JPS6336641Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6336641Y2 JPS6336641Y2 JP8171681U JP8171681U JPS6336641Y2 JP S6336641 Y2 JPS6336641 Y2 JP S6336641Y2 JP 8171681 U JP8171681 U JP 8171681U JP 8171681 U JP8171681 U JP 8171681U JP S6336641 Y2 JPS6336641 Y2 JP S6336641Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistor
- trimming
- bar
- thin film
- view
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims description 26
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N alstonine Natural products C1=CC2=C3C=CC=CC3=NC2=C2N1C[C@H]1[C@H](C)OC=C(C(=O)OC)[C@H]1C2 WYTGDNHDOZPMIW-RCBQFDQVSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
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- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は薄膜抵抗体のトリミングバー、特に中
間部を切断されたトリミングバーが該抵抗体の定
数に与える経時変化を抑止する構造的改良に関す
る。
間部を切断されたトリミングバーが該抵抗体の定
数に与える経時変化を抑止する構造的改良に関す
る。
例えば、混成集積回路基板上にパターン形成さ
れた薄膜抵抗体の抵抗値は、薄膜形成技術のみに
よつて高精度に制御することが困難である。従つ
て、混成集積回路内で正確な抵抗値が要求される
ときは、トリミング即ち膜形成された抵抗体の一
部に切り込みを入れる等により所要の抵抗値とな
るように修正する必要がある。そのため、第1図
に一部分を平面視で示す如き蛇行形抵抗体1は、
従来、抵抗本体2の所定部間を短絡する複数のト
リミングバー3を一体的にパターン形成する。次
いで、抵抗体1の両端部にそれぞれ膜形成した電
極(図示せず)を介して微少電流を流しながら、
レーザ又は放電等の加工手段によりトリミングバ
ー3の何本かを中間部で切断し、所要抵抗値の抵
抗体を得ていた。第2図aは第1図の−′断
面矢視図、第2図bは第2図aのトリミングバー
を切断した状態を示したものであり、図中の符号
4はセラミツクス等にてなる基板である。即ち、
第1図の矢印A及びA′方向へレーザ・スポツト
を走査すると、第2図aに示すトリミングバー
3′は第2図bに示す如くその中間部が切断され、
所望定数の抵抗体1′が得られるようになる。
れた薄膜抵抗体の抵抗値は、薄膜形成技術のみに
よつて高精度に制御することが困難である。従つ
て、混成集積回路内で正確な抵抗値が要求される
ときは、トリミング即ち膜形成された抵抗体の一
部に切り込みを入れる等により所要の抵抗値とな
るように修正する必要がある。そのため、第1図
に一部分を平面視で示す如き蛇行形抵抗体1は、
従来、抵抗本体2の所定部間を短絡する複数のト
リミングバー3を一体的にパターン形成する。次
いで、抵抗体1の両端部にそれぞれ膜形成した電
極(図示せず)を介して微少電流を流しながら、
レーザ又は放電等の加工手段によりトリミングバ
ー3の何本かを中間部で切断し、所要抵抗値の抵
抗体を得ていた。第2図aは第1図の−′断
面矢視図、第2図bは第2図aのトリミングバー
を切断した状態を示したものであり、図中の符号
4はセラミツクス等にてなる基板である。即ち、
第1図の矢印A及びA′方向へレーザ・スポツト
を走査すると、第2図aに示すトリミングバー
3′は第2図bに示す如くその中間部が切断され、
所望定数の抵抗体1′が得られるようになる。
しかし、トリミングバー3′の切断部は切断時
の加熱により酸化されるとともに、切断時の熱応
力により切断面から内側へ向うマイクロクラツク
が発生し易い。一方、抵抗体1′に所定電流を流
すと、該電流は切断されたトリミングバー3′の
残余部3″に一部が蛇行して流れるようになる。
従つて、前記切断部の酸化は経時変化(進行)す
ることにより、抵抗体1′の定数がドリフトし、
該混成集積回路の特性に悪影響を及ぼす欠点があ
つた。
の加熱により酸化されるとともに、切断時の熱応
力により切断面から内側へ向うマイクロクラツク
が発生し易い。一方、抵抗体1′に所定電流を流
すと、該電流は切断されたトリミングバー3′の
残余部3″に一部が蛇行して流れるようになる。
従つて、前記切断部の酸化は経時変化(進行)す
ることにより、抵抗体1′の定数がドリフトし、
該混成集積回路の特性に悪影響を及ぼす欠点があ
つた。
本考案の目的は上記欠点を除去することであ
り、この目的は抵抗層の上に導体層を被着形成し
なることを特徴とした薄膜抵抗体のトリミングバ
ーを提供して達成される。
り、この目的は抵抗層の上に導体層を被着形成し
なることを特徴とした薄膜抵抗体のトリミングバ
ーを提供して達成される。
以下、一実施例に係わる第3図及び第4図を用
いて本考案を説明する。
いて本考案を説明する。
第3図は基板上に薄膜形成した蛇行形抵抗体の
一部を示す平面図、第4図は前記抵抗体の−
′断面矢視図aとトリミング後の前記断面矢視
図bである。
一部を示す平面図、第4図は前記抵抗体の−
′断面矢視図aとトリミング後の前記断面矢視
図bである。
第3図において、基板上にパターン形成された
蛇行形抵抗体11は、抵抗膜(例えばTa2N)に
てなる抵抗本体12と抵抗本体12の所定部間を
短絡する複数のトリミングバー13を具えてな
る。トリミングバー13は第4図aに示す如く、
基板14上の抵抗本体12と同質材で同時に形成
された抵抗層15及び抵抗層15の上に積重被着
した導体(例えばAu)層16にてなる。かかる
トリミングバー13′は第4図bに示す如く、従
来と同一手法で中間部が切断され、所望定数の抵
抗体11′が得られる。そして、切断されたトリ
ミングバー13′の残余部13″は、残余抵抗層1
5′の上が残余導体層16′で覆われているため、
抵抗体11′に所定電流を流すと該電流は、トリ
ミングバー残余部13″において残余導体層16
を流れるようになる。従つて、トリミングバー残
余部13′の切断部酸化が経時変化しても、該変
化は抵抗本体12に流れる電流、即ち抵抗体1
1′の定数に殆んど影響しない。
蛇行形抵抗体11は、抵抗膜(例えばTa2N)に
てなる抵抗本体12と抵抗本体12の所定部間を
短絡する複数のトリミングバー13を具えてな
る。トリミングバー13は第4図aに示す如く、
基板14上の抵抗本体12と同質材で同時に形成
された抵抗層15及び抵抗層15の上に積重被着
した導体(例えばAu)層16にてなる。かかる
トリミングバー13′は第4図bに示す如く、従
来と同一手法で中間部が切断され、所望定数の抵
抗体11′が得られる。そして、切断されたトリ
ミングバー13′の残余部13″は、残余抵抗層1
5′の上が残余導体層16′で覆われているため、
抵抗体11′に所定電流を流すと該電流は、トリ
ミングバー残余部13″において残余導体層16
を流れるようになる。従つて、トリミングバー残
余部13′の切断部酸化が経時変化しても、該変
化は抵抗本体12に流れる電流、即ち抵抗体1
1′の定数に殆んど影響しない。
以上説明した如く本考案によれば、中間部を切
断したトリミングバーによる抵抗体の定数ドリフ
トを殆んど零にし、該抵抗体を接続した回路の安
定化を実現せしめ得た実用的効果が顕著である。
断したトリミングバーによる抵抗体の定数ドリフ
トを殆んど零にし、該抵抗体を接続した回路の安
定化を実現せしめ得た実用的効果が顕著である。
第1図は従来構成になるトリミングバーを具え
て基板上に薄膜形成された蛇行形抵抗体の一部を
示す平面図、第2図は第1図の−′断面矢視
図aとトリミング後の前記断面矢視図b、第3図
は本考案の一実施例に係わるトリミングバーを具
えて基板上に薄膜形成された蛇行形抵抗体の一部
を示す平面図、第4図は第3図の−′断面矢
視図aとトリミング後の前記断面矢視図bであ
る。 なお、図中において、1,11は薄膜抵抗体、
2,12は抵抗本体、3,3′,13,13′はト
リミングバー、4,14は基板、15は抵抗層、
16は導電層を示す。
て基板上に薄膜形成された蛇行形抵抗体の一部を
示す平面図、第2図は第1図の−′断面矢視
図aとトリミング後の前記断面矢視図b、第3図
は本考案の一実施例に係わるトリミングバーを具
えて基板上に薄膜形成された蛇行形抵抗体の一部
を示す平面図、第4図は第3図の−′断面矢
視図aとトリミング後の前記断面矢視図bであ
る。 なお、図中において、1,11は薄膜抵抗体、
2,12は抵抗本体、3,3′,13,13′はト
リミングバー、4,14は基板、15は抵抗層、
16は導電層を示す。
Claims (1)
- 本体所定部間を短絡するトリミングバーを一体
的に具えてパターン形成された一連の薄膜抵抗体
において、前記トリミングバーは抵抗層の上に導
体層を被着形成してなることを特徴とした薄膜抵
抗体のトリミングバー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8171681U JPS6336641Y2 (ja) | 1981-06-03 | 1981-06-03 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8171681U JPS6336641Y2 (ja) | 1981-06-03 | 1981-06-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57193202U JPS57193202U (ja) | 1982-12-07 |
JPS6336641Y2 true JPS6336641Y2 (ja) | 1988-09-28 |
Family
ID=29877216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8171681U Expired JPS6336641Y2 (ja) | 1981-06-03 | 1981-06-03 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6336641Y2 (ja) |
-
1981
- 1981-06-03 JP JP8171681U patent/JPS6336641Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS57193202U (ja) | 1982-12-07 |
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