JPH0981962A - 光ディスクおよび光ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】光学ピックアップの焦点位置を変えることな
く、二層の情報を再生することが可能な光ディスクを提
供する。 【構成】低温時において、照射されたレーザ光は、第１
の膜２０により反射されて、第１の情報面１６に格納さ
れた情報が再生される。高温時においては、照射された
レーザ光は、第１の膜２０により大半を透過され、第２
の膜２１により反射されて、第２の情報面１８に格納さ
れた情報が再生される。さらに、第２の膜２１を、低温
時には、再生時のレーザ光の透過率が大きくレーザ光の
大半を透過するような素材により構成すれば、第２の情
報面１８からのクロストークをより小さくすることがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、二層の情報面を有し
て、該二層の情報面に記録された情報を、一方の面から
光を照射することにより再生する光ディスクおよび光デ
ィスクの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】透明基板の片側の面に、記録情報に対応
したピットと呼ばれる微小な窪みを形成し、透明基板を
通してピットにレーザ光の焦点を合わせ、レーザ光の反
射光量の変化によって記録情報を再生する光ディスクと
しては、ＣＤ（Compact Disc）が代表的な例としてあげ
られる。

【０００３】ＣＤは、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ
の透明基板に、１．６μｍのトラックピッチで、最短ピ
ット長約０．９μｍのピット列が形成されている。再生
時の線速度は、約１．３ｍ／ｓで一定であり、約６５０
Ｍバイトの記録容量を有し、音楽や映像等のデジタルデ
ータが記憶されている。以下、ＣＤ規格に準拠したフォ
ーマットとは、上記仕様のものとし、ＣＤ−ＲＯＭ（Co
mpact Disc-Read OnlyMemory）、Ｖｉｄｅｏ−ＣＤ（Vi
deo-Compact Disc）等をも含むものとする。

【０００４】一方、記録密度をＣＤの約６〜８倍に高め
たＤＶＤ（Digital Video Disc）の研究開発が進んでい
る。現在、ＤＶＤには、２つの方式が提案されている。
１つはＳＤ（Super Density Disc）と呼ばれる方式であ
り、他の１つはＨＤＭＣＤ（High Density Multimedia
Compact Disc）と呼ばれる方式である。この両者の間に
は、互換性はない。

【０００５】図１にはＳＤの断面構造の説明図を示し、
図２にはＨＤＭＣＤの断面構造の説明図を示す。

【０００６】図１に示すように、ＳＤは、第１の情報面
２を形成した直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの第１の
透明基板１と、第２の情報面４を形成した直径１２０ｍ
ｍ、厚さ０．６ｍｍの第２の透明基板３とを、それぞれ
の情報面が内側となるように、厚さ約４０μｍの紫外線
硬化樹脂５により貼り合わせた構成となっている。

【０００７】ここで、第１の情報面２及び第２の情報面
４の表面は、レーザ光の殆どを反射するアルミニウム
（Ａｌ）、金（Ａｕ）等の金属から成る反射膜６で覆わ
れている。第１の情報面２に記録された情報の再生は、
第１の透明基板１を通して行なわれ、第２の情報面４に
記録された情報の再生は、第２の透明基板３を通して行
なわれる。このようなタイプのＳＤをＳＤ−１０と呼
ぶ。

【０００８】また、第１の情報面２の表面のみを、反射
膜６に代えて、レーザ光の一部を透過し残りを反射する
窒化シリコン（ＳｉｘＮｙ）、窒化アルミニウム（Ａｌ
Ｎｙ）等の誘電体層から成る半透明膜で覆う構成とし、
第１の情報面２及び第２の情報面４に記録された情報
を、共に第１の透明基板１を通して再生することができ
るタイプのＳＤも検討されている。このようなタイプの
ＳＤをＳＤ−９と呼ぶ。

【０００９】現在提案されているＳＤの仕様は、トラッ
クピッチ０．７２５μｍ、最短ピット長０．４μｍ、再
生時の線速度は４ｍ／ｓで一定、記憶容量は両面で約１
０Ｇバイト、再生時のレーザ光の波長は６５０ｎｍまた
は６３５ｎｍであり、以下ＳＤ規格に準拠したフォーマ
ットとは、上記仕様のものとする。

【００１０】一方、図２に示すように、ＨＤＭＣＤは、
直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの透明基板７上に二層
の情報面を有した構成となっている。第１の情報面８
は、射出成型で形成されたものであり、その表面は、レ
ーザ光の一部を透過し、残りを反射する窒化シリコン
（ＳｉｘＮｙ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｙ）等の誘
電体層等から成る半透明膜９で覆われている。第２の情
報面１０は、半透明膜９上に約４０μｍの厚みで塗布さ
れた紫外線硬化樹脂１１を、スタンパで押しながら紫外
線を照射して固めることにより形成されている。第２の
情報面１０の表面は、レーザ光の殆どを反射するアルミ
ニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）等の金属から成る反射膜１
２で覆われ、さらに反射膜１２の表面は、紫外線硬化樹
脂等から成る保護層１３で覆われている。

【００１１】現在提案されているＨＤＭＣＤの仕様は、
トラックピッチ０．８４μｍ、最短ピット長０．４５１
μｍ、再生時の線速度は約４ｍ／ｓで一定、記憶容量は
７．４Ｇバイト、再生時のレーザ光の波長は６３５ｎｍ
であり、以下ＨＤＭＣＤ規格に準拠したフォーマットと
は、上記仕様のものとする。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】以上のように、ＳＤ−
１０においては、片側から二層の情報面を再生すること
ができず、第１の情報面と第２の情報面とを再生するた
めには、光ディスクを裏がえさなくてはならない。

【００１３】また、ＳＤ、ＨＤＭＣＤ共に、片側から二
層の情報面を再生するタイプ（ＨＤＭＣＤとＳＤ−９）
においては、上層（再生時のレーザ光の入射側）の第１
の情報面と下層の第２の情報面との距離は、約４０μｍ
と大きい。このように、対物レンズからの距離が大きく
異なる情報面を、焦点深度を変更せずに再生しようとす
ると、情報面上で収差が発生し、再生時にレーザ光のス
ポット径をピット情報を読み取れる程度に絞り込むこと
ができない。

【００１４】従って、ＳＤ、ＨＤＭＣＤ共に、片側から
二層の情報面を再生するタイプ（ＨＤＭＣＤとＳＤ−
９）においては、上層の第１の情報面と下層の第２の情
報面とを、光学ピックアップのアクチュエータの調整無
しで、同一の対物レンズ（焦点位置が固定）を用いて再
生することはできなかった。

【００１５】すなわち、従来は、フォーカス制御に用い
ている誤差信号に、これを打ち消すような駆動信号を加
えて対物レンズを動かし、フォーカスを合わせる情報面
を変えている。このような方式の場合、再生する情報面
の切り換えには、約３ｍｓ程度の時間がかかり、かつ、
光学ピックアップの構造も複雑になるという問題点があ
る。

【００１６】本発明は、上記課題を解決するために為さ
れたものであり、ＳＤまたはＨＤＭＣＤにおいて、光デ
ィスクを裏がえすこと無く、かつ、光学ピックアップの
アクチュエータの調整無しで、第１の情報面と第２の情
報面とを、同一の対物レンズ（焦点位置が固定）を用い
て再生することができる光ディスクおよび光ディスクの
製造方法を提供することを目的とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明によれば、情報を記録され、該記録された情
報を、レーザ光を照射する光学ピックアップにより再生
される光ディスクにおいて、透明である第１の透明基板
と、該第１の透明基板上に形成され、ピットを形成する
凹凸を有し、相転移温度以下の温度においては、レーザ
光の透過率が小さくレーザ光の大半を反射し、相転移温
度以上の温度においては、レーザ光の透過率が大きく大
半を透過する、温度によって光学特性が可逆的に変化す
る第１の膜と、該第１の膜を覆い、厚さの値が、再生レ
ーザ光の焦点深度の値よりも小さい透明な透明層と、該
透明層上に形成され、ピットを形成する凹凸を有し、少
なくとも、前記第１の膜の相転移温度以上の温度におい
ては、再生時のレーザ光の大半を反射する第２の膜と、
該第２の膜を覆う保護層と、を備えることができる。

【００１８】また、上記光ディスクにおいて、前記透明
層を接着層とし、前記保護層を第２の透明基板とするこ
ともできる。

【００１９】さらに、上記光ディスクにおいて、前記第
２の膜を、相転移温度以下の温度においては、レーザ光
の透過率が小さくレーザ光の大半を反射し、相転移温度
以上の温度においては、レーザ光の透過率が大きくレー
ザ光の大半を透過する素材により構成することもでき
る。

【００２０】

【作用】低温時において、照射されたレーザ光は、第１
の膜により反射されて、第１の情報面に格納された情報
が再生される。

【００２１】高温時においては、照射されたレーザ光
は、第１の膜により大半を透過され、第２の膜により反
射されて、第２の情報面に格納された情報が再生され
る。

【００２２】さらに、第２の膜を、常温時には、レーザ
光の透過率が大きくレーザ光の大半を透過するような素
材により構成すれば、第２の情報面からのクロストーク
をより小さくすることができる。

【００２３】

【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を用い
て詳細に説明する。

【００２４】図３は、本発明による光ディスクの断面の
構造の一例の一部を示す説明図である。本発明による光
ディスクの断面の構造は、第１の情報面１６とこの第１
の情報面１６を覆う第１の膜２０が形成された第１の透
明基板１５と、第２の情報面１８とこの第２の情報面１
８を覆う第２の膜２１が形成された第２の透明基板１７
とを、接着層１９を介して、第１の膜２０と第２の膜２
１とが向き合うように貼り合わせた構造となっている。
ここで、接着層１９の厚さの値は、再生レーザ光の焦点
深度の値よりも小さくなるようにする。

【００２５】ここで、第１の情報面１６を覆う第１の膜
２０は、相転移温度以下の温度においては、再生時のレ
ーザ光の透過率が小さくレーザ光の大半を反射し、相転
移温度以上の温度においては、再生時のレーザ光の透過
率が大きくレーザ光の大半を透過するような、温度によ
って光学特性が可逆的に変化するような素材により構成
する。

【００２６】すなわち、アンチモンセレン（ＳｂＳ
ｅ）、ゲルマニウムテルル（ＧｅＴｅ）、硫化アンチモ
ン（ＳｂＳ）等の相転移材料や、低酸化鉛（ＰｂＯｘ：
ｘは化学当量値より小さい値）等の還元性酸化物を用い
る。

【００２７】ＳｂＳｅ、ＧｅＴｅ、ＳｂＳ等の相転移材
料は、２つの異なる状態である結晶相とアモルファス相
とを有し、所定の膜厚に設定すると、再生時のレーザ光
の波長に対して、結晶相では透過率を低く、アモルファ
ス相では透過率を高くすることができる。図６に、Ｓｂ
ｘＳｅ1-x（０．１≦ｘ≦０．５）の膜厚依存性を示
す。ここでは、例えば、所定の膜厚を約９０ｎｍとする
ことができる。ここで、結晶相の状態にある相転移材料
を、相転移温度以上に加熱すると、アモルファス相に相
転移し、再び除冷することにより、結晶相に戻る。

【００２８】また、ＰｂＯｘも、２つの異なる状態であ
る高温相と低温相とを有しており、所定の膜厚に設定す
ると、再生時のレーザ光の波長に対して、高温相では透
過率を高く、低温相では透過率を低くすることができ
る。図７に、ＰｂＯｘ（膜厚４８０ｎｍ）の透過率の波
長依存性を示す。ここで、低温相の状態にあるＰｂＯｘ
を、相転移温度以上に加熱すると、高温相に相転移し、
再び除冷することにより、低温相に戻る。

【００２９】また、第２の情報面１８を覆う第２の膜２
１は、少なくとも、第１の膜２０の相転移温度以上の温
度においては、再生時のレーザ光の大半を反射し、好ま
しくは、第１の膜２０の相転移温度以下の温度において
は、再生時のレーザ光の透過率が大きくレーザ光の大半
を透過するような素材により構成する。

【００３０】すなわち、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａ
ｕ）、銀（Ａｇ）等の金属や、低酸化モリブデン（Ｍｏ
Ｏｘ）、低酸化アンチモン（ＳｂＯｘ）、低酸化ゲルマ
ニウム（ＧｅＯｘ）等を用いることができる。

【００３１】従って、第１の膜２０を結晶相または低温
相の状態に初期化しておき、相転移温度を超えない程度
の低パワーのレーザ光を照射すると、レーザ光は、第１
の膜２０を殆ど透過せずに反射されるため、第１の情報
面１６のみを再生することができる。この様子を、図４
の（ａ）、（ｂ）に示す。

【００３２】また、相転移温度を超える高パワーのレー
ザ光を照射すると、第１の膜２０は、アモルファス相ま
たは高温相に相転移し、第１の膜２０の透過率が高くな
るために、レーザ光の殆どが、反射率の高い第２の膜２
１にまで到達し、第２の情報面１８を再生することがで
きる。この様子を、図４の（ｃ）、（ｄ）に示す。

【００３３】アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀
（Ａｇ）等の金属は、低温時と高温時において反射率は
変化しないが、低酸化モリブデン（ＭｏＯｘ）、低酸化
アンチモン（ＳｂＯｘ）、低酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ
ｘ）等は、図４（ｅ）や図８に示すように、低温時には
反射率が低く、すなわち、透過率が高く、高温時には反
射率が高く、すなわち、透過率が低くなるため、低パワ
ーのレーザ光を照射した場合に、第２の情報面１８から
のクロストークをより小さくすることができる。

【００３４】次に、本発明による光ディスクの製造方法
について説明する。

【００３５】図５は、図３で説明された本発明による光
ディスクの製造方法の一例を示す説明図である。

【００３６】まず、図５（ａ）のように、ＳＤ規格に準
拠したフォーマットで情報が記録されている第１のスタ
ンパ２２を用い、ポリカーボネート等の樹脂からなり、
直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍで、直径１５ｍｍの中
心孔を有し第１の情報面１６を有する第１の透明基板１
５を、射出成型によって作製する。同様に、図５（ｃ）
のように、ＳＤ規格に準拠したフォーマットで情報が記
録されている第２のスタンパ２３を用い、ポリカーボネ
ート等の樹脂からなり、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍ
ｍで、直径１５ｍｍの中心孔を有し第２の情報面１８を
有する第２の透明基板１７を、射出成型によって作製す
る。

【００３７】続いて、図５（ｂ）のように、第１の透明
基板１５に作製された第１の情報面１６の表面に、相転
移温度以下の温度において、波長６２０ｎｍから６７０
ｎｍの再生時のレーザ光に対して、約３０％以上の反射
率と約１０％以下の透過率を有し、相転移温度以上の温
度において、波長６２０ｎｍから６７０ｎｍの再生時の
レーザ光に対して、約１０％以下の反射率と約５０％以
上の透過率となるような、温度によって光学特性が変化
する第１の膜２０を、スパッタリング法等により形成す
る。

【００３８】また、図５（ｄ）のように、第２の透明基
板１７に作製された第２の情報面１８の表面に、少なく
とも第１の膜２０の相転移温度以上の温度において、波
長６２０ｎｍから６７０ｎｍの再生時のレーザ光に対し
て、約７０％以上の反射率となるような第２の膜２１
を、スパッタリング法等により形成する。

【００３９】そして、図５（ｅ）のように、第１の透明
基板１５上に形成された第１の膜２０の上に、紫外線硬
化樹脂等による接着層１９を約２μｍ以下程度に薄く塗
布する。第２の透明基板１７上に形成された第２の膜２
１を、接着層１９に貼り合わせる。

【００４０】図９は、本発明による光ディスクの断面の
構造の他の例の一部を示す説明図である。本発明による
光ディスクの断面の構造は、透明基板９１上に第１の情
報面９３とこの第１の情報面９３を覆う第１の膜９４が
形成されている。第１の膜９４上には、透明層９５が形
成され、透明層９５上には、第２の情報面９７とこの第
２の情報面９７を覆う第２の膜９８が形成されている。
第２の膜９８上には、保護層９９が形成されている。こ
こで、透明層９５の厚さの値は、再生レーザ光の焦点深
度の値よりも小さくなるようにする。

【００４１】図９において、第１の膜９４の性質は、図
３で説明された第１の膜２０と同様なものとする。ま
た、第２の膜９８の性質は、図３で説明された第２の膜
２１と同様なものとする。

【００４２】図１０は、図９で説明された本発明による
光ディスクの製造方法の例を示す説明図である。

【００４３】まず、図１０（ａ）のように、ＨＤＭＣＤ
規格に準拠したフォーマットで情報が記録されている第
１のスタンパ９２を用い、ポリカーボネート等の樹脂か
らなり、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍで、直径１５
ｍｍの中心孔を有し第１の情報面９３を有する第１の透
明基板９１を、射出成型によって作製する。

【００４４】続いて、図１０（ｂ）のように、透明基板
９１に作製された第１の情報面９３の表面に、相転移温
度以下の温度において、波長６２０ｎｍから６７０ｎｍ
の再生時のレーザ光に対して、約３０％以上の反射率と
約１０％以下の透過率を有し、相転移温度以上の温度に
おいて、波長６２０ｎｍから６７０ｎｍの再生時のレー
ザ光に対して、約１０％以下の反射率と約５０％以上の
透過率となるような、温度によって光学特性が変化する
第１の膜９４を、スパッタリング法等により形成する。

【００４５】そして、図１０（ｃ）のように、透明基板
９１上に形成された第１の膜９４の上に、紫外線硬化樹
脂等による層９５を約２μｍ以下程度に薄く塗布する。

【００４６】続いて、層９５上に、ＨＤＭＣＤ規格に準
拠したフォーマットで情報が記録されている第２のスタ
ンパ９６を用い、第２の情報面９７を、２Ｐ（Ｐｈｏｔ
ｏＰｏｌｙｍｅｒ）法によって作製する。

【００４７】そして、図１０（ｄ）のように、第２の情
報面９７の表面に、少なくとも第１の膜９４の相転移温
度以上の温度において、波長６２０ｎｍから６７０ｎｍ
の再生時のレーザ光に対して、約７０％以上の反射率と
なるような第２の膜９８を、スパッタリング法等により
形成する。

【００４８】そして、第２の膜９８の上に、保護層９９
を形成する。

【００４９】ここで、本発明の光ディスクの効果につい
て説明する。

【００５０】従来の片面から再生可能なタイプのＳＤ及
びＨＤＭＣＤは、前述のように、第１の情報面と第２の
情報面との距離が約４０μｍであるため、第１の情報面
と第２の情報面とのうちの読み取り面に合わせて、光学
ピックアップのアクチュエータを調整し、焦点位置を変
更しなければならない。フォーカスシステムも複雑なも
のが必要となる。

【００５１】しかし、本発明の光ディスクの第１の情報
面と第２の情報面との距離は、約２μｍ以下と、再生レ
ーザ光の焦点深度よりも小さいため、第１の情報面と第
２の情報面とのうちの読み取り面に合わせて、光学ピッ
クアップのアクチュエータを調整し、焦点位置を変更す
る必要がない。フォーカスシステムも簡素化することが
できる。

【００５２】また、再生時のレーザ光の強弱（温度）に
より、光学特性が異なる膜を有するために、再生中の情
報面に記録された情報の再生信号中に重畳するもう一方
の情報面に記録された情報の信号量を小さくすることが
できるために、従来の片面から再生可能なタイプのＳＤ
及びＨＤＭＣＤよりも、高いＳＮ比（Signal to Noise
Ratio）で情報を再生することができる。

【００５３】

【発明の効果】ＳＤまたはＨＤＭＣＤにおいて、光ディ
スクを裏がえすこと無く、かつ、光学ピックアップのア
クチュエータの調整無しで、第１の情報面と第２の情報
面とを、同一の対物レンズ（焦点位置が固定）を用いて
再生することができる光ディスクおよび光ディスクの製
造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は、ＳＤの断面構造の説明図である。

【図２】 図２は、ＨＤＭＣＤの断面構造の説明図であ
る。

【図３】 図３は、本発明による光ディスクの断面構造
の説明図である。

【図４】 図４は、本発明による光ディスクの再生原理
の説明図である。

【図５】 図５は、本発明による光ディスクの製造方法
の説明図である。

【図６】 図６は、ＳｂｘＳｅ1-x（０．１≦ｘ≦０．
５）の膜厚依存性を示す説明図である。

【図７】 図７は、ＰｂＯｘ（膜厚４８０ｎｍ）の透過
率の波長依存性を示す説明図である。

【図８】 図８は、低酸化モリブデン（ＭｏＯｘ）、低
酸化アンチモン（ＳｂＯｘ）、低酸化ゲルマニウム（Ｇ
ｅＯｘ）の加熱による透過率変化の説明図である。

【図９】 図９は、本発明による光ディスクの断面構造
の他の例の説明図である。

【図１０】 図１０は、本発明による光ディスクの製造
方法の他の例を示す説明図である。

【符号の説明】

１…第１の透明基板、２…第１の情報面、３…第２の透
明基板、４…第２の情報面、５…紫外線硬化樹脂、６…
反射膜、７…透明基板、８…第１の情報面、９…半透明
膜、１０…第２の情報面、１１…紫外線硬化樹脂、１２
…反射膜、１３…保護層、１４…中心孔、１５…第１の
透明基板、１６…第１の情報面、１７…第２の透明基
板、１８…第２の情報面、１９…接着層、２０…第１の
膜、２１…第２の膜、２２…第１のスタンパ、２３…第
２のスタンパ、９１…透明基板、９２…第１のスタン
パ、９３…第１の情報面、９４…第１の膜、９５…透明
層、９６…第２のスタンパ、９７…第２の情報面、９８
…第２の膜、９９…保護層。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】情報を記録され、該記録された情報を、レ
   ーザ光を照射する光学ピックアップにより再生される光
   ディスクにおいて、 透明である第１の透明基板と、 該第１の透明基板上に形成され、ピットを形成する凹凸
   を有し、相転移温度以下の温度においては、レーザ光の
   透過率が小さくレーザ光の大半を反射し、相転移温度以
   上の温度において、レーザ光の透過率が大きく大半を透
   過する、温度によって光学特性が可逆的に変化する第１
   の膜と、 該第１の膜を覆い、厚さの値が、再生レーザ光の焦点深
   度の値よりも小さい透明な透明層と、 該透明層上に形成され、ピットを形成する凹凸を有し、
   少なくとも、前記第１の膜の相転移温度以上の温度にお
   いては、再生時のレーザ光の大半を反射する第２の膜
   と、 該第２の膜を覆う保護層と、 を備えることを特徴とする光ディスク。
2. 【請求項２】請求項１記載の光ディスクにおいて、 前記透明層は、接着層であり、前記保護層は、第２の透
   明基板であることを特徴とする光ディスク。
3. 【請求項３】請求項１または２に記載の光ディスクにお
   いて、前記第２の膜は、前記第１の膜の相転移温度以下
   の温度においては、レーザ光の透過率が大きくレーザ光
   の大半を透過する素材により構成されることを特徴とす
   る光ディスク。
4. 【請求項４】情報を記録され、該記録された情報を、レ
   ーザ光を照射する光学ピックアップにより再生される光
   ディスクの製造方法において、 透明である第１の透明基板に、情報を記憶する第１の情
   報面を形成し、 該第１の情報面を覆い、相転移温度以下の温度において
   は、レーザ光の透過率が小さくレーザ光の大半を反射
   し、相転移温度以上の温度においては、レーザ光の透過
   率が大きく大半を透過する、温度によって光学特性が可
   逆的に変化する第１の膜を形成し、 透明である第２の透明基板に、情報を記憶する第２の情
   報面を形成し、 該第２の情報面を覆い、少なくとも、前記第１の膜の相
   転移温度以上の温度においては、再生時のレーザ光の大
   半を反射する第２の膜を形成し、 厚さの値が再生レーザ光の焦点深度の値よりも小さい接
   着層によって、前記第１の膜と前記第２の膜とを向き合
   うように貼り合わせることを特徴とする光ディスクの製
   造方法。
5. 【請求項５】情報を記録され、該記録された情報を、レ
   ーザ光を照射する光学ピックアップにより再生される光
   ディスクの製造方法において、 透明である第１の透明基板に、 情報を記憶する第１の情報面を形成し、 該第１の情報面を覆い、相転移温度以下の温度において
   は、レーザ光の透過率が小さく大半を反射し、相転移温
   度以上の温度においては、レーザ光の透過率が大きく大
   半を透過する、温度によって光学特性が可逆的に変化す
   る第１の膜を形成し、 該第１の膜を覆い、厚さの値が、再生レーザ光の焦点深
   度の値よりも小さい透明な透明層を形成し、 該透明層上に、情報を記憶する第２の情報面を形成し、 該第２の情報面を覆い、少なくとも、前記第１の膜の相
   転移温度以上の温度においては、再生時のレーザ光の大
   半を反射する第２の膜を形成し、 該第２の膜を覆う保護層を形成することを特徴とする光
   ディスクの製造方法。