JP4271116B2 - 光記録再生装置 - Google Patents

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Description

本発明は、光の入射方向に沿って積層された複数層の情報層を有し、複数層の情報層のうち少なくとも1層は光照射により可逆的な相変化を起こす記録膜、もしくは光照射により不可逆的に変化を起こす記録膜を含む光記録媒体、およびこの光記録媒体に情報の記録および再生を行う光記録再生装置に関する。
(相変化光記録媒体の原理)
相変化光記録媒体は、光ビームの照射により結晶質と非晶質との間で可逆的な相変化を起こす相変化光記録膜を用い、以下のような原理で動作する。記録は、光ビームを照射した領域を融点以上に加熱して溶融した後、急激に冷却してその領域の原子配列を非晶質にすることにより行う。消去は、光ビームを照射した領域を融点以下・結晶化温度以上の温度領域に一定時間以上保持することにより行う。このとき、初期状態が結晶質の場合には結晶質のままであり、初期状態が非晶質の場合には結晶化する。読み出し(再生)は、たとえば、非晶質領域からの反射光強度と、結晶質領域からの反射光強度が異なることを利用して、反射光の強弱を電気信号の強弱に変換し、さらにA/D変換することによって行う。読み出しには、非晶質領域と結晶質領域からの反射光の位相差を利用してもよい。
なお、結晶質−非晶質間の相変化のほか、マルテンサイト相のような準安定結晶相と安定結晶相、または複数の準安定結晶相間の遷移を利用して記録・読み出しを行うことも可能である。
(高密度化の手法)
ここで、一枚の記録媒体に記録できる情報の量すなわち記録容量を増すためには、以下の二通りの方法が考えられる。
一つの方法は、トラック方向の記録マークのピッチ(いわゆるビットピッチ)を微細化する方法である。しかし、微細化の程度が進むとビットピッチが再生ビームの大きさよりも小さくなる領域に至り、再生ビームスポット内に2つの記録マークが一時的に含まれる場合が生じる。記録マークが互いに十分離れている場合には、再生信号が大きく変調され、振幅の大きい信号が得られる。しかし、記録マークが互いに近接している場合には、振幅の小さい信号となり、デジタルデータへの変換の際にエラーを生じやすい。
もう一つの方法は、トラックピッチを狭小化することである。この方法は、上述したビットピッチの微細化による信号強度低減の影響を大きく受けることなく、記録密度を上げることができる。しかし、この方法の問題点は、トラックピッチが光ビームの大きさにくらべて同程度か小さい領域においては、あるトラックの情報が隣接したトラックに書き込みまたは消去動作を行っている際に劣化してしまう、いわゆるクロスイレースが発生することである。
クロスイレースの原因は、隣接するトラック上のレーザービームの外縁部によって記録マークが直接照射を受けてしまうことと、記録時の熱流が隣接トラックに流れ込み、隣接トラック上のマーク温度が上昇して形状が劣化することにある。これらを解決することが相変化光記録媒体の高密度化に必要である。また、より微小になったマークの読み出しエラーの確率を低く抑えるためには、形成される記録マークの外縁部も滑らかな形状にし、ノイズ成分を極力抑えることが望まれる。
また、ビットピッチとトラックピッチを狭小化する方法に関しては、使用する光の短波長化が非常に大きく寄与する。現状では、可視光の中で最も短波長の青紫色の半導体レーザー(LD)が実用化されている。なお、光ディスクの原盤作製、いわゆるマスタリング工程においては紫外線の波長域の光源が用いられているが、工業的に利用可能な紫外線用の半導体レーザーは実用化されていない。しかし、基板として一般的に用いられているポリカーボネート(PC)は、可視光より短波長の紫外線の波長域では、光の吸収が急激に大きくなる。このように一般的に高分子は、紫外線の波長域で光を吸収する性質がある。このため、紫外線の波長域に対応させるためには、基板として従来とは異なるものを用いる必要があるが、紫外線の波長域に適した基板材料は未だ見出せていない。また、基板だけではなく光記録再生装置内の光学部品の材料にも同様なことがいえる。したがって、更なる大容量化には、次に示す多層媒体による大容量化の手法が有利であると考えられる。
(多層媒体による大容量化)
もうひとつの大容量化の手法は、それぞれ相変化光記録膜を含む複数層の情報層を積層する方法である(たとえば特許文献1参照)。2つの情報層を積層し、片面から読み書きできるように設計された媒体を片面2層媒体または単に2層媒体と呼ぶ。片面2層媒体において、光入射面に近い情報層(以下、L0と称する)は、おおよそ50%以上の透過率を確保する必要がある。これは、光入射面から遠い情報層(以下、L1と称する)にアクセスする際に、L0層で必要以上に光を減衰させないことが重要になるためである。このためには、L0層では相変化光記録膜の厚さを10nm以下と極めて薄くする必要がある。このように相変化光記録膜が薄いと、結晶化に必要な保持時間が長くなり、通常の記録速度では消え残り(消去率の低下)が発生する。そのための対策として、GeSbTe記録膜の一部を、Snで置換したり、Bi,In,Sn,Pbで置換したりすることが有効であることが知られている。一方、L1層はL0層で強度が約半分になったレーザー光によって記録、消去を行う必要があるため、高感度化が要求される。
また、情報層の数を増加させた3層媒体や4層媒体に関する技術も知られている(たとえば非特許文献1参照)。多層媒体においても、情報層は光入射側から順にL0、L1、L2、L3と定義される。非特許文献1には3層または4層のROM媒体の製造方法として、基板上にL0層を堆積した後、いわゆる2P工程により樹脂からなる層間分離層を形成し、プラスチック・スタンパーを用いて層間分離層にグルーブまたはピットを転写した後、プラスチック・スタンパーを剥離し、層間分離層の上にL1層を堆積する方法を開示している。しかし、この方法では、層間分離層からプラスチック・スタンパーを剥離する工程が必要になるため、2層媒体の製造も難しく、まして多層媒体を工業的に安定して安価に製造することは極めて困難である。
また、青紫色光源と、開口数NAの高い(High NAタイプの)対物レンズを有する光ピックアップを用いることを前提として、光入射側に薄いカバー層を設けた片面2層媒体も提案されている。この片面2層媒体では、光入射側に約75μmのカバー層を設け、層間分離層の厚みを25μm程度にする。このような片面2層媒体の特性は、特に層間分離層およびカバー層の厚み分布によって大きく左右されるため制御が困難になる。また、この片面2層媒体の製造方法にも、いわゆる2P工程により層間分離層を形成し、プラスチック・スタンパーを用いて層間分離層にグルーブまたはピットを形成した後、プラスチック・スタンパーを剥離する工程が含まれる。このように現行のDVDよりも記録密度の高い次世代の片面2層媒体を、薄いカバー層を用い、プラスチック・スタンパーの剥離工程を含む方法によって、工業的に安定かつ安価に製造することは困難になる。さらに、この技術を適用して3層媒体や4層媒体を製造しようとしても、工業的に安定かつ安価な製造は実質に不可能と予想される。
一方、次世代の書き換え型媒体についても、現行の2層媒体(いわゆるDVD−9)と同様に厚さ約0.6mmの2枚のリジット基板を用い、各基板に情報層を形成し、これらを貼り合わせることにより製造する方法が提案されている。この方法は、プラスチック・スタンパーの剥離工程を含む方法や、薄いカバー層を用いる方法を含まないため、片面2層媒体を工業的に安定かつ安価に製造できる方法の一つである。したがって、3層媒体や4層媒体も、この製造方法を適用して製造できることが好ましい。
(層間クロストーク)
3層媒体や4層媒体では、各情報層において十分にレーザービームを絞り、かつ層間分離層における光のロスを最小限に抑えるため、層間分離層の厚さを2層媒体よりも薄くする必要がある。この場合、ある情報層を再生しているときに、再生していない他の情報層(非再生層と呼ぶ)からの信号またはノイズの漏れ込み、いわゆる層間クロストーク(XT)の影響を大きく受けるため、これを回避する技術が必要になる。
(高速記録の手法)
高速記録は相変化光記録に対するもうひとつの要求である。例えば、映像を録画する場合、実際の視聴時間よりも短時間で記録ができるようになれば、配布媒体のダビング時や、放送録画中に時間を戻って前の映像を視聴するいわゆるタイムシフト機能の実現が容易となる。ここで相変化記録において高速記録をさまたげる一つの要因は、オーバーライト時に比較的低い消去レベルのレーザーによって結晶化を行う際、情報が消え残ってしまう問題、すなわち消去率不足の問題である。これは、記録マークがレーザースポット内を高速に通過するため、結晶化可能な温度領域に十分に長い時間保たれず、情報が消え残ってしまうためである。このため、消去動作の観点からも、形成される記録マークの形状や記録膜自体の均一性がより重要になる。マーク形状の均一性を高めるためには、初期化状態すなわち結晶状態での均一性が非常に重要になる。
(相変化光記録媒体の膜設計)
相変化光記録媒体は、上述したようにレーザーのパルスの照射により記録膜の所望の部分にアモルファスのマークすなわちデータを書き込み、逆にアモルファスのマーク上にレーザーを照射し結晶化させてデータを消去する。前者ではレーザーが照射された部分を急冷することによりアモルファスのマークが形成され、後者ではレーザーが照射された部分を徐冷することによりアモルファスの部分を結晶化させる。また、記録膜での吸収率が大きければ、小さなレーザーパワーで記録・消去などの動作が行え、逆に記録膜での吸収率が小さければ記録・消去に大きなレーザーパワーを必要とする。記録膜での吸収率は、多層膜から形成される媒体の光学特性によって決まる。また、吸収率が同等でも膜構成によっては急冷構造であるかどうかなど、熱設計も重要である。すなわち、相変化光記録媒体の膜設計では、主に光学設計と熱設計とが考慮される。光学設計のためには、各薄膜の光学特性が、熱設計を行うためには各薄膜の融点、溶融潜熱、結晶化温度などを含む熱物性が必要となる。
上述したように、片面2層媒体の場合には光入射側のL0層は〜50%以上の透過率を有する必要があるため、L0では記録膜の厚さを5〜7nmときわめて薄くする必要があり、またL1の記録膜の厚さも〜10nm強とそれほど厚くはない。そして、現状での3層以上の多層媒体はROMまたはライト・ワンス媒体(R媒体)であり、書き換え型媒体については工業的に実用性を示すほどの特性は得られていないといってよい。片面3層媒体の場合には光入射側の情報層であるL0層およびL1層はそれぞれ〜70%以上の透過率を、片面4層媒体の場合には光入射側の情報層であるL0層、L1層およびL2層はそれぞれ〜80%以上の透過率を有する必要がある。このため、3層以上の多層媒体の特性には、片面2層媒体と比べて、光入射側の情報層に含まれる相変化記録膜がさらに重要な役割を果たすと考えられる。しかも、多層媒体の場合には、単層媒体では考慮する必要のなかった層間XTの問題も考慮する必要がある。したがって、記録膜材料や界面膜材料の選択なども含めて、媒体の光学設計および熱設計がますます重要となる。
特開2000−322770号公報 飯田ら、信学技報CPM2000−96(2000−09)
本発明の目的は、2層だけでなく3層以上の複数層の情報層を有していても工業的に安定かつ安価に製造することができる高密度の光記録媒体、およびこの光記録媒体に情報の記録および再生を行う光記録再生装置を提供することにある。
本発明の一態様に係る光記録再生装置は、複数層の情報層を有し、前記複数層の情報層のうち少なくとも1層は光照射により可逆的な相変化を起こす記録膜、もしくは光照射により不可逆的に変化を起こす記録膜を含み、前記複数層の情報層のうち少なくとも1層はトラッキングを可能にする凹凸を有し、前記複数層の情報層のうち他の少なくとも1層はフラットである光記録媒体に情報を記録および再生する装置であって、光源と、光源からの光を2以上の情報層にそれぞれ含まれる記録膜に照射し、それぞれの記録膜からの反射光を偏波成分の違いに基づいて分離する偏光ビームスプリッタと、前記偏光ビームスプリッタにより分離された光が検出される光検出器とを有することを特徴とする。
本発明の実施形態に係る光記録媒体は、複数層の情報層のうちトラッキングを可能にする凹凸(グルーブやピット)を持たない実質的にフラットな情報層を含み、プラスチック・スタンパーによる転写工程などを用いる必要がないため、2層だけでなく3層以上の複数層の情報層を有していても工業的に安定かつ安価に製造することができ、高密度化を容易に達成できる。
本発明の実施形態に係る光記録再生装置では、上記の光記録媒体のフラットな情報層への記録再生時に凹凸を有する他の情報層を利用してトラッキングするので、どの情報層への記録再生も実行できる。
本発明の実施形態に係る光記録媒体は、光の入射方向に沿って積層された複数層の情報層を有する。具体的には、片面2層媒体、片面3層媒体、片面4層媒体などを含む。複数層の情報層のうち少なくとも1層は光照射により可逆的な相変化を起こす記録膜(相変化記録膜)、もしくは光照射により不可逆的に変化を起こす記録膜(ライトワンス媒体)を含む。また、複数層の情報層は全て相変化光記録膜を含んでいてもよいし、相変化記録媒体とROM媒体やライト・ワンス媒体との組み合わせでもよい。
本発明の実施形態において、相変化記録膜としては、たとえば一般式
GexSbyTez
(ここで、x+y+z=100)
で表したとき、GeSbTe三元相図上で、x=55,z=45と、x=45,z=55と、x=10,y=28,z=42と、x=10,y=36,z=54とで囲まれる範囲の組成を有するものが挙げられる。また、相変化記録膜として、上記の構成元素の一部がBiおよび/またはSnで置換されており、一般式
(GewSn(1-w)x(SbvBi(1-v)yTez
(ここで、x+y+z=100、0≦w<0.5、0≦v<1.0)
で表される組成を有するものを用いてもよい。
本発明の実施形態に係る光記録媒体は、複数層の情報層のうち少なくとも1層はトラッキングを可能にする凹凸を有するが、複数層の情報層のうち他の少なくとも1層は実質的にフラットになっている。
図1に本発明の実施形態に係る光記録媒体として最も単純な膜構成を有する片面2層媒体を示す。図1において、光入射側に近いL0層100は、ランド・グルーブ構造を作り込んだ基板10上に、誘電体膜101、界面膜102、記録膜103、界面膜104、誘電体膜105、半透明反射膜106、誘電体膜107を成膜したものである。光入射側から遠いL1層110は、グルーブが形成されず実質的にフラットな、いわゆるミラー基板11上に、全反射膜116、誘電体膜115、界面膜114、相変化記録膜113、界面膜112、誘電体膜111を成膜したものである。L0層100とL1層110は、たとえばUV硬化樹脂からなる層間分離層21により貼り合わされている。
なお、本発明の実施形態に係る光記録媒体の膜構成は、図1に示したものに限らない。たとえば、相変化記録膜の両面に形成された界面膜と誘電体膜の積層膜のうち、誘電体膜を省略して界面膜のみとしてもよい。また、反射膜と層間分離層との間に2層以上の誘電体膜を設けてもよい。また、反射膜を省略してもよいし、逆に反射膜を複数の層で形成してもよい。
次に、図1に示した本発明の実施形態に係る光記録媒体の記録再生原理について簡単に説明する。すなわち、トラッキングを可能にする凹凸を有するL0層100に情報を記録再生する場合には、従来の方法と同様にL0層100でトラッキングおよびフォーカスを実施する。一方、実質的にフラットなL1層110はグルーブをもたないので従来の方法ではトラッキングできない。そこで、本発明の実施形態においては、L1層110に情報を記録再生する場合には、L0層100のグルーブを利用してトラッキングしながら、L1層110にフォーカスして情報の記録再生を行う。この場合、光源から出射され同軸上を進行する光を用いてトラッキングと記録再生とを行うことができる。
このようにL1層110に情報の記録再生を行う際には、L0層100が半透過膜であるため、L1層110およびL0層100の両方から反射光が戻ってくる。そこで、本発明の実施形態に係る光記録再生装置では、複数の情報層からの反射光を個別に分離するか、複数の情報層からの反射光の中から1つの情報層からの反射光を抽出するか、または複数の情報層からの反射光の中から1つの情報層からの反射光を増幅する光回路を有するものを用いる。
図2を参照して、本発明の実施形態に係る光記録再生装置の一例を説明する。この図では、光記録媒体1のうちL0層100を凹凸層、L1層110をフラットな層として簡略化して示している。本発明の実施形態に係る光記録再生装置では、光源201から出射された光はレンズ202、偏光ビームスプリッタ203、波長板、もしくは偏光板等の偏波面を変換させる素子204を通して偏光面が変換、または回転され、レンズ205を通して光記録媒体1に照射される。こうして、L0層100でトラッキングしながら、L1層110にフォーカスする。L1層110およびL0層100から戻ってくる光は、レンズ205を通して再び波長板、もしくは偏光板等の偏波面を変換させる素子204を通して偏光面が変換、または回転され、偏光ビームスプリッタ203で反射され、偏光フィルタ206を通して所望の偏光が抽出され、レンズ207を通して光検出器208によって検出される。こうして、L1層110とL0層100からの反射光の偏波成分の違いを用いて両者を分離することができる。光検出器(光ピックアップ)208には、現行の光ディスク装置に採用されている4分割ホトダイオードなどを用いることができるが、ホログラム素子を用いるとよりSN比を大きく高めることができた。
また、隣接する2つの情報層で反射率差再生と位相差再生のように異なる再生方式を用いると、層間分離層の厚さを薄くできる。
以下の実施例においては、片面2層媒体、片面3層媒体または片面4層媒体について説明する。各媒体に含まれる各々の情報層は光入射側から見てLi層(i=0、1、2、3)と称する。各々の情報層の記録再生特性は、ランド(L)/グルーブ(G)記録(またはそれに相当する記録)を行った場合に、低い方の値を代表値として示した。
[実施例1]
本実施例においては、L0層の基板としてグルーブ基板、L1層の基板としてミラー基板を用いて片面2層媒体を作製し、両層とも反射率差に基づいて再生を行った。
図1は本実施例の光記録媒体を示す断面図である。L0層の基板10およびL1層の基板11は、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)基板である。光入射側に近いL0層の基板10には、グルーブピッチ0.76μmでグルーブを形成したものを用いた。ランド(L)/グルーブ(G)記録を行う場合、トラックピッチは0.38μmに相当する。光入射側から遠いL1層の基板11には、グルーブを形成していないフラットな、いわゆるミラー基板を用いた。
L0層100は、スパッタリング装置を用いて、基板10のグルーブが形成された面に、ZnS:SiO2からなる誘電体膜101、HfOx(x=1〜2)からなる界面膜102、GeSbTeBiからなる相変化記録膜103、HfOxからなる界面膜104、ZnS:SiO2からなる誘電体膜105、Ag合金からなる半透明反射膜106、ZnS:SiO2からなる誘電体膜107を順次成膜することにより形成した。
L1層110は、スパッタリング装置を用いて、基板11のミラー面に、Ag合金からなる全反射膜116、ZnS:SiO2からなる誘電体膜115、HfOxからなる界面膜114、GeSbTeBiからなる相変化記録膜113、HfOxからなる界面膜112、ZnS:SiO2からなる誘電体膜111を順次成膜することにより形成した。
用いたスパッタリング装置は、各層をそれぞれ異なる成膜室でスパッタリングする、いわゆる枚葉式スパッタリング装置である。この装置は真空搬送室を備えており、最終の膜の成膜が終了するまで、プロセス中の基板は真空中を搬送される。ミラー基板の薄膜を形成しないもう片方の面には、スタック・リブと呼ばれる突起が形成されており、成膜面と区別される。なお、ZnS:SiO2膜はZnSを80モル%(モルパーセント)、SiO2を20モル%の比率で混合したターゲットを用いてスパッタリングした。
L0層は波長405nmの光の平均透過率が52%となり、L0層およびL1層の相変化記録膜は結晶部の反射率がともに5%になるように膜構成を設計した。本実施例の媒体は、L0層およびL1層をともに反射率差再生するように設計した。
次に、初期化装置で各層の媒体全面の記録膜を結晶化した。初期化後、成膜した面を内側にしてUV樹脂によって接着し、層間分離層21を形成した。層間分離層21の厚さは約20μmである。
評価装置として、波長405nmの青紫色半導体レーザーと、開口数(NA)0.65の対物レンズを備えた光ピックアップを有するものを用いた。この評価装置は、グルーブが形成されている情報層については通常のフォーカスおよびトラッキングを行って記録再生を実施し、グルーブがなく実質的にフラットな情報層についてはグルーブを有する他の情報層(非再生層)を用いてトラッキングを行いながら目的とする情報層にフォーカスして記録再生を実施することができる。また、この評価装置は図2に示したような光回路を有し、2つの記録膜からの反射光を偏波成分の違いに基づいて分離することができる。なお、以下の説明では、実質的にフラットな情報層に記録再生する場合にも、グルーブを有する他の情報層(非再生層)を利用してトラッキングするので、仮想的なトラックがあると想定して便宜的にトラック上に記録再生すると表現する。
媒体の特性の評価は以下の項目について行った。これらの評価は、他の実施例および比較例に対しても共通に行った。
(1)ビット・エラー・レート(SbER:Simulated bit Error Rate)の測定
SbER測定はデータの誤り率を評価するものである。まず、所定のトラックに、2Tから13Tまでのパターンがランダムに含まれたマーク列を10回オーバーライトした。次に、前記トラックの両側の隣接トラックに同じランダムパターンを10回オーバーライトした。その後、最初のトラックに戻り、SbERを測定した。
(2)アナログ測定
アナログ測定は読み出し信号品質を評価するものである。まず、2Tから13Tまでのパターンがランダムに含まれたマーク列を10回オーバーライトした。次に、そのマーク列に9Tのシングルパターンを1回オーバーライトし、9Tマークの信号周波数の信号対ノイズ比(以下、CNRという)をスペクトラムアナライザーによって測定した。次に、消去パワーレベルのレーザービームをディスク一回転分照射し、記録マークを消去した。その際の、9Tマークの信号強度の減少分を測定した。これを消去率(ER)と定義する。次に、十分離れたトラックにヘッドを移動し、クロスイレース(X−E)の測定を行った。
(3)オーバーライト(OW)試験
同一トラックにランダム信号を2000回オーバーライト(OW)した後、上記と同様にしてSbERを測定した。
本実施例の光記録媒体の評価結果は以下の通りである。初期特性は、CNRが53.2dB、X−Eが0.2dB、SbERが2.0×10-5以下であり、実用的なエラーレートが得られた。オーバーライト特性についても、CNRが52.7dB、SbERが2.9×10-5以下と非常に良好な値が得られた。
各実施例の光記録媒体の評価結果を表1に示す。なお、上述したように、各トラックのデータの中から一番悪い値を代表値として示している。
[実施例2]
本実施例においては、L0層の基板としてミラー基板、L1層の基板としてグルーブ基板を用いて片面2層媒体を作製し、L0層は反射率差に基づく再生、L1層は位相差に基づく再生を行った。
図3は本実施例の光記録媒体を示す断面図である。L0層の基板11およびL1層の基板10は、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)基板である。光入射側に近いL0層の基板11には、グルーブを形成していないフラットな、いわゆるミラー基板を用いた。光入射側から遠いL1層の基板10には、グルーブピッチ0.76μmでグルーブを形成したものを用いた。ランド(L)/グルーブ(G)記録を行う場合、トラックピッチは0.38μmに相当する。
L0層100は、スパッタリング装置を用いて、基板11のミラー面に、ZnS:SiO2からなる誘電体膜101、HfSiOCからなる界面膜102、GeSbTeBiからなる相変化記録膜103、HfSiOCからなる界面膜104、ZnS:SiO2からなる誘電体膜105、Ag合金からなる半透明反射膜106、ZnS:SiO2からなる誘電体膜107を順次成膜することにより形成した。
L1層110は、スパッタリング装置を用いて、基板10のグルーブが形成された面に、Ag合金からなる全反射膜116、ZnS:SiO2からなる誘電体膜115、HfSiOCからなる界面膜114、GeSbTeBiからなる相変化記録膜113、HfSiOCからなる界面膜112、ZnS:SiO2からなる誘電体膜111を順次成膜することにより形成した。
L0層は波長405nmの光の平均透過率が52%となり、L0層およびL1層の相変化記録膜は結晶部の反射率がともに5%になるように膜構成を設計した。本実施例の媒体は、L0層を反射率差再生、L1層を位相差再生するように設計した。
初期化装置で各層の媒体全面の記録膜を結晶化した。初期化後、成膜した面を内側にしてUV樹脂によって接着し、層間分離層21を形成した。層間分離層21の厚さは、約15μmである。実施例1で用いたのと同じ評価装置を用い、実施例1と同様な評価を行った。
本実施例の光記録媒体の評価結果は以下の通りである(表1にも併記)。初期特性は、CNRが54.3dB、X−Eが0.1dB、SbERが2.2×10-5以下であり、実用的なエラーレートが得られた。オーバーライト特性は、CNRが53.8dB、SbERが2.8×10-5以下と非常に良好な値が得られた。
[実施例3]
本実施例においては、片面3層媒体を作製し、反射率差に基づく再生と、位相差に基づく再生を併用した。
図4は本実施例の光記録媒体を示す断面図である。光入射側に近いL0層の基板10には、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)基板であって、グルーブピッチ0.76μmでグルーブを形成したものを用いた。ランド(L)/グルーブ(G)記録を行う場合、トラックピッチは0.38μmに相当する。光入射側から見てL0層より遠いL1層は、L0層上に2P法により形成した実質的にフラットな(グルーブのない)層間分離層22上にフラットな情報層として形成した。光入射側から見てL1層よりさらに遠いL2層の基板12には、L0層の基板10と同様に、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)基板であって、グルーブピッチ0.76μmでグルーブを形成したものを用いた。
L0層100は、スパッタリング装置を用いて、基板10のグルーブが形成された面に、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、HfSiOCからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、HfSiOCからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、Ag合金からなる半透明反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。
L1層110は、L0層100上に2P法で厚さ約15μmの層間分離層22を形成した後、スパッタリング装置を用いて、層間分離層22のフラットな面に、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、HfSiOCからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、HfSiOCからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、Ag合金からなる半透明反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。なお、L1層は、フラットなPCシートなどを貼り合せることによっても形成できる。
光入射側から最も遠いL2層120は、スパッタリング装置を用いて、基板12のグルーブが形成された面に、Ag合金からなる全反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、HfSiOCからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、HfSiOCからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。
L0層およびL1層は波長405nmの光の平均透過率が52%となり、L0層およびL1層の相変化記録膜は結晶部の反射率がともに5%になるように膜構成を設計した。本実施例の媒体は、L0層を反射率差再生、L1層を位相差再生、L2層を反射率差再生するように設計した。
初期化装置で各層の媒体全面の記録膜を結晶化した。初期化後、成膜した面を内側にしてUV樹脂によって接着し、層間分離層23を形成した。層間分離層23の厚さは、約15μmである。実施例1で用いたのと同じ評価装置を用い、実施例1と同様な評価を行った。
本実施例の光記録媒体の評価結果は以下の通りである(表1にも併記)。初期特性は、CNRが52.9dB、X−Eが0.2dB、SbERが3.4×10-5以下であり、実用的なエラーレートが得られた。オーバーライト特性は、CNRが51.9dB、SbERが3.2×10-5以下と非常に良好な値が得られた。
[実施例4]
本実施例においては、片面4層媒体を作製し、反射率差に基づく再生と、位相差に基づく再生を併用した。
図5は本実施例の光記録媒体を示す断面図である。光入射側に近いL0層の基板10には、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)基板であって、グルーブピッチ0.76μmでグルーブを形成したものを用いた。ランド(L)/グルーブ(G)記録を行う場合、トラックピッチは0.38μmに相当する。光入射側から見てL0層より遠いL1層は、L0層上に2P法により形成した実質的にフラットな(グルーブのない)層間分離層22上にフラットな情報層として形成した。光入射側から見て最も遠いL3層の基板12には、L0層の基板10と同様に、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)基板であって、グルーブピッチ0.76μmでグルーブを形成したものを用いた。光入射側から見て最も遠いL3層の基板12には、L0層の基板10と同様に、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)基板であって、グルーブピッチ0.76μmでグルーブを形成したものを用いた。L1層とL3層との間のL2層は、L3層上に2P法により形成した実質的にフラットな(グルーブのない)層間分離層24上にフラットな情報層として形成した。
L0層100は、スパッタリング装置を用いて、基板10のグルーブが形成された面に、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、GeNからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、GeNからなる界面膜、Ag合金からなる半透明反射膜、TiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。
L1層110は、L0層100上に2P法で厚さ約10μmの層間分離層22を形成した後、スパッタリング装置を用いて、層間分離層22のフラットな面に、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、GeNからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、GeNからなる界面膜、Ag合金からなる半透明反射膜、TiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。なお、L1層は、フラットなPCシートなどを貼り合せることによっても形成できる。
光入射側から最も遠いL3層130は、スパッタリング装置を用いて、基板12のグルーブが形成された面に、Ag合金からなる全反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、GeNからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、GeNからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。
L2層120は、L3層130上に2P法で厚さ約10μmの層間分離層24を形成した後、スパッタリング装置を用いて、層間分離層24のフラットな面に、TiO2からなる誘電体膜、Ag合金からなる半透明反射膜、GeNからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、GeNからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。
L0層およびL1層は波長405nmの光の平均透過率が80%となり、L0層、L1層およびL2層の相変化記録膜は結晶部の反射率がともに5%になるように膜構成を設計した。本実施例の媒体は、L0層を反射率差再生、L1層を位相差再生、L2層を反射率差再生、L3層を位相差再生するように設計した。
初期化装置で各層の媒体全面の記録膜を結晶化した。初期化後、成膜した面を内側にしてUV樹脂によって接着し、層間分離層25を形成した。層間分離層25の厚さは、約10μmである。実施例1で用いたのと同じ評価装置を用い、実施例1と同様な評価を行った。
本実施例の光記録媒体の評価結果は以下の通りである(表1にも併記)。初期特性は、CNRが52.1dB、X−Eが0.2dB、SbERが3.9×10-5以下であり、実用的なエラーレートが得られた。オーバーライト特性は、CNRが51.7dB、SbERが4.5×10-5以下と非常に良好な値が得られた。
[実施例5]
本実施例においては、L0層として予めデータがピットとしてROM媒体、L1層としてミラー基板を用いて相変化記録膜を含むフラットな情報層を形成して片面2層媒体を作製した。
光入射側に近いL0層は、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)に予めデータをトラックピッチ0.4μmでピットとして書き込まんだROM基板上に、スパッタリング装置を用いてAg合金からなる反射膜のみを成膜したものである。
L1層はミラー基板のミラー面に、Ag合金からなる全反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、HfSiOCからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、HfSiOCからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。
L0層は波長405nmの光の平均透過率が52%となり、L0層の結晶部の反射率が15%、L1層の相変化記録膜は結晶部の反射率がともに5%になるように膜構成を設計した。
次に、初期化装置で相変化記録膜を結晶化した。初期化後、成膜した面を内側にしてUV樹脂によって接着し、層間分離層を形成した。層間分離層の厚さは約15μmである。実施例1で用いたのと同じ評価装置を用い、実施例1と同様な評価を行った。
本実施例の光記録媒体の評価結果は以下の通りである(表1にも併記)。初期特性は、CNRが53.5dB、X−Eが0.1dB、SbERが2.0×10-5以下であり、実用的なエラーレートが得られた。オーバーライト特性は、CNRが53.1dB、SbERが2.8×10-5以下と非常に良好な値が得られた。
[実施例6]
本実施例においては、L0層としてライト・ワンス媒体、L1層としてミラー基板を用いて相変化記録膜を含むフラットな情報層を形成して片面2層媒体を作製した。
光入射側に近いL0層は、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)にトラックピッチ0.4μmのグルーブを形成し、色素をスピンコート後、スパッタリング装置を用いて、Ag合金からなる反射膜のみを成膜したものである。
L1層はミラー基板のミラー面に、Ag合金からなる全反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、HfSiOCからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、HfSiOCからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。
L0層は波長405nmの光の平均透過率が52%となり、L1層の相変化記録膜は結晶部の反射率がともに5%になるように膜構成を設計した。
次に、初期化装置で相変化記録膜を結晶化した。初期化後、成膜した面を内側にしてUV樹脂によって接着し、層間分離層を形成した。層間分離層の厚さは約15μmである。実施例1で用いたのと同じ評価装置を用い、実施例1と同様な評価を行った。
本実施例の光記録媒体の評価結果は以下の通りである(表1にも併記)。初期特性は、CNRが53.4dB、X−Eが0.2dB、SbERが2.3×10-5以下であり、実用的なエラーレートが得られた。オーバーライト特性は、CNRが52.9dB、SbERが2.8×10-5以下と非常に良好な値が得られた。
[実施例7]
L1層の基板として、射出成形で形成された厚さ約1.1mmのポリカーボネート(PC)基板に、グルーブピッチ0.68μmでグルーブを形成したものを用いた。ランド(L)/グルーブ(G)記録を行う場合、トラックピッチは0.38μmに相当する。L1層は、スパッタリング装置を用いて、PC基板のグルーブが形成された面に、Ag合金からなる全反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、HfSiOCからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、HfSiOCからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。
L1層上に、厚さ約15μmのフォトポリマーシートからなる層間分離層を形成した。L0層は、スパッタリング装置を用いて、実質的にフラットな層間分離層上に、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、Ag合金からなる半透明反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、HfSiOCからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、HfSiOCからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。このL0層の光入射側に厚さ約0.1mmのフラットなカバーシートを貼り合せた。
L0層は波長405nmの光の平均透過率が52%となり、L0層およびL1層の相変化記録膜は結晶部の反射率がともに5%になるように膜構成を設計した。初期化装置で各層の媒体全面の記録膜を結晶化した。
評価装置として、波長405nmの青紫色半導体レーザーと、開口数(NA)0.85の対物レンズを備えた光ピックアップを有するものを用いた。この評価装置は、グルーブが形成されている情報層については通常のフォーカスおよびトラッキングを行って記録再生を実施し、グルーブがなく実質的にフラットな情報層についてはグルーブを有する他の情報層(非再生層)を用いてトラッキングを行いながら目的とする情報層にフォーカスして記録再生を実施することができる。また、この評価装置は図2に示したような光回路を有し、2つの記録膜からの反射光を偏波成分の違いに基づいて分離することができる。この評価装置を用いて実施例1と同様な評価を行った。
本実施例の光記録媒体の評価結果は以下の通りである(表1にも併記)。初期特性は、CNRが52.9dB、X−Eが0dB、SbERが3.2×10-5以下であり、実用的なエラーレートが得られた。オーバーライト特性は、CNRが51.5dB、SbERが3.7×10-5以下と非常に良好な値が得られた。
[比較例1]
実施例1と同様な光記録媒体の2つの情報層を従来の方式で記録再生しようと試みたが、ミラー基板を用いたL1層の所望の場所に記録することができず、評価ができなかった。このように、従来の方式のままでは、片面2層および片面3層以上の媒体を構成することはできない。
[比較例2]
L1層の基板として、射出成形で形成された厚さ約0.58mmのポリカーボネート(PC)基板に、グルーブピッチ0.68μmでグルーブを形成したものを用いた。ランド(L)/グルーブ(G)記録を行う場合、トラックピッチは0.38μmに相当する。L1層は、スパッタリング装置を用いて、PC基板のグルーブが形成された面に、Ag合金からなる全反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、GeNからなる界面膜、GeSbTeBiからなる相変化記録膜、GeNからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を順次成膜することにより形成した。
L1層上に、厚さ約20μmの液体フォトポリマーをスピンコートし、プラスチック・スタンパーを用いてL1基板と同様なトラックピッチとなるようにグルーブを転写した後、プラスチック・スタンパーを剥離した。L0層は、スパッタリング装置を用い、この層間分離層上に、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、Ag合金からなる半透明反射膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜、GeNからなる界面膜、GeSbTeからなる相変化記録膜、GeNからなる界面膜、ZnS:SiO2からなる誘電体膜を成膜することにより形成した。このL0層の光入射側にグルーブのない実質的にフラットな厚さ約0.58mmのPC基板(ミラー基板)を貼り合せた。
L0層は波長405nmの光の平均透過率が52%となり、L0層およびL1層の相変化記録膜は結晶部の反射率がともに5%になるように膜構成を設計した。初期化装置で各層の媒体全面の記録膜を結晶化した。この媒体は、L0層およびL1層をともに反射率差再生するように設計した。実施例1と同様な評価を行った。
この光記録媒体の評価結果は以下の通りである(表1にも併記)。初期特性は、CNRが49.8dB、X−Eが0.4dB、SbERが4.5×10-4程度であり、実用化には少し劣った特性であった。オーバーライト特性は、CNRが47.7dB、SbERが6.1×10-4程度であり、初期特性からの劣化が大きく、良好な特性を得ることが難しいことがわかる。
Figure 0004271116
本発明の実施形態に係る光記録媒体の断面図。 本発明の実施形態に係る光記録再生装置の構成図。 本発明の実施例2における光記録媒体の断面図。 本発明の実施例3における光記録媒体の断面図。 本発明の実施例4における光記録媒体の断面図。
符号の説明
1…光記録媒体、10、11、12…PC基板、21、22、23、24、25…層間分離層、100…L0層、101…誘電体膜、102…界面膜、103…相変化記録膜、104…界面膜、105…誘電体膜、106…半透明反射膜、107…誘電体膜、110…L1層、111…誘電体膜、112…界面膜、113…相変化記録膜、114…界面膜、115…誘電体膜、116…全反射膜、120…L2層、130…L3層。

Claims (2)

  1. 複数層の情報層を有し、前記複数層の情報層のうち少なくとも1層は光照射により可逆的な相変化を起こす記録膜、もしくは光照射により不可逆的に変化を起こす記録膜を含み、前記複数層の情報層のうち少なくとも1層はトラッキングを可能にする凹凸を有し、前記複数層の情報層のうち他の少なくとも1層はフラットである光記録媒体に情報を記録および再生する装置であって、光源と、光源からの光を2以上の情報層にそれぞれ含まれる記録膜に照射し、それぞれの記録膜からの反射光を偏波成分の違いに基づいて分離する偏光ビームスプリッタと、前記偏光ビームスプリッタにより分離された光が検出される光検出器とを有することを特徴とする光記録再生装置。
  2. 2以上の情報層にそれぞれ含まれる光照射により可逆的な相変化を起こす記録膜の情報を、非記録部と記録マークとの間の反射率差および位相差のいずれか一方に基づいて異なる方式で再生することを特徴とする請求項1に記載の光記録再生装置。
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