記録
層全体が透明となり、記録されていた情報を消去するこ
とができる。消去用の光照射パワーは、ポリマーブレン
ドを着点以上にすることができる限りにおいて記録パワ
ーよりも小さくてよい。 第5図は、情報の記録および消去におけるポリマーブレ
ンドの状態変化を概略的に示すグラフである。横軸は時
間を示す。 第5図において、最上部のグラフPはポリマーブレンド
に照射される光の照射パワーの変化を表わしており、P
、および17部分はそれぞれ情報の記録および消去に相
当する。グラフTは、ポリマーブレンドの温度変化を表
わしており、T1およびT 2 a分はそれぞれ急冷お
よび徐冷に相当する、Taはポリマーブレンドのその組
成における着点であり、記録、消去いずれの場合であっ
てもポリマーブレンドは一旦着点以上の温度まで高めら
れる。 最下部のグラフSは、ポリマーブレンドの状態変化を表
わしており、状態Aは未記録状態(LC3T型であれば
透明な相溶状態を意味し、UC3T型であれば白濁した
相分離状態を意味する)を表わし、状態Bは記録状態(
LC3T型であれば白濁した相分離状態を意味し、UC
3T型であれば透明な相溶状態を意味する)を表わす。 以下に1本発明の実施例および比較例を記載する。 [実施例1] シアニン系色素(上記構造式【5〕、 をジクロロエタン(溶剤)に溶解して、塗布液を調製し
た。 トラッキングガイドが設けられた円盤状のセルキャスト
アクリル樹脂基板(外径:130mm、内径:15mm
、厚さ:1.2mm、トラックピッチ1.6JLm)上
に、上記塗布液をスピンコード法により塗布したのち乾
燥させて、乾燥膜厚が0.1ルmの光吸収層を設けた。 次に、ポリスチレンとポリビニルメチルエーテルの組合
せのLC5T型ポリマーブレンドをトルエンに溶解して
塗布液を調製した。この塗布液をスピンコード法により
光吸収層上に塗布したのち乾燥させて、乾燥膜厚が0.
1gmの記録層を設けた。 このようにして、順に基板、光吸収層および記録層から
なる第1図に示したような構成の情報記録媒体を製造し
た。 次に、この情報記録媒体に半導体レーザー光(波長=8
30nm、照射パワー:10mW、ビーム径:1.6g
m)を照射して情報の書き込みを行なったのち、半導体
レーザー(波長=830nm、照射パワー:0.6mW
、ビーム径=1゜6gm)を照射して情報の読み取りを
行なったところ、二値情報が得られた。 [実施例2] 実施例1において、ポリマーブレンドとしてポリ弗化ビ
こリデンとポリメチルメタクリレートの組合せのLCS
T型ポリマーブレンドをジメチルアセトアミド溶液とし
て用いて記録層を設けること以外は実施例1の方法と同
様の処理を行なうことにより、順に基板、光吸収層およ
び記録層からなる情報記録媒体を製造した。 得られた情報記録媒体に実施例1の方法と同様の操作を
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、二値情報が得られた。 [比較例1] 実施例2において、基板上に光吸収層を設けないで直接
に記録層を設けること以外は実施例2の方法と同様の処
理を行なうことにより、基板および記録層からなる情報
記録媒体を製造した。 得られた情報記録媒体に実施例1の方法と同様の操作を
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、二値情報は得られなかった。 [実施例3〕 トラッキングガイドが設けられたセルキャストアクリル
樹脂基板上に、実施例1の方法によって光吸収層を設け
、次いでその上に、ポリマーブレンドとしてポリ弗化ビ
ニリデンとポリメチルメタクリレートの組合せのLC5
T型ポリマーブレンドを用いて実施例1と同様の方法に
より記録層を設け、さらにその上にアルミニウムを真空
蒸着することにより層厚が1000Xの光反射層を形成
した。 次いで、ポリエステルフィルムを接着剤を用いて反射層
上にラミネートすることにより、層厚が1100yLの
保護層を形成した。 このようにして、順に基板、光吸収層、記録層、反射層
および保護層からなる第3図に示された構成を有する情
報記録媒体を製造した。 得られた情報記録媒体に実施例1の方法と同様の操作を
施して情報の書き込みおよび読み取りを行なったところ
、高いS/N比で二値情報が得られた。
第1図〜第3図はそれぞれ、本発明の情報記録媒体の構
成例を示す断面図である。 第4図は、LCST型のポリマーブレンドの相図を示す
。 第5図は、情報の記録および消去におけるポリマーブレ
ンドの経時状態変化を示すグラフである。 l:基板、2.2”:光吸収層、 3.3’:記録層、4:反射層、5:保護層特許出願人
富士写真フィルム株式会社代 理 人 弁理士
柳 川 泰 男第1図 第2図 第3図 容積分率 第5図 □ 時間
成例を示す断面図である。 第4図は、LCST型のポリマーブレンドの相図を示す
。 第5図は、情報の記録および消去におけるポリマーブレ
ンドの経時状態変化を示すグラフである。 l:基板、2.2”:光吸収層、 3.3’:記録層、4:反射層、5:保護層特許出願人
富士写真フィルム株式会社代 理 人 弁理士
柳 川 泰 男第1図 第2図 第3図 容積分率 第5図 □ 時間
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板と、この基板の片面もしくは両面に設けられた
、温度変化により相溶状態と相分離状態間で状態変化を
起こしうるポリマーブレンドからなる記録層、およびこ
の記録層に接して設けられた光吸収性物質からなる光吸
収層を有することを特徴とする情報記録媒体。 2、上記ポリマーブレンドが、60乃至400℃の範囲
に、相溶状態と相分離状態間の曇点を有するものである
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報記録
媒体。 3、上記ポリマーブレンドが下限臨界共溶温度型ポリマ
ーブレンドであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の情報記録媒体。 4、上記ポリマーブレンドが上限臨界共溶温度型ポリマ
ーブレンドであることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の情報記録媒体。 5、上記光吸収性物質が近赤外領域の光を吸収する色素
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情
報記録媒体。 6、上記記録層および光吸収層のうち基板側に位置する
層の基板側表面、もしくは基板とは反対側に位置する層
の基板とは反対側の表面に光反射層が設けられているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の情報記録媒
体。 7、上記記録層および光吸収層のうち基板側から遠い側
に位置する層の、基板に面する側の反対側の面に保護層
が設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の情報記録媒体。 8、上記記録層および光吸収層のうち基板側から遠い側
に位置する層の、基板に面する側の反対側の面に反射層
と保護層がこの順に設けられていることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の情報記録媒体。 9、基板の記録層と光吸収層に面する側の表面にプレグ
ルーブが設けられていることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の情報記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61181443A JPS6337995A (ja) | 1986-07-31 | 1986-07-31 | 情報記録媒体 |
US07/080,542 US4860273A (en) | 1986-07-31 | 1987-07-31 | Method of recording information and information recording medium employed for the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61181443A JPS6337995A (ja) | 1986-07-31 | 1986-07-31 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6337995A true JPS6337995A (ja) | 1988-02-18 |
Family
ID=16100859
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61181443A Pending JPS6337995A (ja) | 1986-07-31 | 1986-07-31 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6337995A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63236685A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-10-03 | レーム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 支持体上に光学的に読み取り可能な情報を記録し、蓄積し、かつ表示する方法 |
JPH0296942A (ja) * | 1988-10-02 | 1990-04-09 | Taiyo Yuden Co Ltd | 書き換え可能な光情報記録媒体 |
US6087067A (en) * | 1997-04-10 | 2000-07-11 | Tdkcorporation | Optical recording medium |
-
1986
- 1986-07-31 JP JP61181443A patent/JPS6337995A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63236685A (ja) * | 1987-03-16 | 1988-10-03 | レーム・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 支持体上に光学的に読み取り可能な情報を記録し、蓄積し、かつ表示する方法 |
JPH0296942A (ja) * | 1988-10-02 | 1990-04-09 | Taiyo Yuden Co Ltd | 書き換え可能な光情報記録媒体 |
US6087067A (en) * | 1997-04-10 | 2000-07-11 | Tdkcorporation | Optical recording medium |
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