JP3395104B2 - 記録再生可能な光記録媒体及び光記録方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は記録再生可能な光記
録媒体及びその光記録方法に関し、特に金属または非金
属記録層を有する記録再生可能なコンパクトディスク
（ＣＤ）及びその媒体への光記録方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光記録媒体は既存の磁気記録媒体に比べ
て記録単位当りの記録面積が小さいので、高密度用の記
録媒体として多用されている。このような光記録媒体は
機能により、記録された情報の再生のみが可能な読み出
し専用方式（Read Only Memory：ＲＯＭ）と、１回に限
って記録可能な追記方式（Write Once Read Many：ＷＯ
ＲＭ）と、記録後消去及び再記録可能な消去可能方式(E
rasable Programmable Read Only Memory:ＥＰＲＯＭ)
とに分類される。このような光記録媒体は、記録された
情報が記録再生器から再生可能な特性が要求されてい
る。このため、既存の標準化規定を満足する必要があ
り、７０％以上の反射率と４７ｄＢのＣＮＲ（Carriert
o Noise Ratio ）が要求される。

【０００３】記録可能な光記録媒体では、記録前と記録
後の記録層の物理的な変形や位相の変化や磁気的性質の
変化等による反射率の変化で記録を再生する。ＣＤと互
換可能な記録媒体では、上述した高反射率とＣＮＲ特性
以外にも記録の長期保存性及び高い記録感度が要求され
る。このように、光記録媒体の特性を向上させ、媒体を
容易に製作するために多様な材料を用いて様々な光記録
媒体が提案され一部は実用化されている。

【０００４】特開昭６３ー２６８１４２号によれば、図
８に示すように、記録媒体は、基板１上にゼラチン、カ
ゼインまたはＰＶＡ等よりなる増感層２と、この上にC
r、Ni、Au等の金属薄膜３が５０〜５００オングストロ
ームの厚さで形成されている構造を有する。このような
記録媒体の場合、レーザービームを用いる光記録時、金
属薄膜３が光を吸収して増感層２と金属薄膜３が変形さ
れることにより記録ピットが形成される。しかしなが
ら、このような構造の媒体は記録ピットが露出されてい
るので記録の長期的保存が難しい。

【０００５】米国特許４，９７３，５２０号によれば、
図９に示すように、基板１ａ上に３層構造の金属薄膜２
ａを形成することにより５０dB以上の良好な記録特性が
得られる技術が提案されている。しかしながら、これも
レーザー照射により金属薄膜に記録ピットが形成される
が、記録ピットが外部に露出しているので記録保存性が
劣る短所がある。

【０００６】以上のような欠点を解決するために米国特
許４，９８３，４４０号には、図１０に示すように、基
板１ｂ上に金属薄膜２ｂ、２ｂ’を２層の記録層２ａと
し、記録層２ａを保護するため、その上に保護層４を形
成する技術が提案されている。この技術による記録媒体
は、反射層がないため反射率が２０％以下と低く、既存
のＣＤ互換型で使用できないだけでなく、非互換的な媒
体として実用化されるためにはドライブに高出力の光源
を使用する必要がある等の問題がある。

【０００７】また、米国特許５，０３９，５５８号によ
れば、図１１に示すように、金属薄膜２ｃ、２ｃ’と保
護層４ｃ、４ｃ’が積層された２枚の基板１ｃ、１ｃ’
を接着層５で接着して記録ピットの安定性を向上させて
いる。しかし、この方式では金属薄膜が反射層と光吸収
層の役割を同時に行えないので、原理的に反射率が７０
％にも及ばない問題がある。

【０００８】また、米国特許５，３２８，８１３号によ
れば、基板上に金属薄膜を記録層として備え、その上に
固い金属酸化物層を形成して記録保存性を高め、反射率
を４０〜６０％に向上させているが、ＣＮＲが低い問題
がある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】一方、米国特許４，９
９０，３８８及び５，１５５，７２３号には、図１２に
示すように、基板１ｄ上に記録層を有機色素層６で形成
し、その上に反射層７と保護層４ｄを形成する技術が提
案されている。この媒体では、記録時色素層６で記録レ
ーザー光を吸収発熱して、基板を加熱変形させ、変形部
位の記録前後の反射率の変化で情報の認識ができ、７０
％以上の反射率と記録後のＣＮＲが４７ｄＢ以上の条件
下でＣＤとの互換が可能になった。

【００１０】しかしながら、このようなディスクの記録
層は耐熱性及び耐光性が弱く特に価格の高い有機色素を
使用する短所を有している。また、色素を有機溶媒に溶
かした状態でこれをスピンコーティング法で基板に積層
すべきであるが、コーティング層の厚さの偏差により反
射率が大きく変化するので±３％内の偏差でコーティン
グ層の厚さを制御しうる高価な設備が要求され、精密な
厚さの制御により生産性が劣る問題がある。

【００１１】そこで、本発明は、ＣＤと互換性があり、
安価で生産性の高い記録／再生可能な光記録媒体及びそ
の光記録方法を提供することを目的とする。

【００１２】また、本発明は、高い反射率と記録信号を
有し、記録の安定性が向上された記録／再生可能な光記
録媒体及びその光記録方法を提供することを目的とす
る。

【００１３】

【発明を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体は、案内溝が形成された基板
と、この基板上に形成される金属薄膜と、この金属薄膜
上に備えられる反射層と、金属薄膜と反射層との間に形
成される変形可能な緩衝層とを備える。

【００１４】また、本発明の光媒体への光記録方法は、
変形が起こるピットを形成する光記録媒体への光記録方
法であって、予め形成された所定の溝を有する基板上に
金属薄膜を形成する工程と、金属薄膜上に緩衝層を形成
する工程と、基板と前記金属薄膜と前記緩衝層の内少な
くとも１つ以上に変形が起きるように、前記基板と前記
緩衝層の間に位置する前記金属薄膜をレーザービームで
加熱する工程とを備える。ここで、ピットとはレーザー
ビームによる変形部位を意味する。光学的に記録／読出
し可能なピットは、一般的に全ての種類の光学的に記録
及び検索可能な表示を含む。また、基板と金属薄膜と緩
衝層の変形部位は残りの部分とは光学的に異なる特性を
有している。

【００１５】金属薄膜への光記録方法は、緩衝層に照射
されたレーザビームの熱エネルギーを吸収できる色素を
含み、緩衝層がレーザビームにより直接加熱される工程
を更に備える。金属皮膜には、記録時基板上に光をガイ
ドする溝が形成されることが望ましい。

【００１６】また、複屈折率係数の虚数部のｋ値が０．
０１以上の金属を金属薄膜の原料として用い、金属薄膜
の厚さを３０〜５００オングストロームの範囲とし、特
に、Au、Al、Ag、Pt、Cu、Cr、Ni、Ti、Ta、Fe及びその
合金の中から選択された少なくとも何れか１つよりなる
ことが望ましい。

【００１７】また、緩衝層の厚さは５０〜１００００オ
ングストロームの範囲とし、そのガラス転移温度は６０
〜１８０℃の範囲とすることが望ましい。更に、特性の
向上のため、緩衝層の有機材料に対して有機色素を３０
％未満添加することができる。 反射層は、Au、Al、A
g、Pt、Cu、Cr、Ni、Ti、Ta、Fe及びその合金の中から
選択された少なくとも何れか１つよりなることが望まし
い。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、添付の図面に基づき本発明
を更に詳しく説明する。図１は本発明の光記録媒体の実
施の形態であるディスクの積層構造を示す断面図であ
る。図１に示すように、記録時、光をガイドする溝が形
成された基板１０上に、金属薄膜２０が形成され、緩衝
層３０と反射層４０が順次積層される。保護層５０は記
録媒体を保護するために反射層４０上に選択的に配置さ
れる。

【００１９】本発明において、光記録時、集光されたレ
ーザービームが金属薄膜２０を加熱し、この熱は基板１
０及び緩衝層３０に伝達されると共に、加熱された金属
薄膜２０部分に隣接した基板１０の一部も熱的に膨張変
形してピットを形成するため、金属薄膜２０の加熱部分
が緩衝層３０の方に膨張する。記録再生時、記録された
基板１０の一部と金属薄膜２０の変形された部分は、未
記録部位に比べて次のような原理により反射率が低下す
ることになる。

【００２０】第１には、基板１０と金属薄膜２０の界面
からの反射光と緩衝層３０と反射層４０の界面からの反
射光との消滅干渉により反射率が低下する。図２にディ
スクに形成された記録部位であるピットの構造を示す。
図２に示すように、未記録部位は反射層４０からの反射
光ｂ₁ と金属薄膜２０からの反射光ｃが補強干渉となる
ように、緩衝層３０の厚さが最初にｄ₁ で決定されてい
る。そして、記録部位は加熱により基板１０及び金属薄
膜２０が熱膨張することにより、緩衝層３０がｄ₂ と薄
くなり、また、緩衝層３０の膨張は反射層４０を変形さ
せる。従って、基板１０と金属薄膜２０の界面で反射さ
れる反射光ａと緩衝層３０と反射層４０との界面からの
反射光ｂ₂ との消滅干渉により反射率が低下する。

【００２１】これは、ファブリーペロー効果を利用する
ものであって、図３に示すように、緩衝層３０の厚さに
より記録媒体の反射率が変化する。よって、緩衝層３０
は金属薄膜２０の変形により消滅干渉が生じる条件の厚
さｄ₂ に変形することができる材料で形成されるべきで
ある。

【００２２】第２に、記録部位での入射光の分散により
反射率が低下する。基板１０と金属薄膜２０と緩衝層３
０は図２に示すように変形し、特に記録部位の両側に傾
いた面があって記録光が金属薄膜２０の壁面で分散さ
れ、入射光の分散のない未記録部位に比べて反射率が低
下する。このような理由により、記録部位は未記録部位
に比べて反射率が低く、記録部位と未記録部位の反射率
の差で記録の再生が可能になる。

【００２３】第３に、記録光が照射されて金属薄膜２０
が光を吸収し、吸収部位が局部的に加熱されて温度が急
激に上昇する場合、金属薄膜２０及び隣接した基板１０
と緩衝層３０が局部的に熱分解されて、図２に示すよう
に、反射光ａとｂ₂ が小さくなることにより全体反射率
が低下する。上部層を除去後の変形した基板１０と金属
薄膜２０上のＡＦＭ写真を図６に示し、反射層４０除去
後の変形した緩衝層３０上のＡＦＭ写真を図７に示す。

【００２４】上述したように、この実施の形態の光記憶
媒体であるディスクは、緩衝層３０上に反射層４０を設
けて反射層４０から反射される反射光ｂ₁ と金属薄膜か
ら反射される光ｃが補強干渉されるように緩衝層３０の
厚さを調節することにより、未記録部位での７０％以上
の反射が可能になる。特に、緩衝層３０には必要により
色素を添加して、緩衝層３０の屈折率を調節して、ファ
ブリーペロー効果を最大限にしている。

【００２５】上記のような本実施の形態のディスクにお
いて、基板１０はレーザービームに対して透明であり、
優れた衝撃強度を有すると共に熱により膨張変形できる
ポリカーボネート、ポリメチルーメタクリレート、エポ
キシ、ポリエステル、非晶質ポリオレフィン等の材料を
用いて製造することができる。基板１０の熱変形のため
のガラス転移温度は８０〜２００℃の範囲であり、最適
温度は１００〜２００℃である。基板１０の表面には、
情報記録／再生時レーザービームをガイドする深さ３０
〜４５０nm、幅０．１〜１．２μmの溝を形成する必要
がある。

【００２６】金属薄膜２０は、記録レーザービームを吸
収して発熱する発熱層及び記録前後のコントラストを示
すための部分反射層（partial mirror）の役割をすべき
であるので、一定の吸収率と反射率の特性が要求され
る。厚さは３０〜５００オングストローム、透過率は５
〜９５％、吸収率は５〜９５％が適当である。更に、金
属薄膜層２０の代りに、非金属フィルムを薄膜／部分反
射膜２０として適用することができる。非金属薄膜記録
層として、シリコン及びその化合物（シリコンナイトラ
イド、シリコンゲルマニウム、シリカ、SiO等）のよう
な非金属膜も使用できる。

【００２７】このような金属または非金属薄膜記録層を
形成する物質の光学特性の複素屈折率の虚数部のｋ値は
０．０１以上が適していて、０．０１以下の場合、記録
時吸収及び記録部の変形が小さく、記録感度も小さくな
る。コンピューターシミュレーションの結果、ｎ，ｋ平
面上で７．１５＋３．９３ｉ，７．１５＋５．８５ｉ，
８．９６＋６．２８ｉ，９．５６＋５．９０ｉ，８．１
４＋３．７７ｉの頂点により決定された五角形内にある
ｋ値を有する金属薄膜または非金属薄膜用の物質等は、
望ましい記録可能ＣＤのための効果的な記録感度をもた
らさないものであると知られてきた。

【００２８】一方、金属薄膜２０の厚さが５００オング
ストローム以上の場合、次のような理由で記録信号が小
さくなる。第１に、記録時の基板１０の膨張が金属薄膜
２０により妨害されて、記録部位の変形が小さくなるか
らである。第２に、図４に示すように、金属薄膜２０の
厚さが厚くなるほど記録時の緩衝層３０の厚さの変化に
よる反射率の低下が小さくなり、記録部位のコントラス
トが低くなるからである。一方、金属薄膜２０の厚さが
３０オングストローム以下である場合、記録時の吸収に
よる発熱量が小さくなり基板の変形が難しくなる。

【００２９】そして、金属薄膜２０の熱伝導度が４Ｗ／
ｃｍ℃以上の場合、レーザービームによる記録加熱時、
加熱された薄膜で熱が集中できず急速に周囲に伝達され
必要温度以上での加熱が難しく、加熱されても記録部の
大きさが拡大され隣接したトラックにまで拡張される可
能性があるので、金属薄膜の熱伝導度を４Ｗ／ｃｍ℃以
下になるように設定すべきである。

【００３０】金属薄膜２０の線膨張係数は３×１０−６
／℃以上が適当であり、それ以下であると記録時に基板
１０の変形による膨張で金属薄膜２０に亀裂が発生し、
均一な記録信号値を得ることができない。

【００３１】以上のような条件が要求される金属薄膜の
原料としては、Au、Al、Ag、Pt、Cu、Cr、Ni、Ti、Ta、
Fe及びその合金よりなるグループの中から少なくとも何
れか１つの金属が選択され適用され、この金属薄膜２０
が基板１０に真空蒸着、電子ビーム、スパッタリング法
等により積層される。

【００３２】緩衝層３０は基板１０と金属薄膜２０の変
形を吸収する層として、変形しやすく、適当な流動性の
ある有機物で形成することが望ましい。この緩衝層３０
のガラス転移温度（glass transition temperature）は
６０〜１８０℃の範囲が適当であり、使用される基板の
ガラス転移温度より低い必要がある。ここで、緩衝層３
０のガラス転移温度が６０℃以下であると記録の保存性
が低下し、１８０℃以上であると基板１０の変形を妨害
して記録感度が低下する。このような緩衝層３０は有機
物質を有機溶媒に溶かしてスピンコーティング法により
コーティングされるが、この際の溶媒として、有機物質
の溶解性が良く、基板を損傷させないものを使用するこ
とが望ましい。緩衝層３０の厚さは、図４に示すよう
に、反射率７０％以上となる厚さに設定されるが、その
範囲は５０〜１００００オングストロームが適当であ
る。

【００３３】緩衝層３０の材料として使用される有機物
質には、ビニールアルコール系樹脂、ビニールアセテー
ト系樹脂、アクリレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系
樹脂、セルローズ系樹脂、脂肪酸（fatty acid）系化合
物，低い分子量の有機化合物等があり、これら材料等の
共重合体も緩衝層の材料として使用することができる。

【００３４】記録時の基板の熱変形を容易にするため
に、緩衝層３０に色素を添加することができる。色素を
添加すると、記録時に緩衝層３０も共に加熱されて基板
１０の変形が容易に行われる。添加される色素の量は緩
衝層物質の３０ｗｔ％未満にすべきであり、それ以上で
あると高い反射率が得られない。記録時に使用される光
を吸収する色素は、記録レーザービームの波長の長さ
（長波長：低密度光ディスク、低波長：高密度光ディス
ク）により選択される。７８０〜８５０ｎｍ範囲の波長
を吸収する近赤外線色素または６１０〜７００ｎｍ範囲
の波長を吸収する色素を使用することが望ましい。例え
ば、シアニン、クロコニウム、フタロシアニン、ナフタ
ロシアニン等が使用される。

【００３５】反射層４０は真空蒸着、電子ビーム蒸着、
スパッタリング法等により形成することができるが、そ
の原料としてはAu、Al、Ag、Pt、Cu、Cr、Ni、Ti、Ta、
Fe及びその合金が使用され、その厚さは５００〜１５０
０オングストロームの範囲が適当である。

【００３６】記録媒体を保護する保護膜５０には、衝撃
強度が強くて透明であり、紫外線（UV）により硬化可能
な物質が使用でき、エポキシ系またはアクリル酸塩系硬
化樹脂はスピンコーティング法によりコーティングされ
た後、紫外線により硬化させて保護膜として利用され
る。

【００３７】この実施の形態では、各層（基板、金属薄
膜、緩衝層、反射層）を変形させる例を説明したが、各
層のレーザービームのパワー及び物理的特性（例えば、
ヤング率、熱伝導度、熱膨張係数、ガラス転移温度等）
により、１つまたは２つの層のみを変形をすることがで
きる。金属薄膜の溶融点が高いので金属薄膜自体の変形
は希なことである。しかし、金属薄膜の熱変形はレーザ
ービームのパワーにより起こる。例えば、記録レーザー
ビームのパワーが高い時、集光中心部の周りを形成する
ために、金属薄膜２０を金属溶融点以上で加熱すること
により溶かす。

【００３８】更に、緩衝層３０に使用される原料が、基
板１０に使用される原料より安定的な物理的な特性（例
えば、低い熱膨張係数、高いガラス転移温度及び高いヤ
ング率）を有するとき、基板１０のみに変形が起こる。
レーザー記録時、金属薄膜２０の熱転移により金属薄膜
２０と緩衝層３０に変形が起こる。しかし、金属薄膜２
０と緩衝層３０での変形は非常に微弱であるので観測し
にくい。また、この変形は記録する間ほとんど影響を与
えない。

【００３９】また、基板１０に使用される材料が緩衝層
３０に使用される材料と比べて安定的な物理的な特性を
有しているとき、変形は主に緩衝層３０で起こる。基板
１０に使用される材料と緩衝層３０に使用される材料が
類似した物理的特性を有するとき、基板１０と緩衝層３
０で変形が主に発生する。

【００４０】

【実施例】本発明を実施例に基づき更に詳述するが、本
発明はその詳細な実験例に限定されない。

【００４１】本発明の第１の実施例について説明する。
深さ１７０ｎｍ、幅０．０５μｍ、トラックピッチ１．
６μｍの溝を有する１．２ｍｍの厚さのポリカーボネー
ト基板上に１０ｎｍのAl薄膜を真空蒸着した。この上
に、シアノーバイフェニルエポキシアミン０．９ｇをジ
アセトンアルコール１０ｍｌに溶かしたコーティング液
を２０００ｒｐｍでスピンコーティングして緩衝層を形
成した。この際、溝の部位の緩衝層の厚さをＳＥＭで測
定した結果、約２５００オングストロームであった。そ
して、４０℃の温度を保つ真空オーブンで約４時間乾燥
した後、１０００オングストロームのAlを真空蒸着して
反射層を形成した。この上に、エポキシアクリル酸塩系
UV硬化樹脂をスピンコーティングした後、硬化させディ
スクを製造した。

【００４２】このように製造されたディスクを７８０nm
のレーザービームを使用する評価設備を使用して評価し
た結果、反射率７２％であり、記録速度１．３m ／se
c、７２０kHzの信号を記録パワー８mWで記録した後に
０．７mWのレーザービームで記録を再生して５１dBのＣ
ＮＲを得た。そして、記録速度４．８m／sec、記録パワ
ー１０mWで記録した後に再生したとき、４２dBのＣＮＲ
を得た。上記の記録条件で記録パワーを変化させると、
図５に示すように、４mW以上で４７dB以上の記録信号の
再生が可能となる。このディスクをパイオニア社のＲＰ
−１０００ＣＤレコーダーによりオーディオ記録後、Ｃ
Ｄプレーヤーで再生可能であって、CDーCATSで記録特性
を評価した結果、全項目がＣＤ規格を満たしていた。

【００４３】次に、第２及び第３の実施例として、Al薄
膜の厚さを７ｎｍと１２ｎｍとして、他の工程を第１の
実施例と同一な方法によりディスクを製造した。そし
て、第１実施例のような評価条件で記録評価した結果、
金属薄膜７ｎｍのディスクは反射率７３％、CNR４８dB
を示し、金属薄膜１２ｎｍのディスクは反射率６９％、
５３dBのＣＮＲを示した。

【００４４】更に、第４乃至第８実施例として、金属薄
膜を下記の表１に示すようにAu、Cu、Ag、Ni、Ptとし
て、第１実施例と同一な方法でディスクを製造し評価し
た。評価結果を表１に示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】更にまた、第９乃至第１３実施例として、
緩衝層の材料をPMMA（Polyscience製、Mw：２５００
０）、PVA（Polyscience製：３５０００）、Polyethyle
neoxide（Polyscience製、Mw：３２０００）及び脂肪酸
（Fatty acid、Tokyo Kasei製、Standard kit FE
M−１）とし、緩衝層の厚さを２５００オングストロー
ムになるように溝で調節して、第２実施例と同じ記録評
価を行った。評価結果を表２に示す。

【００４７】

【表２】

【００４８】また、第１４実施例として，緩衝層の形成
時において，緩衝層にＮＫ１２５（日本光学色素）を緩
衝層材料の０．５wt%を添加し、それ以外の製造工程を
第１実施例と同一な方法によりディスクを製作した。こ
のディスクを記録速度１．３m/sec，記録パワー８mwで
記録した場合、５２dＢのＣＮＲ、４．８m/secで記録し
た場合、４８dＢのＣＮＲを得て，反射率７０％でＣＤ
−ＲＯＭ用ディスクとして使用することができた。

【００４９】

【発明の効果】以上、詳述したように本発明は緩衝層を
用いることにより記録が可能となり、ＣＤとの互換が可
能となる。特に、高価な有機色素を使用しないので製造
コストを低減することができ、生産性を大きく高めるこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光記録媒体であるディスクの積層
構造を示す断面図である。

【図２】本発明に係るディスクに形成された記録部位で
あるピットの構造を示す概略断面図である。

【図３】本発明に係るディスクの金属薄膜の厚さの変化
に対する緩衝層の厚さの変化による反射率の変化を示す
グラフである。

【図４】本発明に係るディスクにおいて、緩衝層の厚さ
の変化による反射率の変化を示すグラフである。

【図５】本発明に係る第１実施例のディスクの記録パワ
ーとＣＮＲの関係を示すグラフである。

【図６】記録部により変形された基板と金属薄膜を示す
ＡＦＭ写真である。

【図７】
記録部により変形された緩衝層を
示すＡＦＭ写真である。

【図８】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図であ
る。

【図９】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図であ
る。

【図１０】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図で
ある。

【図１１】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図で
ある。

【図１２】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図で
ある。

【符号の説明】

１０…基板 ２０…金属薄膜 ３０…緩衝層 ４０…反射層 ５０…保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 ９６−５７０７３ (32)優先日 平成８年11月25日(1996．11．25) (33)優先権主張国 韓国（ＫＲ） (31)優先権主張番号 特願平8−235693 (32)優先日 平成８年９月６日(1996．9．6) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 許 永 宰 大韓民国 ソウル特別市 銅雀區 大方 洞 348−７番地 (72)発明者 閔 慶 ▲旋▼ 大韓民国 京畿道 龍仁郡 器興邑 新 葛里 11 ６−２番地 (72)発明者 金 鍾 星 大韓民国 京畿道 城南市 盆唐區 金 谷洞 177番地 チョンソルマウル瑞光 アパート 101棟 1604號 (72)発明者 ガリット コーネリス ダベルダム オランダ王国 6904 ピー・エイチ ゼ ベェナ シムバール 16 (72)発明者 フレディー ガーハルド ヘンドリクス バン ウィック オランダ王国 6814 ビー・ケー アー ンヘム アペルドーンウェグ 24 (72)発明者 ニコ マースカント オランダ王国 6852 イー・エヌ ハイ セン タス ３ (56)参考文献 特開 昭57−55540（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−11385（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−168446（ＪＰ，Ａ)

Claims (19)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 案内溝が形成された基板と、 前記基板上に形成される金属薄膜と、 前記金属薄膜上に備えられる反射層と、 前記金属薄膜と前記反射層との間に形成される変形可能
   な緩衝層と、前記反射層上に備えられる保護層と、 を備え、 前記基板と前記金属薄膜はレーザービームによるピット
   を有し、前記緩衝層はレーザービームによるピットで厚
   さが薄くなり、 前記ピットは、記録再生時に未記録部位に比べて反射率
   が低下することを特徴とする 記録再生可能な光記録媒
   体。
2. 【請求項２】 前記緩衝層は有機物質よりなることを特
   徴とする請求項１記載の記録再生可能な光記録媒体。
3. 【請求項３】 前記金属薄膜は複素屈折率係数の虚数部
   の値が０．０１以上であることを特徴とする請求項１記
   載の記録再生可能な光記録媒体。
4. 【請求項４】 前記金属薄膜の厚さが３０〜５００オン
   グストロームの範囲であることを特徴とする請求項１記
   載の記録再生可能な光記録媒体。
5. 【請求項５】 前記金属薄膜はＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｐ
   ｔ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｆｅ及びその合金
   の中から選択された少なくとも何れか１つよりなること
   を特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の
   記録再生可能な光記録媒体。
6. 【請求項６】 前記緩衝層の厚さは５０〜１００００オ
   ングストロームの範囲であることを特徴とする請求項１
   記載の記録再生可能な光記録媒体。
7. 【請求項７】 前記緩衝層のガラス転移温度は６０〜１
   ８０℃の範囲であることを特徴とする請求項２記載の記
   録再生可能な光記録媒体。
8. 【請求項８】 前記緩衝層は３０％未満の有機色素を含
   むことを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれかに
   記載の記録再生可能な光記録媒体。
9. 【請求項９】 前記反射層はＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｐｔ、
   Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｆｅ及びその合金の中
   から選択された少なくとも何れか１つよりなることを特
   徴とする請求項１記載の記録再生可能な光記録媒体。
10. 【請求項１０】 前記金属薄膜は４Ｗ／ｃｍ℃以下の熱
    伝導度を有することを特徴とする請求項１記載の記録再
    生可能な光記録媒体。
11. 【請求項１１】 変形が起こるピットを形成する光記録
    媒体への光記録方法であって、 予め形成された所定の溝を有する基板上に金属薄膜を形
    成する工程と、 前記金属薄膜上に緩衝層を形成する工程と、 前記基板と前記金属薄膜と前記緩衝層の内少なくとも１
    つ以上に変形が起きるように、前記基板と前記緩衝層の
    間に位置する前記金属薄膜をレーザービームで加熱する
    工程と、前記緩衝層上に反射層を形成する工程と、前記反射層上
    に保護層を形成する工程を備え、 前記金属薄膜をレーザービームで加熱する工程は、前記
    緩衝層と前記金属薄膜と前記基板を変形させる工程を更
    に備え、 前記ピットは、記録再生時に未記録部位に比べて反射率
    が低下することを特徴とする 光記録媒体への光記録方
    法。
12. 【請求項１２】 前記緩衝層は有機物質よりなることを
    特徴とする請求項１１記載の光記録媒体への光記録方
    法。
13. 【請求項１３】 前記金属薄膜はＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｐ
    ｔ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｆｅ及びその合金
    の中から選択された少なくとも何れか１つの物質よりな
    ることを特徴とする請求項１１記載の光記録媒体への光
    記録方法。
14. 【請求項１４】 前記緩衝層のガラス転移温度は６０〜
    １８０℃の範囲であることを特徴とする請求項１１記載
    の光記録媒体への光記録方法。
15. 【請求項１５】 前記緩衝層に有機色素を添加する工程
    を更に備えることを特徴とする請求項１１記載の光記録
    媒体への光記録方法。
16. 【請求項１６】 前記緩衝層は３０％未満の有機色素が
    添加されていることを特徴とする請求項１１記載の光記
    録媒体への光記録方法。
17. 【請求項１７】 前記金属薄膜は４Ｗ／ｃｍ℃以下の熱
    伝導度を有することを特徴とする請求項１１記載の光記
    録媒体への光記録方法。
18. 【請求項１８】 前記金属薄膜をレーザービームで加熱
    する工程は、前記緩衝層を変形させる工程を更に備える
    ことを特徴とする請求項１１記載の光記録媒体への光記
    録方法。
19. 【請求項１９】 前記緩衝層上の前記反射層を変形させ
    る工程を更に備えることを特徴とする請求項１１記載の
    光記録媒体への光記録方法。