JP3698905B2 - 光学的情報記録媒体、その情報記録方法、その情報消去方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はレーザ光を使用しての情報の記録、再生及び消去が行われる光学的情報記録媒体、その情報記録方法、その情報再生方法及びその情報消去方法に関し、特に、情報の高密度化に好適な光学的情報記録媒体、その情報記録方法、その情報再生方法及びその情報消去方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レ−ザ光を使用した光ディスク記録は大容量記録が可能であり、非接触で高速アクセスできることから、大容量メモリとして実用化が進められている。光ディスクは、コンパクトディスク及びレ−ザディスク等の再生専用型、ユ−ザ自身で記録が可能な追記型並びにユ−ザ側で繰り返し記録消去が可能な書換型に分類される。追記型又は書換型の光ディスクはコンピュ−タの外部メモリ又は文書及び画像ファイルの記録媒体として使用されている。
【０００３】
再生専用型の光ディスクにおいては、ＣＤ−ＲＯＭに代表されるデータファイル用のものが急速に普及し、パーソナル分野での高密度記録用媒体として使用されている。また、このＣＤ−ＲＯＭの大容量性に着目して、ＭＰＥＧ２等の画像圧縮技術により画像データを含むマルチメディアファイル用ディスクとしての応用が検討されている。この用途では、現行の１ディスク当たり６５０ＭＢの容量では不十分であり、現行の８倍容量となるＤＶＤ−ＲＯＭが製品化され始めた。一方、レーザディスクに代表される再生専用民生向け画像ファイル用機器では、小型高品質映像を提供するＤＶＤプレーヤが出荷され始めたが、ハイビジョン再生を目指した更なる光ディスクの高密度化は引き続き重要な課題となっている。
【０００４】
一方、追記型光ディスクでは、記録した情報が安定に保存できるというメリットを最大限に利用した応用分野において一定の市場が確保されている。この用途においても、スケールメリットを活かすという意味で、大容量化及び高密度化は重要な検討課題であることはいうまでもない。
【０００５】
また、書換型光ディスクには、記録膜の相変化を利用した相変化型光ディスク及び垂直磁化膜の磁化方向の変化を利用した光磁気ディスクがある。このうち、光磁気ディスクでは、第一世代の４倍容量の製品が出始め、８倍容量以上のものが検討されている。一方、相変化光ディスクにおいては、外部磁場が不要であり、上書きを容易に行うことができるため、今後、光磁気ディスクと共に、書換型光ディスクの主流になることが期待されている。相変化型光ディスクでも、２．６ＧＢ容量のＤＶＤ−ＲＡＭに代表されるように、光磁気の８倍容量相当の製品が販売され始めている。これらの書換型光ディスクにおいても、大容量化及び高密度化は重要な課題となっている。
【０００６】
次に、これらの従来の光ディスクの構造について説明する。再生専用型光ディスクにおいては、基板上にあらかじめ射出成形により作製された凹凸ピット上にＡｌ合金系の金属反射膜が成膜されており、再生に使用されている。追記型光ディスクにおいては、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｓｅ若しくはＳｎ等の低融点金属の合金材料又は使用するレーザ波長において吸収特性を有する色素材料が基板上に薄く塗布されて記録膜が形成されている。書換型の光磁気ディスクにおいては、Ｔｂ、Ｇｄ、Ｄｙ及びＨｏ等の希土類金属とＦｅ、Ｃｏ及びＮｉ等の遷移金属との合金薄膜がＳｉＮ等の透明保護膜で挟み込まれた構造が採用されており、書換型の相変化型光ディスクにおいては、ＧｅＳｂＴｅ及びＩｎＳｂＴｅ等からなるカルコゲナイド系薄膜が記録膜として使用されている。相変化型光ディスクの記録膜には、ＩｎＳｅ系薄膜、ＩｎＴｅ系薄膜、ＡｓＴｅＧｅ系薄膜、ＴｅＯx−ＧｅＳｎ系薄膜、ＴｅＳｅＳｎ系薄膜、ＳｂＳｅＢｉ系薄膜及びＢｉＳｅＧｅ系薄膜等も使用されている。これらの薄膜は、抵抗加熱真空蒸着法、電子ビ−ム真空蒸着法若しくはスパッタリング法等の成膜法又はスピン塗布法で成膜されている。
【０００７】
このように、大容量化及び高密度化が要求されているが、前述のような従来の再生専用型、追記型、書換型の各光ディスクでは、透過性及び剛性がある基板上に凹凸ピット、追記型記録膜、光磁気記録膜又は相変化記録膜が形成された所謂単層構成が採用されている。
【０００８】
また、同一基板上の内周及び外周に再生専用部、追記部及び書換部が分割して形成されたパーシャルＲＯＭディスクが提案及び作製されている（例えば、「イレーザブル光ディスク技術」ｐ２４９、（株）トリケップス発行、平成３年）。
【０００９】
しかし、前述の光ディスク及びハイブリッド型ディスクでは、単層構成であるため、記録容量の飛躍的な向上は困難である。また、記録容量の向上のために単一ディスクを貼り合わせた両面構成のディスクとした場合には、通常のディスクドライブを使用して両面同時アクセスをするためには、ヘッド等の変更のためコストがかかり、実施しにくいという欠点がある。
【００１０】
そこで、再生専用型光ディスクにおいては、片面から２層又はそれ以上の多層膜をアクセスする再生専用型多層ディスクが提案されている（例えば、K.Rubin他による「Multilayer Volumetric Storage Topical Meeting Technical Digest」、WA３−１、Optical Data Storage Topical Meeting Technical Digest（１９９４））。また、再生専用のＤＶＤの規格にも、２層ディスクが規定されており、片面から２層に記録された情報を再生する方式が採用されている。
【００１１】
光ディスクの記録密度の向上を考えた場合、情報の書換が可能な書換型光ディスクは極めて有用であることから、片面多層構成で実用性能を確保することが課題とされ検討されている。
【００１２】
そこで、相変化を利用した書換型光ディスクとして記録膜を２層化した光学的情報記録媒体が提案されている（特開平３−１５７８３０号公報）。
【００１３】
また、相変化光ディスクにおける２層記録が報告されている（例えば、長田他による「書き換え可能な２層−相変化光ディスク」（第５９回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 １５ａ−Ｖ−５、ｐ１００８、（１９９８．９．１５）））。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平３−１５７８３０号公報に記載された従来の光学的情報記録媒体においては、２層の各記録層に記録が行われるのではなく、単に再生信号に所望の位相差を付加する手段として２層構成を採用しているに過ぎない。このため、記録容量の向上は不十分である。
【００１５】
また、前記講演会により報告された光ディスクにおいては、通常、第１層目での記録膜の光学変化により記録マーク部分と非記録部分とでの透過率変化が大きいため、第１層目に記録が行われていない場合と、第１層目に記録が行われている場合とで、第２層目への透過光量が著しく相違してしまう。このため、第２層目への記録再生時に照射するパワレベルを変更しなければ、良好な記録及び再生ができないという問題点がある。
【００１６】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、記録の有無に拘わらず相変化記録膜の透過性を実質的に均一にすることができ、好ましくは高密度で良好な情報の記録、再生及び消去を行うことができる光学的情報記録媒体、その情報記録方法、その情報再生方法及びその情報消去方法を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明の光学的情報記録媒体は、
透過性基板と、この透過性基板上に形成された１または複数の第１の相変化型光記録層と、この第１の相変化型光記録層の最上層上に形成された第２の相変化型光記録層と、前記第１の相変化型光記録層間、及び前記第１、第２の相変化記録層間に形成された透過性スペーサと、を有し、
前記第１の相変化型光記録層の各々は、少なくともレーザ光の照射による相変化により情報の記録及び消去が行われる相変化記録膜と、この相変化記録膜の上部に設けられた透明上部保護膜と、この相変化記録膜の下部に設けられた透明下部保護膜と、前記透明下部保護膜の下部に設けられその膜厚を変化させることによって前記相変化型光記録層に入射するレーザ光の当該第１の相変化型光記録層の透過率を調節するための下地干渉膜と、を有し、
前記相変化記録膜の情報が記録された領域における前記相変化型光記録層の透過率が前記相変化記録膜の情報が記録されていない領域における前記相変化型光記録層の透過率の０．９０乃至１．１０倍となるように前記下地干渉膜の膜厚が設定されていることを特徴とする。
本発明では、前記相変化記録膜は、Ｇｅ、Ｓｂ及びＴｅからなる群から選択された少なくとも１種の元素を含有した構成が使用可能である。前記下地干渉膜としては、Ｓｉ及びＧｅからなる群から選択された少なくとも１種の元素を含有する構成とすることができる。前記透過性スペーサとしては、光硬化型樹脂が使用可能である。
また、前記第２の相変化型光記録層の最上部に金属反射層を設けることができる。
さらに、本発明では、これらの光学的情報記録媒体を２枚、最上層に位置する前記第２の相変化型光記録層を対向させて貼り合わせて構成することもできる。
さらに、本発明の情報記録方法は、これらの光学的情報記録媒体に前記透過性基板側からレーザ光をその集光位置を変化させながら照射することにより、前記相変化記録膜の１つに相変化を生じさせる工程を有する。
また、本発明の情報消去方法は、これらの光学的情報記録媒体に前記透過性基板側からレーザ光をその集光位置を変化させながら照射することにより、前記相変化記録膜の１つに相変化を生じさせる工程を有する。
また、本発明の情報再生方法は、これらの光学的情報記録媒体に前記透過性基板側からレーザ光をその集光位置を変化させながら照射することにより、前記相変化記録膜の１つから情報を再生する工程を有する。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例に係る光学的情報記録媒体について、添付の図面を参照して具体的に説明する。図１は本発明の第１の実施例に係る光学的情報記録媒体の構造を示す模式的断面図である。
【００２８】
第１の実施例においては、透過性剛性基板１上に３層の相変化型光記録層２ａ乃至２ｃが透過性スペーサ３ａ及び３ｂを介して積層されている。更に、第３層目の相変化型光記録層２ｃ上には透過性スペーサ３ｃを介して相変化型光記録層２ｄが形成されている。相変化型光記録層２ａ乃至２ｄにおいてレーザ光の照射により情報の記録、再生又は消去が行われる。
【００２９】
透過性剛性基板１には、従来光ディスク用として使用されている透明の樹脂基板及びガラス基板が使用可能である。また、その厚さは、ディスクとしての剛性が確保されていればよく、使用される光ディスク用ヘッドの集光レンズの設計値に応じて、通常コンパクトディスク（ＣＤ）で使用されている１．２ｍｍ厚又はそれ以外の、例えば、０．４ｍｍ厚、０．６ｍｍ厚若しくは０．８ｍｍ厚であってもよい。１．２ｍｍより厚い基板とすることも可能である。
【００３０】
また、相変化型光記録層２ａ乃至２ｃは下地干渉膜、透明下部保護膜、相変化記録膜及び透明上部保護膜から構成されている。図２は第１層目の相変化型光記録層２ａの構造を示す断面図である。
【００３１】
相変化型光記録層２ａには、透過性剛性基板１上に形成された下地干渉膜２５が設けられている。下地干渉膜２５は、干渉効果を引き出すために高い屈折率を有する材料から形成されておりＳｉ膜又はＧｅ膜が使用可能である。また、Ｓｉを主成分とする酸化膜、Ｓｉを主成分とする窒化膜、Ｇｅを主成分とする酸化膜又はＧｅを主成分とする窒化膜も使用可能である。当然、干渉効果が得られれば、これらの膜以外の高屈折率誘電膜も使用できることはいうまでもない。この下地干渉膜２５により相変化記録膜２２におけるレーザ光の透過率が調節される。
【００３２】
また、下地干渉膜２５上には、相変化記録膜２２を主として情報の記録及び消去時の熱変形から保護する透明下部保護膜２１が形成されている。透明下部保護膜２１には、ＺｎＳ及びＳｉＯ2を主成分とする保護膜が使用される。
【００３３】
更に、透明下部保護膜２１上には、相変化記録膜２２が形成されている。相変化記録膜２２には、Ｇｅ、Ｓｂ及びＴｅを主成分とする薄膜が使用される。具体的には、Ｇｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5膜、Ｇｅ1Ｓｂ2Ｔｅ4膜、Ｇｅ1Ｓｂ4Ｔｅ7膜及びこれらにＧｅ、Ｓｂ又はＴｅを少量添加した膜並びに第４元素としてＰｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｔｉ又はＣｕ等を微量添加した膜が相変化記録膜２２として使用される。相変化記録膜２２の厚さは、５乃至３０ｎｍ程度であり、高い透過光が得られる。
【００３４】
更にまた、相変化記録膜２２上には、相変化記録膜２２を主として情報の記録及び消去時の熱変形から保護する透明上部保護膜２３が形成されている。透明上部保護膜２３には、透明下部保護膜２１と同様に、ＺｎＳ及びＳｉＯ2を主成分とする保護膜が使用される。
【００３５】
なお、相変化型光記録層２ｂ及び２ｃの構造は、透過性剛性基板１ではなく透過性スペーサ３ａ又は３ｂ上に下地干渉膜が形成されていることを除けば、相変化型光記録層２ａと同様のものである。
【００３６】
これらの相変化型光記録層２ａ乃至２ｃにおいては、下地干渉膜の膜厚を適切なものとすることにより、記録マークの有無による透過率の相違を著しく抑制することが可能となる。図４（ａ）及び（ｂ）は横軸に下地干渉膜の膜厚をとり、縦軸に透過率又は反射率のいずれかをとってこれらの関係を示すグラフ図である。なお、図４において、実線は記録マークが存在する領域、即ち、記録が行われている領域におけるもの、破線は記録マークが存在しない領域、即ち、記録が行われていない領域におけるものを夫々示している。
【００３７】
図４に示す光学特性は、次のような相変化型光記録層のものである。下地干渉膜はＳｉ膜であり、その光学定数はＳｉ（４．５２、０．１５ｉ）である。透明下部保護膜及び透明上部保護膜はＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる膜であり、その光学定数はＺｎＳ−ＳｉＯ2（２．１０、０．０ｉ）、その膜厚は１５０ｎｍである。相変化記録膜はＧｅＳｂＴｅからなる膜であり、その光学定数は、結晶状態においてＧｅＳｂＴｅ（３．９１、４．２２ｉ）、アモルファス状態においてＧｅＳｂＴｅ（４．１３、１．８９ｉ）、その膜厚は１６ｎｍである。また、レーザ光の波長は６６０ｎｍとしている。
【００３８】
図４（ａ）に示すように、下地干渉膜であるＳｉ膜の膜厚を１００ｎｍとしたとき、記録マークに対応するアモルファス状態のＧｅＳｂＴｅに対する透過率が３７．２％となり、未記録の消去状態に対応した結晶状態のＧｅＳｂＴｅに対する透過率が３６．４％となっている。このように、アモルファス状態の相変化記録膜における透過率は結晶状態のそれの１．０３倍である。従って、これらの透過率差は極めて僅かであり、良好な情報の記録、再生及び消去が可能となる。なお、相変化記録膜の情報が記録された領域における透過率は、情報が記録されていない領域における透過率の０．９０乃至１．１０倍であることが望ましい。
【００３９】
このように、相変化型光記録層２ａ乃至２ｃにおいては、３０乃至５０％の透過光が生じるように設計することが可能である。
【００４０】
透過性スペーサ３は、厚さが５乃至３０μmのフォトポリマ等の光硬化型樹脂から構成されている。なお、透過性スペーサ３の厚さは使用される集光レンズの特性及びレーザ波長から決まる焦点深度と比して十分厚く設定される。ここで、入射する集光レーザ光の集光位置を可変とすることにより、相変化型光記録層２ａ乃至２ｄに対する記録、再生及び消去を行うことができるようになる。
【００４１】
第４層目の相変化型光記録層２ｄは、透明下部保護膜、相変化記録膜、透明上部保護膜及び金属反射膜から構成されている。図３は第４層目の相変化型光記録層２ｄを示す断面図である。
【００４２】
第４層目の相変化型光記録層２ｄにおいては、透過性スペーサ３ｃ上に透明下部保護膜２１ａ、相変化記録膜２２ａ及び透明上部保護膜２３ａが、第１乃至３層目の相変化型光記録層と同様に、形成されている。これらの材料も第１乃至３層目の相変化型光記録層のものと同様である。
【００４３】
第４層目の相変化型光記録層２ｄにおいては、更に、透明上部保護膜２３ａ上に金属反射膜２４ａ形成されている。金属反射膜２４ａには、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ又はＰｔ等を主成分とする金属膜が使用される。
【００４４】
なお、金属反射膜２４ａは設けられていなくてもよい。この場合、最上層の相変化型光記録層において光が透過することになる。但し、光を透過させる必要がない場合には、効率よく反射光を信号再生に利用することを可能とするために、最上層の相変化型光記録層に金属反射層を設けることが望ましい。
【００４５】
このように構成された第１の実施例に係る光学的情報記録媒体による情報の記録、再生又は消去においては、図１に示すように、情報の記録、再生又は消去に使用するレーザ光１０が集光レンズ１１によって集光され、外部から透過性剛性基板１を通じて入射される。
【００４６】
このため、上部に位置する相変化型光記録層に記録再生する際に、下部に位置する相変化型光記録層を透過したレーザ光が使用されるので、相変化型光記録層の透過率が使用するレーザの波長において所定値以上となるように各膜の厚さを設定する必要がある。
【００４７】
また、第１乃至３層目の相変化型光記録層２ａ乃至２ｃにおいて、記録マークがある場合とない場合とで透過率が大きく異なる場合には、その領域における透過率が異なることになり、その層以降に到達する光の光量及び反射光量にも差が生じる。このため、記録感度のずれ及び再生特性変動が引き起こされてしまう。
【００４８】
本実施例においては、前述のように下地干渉膜の膜厚を調節することにより、相変化型光記録層２ａ乃至２ｃにおける透過率を制御することができると共に、記録マークの有無による透過率差を抑制することができるので、良好な情報の記録及び再生が可能である。
【００４９】
次に、本発明の第２の実施例について説明する。第２の実施例は、第１の実施例に係る２枚の光学的情報記録媒体が貼り合わされたものである。図５は本発明の第２の実施例に係る光学的情報記録媒体の構造を示す断面図である。なお、図５に示す第２の実施例において、図１に示す第１の実施例と同一の構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
【００５０】
第２の実施例においては、第１の実施例に係る２枚の光学的情報記録媒体がそれらの第４層目の相変化型光記録層２ｄを接着層４により貼り合わされている。
【００５１】
このように構成された第２の実施例においては、第１の実施例による効果だけでなく、その両面において情報の書換が可能となるため、記録容量が第１の実施例におけるものの２倍となる。
【００５２】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、その特許請求の範囲から外れる比較例と比較して具体的に説明する。
【００５３】
先ず、直径が１２０ｍｍ、板厚が０．６ｍｍ、トラックピッチが１．０μｍのポリカーボネート基板を透過性剛性基板として使用し、その上に下記表１に示す下地干渉膜を形成した。その後、下地干渉膜上に膜厚が１５０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる透明下部保護膜をスパッタ法により形成した。更に、透明下部保護膜上に膜厚が１６ｎｍのＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5からなる相変化記録膜をスパッタ法により形成した。そして、相変化記録膜上に膜厚が１５０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる透明上部保護膜をスパッタ法により形成した。このようにして、第１層目の相変化型光記録層を形成した。
【００５４】
次に、透明上部保護膜上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により２５μmの厚さに塗布した。次に、その後、予めトラッキング溝が形成された透明スタンパを紫外線硬化樹脂に密着させ、紫外線照射によって紫外線硬化樹脂を硬化させ、スタンパを除去することにより、トラックピッチが１．０μｍの良好なトラッキング溝を紫外線硬化樹脂に転写した。このようにして、透過性スペーサを形成した。
【００５５】
次いで、透過性スペーサ上に膜厚が１７０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる第２の透明下部保護膜をスパッタ法により形成した。その後、第２の透明下部保護膜上に膜厚が１４ｎｍのＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5からなる第２の相変化記録膜をスパッタ法により形成した。更に、第２の相変化記録膜上に膜厚が１８ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる第２の透明上部保護膜をスパッタ法により形成した。そして、第２の透明上部保護膜上に下記表１に示す金属反射膜をスパッタ法により形成した。このようにして、第２層目（最上層）の相変化型光記録層を形成した。
【００５６】
なお、実施例１、２及び８におけるＳｉ下地干渉膜はスパッタリングにより形成し、実施例３におけるＧｅ下地干渉膜はＧｅターゲットを使用したＡｒガスによるスパッタリングにより形成した。また、実施例４におけるＳｉＯ膜はＡｒ及びＯ2の混合ガス雰囲気中でのＳｉターゲットを使用した反応性スパッタリングにより形成し、実施例５におけるＳｉＮ下地干渉膜はＡｒ及びＮ2の混合ガス雰囲気中でのＳｉターゲットを使用した反応性スパッタリングにより形成した。更に、実施例６におけるＧｅＯ下地干渉膜はＡｒ及びＯ2の混合ガス雰囲気中でのＧｅターゲットを使用した反応性スパッタリングにより形成し、実施例７におけるＧｅＮ下地干渉膜はＡｒ及びＮ2の混合ガス雰囲気中でのＧｅターゲットを使用した反応性スパッタリングにより形成した。
【００５７】
また、実施例２は、第２の実施例に基づき、２枚の実施例１のディスクが金属反射膜で接着層により貼り合わされたものである。
【００５８】
更に、実施例８の製造においては、以下の方法を採用した。図６は実施例８の構造を示す断面図である。先ず、第１の透過性剛性基板５６ａ上に、下地干渉膜５５、透明下部保護膜５１、相変化記録膜５２及び透明上部電極５３からなる第１層目の相変化型光記録層を形成した。その後、第１の透過性剛性基板５６ａとは逆向きのトラックピッチ１．０ｕｍのスパイラル状のトラッキング案内溝が形成された第２の透過性剛性基板５６ｂ上に、下層から金属反射膜５４ａ、膜厚が１８ｎｍの透明下部保護膜５３ａ、膜厚が１４ｎｍの相変化記録膜５２ａ及び膜厚が１７０ｎｍの透明上部保護膜５１ａを形成した。即ち、第２の透過性剛性基板５６ｂ上に第２層目の相変化型光記録層を上下逆さに形成した。
【００５９】
次に、これらの成膜が完了した２枚の基板の成膜面間に紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により４０μmの厚さに展開及び塗布し、第１の透過性剛性基板側から紫外線を照射することにより、紫外線硬化樹脂を硬化させた。これにより、透過性スペーサ５７を形成すると共に、２枚の基板を貼り合わせた。このようにして製造された光ディスクは、第２の透過性剛性基板が形成されていること及び透過性スペーサの厚さを除けば、実施例１と同様の構造を有している。
【００６０】
【表１】
【００６１】
また、比較例９として、直径が１２０ｍｍ、板厚が０．６ｍｍ、トラックピッチが１．０μｍのポリカーボネート基板を透過性剛性基板として使用し、その上に膜厚が２３０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる透明下部保護膜をスパッタ法により形成した。更に、透明下部保護膜上に膜厚が１０ｎｍのＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5からなる相変化記録膜をスパッタ法により形成した。更にまた、相変化記録膜上に膜厚が１８ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる透明上部保護膜をスパッタ法により形成した。そして、透明上部保護膜上に膜厚が６０ｎｍのＳｉ透明反射膜を形成した。このようにして、第１層目の相変化型光記録層を形成した。
【００６２】
次に、Ｓｉ透明反射膜上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により２５μmの厚さに塗布した。次に、その後、予めトラッキング溝が形成された透明スタンパを紫外線硬化樹脂に密着させ、紫外線照射によって紫外線硬化樹脂を硬化させ、スタンパを除去することにより、トラックピッチが１．０μｍの良好なトラッキング溝を紫外線硬化樹脂に転写した。このようにして、透過性スペーサを形成した。
【００６３】
次いで、透過性スペーサ上に膜厚が２３０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる第２の透明下部保護膜をスパッタ法により形成した。その後、第２の透明下部保護膜上に膜厚が１０ｎｍのＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5からなる第２の相変化記録膜をスパッタ法により形成した。更に、第２の相変化記録膜上に膜厚が１８ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる第２の透明上部保護膜をスパッタ法により形成した。そして、第２の透明上部保護膜上にＡｌからなる金属反射膜をスパッタ法により形成した。このようにして、第２層目（最上層）の相変化型光記録層を形成した。
【００６４】
そして、各実施例及び比較例について透過率の測定及び記録、再生及び消去の特性の評価を行った。
【００６５】
第１層目の相変化型光記録層の透過率は、実施例１では、６６０ｎｍのレーザ光波長において、記録膜が結晶状態のときに４０％、非晶質状態のときに３８％であった。実施例４では、記録膜が結晶状態のときに４３％、非晶質状態のときには４１％であった。実施例５では、記録膜が結晶状態のときに３７％、非晶質状態のときには３９％であった。実施例７では、記録膜が結晶状態のときに３８％、非晶質状態のときには３９％であった。実施例８では、記録膜が結晶状態のときに４０％、非晶質状態のときには３８％であった。一方、比較例９では、記録膜が結晶状態のときに４０％、非晶質状態のときには６８％であり、その差が極めて大きかった。
【００６６】
また、情報の記録、再生及び消去の特性の評価は、以下のようにして行った。
【００６７】
先ず、光ディスク内の第１及び２層目の相変化型光記録層を初期化し、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、第１層目の相変化型光記録層の半径３０ｍｍのトラックに８．４ＭＨｚ（デューティ比：５０％）の信号を記録した。その後、同じトラックに２．２ＭＨｚ（デューティ比：５０％）の信号を上書き（オーバライト）した。なお、情報の記録、再生及び消去には、波長が６６０ｎｍの半導体レーザを搭載した光ヘッドを使用し、集光レンズの開口率を０．６とした。
【００６８】
実施例１においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００６９】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００７０】
実施例２においては、実施例１と同様に、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７１】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、半径３１ｍｍのトラックに８．０ＭＨｚ（デューティ比：５０％）の信号を記録し、同じトラックに１．９ＭＨｚ（デューティ比：５０％）の信号をオーバライトした。なお、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷに設定した。このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。また、第１層目の相変化型光記録層における記録の有無に拘わらず、良好な記録再生が確認された。反対面について同様の記録及び再生を行ったところ、良好に動作することが確認された。
【００７２】
実施例３においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８．８ｍＷ、４．４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７３】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４．２ｍＷ、７．６ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００７４】
実施例４においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々７．７ｍＷ、３．８ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７５】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１３．５ｍＷ、７ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００７６】
実施例５においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々７．８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７７】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４．３ｍＷ、７．３ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００７８】
実施例６においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８．３ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７９】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４．６ｍＷ、８．０ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００８０】
実施例７においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８．１ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００８１】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１３．９ｍＷ、７．３ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００８２】
実施例８においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００８３】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００８４】
また、実施例１及び３乃至８において、第２層目の相変化型光記録層の記録が行われた領域及び記録が行われていない領域に夫々整合する第１層目の相変化型光記録層の領域に対して記録再生を試みたところ、いずれも記録・消去パワ及び再生パワを変更することなく、同等の信号品質が得られた。
【００８５】
比較例９においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００８６】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、第１層目の相変化型光記録層の記録が行われていない領域において記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷとし、この光ディスクの第２層目の相変化型光記録層に記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００８７】
しかしながら、第１層目の相変化型光記録層の記録が行われた領域に整合する第２層目の相変化型光記録層の領域に、記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷとして記録を行おうとしたところ記録を行うことはできなかった。また、最初に第２層目の相変化型光記録層に記録を行い、その後、第１層目の相変化型光記録層に記録を行い、引き続き第２層目の相変化型光記録層の再生を行ったところ、再生パワを当初の０．８ｍＷから１．５ｍＷに増加させなければ、良好な再生を行うことはできなかった。
【００８８】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、相変化型光記録層に膜厚を変化させることによって相変化記録膜におけるレーザ光の透過率を調節する下地干渉膜を設けているので、相変化記録膜の記録の有無に拘わらず、ほぼ一定した透過率を得ることができる。このため、記録の有無によって記録条件又は再生条件を変更する必要がないため、ドライブ上での操作性を向上させることができる。また、このような相変化型光記録層を積層して使用することにより、高密度で良好な情報の記録、再生及び消去を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例に係る光学的情報記録媒体の構造を示す模式的断面図である。
【図２】第１層目の相変化型光記録層２ａの構造を示す断面図である。
【図３】第４層目の相変化型光記録層２ｄを示す断面図である。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は下地干渉膜の膜厚と透過率又は反射率との関係を示すグラフ図である。
【図５】本発明の第２の実施例に係る光学的情報記録媒体の構造を示す断面図である。
【図６】実施例８の構造を示す断面図である。
【符号の説明】
１、５６ａ、５６ｂ；透過性剛性基板
２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ；相変化型光記録層
３ａ、３ｂ、３ｃ、５７；透過性スペーサ
４；接着層
１０；レーザ光
１１；集光レンズ
２１、２１ａ、５１、５１ａ；透明下部保護膜
２２、２２ａ、５２、５２ａ；相変化記録膜
２３、２３ａ、５３、５３ａ；透明上部保護膜
２４ａ、５４ａ；金属反射膜
２５、５５；下地干渉膜
【発明の属する技術分野】
本発明はレーザ光を使用しての情報の記録、再生及び消去が行われる光学的情報記録媒体、その情報記録方法、その情報再生方法及びその情報消去方法に関し、特に、情報の高密度化に好適な光学的情報記録媒体、その情報記録方法、その情報再生方法及びその情報消去方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
レ−ザ光を使用した光ディスク記録は大容量記録が可能であり、非接触で高速アクセスできることから、大容量メモリとして実用化が進められている。光ディスクは、コンパクトディスク及びレ−ザディスク等の再生専用型、ユ−ザ自身で記録が可能な追記型並びにユ−ザ側で繰り返し記録消去が可能な書換型に分類される。追記型又は書換型の光ディスクはコンピュ−タの外部メモリ又は文書及び画像ファイルの記録媒体として使用されている。
【０００３】
再生専用型の光ディスクにおいては、ＣＤ−ＲＯＭに代表されるデータファイル用のものが急速に普及し、パーソナル分野での高密度記録用媒体として使用されている。また、このＣＤ−ＲＯＭの大容量性に着目して、ＭＰＥＧ２等の画像圧縮技術により画像データを含むマルチメディアファイル用ディスクとしての応用が検討されている。この用途では、現行の１ディスク当たり６５０ＭＢの容量では不十分であり、現行の８倍容量となるＤＶＤ−ＲＯＭが製品化され始めた。一方、レーザディスクに代表される再生専用民生向け画像ファイル用機器では、小型高品質映像を提供するＤＶＤプレーヤが出荷され始めたが、ハイビジョン再生を目指した更なる光ディスクの高密度化は引き続き重要な課題となっている。
【０００４】
一方、追記型光ディスクでは、記録した情報が安定に保存できるというメリットを最大限に利用した応用分野において一定の市場が確保されている。この用途においても、スケールメリットを活かすという意味で、大容量化及び高密度化は重要な検討課題であることはいうまでもない。
【０００５】
また、書換型光ディスクには、記録膜の相変化を利用した相変化型光ディスク及び垂直磁化膜の磁化方向の変化を利用した光磁気ディスクがある。このうち、光磁気ディスクでは、第一世代の４倍容量の製品が出始め、８倍容量以上のものが検討されている。一方、相変化光ディスクにおいては、外部磁場が不要であり、上書きを容易に行うことができるため、今後、光磁気ディスクと共に、書換型光ディスクの主流になることが期待されている。相変化型光ディスクでも、２．６ＧＢ容量のＤＶＤ−ＲＡＭに代表されるように、光磁気の８倍容量相当の製品が販売され始めている。これらの書換型光ディスクにおいても、大容量化及び高密度化は重要な課題となっている。
【０００６】
次に、これらの従来の光ディスクの構造について説明する。再生専用型光ディスクにおいては、基板上にあらかじめ射出成形により作製された凹凸ピット上にＡｌ合金系の金属反射膜が成膜されており、再生に使用されている。追記型光ディスクにおいては、Ｔｅ、Ｂｉ、Ｓｅ若しくはＳｎ等の低融点金属の合金材料又は使用するレーザ波長において吸収特性を有する色素材料が基板上に薄く塗布されて記録膜が形成されている。書換型の光磁気ディスクにおいては、Ｔｂ、Ｇｄ、Ｄｙ及びＨｏ等の希土類金属とＦｅ、Ｃｏ及びＮｉ等の遷移金属との合金薄膜がＳｉＮ等の透明保護膜で挟み込まれた構造が採用されており、書換型の相変化型光ディスクにおいては、ＧｅＳｂＴｅ及びＩｎＳｂＴｅ等からなるカルコゲナイド系薄膜が記録膜として使用されている。相変化型光ディスクの記録膜には、ＩｎＳｅ系薄膜、ＩｎＴｅ系薄膜、ＡｓＴｅＧｅ系薄膜、ＴｅＯx−ＧｅＳｎ系薄膜、ＴｅＳｅＳｎ系薄膜、ＳｂＳｅＢｉ系薄膜及びＢｉＳｅＧｅ系薄膜等も使用されている。これらの薄膜は、抵抗加熱真空蒸着法、電子ビ−ム真空蒸着法若しくはスパッタリング法等の成膜法又はスピン塗布法で成膜されている。
【０００７】
このように、大容量化及び高密度化が要求されているが、前述のような従来の再生専用型、追記型、書換型の各光ディスクでは、透過性及び剛性がある基板上に凹凸ピット、追記型記録膜、光磁気記録膜又は相変化記録膜が形成された所謂単層構成が採用されている。
【０００８】
また、同一基板上の内周及び外周に再生専用部、追記部及び書換部が分割して形成されたパーシャルＲＯＭディスクが提案及び作製されている（例えば、「イレーザブル光ディスク技術」ｐ２４９、（株）トリケップス発行、平成３年）。
【０００９】
しかし、前述の光ディスク及びハイブリッド型ディスクでは、単層構成であるため、記録容量の飛躍的な向上は困難である。また、記録容量の向上のために単一ディスクを貼り合わせた両面構成のディスクとした場合には、通常のディスクドライブを使用して両面同時アクセスをするためには、ヘッド等の変更のためコストがかかり、実施しにくいという欠点がある。
【００１０】
そこで、再生専用型光ディスクにおいては、片面から２層又はそれ以上の多層膜をアクセスする再生専用型多層ディスクが提案されている（例えば、K.Rubin他による「Multilayer Volumetric Storage Topical Meeting Technical Digest」、WA３−１、Optical Data Storage Topical Meeting Technical Digest（１９９４））。また、再生専用のＤＶＤの規格にも、２層ディスクが規定されており、片面から２層に記録された情報を再生する方式が採用されている。
【００１１】
光ディスクの記録密度の向上を考えた場合、情報の書換が可能な書換型光ディスクは極めて有用であることから、片面多層構成で実用性能を確保することが課題とされ検討されている。
【００１２】
そこで、相変化を利用した書換型光ディスクとして記録膜を２層化した光学的情報記録媒体が提案されている（特開平３−１５７８３０号公報）。
【００１３】
また、相変化光ディスクにおける２層記録が報告されている（例えば、長田他による「書き換え可能な２層−相変化光ディスク」（第５９回応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集 １５ａ−Ｖ−５、ｐ１００８、（１９９８．９．１５）））。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平３−１５７８３０号公報に記載された従来の光学的情報記録媒体においては、２層の各記録層に記録が行われるのではなく、単に再生信号に所望の位相差を付加する手段として２層構成を採用しているに過ぎない。このため、記録容量の向上は不十分である。
【００１５】
また、前記講演会により報告された光ディスクにおいては、通常、第１層目での記録膜の光学変化により記録マーク部分と非記録部分とでの透過率変化が大きいため、第１層目に記録が行われていない場合と、第１層目に記録が行われている場合とで、第２層目への透過光量が著しく相違してしまう。このため、第２層目への記録再生時に照射するパワレベルを変更しなければ、良好な記録及び再生ができないという問題点がある。
【００１６】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、記録の有無に拘わらず相変化記録膜の透過性を実質的に均一にすることができ、好ましくは高密度で良好な情報の記録、再生及び消去を行うことができる光学的情報記録媒体、その情報記録方法、その情報再生方法及びその情報消去方法を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明の光学的情報記録媒体は、
透過性基板と、この透過性基板上に形成された１または複数の第１の相変化型光記録層と、この第１の相変化型光記録層の最上層上に形成された第２の相変化型光記録層と、前記第１の相変化型光記録層間、及び前記第１、第２の相変化記録層間に形成された透過性スペーサと、を有し、
前記第１の相変化型光記録層の各々は、少なくともレーザ光の照射による相変化により情報の記録及び消去が行われる相変化記録膜と、この相変化記録膜の上部に設けられた透明上部保護膜と、この相変化記録膜の下部に設けられた透明下部保護膜と、前記透明下部保護膜の下部に設けられその膜厚を変化させることによって前記相変化型光記録層に入射するレーザ光の当該第１の相変化型光記録層の透過率を調節するための下地干渉膜と、を有し、
前記相変化記録膜の情報が記録された領域における前記相変化型光記録層の透過率が前記相変化記録膜の情報が記録されていない領域における前記相変化型光記録層の透過率の０．９０乃至１．１０倍となるように前記下地干渉膜の膜厚が設定されていることを特徴とする。
本発明では、前記相変化記録膜は、Ｇｅ、Ｓｂ及びＴｅからなる群から選択された少なくとも１種の元素を含有した構成が使用可能である。前記下地干渉膜としては、Ｓｉ及びＧｅからなる群から選択された少なくとも１種の元素を含有する構成とすることができる。前記透過性スペーサとしては、光硬化型樹脂が使用可能である。
また、前記第２の相変化型光記録層の最上部に金属反射層を設けることができる。
さらに、本発明では、これらの光学的情報記録媒体を２枚、最上層に位置する前記第２の相変化型光記録層を対向させて貼り合わせて構成することもできる。
さらに、本発明の情報記録方法は、これらの光学的情報記録媒体に前記透過性基板側からレーザ光をその集光位置を変化させながら照射することにより、前記相変化記録膜の１つに相変化を生じさせる工程を有する。
また、本発明の情報消去方法は、これらの光学的情報記録媒体に前記透過性基板側からレーザ光をその集光位置を変化させながら照射することにより、前記相変化記録膜の１つに相変化を生じさせる工程を有する。
また、本発明の情報再生方法は、これらの光学的情報記録媒体に前記透過性基板側からレーザ光をその集光位置を変化させながら照射することにより、前記相変化記録膜の１つから情報を再生する工程を有する。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例に係る光学的情報記録媒体について、添付の図面を参照して具体的に説明する。図１は本発明の第１の実施例に係る光学的情報記録媒体の構造を示す模式的断面図である。
【００２８】
第１の実施例においては、透過性剛性基板１上に３層の相変化型光記録層２ａ乃至２ｃが透過性スペーサ３ａ及び３ｂを介して積層されている。更に、第３層目の相変化型光記録層２ｃ上には透過性スペーサ３ｃを介して相変化型光記録層２ｄが形成されている。相変化型光記録層２ａ乃至２ｄにおいてレーザ光の照射により情報の記録、再生又は消去が行われる。
【００２９】
透過性剛性基板１には、従来光ディスク用として使用されている透明の樹脂基板及びガラス基板が使用可能である。また、その厚さは、ディスクとしての剛性が確保されていればよく、使用される光ディスク用ヘッドの集光レンズの設計値に応じて、通常コンパクトディスク（ＣＤ）で使用されている１．２ｍｍ厚又はそれ以外の、例えば、０．４ｍｍ厚、０．６ｍｍ厚若しくは０．８ｍｍ厚であってもよい。１．２ｍｍより厚い基板とすることも可能である。
【００３０】
また、相変化型光記録層２ａ乃至２ｃは下地干渉膜、透明下部保護膜、相変化記録膜及び透明上部保護膜から構成されている。図２は第１層目の相変化型光記録層２ａの構造を示す断面図である。
【００３１】
相変化型光記録層２ａには、透過性剛性基板１上に形成された下地干渉膜２５が設けられている。下地干渉膜２５は、干渉効果を引き出すために高い屈折率を有する材料から形成されておりＳｉ膜又はＧｅ膜が使用可能である。また、Ｓｉを主成分とする酸化膜、Ｓｉを主成分とする窒化膜、Ｇｅを主成分とする酸化膜又はＧｅを主成分とする窒化膜も使用可能である。当然、干渉効果が得られれば、これらの膜以外の高屈折率誘電膜も使用できることはいうまでもない。この下地干渉膜２５により相変化記録膜２２におけるレーザ光の透過率が調節される。
【００３２】
また、下地干渉膜２５上には、相変化記録膜２２を主として情報の記録及び消去時の熱変形から保護する透明下部保護膜２１が形成されている。透明下部保護膜２１には、ＺｎＳ及びＳｉＯ2を主成分とする保護膜が使用される。
【００３３】
更に、透明下部保護膜２１上には、相変化記録膜２２が形成されている。相変化記録膜２２には、Ｇｅ、Ｓｂ及びＴｅを主成分とする薄膜が使用される。具体的には、Ｇｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5膜、Ｇｅ1Ｓｂ2Ｔｅ4膜、Ｇｅ1Ｓｂ4Ｔｅ7膜及びこれらにＧｅ、Ｓｂ又はＴｅを少量添加した膜並びに第４元素としてＰｄ、Ｐｔ、Ａｕ、Ａｇ、Ｔｉ又はＣｕ等を微量添加した膜が相変化記録膜２２として使用される。相変化記録膜２２の厚さは、５乃至３０ｎｍ程度であり、高い透過光が得られる。
【００３４】
更にまた、相変化記録膜２２上には、相変化記録膜２２を主として情報の記録及び消去時の熱変形から保護する透明上部保護膜２３が形成されている。透明上部保護膜２３には、透明下部保護膜２１と同様に、ＺｎＳ及びＳｉＯ2を主成分とする保護膜が使用される。
【００３５】
なお、相変化型光記録層２ｂ及び２ｃの構造は、透過性剛性基板１ではなく透過性スペーサ３ａ又は３ｂ上に下地干渉膜が形成されていることを除けば、相変化型光記録層２ａと同様のものである。
【００３６】
これらの相変化型光記録層２ａ乃至２ｃにおいては、下地干渉膜の膜厚を適切なものとすることにより、記録マークの有無による透過率の相違を著しく抑制することが可能となる。図４（ａ）及び（ｂ）は横軸に下地干渉膜の膜厚をとり、縦軸に透過率又は反射率のいずれかをとってこれらの関係を示すグラフ図である。なお、図４において、実線は記録マークが存在する領域、即ち、記録が行われている領域におけるもの、破線は記録マークが存在しない領域、即ち、記録が行われていない領域におけるものを夫々示している。
【００３７】
図４に示す光学特性は、次のような相変化型光記録層のものである。下地干渉膜はＳｉ膜であり、その光学定数はＳｉ（４．５２、０．１５ｉ）である。透明下部保護膜及び透明上部保護膜はＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる膜であり、その光学定数はＺｎＳ−ＳｉＯ2（２．１０、０．０ｉ）、その膜厚は１５０ｎｍである。相変化記録膜はＧｅＳｂＴｅからなる膜であり、その光学定数は、結晶状態においてＧｅＳｂＴｅ（３．９１、４．２２ｉ）、アモルファス状態においてＧｅＳｂＴｅ（４．１３、１．８９ｉ）、その膜厚は１６ｎｍである。また、レーザ光の波長は６６０ｎｍとしている。
【００３８】
図４（ａ）に示すように、下地干渉膜であるＳｉ膜の膜厚を１００ｎｍとしたとき、記録マークに対応するアモルファス状態のＧｅＳｂＴｅに対する透過率が３７．２％となり、未記録の消去状態に対応した結晶状態のＧｅＳｂＴｅに対する透過率が３６．４％となっている。このように、アモルファス状態の相変化記録膜における透過率は結晶状態のそれの１．０３倍である。従って、これらの透過率差は極めて僅かであり、良好な情報の記録、再生及び消去が可能となる。なお、相変化記録膜の情報が記録された領域における透過率は、情報が記録されていない領域における透過率の０．９０乃至１．１０倍であることが望ましい。
【００３９】
このように、相変化型光記録層２ａ乃至２ｃにおいては、３０乃至５０％の透過光が生じるように設計することが可能である。
【００４０】
透過性スペーサ３は、厚さが５乃至３０μmのフォトポリマ等の光硬化型樹脂から構成されている。なお、透過性スペーサ３の厚さは使用される集光レンズの特性及びレーザ波長から決まる焦点深度と比して十分厚く設定される。ここで、入射する集光レーザ光の集光位置を可変とすることにより、相変化型光記録層２ａ乃至２ｄに対する記録、再生及び消去を行うことができるようになる。
【００４１】
第４層目の相変化型光記録層２ｄは、透明下部保護膜、相変化記録膜、透明上部保護膜及び金属反射膜から構成されている。図３は第４層目の相変化型光記録層２ｄを示す断面図である。
【００４２】
第４層目の相変化型光記録層２ｄにおいては、透過性スペーサ３ｃ上に透明下部保護膜２１ａ、相変化記録膜２２ａ及び透明上部保護膜２３ａが、第１乃至３層目の相変化型光記録層と同様に、形成されている。これらの材料も第１乃至３層目の相変化型光記録層のものと同様である。
【００４３】
第４層目の相変化型光記録層２ｄにおいては、更に、透明上部保護膜２３ａ上に金属反射膜２４ａ形成されている。金属反射膜２４ａには、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ又はＰｔ等を主成分とする金属膜が使用される。
【００４４】
なお、金属反射膜２４ａは設けられていなくてもよい。この場合、最上層の相変化型光記録層において光が透過することになる。但し、光を透過させる必要がない場合には、効率よく反射光を信号再生に利用することを可能とするために、最上層の相変化型光記録層に金属反射層を設けることが望ましい。
【００４５】
このように構成された第１の実施例に係る光学的情報記録媒体による情報の記録、再生又は消去においては、図１に示すように、情報の記録、再生又は消去に使用するレーザ光１０が集光レンズ１１によって集光され、外部から透過性剛性基板１を通じて入射される。
【００４６】
このため、上部に位置する相変化型光記録層に記録再生する際に、下部に位置する相変化型光記録層を透過したレーザ光が使用されるので、相変化型光記録層の透過率が使用するレーザの波長において所定値以上となるように各膜の厚さを設定する必要がある。
【００４７】
また、第１乃至３層目の相変化型光記録層２ａ乃至２ｃにおいて、記録マークがある場合とない場合とで透過率が大きく異なる場合には、その領域における透過率が異なることになり、その層以降に到達する光の光量及び反射光量にも差が生じる。このため、記録感度のずれ及び再生特性変動が引き起こされてしまう。
【００４８】
本実施例においては、前述のように下地干渉膜の膜厚を調節することにより、相変化型光記録層２ａ乃至２ｃにおける透過率を制御することができると共に、記録マークの有無による透過率差を抑制することができるので、良好な情報の記録及び再生が可能である。
【００４９】
次に、本発明の第２の実施例について説明する。第２の実施例は、第１の実施例に係る２枚の光学的情報記録媒体が貼り合わされたものである。図５は本発明の第２の実施例に係る光学的情報記録媒体の構造を示す断面図である。なお、図５に示す第２の実施例において、図１に示す第１の実施例と同一の構成要素には、同一の符号を付してその詳細な説明は省略する。
【００５０】
第２の実施例においては、第１の実施例に係る２枚の光学的情報記録媒体がそれらの第４層目の相変化型光記録層２ｄを接着層４により貼り合わされている。
【００５１】
このように構成された第２の実施例においては、第１の実施例による効果だけでなく、その両面において情報の書換が可能となるため、記録容量が第１の実施例におけるものの２倍となる。
【００５２】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、その特許請求の範囲から外れる比較例と比較して具体的に説明する。
【００５３】
先ず、直径が１２０ｍｍ、板厚が０．６ｍｍ、トラックピッチが１．０μｍのポリカーボネート基板を透過性剛性基板として使用し、その上に下記表１に示す下地干渉膜を形成した。その後、下地干渉膜上に膜厚が１５０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる透明下部保護膜をスパッタ法により形成した。更に、透明下部保護膜上に膜厚が１６ｎｍのＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5からなる相変化記録膜をスパッタ法により形成した。そして、相変化記録膜上に膜厚が１５０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる透明上部保護膜をスパッタ法により形成した。このようにして、第１層目の相変化型光記録層を形成した。
【００５４】
次に、透明上部保護膜上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により２５μmの厚さに塗布した。次に、その後、予めトラッキング溝が形成された透明スタンパを紫外線硬化樹脂に密着させ、紫外線照射によって紫外線硬化樹脂を硬化させ、スタンパを除去することにより、トラックピッチが１．０μｍの良好なトラッキング溝を紫外線硬化樹脂に転写した。このようにして、透過性スペーサを形成した。
【００５５】
次いで、透過性スペーサ上に膜厚が１７０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる第２の透明下部保護膜をスパッタ法により形成した。その後、第２の透明下部保護膜上に膜厚が１４ｎｍのＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5からなる第２の相変化記録膜をスパッタ法により形成した。更に、第２の相変化記録膜上に膜厚が１８ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる第２の透明上部保護膜をスパッタ法により形成した。そして、第２の透明上部保護膜上に下記表１に示す金属反射膜をスパッタ法により形成した。このようにして、第２層目（最上層）の相変化型光記録層を形成した。
【００５６】
なお、実施例１、２及び８におけるＳｉ下地干渉膜はスパッタリングにより形成し、実施例３におけるＧｅ下地干渉膜はＧｅターゲットを使用したＡｒガスによるスパッタリングにより形成した。また、実施例４におけるＳｉＯ膜はＡｒ及びＯ2の混合ガス雰囲気中でのＳｉターゲットを使用した反応性スパッタリングにより形成し、実施例５におけるＳｉＮ下地干渉膜はＡｒ及びＮ2の混合ガス雰囲気中でのＳｉターゲットを使用した反応性スパッタリングにより形成した。更に、実施例６におけるＧｅＯ下地干渉膜はＡｒ及びＯ2の混合ガス雰囲気中でのＧｅターゲットを使用した反応性スパッタリングにより形成し、実施例７におけるＧｅＮ下地干渉膜はＡｒ及びＮ2の混合ガス雰囲気中でのＧｅターゲットを使用した反応性スパッタリングにより形成した。
【００５７】
また、実施例２は、第２の実施例に基づき、２枚の実施例１のディスクが金属反射膜で接着層により貼り合わされたものである。
【００５８】
更に、実施例８の製造においては、以下の方法を採用した。図６は実施例８の構造を示す断面図である。先ず、第１の透過性剛性基板５６ａ上に、下地干渉膜５５、透明下部保護膜５１、相変化記録膜５２及び透明上部電極５３からなる第１層目の相変化型光記録層を形成した。その後、第１の透過性剛性基板５６ａとは逆向きのトラックピッチ１．０ｕｍのスパイラル状のトラッキング案内溝が形成された第２の透過性剛性基板５６ｂ上に、下層から金属反射膜５４ａ、膜厚が１８ｎｍの透明下部保護膜５３ａ、膜厚が１４ｎｍの相変化記録膜５２ａ及び膜厚が１７０ｎｍの透明上部保護膜５１ａを形成した。即ち、第２の透過性剛性基板５６ｂ上に第２層目の相変化型光記録層を上下逆さに形成した。
【００５９】
次に、これらの成膜が完了した２枚の基板の成膜面間に紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により４０μmの厚さに展開及び塗布し、第１の透過性剛性基板側から紫外線を照射することにより、紫外線硬化樹脂を硬化させた。これにより、透過性スペーサ５７を形成すると共に、２枚の基板を貼り合わせた。このようにして製造された光ディスクは、第２の透過性剛性基板が形成されていること及び透過性スペーサの厚さを除けば、実施例１と同様の構造を有している。
【００６０】
【表１】
また、比較例９として、直径が１２０ｍｍ、板厚が０．６ｍｍ、トラックピッチが１．０μｍのポリカーボネート基板を透過性剛性基板として使用し、その上に膜厚が２３０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる透明下部保護膜をスパッタ法により形成した。更に、透明下部保護膜上に膜厚が１０ｎｍのＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5からなる相変化記録膜をスパッタ法により形成した。更にまた、相変化記録膜上に膜厚が１８ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる透明上部保護膜をスパッタ法により形成した。そして、透明上部保護膜上に膜厚が６０ｎｍのＳｉ透明反射膜を形成した。このようにして、第１層目の相変化型光記録層を形成した。
【００６２】
次に、Ｓｉ透明反射膜上に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により２５μmの厚さに塗布した。次に、その後、予めトラッキング溝が形成された透明スタンパを紫外線硬化樹脂に密着させ、紫外線照射によって紫外線硬化樹脂を硬化させ、スタンパを除去することにより、トラックピッチが１．０μｍの良好なトラッキング溝を紫外線硬化樹脂に転写した。このようにして、透過性スペーサを形成した。
【００６３】
次いで、透過性スペーサ上に膜厚が２３０ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる第２の透明下部保護膜をスパッタ法により形成した。その後、第２の透明下部保護膜上に膜厚が１０ｎｍのＧｅ2Ｓｂ2Ｔｅ5からなる第２の相変化記録膜をスパッタ法により形成した。更に、第２の相変化記録膜上に膜厚が１８ｎｍのＺｎＳ−ＳｉＯ2からなる第２の透明上部保護膜をスパッタ法により形成した。そして、第２の透明上部保護膜上にＡｌからなる金属反射膜をスパッタ法により形成した。このようにして、第２層目（最上層）の相変化型光記録層を形成した。
【００６４】
そして、各実施例及び比較例について透過率の測定及び記録、再生及び消去の特性の評価を行った。
【００６５】
第１層目の相変化型光記録層の透過率は、実施例１では、６６０ｎｍのレーザ光波長において、記録膜が結晶状態のときに４０％、非晶質状態のときに３８％であった。実施例４では、記録膜が結晶状態のときに４３％、非晶質状態のときには４１％であった。実施例５では、記録膜が結晶状態のときに３７％、非晶質状態のときには３９％であった。実施例７では、記録膜が結晶状態のときに３８％、非晶質状態のときには３９％であった。実施例８では、記録膜が結晶状態のときに４０％、非晶質状態のときには３８％であった。一方、比較例９では、記録膜が結晶状態のときに４０％、非晶質状態のときには６８％であり、その差が極めて大きかった。
【００６６】
また、情報の記録、再生及び消去の特性の評価は、以下のようにして行った。
【００６７】
先ず、光ディスク内の第１及び２層目の相変化型光記録層を初期化し、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、第１層目の相変化型光記録層の半径３０ｍｍのトラックに８．４ＭＨｚ（デューティ比：５０％）の信号を記録した。その後、同じトラックに２．２ＭＨｚ（デューティ比：５０％）の信号を上書き（オーバライト）した。なお、情報の記録、再生及び消去には、波長が６６０ｎｍの半導体レーザを搭載した光ヘッドを使用し、集光レンズの開口率を０．６とした。
【００６８】
実施例１においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００６９】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００７０】
実施例２においては、実施例１と同様に、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７１】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、半径３１ｍｍのトラックに８．０ＭＨｚ（デューティ比：５０％）の信号を記録し、同じトラックに１．９ＭＨｚ（デューティ比：５０％）の信号をオーバライトした。なお、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷに設定した。このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。また、第１層目の相変化型光記録層における記録の有無に拘わらず、良好な記録再生が確認された。反対面について同様の記録及び再生を行ったところ、良好に動作することが確認された。
【００７２】
実施例３においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８．８ｍＷ、４．４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７３】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４．２ｍＷ、７．６ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００７４】
実施例４においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々７．７ｍＷ、３．８ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７５】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１３．５ｍＷ、７ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００７６】
実施例５においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々７．８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７７】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４．３ｍＷ、７．３ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００７８】
実施例６においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８．３ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００７９】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４．６ｍＷ、８．０ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００８０】
実施例７においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８．１ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００８１】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１３．９ｍＷ、７．３ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００８２】
実施例８においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００８３】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷとし、この光ディスクに記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００８４】
また、実施例１及び３乃至８において、第２層目の相変化型光記録層の記録が行われた領域及び記録が行われていない領域に夫々整合する第１層目の相変化型光記録層の領域に対して記録再生を試みたところ、いずれも記録・消去パワ及び再生パワを変更することなく、同等の信号品質が得られた。
【００８５】
比較例９においては、再生信号の２次高調波歪が最小となるように、記録パワ及び消去パワを夫々８ｍＷ、４ｍＷに設定し、このトラックを再生したところ、良好な再生信号が得られた。
【００８６】
次に、光ヘッドのフォーカスサーボ回路にオフセットをかけて、レーザ光の集光位置を光ディスクの第２層目の相変化型光記録層の位置に移動させた。そして、光ディスクを３６００ｒｐｍの回転数で回転させ、第１層目の相変化型光記録層の記録が行われていない領域において記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷとし、この光ディスクの第２層目の相変化型光記録層に記録及び再生を行ったところ、良好な再生信号が得られた。
【００８７】
しかしながら、第１層目の相変化型光記録層の記録が行われた領域に整合する第２層目の相変化型光記録層の領域に、記録パワ及び消去パワを夫々１４ｍＷ、７ｍＷとして記録を行おうとしたところ記録を行うことはできなかった。また、最初に第２層目の相変化型光記録層に記録を行い、その後、第１層目の相変化型光記録層に記録を行い、引き続き第２層目の相変化型光記録層の再生を行ったところ、再生パワを当初の０．８ｍＷから１．５ｍＷに増加させなければ、良好な再生を行うことはできなかった。
【００８８】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、相変化型光記録層に膜厚を変化させることによって相変化記録膜におけるレーザ光の透過率を調節する下地干渉膜を設けているので、相変化記録膜の記録の有無に拘わらず、ほぼ一定した透過率を得ることができる。このため、記録の有無によって記録条件又は再生条件を変更する必要がないため、ドライブ上での操作性を向上させることができる。また、このような相変化型光記録層を積層して使用することにより、高密度で良好な情報の記録、再生及び消去を行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例に係る光学的情報記録媒体の構造を示す模式的断面図である。
【図２】第１層目の相変化型光記録層２ａの構造を示す断面図である。
【図３】第４層目の相変化型光記録層２ｄを示す断面図である。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は下地干渉膜の膜厚と透過率又は反射率との関係を示すグラフ図である。
【図５】本発明の第２の実施例に係る光学的情報記録媒体の構造を示す断面図である。
【図６】実施例８の構造を示す断面図である。
【符号の説明】
１、５６ａ、５６ｂ；透過性剛性基板
２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ；相変化型光記録層
３ａ、３ｂ、３ｃ、５７；透過性スペーサ
４；接着層
１０；レーザ光
１１；集光レンズ
２１、２１ａ、５１、５１ａ；透明下部保護膜
２２、２２ａ、５２、５２ａ；相変化記録膜
２３、２３ａ、５３、５３ａ；透明上部保護膜
２４ａ、５４ａ；金属反射膜
２５、５５；下地干渉膜
Claims (9)
- 透過性基板と、この透過性基板上に形成された１または複数の第１の相変化型光記録層と、この第１の相変化型光記録層の最上層上に形成された第２の相変化型光記録層と、前記第１の相変化型光記録層間、及び前記第１、第２の相変化記録層間に形成された透過性スペーサと、を有し、
前記第１の相変化型光記録層の各々は、少なくともレーザ光の照射による相変化により情報の記録及び消去が行われる相変化記録膜と、この相変化記録膜の上部に設けられた透明上部保護膜と、この相変化記録膜の下部に設けられた透明下部保護膜と、前記透明下部保護膜の下部に設けられその膜厚を変化させることによって前記相変化型光記録層に入射するレーザ光の当該第１の相変化型光記録層の透過率を調節するための下地干渉膜と、を有し、
前記相変化記録膜の情報が記録された領域における前記相変化型光記録層の透過率が前記相変化記録膜の情報が記録されていない領域における前記相変化型光記録層の透過率の０．９０乃至１．１０倍となるように前記下地干渉膜の膜厚が設定されている
ことを特徴とする光学的情報記録媒体。 - 前記相変化記録膜は、Ｇｅ、Ｓｂ及びＴｅからなる群から選択された少なくとも１種の元素を含有することを特徴とする請求項１に記載の光学的情報記録媒体。
- 前記下地干渉膜は、Ｓｉ及びＧｅからなる群から選択された少なくとも１種の元素を含有することを特徴とする請求項１乃至２に記載の光学的情報記録媒体。
- 前記透過性スペーサは、光硬化型樹脂であることを特徴とする請求項１乃至３に記載の光学的情報記録媒体。
- 前記第２の相変化型光記録層の最上部に金属反射層を設けることを特徴とする請求項１乃至４記載の光学的情報記録媒体。
- 請求項１乃至５記載の光学的情報記録媒体を２枚、最上層に位置する前記第２の相変化型光記録層を対向させて貼り合わせて構成されていることを特徴とする光学的情報記録媒体。
- 請求項１乃至６記載の光学的情報記録媒体に前記透過性基板側からレーザ光をその集光位置を変化させながら照射することにより、前記相変化記録膜の１つに相変化を生じさせる工程を有することを特徴とする光学的情報記録媒体の情報記録方法。
- 請求項１乃至６記載の光学的情報記録媒体に前記透過性基板側からレーザ光をその集光位置を変化させながら照射することにより、前記相変化記録膜の１つに相変化を生じさせる工程を有することを特徴とする光学的情報記録媒体の情報消去方法。
- 請求項１乃至６に記載の光学的情報記録媒体に前記透過性基板側からレーザ光をその集光位置を変化させながら照射することにより、前記相変化記録膜の１つから情報を再生する光学的情報記録媒体の情報再生方法。
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