JPS6332219B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6332219B2 JPS6332219B2 JP56062050A JP6205081A JPS6332219B2 JP S6332219 B2 JPS6332219 B2 JP S6332219B2 JP 56062050 A JP56062050 A JP 56062050A JP 6205081 A JP6205081 A JP 6205081A JP S6332219 B2 JPS6332219 B2 JP S6332219B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- excitation
- sample
- lens
- electron
- fluorescent screen
- Prior art date
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- Expired
Links
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims description 14
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 8
- 239000003518 caustics Substances 0.000 claims description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 5
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 3
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は透過結像型電子顕微鏡における極低倍
像に生じる非点収差の影響を容易に表示して補正
する方法及び装置に関する。
像に生じる非点収差の影響を容易に表示して補正
する方法及び装置に関する。
透過結像型電子顕微鏡によつて結像される極低
倍像は対物レンズの励磁を零又は極めて弱い励磁
に保ち、対物レンズ後段に設けられた焦点距離の
極めて長いレンズ、即ち中間レンズで焦点合わせ
を行つていた。しかし乍ら、これらのレンズの球
面収差、非点収差は極めて大きいため試料入射開
き角を小さくし、正焦点付近で対物レンズ若しく
は中間レンズのステイグメータ（非点収差補正装
置）を用いて補正していたが、高倍像の場合に比
較して非点収差の確認が難かしく、オペレーター
に高度の熟練を要求していた。
倍像は対物レンズの励磁を零又は極めて弱い励磁
に保ち、対物レンズ後段に設けられた焦点距離の
極めて長いレンズ、即ち中間レンズで焦点合わせ
を行つていた。しかし乍ら、これらのレンズの球
面収差、非点収差は極めて大きいため試料入射開
き角を小さくし、正焦点付近で対物レンズ若しく
は中間レンズのステイグメータ（非点収差補正装
置）を用いて補正していたが、高倍像の場合に比
較して非点収差の確認が難かしく、オペレーター
に高度の熟練を要求していた。
本発明はこのような問題を解決し、低倍像観察
におけるステイグメータの調整操作を短時間且つ
精確に行うことを目的とするもので、試料位置近
傍に試料照射電子線を集束させて試料照射電子線
の開き角を大きくし、蛍光板上において試料回折
ハロー効果による火線の形状を観察可能とするこ
とにより非点収差の状態が容易に確認できるよう
にすることを特徴とするものである。以下図面に
基づいて本発明を詳説する。
におけるステイグメータの調整操作を短時間且つ
精確に行うことを目的とするもので、試料位置近
傍に試料照射電子線を集束させて試料照射電子線
の開き角を大きくし、蛍光板上において試料回折
ハロー効果による火線の形状を観察可能とするこ
とにより非点収差の状態が容易に確認できるよう
にすることを特徴とするものである。以下図面に
基づいて本発明を詳説する。
第１図は本発明の一実施例装置の構成を示す略
図である。図中、１は薄膜状試料を示しその上方
（前方）には最終段集束レンズ２や他の集束レン
ズ、電子銃（図示せず）が設けられている。試料
１の後方（下方）には対物レンズ３、中間レンズ
４、投影レンズ５等から構成される結像レンズ系
と、ステイグメータの補正コイル６や蛍光板７が
設けられている。最終段集束レンズ２と中間レン
ズ４のレンズ電源８，９にはゲート回路１０，１
１，１２，１３を介して夫々２種類の制御信号が
基準電圧格納手段１４から選択的に供給されてお
り、ゲート回路１０，１１，１２，１３の制御手
段としてトリガー発生回路１５とその駆動スイツ
チ１６が用いられている。又、図中１７はステイ
グメータ６の電源を示す。
図である。図中、１は薄膜状試料を示しその上方
（前方）には最終段集束レンズ２や他の集束レン
ズ、電子銃（図示せず）が設けられている。試料
１の後方（下方）には対物レンズ３、中間レンズ
４、投影レンズ５等から構成される結像レンズ系
と、ステイグメータの補正コイル６や蛍光板７が
設けられている。最終段集束レンズ２と中間レン
ズ４のレンズ電源８，９にはゲート回路１０，１
１，１２，１３を介して夫々２種類の制御信号が
基準電圧格納手段１４から選択的に供給されてお
り、ゲート回路１０，１１，１２，１３の制御手
段としてトリガー発生回路１５とその駆動スイツ
チ１６が用いられている。又、図中１７はステイ
グメータ６の電源を示す。
第１図の装置を用いて低倍率の顕微鏡像を観察
しようとするには、先ず観察モード指定手段とし
ての駆動スイツチ１６を操作してトリガー回路１
５を動作させゲート回路１０，１２を介してレン
ズ電源８，９へ夫々基準電圧e1，e3を印加する。
この状態は「非点収差モニター」のモードに相当
し、試料１を照射する電子線は図中破線で示すよ
うな経路をとり試料位置よりも僅か下方に（但
し、図面では試料位置と同じ位置に）集束するの
で、試料入射開き角α１は、他のモードにおける
開き角よりも大きくなる。又、中間レンズ４その
他の結像レンズは蛍光板７上に試料の回折ハロー
が火線として観察し得るような励磁強度に設定さ
れる。第２図は「非点モニター」モードにおいて
蛍光板７上に表示される火線を示すもので、破線
１８で示す楕円状から１９の真円状となるように
ステイグメータの電源１７の調整を行えば正確な
非点収差補正が行われる。
しようとするには、先ず観察モード指定手段とし
ての駆動スイツチ１６を操作してトリガー回路１
５を動作させゲート回路１０，１２を介してレン
ズ電源８，９へ夫々基準電圧e1，e3を印加する。
この状態は「非点収差モニター」のモードに相当
し、試料１を照射する電子線は図中破線で示すよ
うな経路をとり試料位置よりも僅か下方に（但
し、図面では試料位置と同じ位置に）集束するの
で、試料入射開き角α１は、他のモードにおける
開き角よりも大きくなる。又、中間レンズ４その
他の結像レンズは蛍光板７上に試料の回折ハロー
が火線として観察し得るような励磁強度に設定さ
れる。第２図は「非点モニター」モードにおいて
蛍光板７上に表示される火線を示すもので、破線
１８で示す楕円状から１９の真円状となるように
ステイグメータの電源１７の調整を行えば正確な
非点収差補正が行われる。
次に観察モードを「極低倍率像」モードに切換
えるとトリガー回路１５からの信号によりゲート
回路１０，１２がオフとなる代わりにゲート回路
１１，１３がオンとなり、レンズ電源８，９に
夫々基準電圧ｅ２，ｅ４が印加される。この状態
においては、電子線は第１図中の実線で示される
ような経路をとり、中間レンズ４は仮の対物レン
ズとして機能して蛍光板７上に極低倍像を結像す
る。このとき、電子線の試料開き角α２は小さく
設定されるので、結像レンズ系が有する非点収差
から受ける影響が弱められた状態で極低倍像を観
察することが可能となる。
えるとトリガー回路１５からの信号によりゲート
回路１０，１２がオフとなる代わりにゲート回路
１１，１３がオンとなり、レンズ電源８，９に
夫々基準電圧ｅ２，ｅ４が印加される。この状態
においては、電子線は第１図中の実線で示される
ような経路をとり、中間レンズ４は仮の対物レン
ズとして機能して蛍光板７上に極低倍像を結像す
る。このとき、電子線の試料開き角α２は小さく
設定されるので、結像レンズ系が有する非点収差
から受ける影響が弱められた状態で極低倍像を観
察することが可能となる。
以上に詳説した如く、本発明によれば極低倍像
を結像する際に生じる非点収差の有無をオペレー
ターの勘や経験に頼らずに認識することが可能と
なり、より完ぺきな非点収差補正のなされた極低
倍像を得ることが極めて容易となる。
を結像する際に生じる非点収差の有無をオペレー
ターの勘や経験に頼らずに認識することが可能と
なり、より完ぺきな非点収差補正のなされた極低
倍像を得ることが極めて容易となる。
第１図は本発明の一実施例装置の構成を示す略
図であり、第２図は第１図の装置の動作を説明す
るための略図である。 １：薄膜状試料、２：最終段集束レンズ、３：
対物レンズ、４：中間レンズ、５：投影レンズ、
６：ステイグメータの補正コイル、７：蛍光板、
８，９：レンズ電源、１０，１１，１２，１３：
ゲート回路、１４：基準電圧格納手段、１５：ト
リガー発生回路、１６：駆動スイツチ。
図であり、第２図は第１図の装置の動作を説明す
るための略図である。 １：薄膜状試料、２：最終段集束レンズ、３：
対物レンズ、４：中間レンズ、５：投影レンズ、
６：ステイグメータの補正コイル、７：蛍光板、
８，９：レンズ電源、１０，１１，１２，１３：
ゲート回路、１４：基準電圧格納手段、１５：ト
リガー発生回路、１６：駆動スイツチ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 対物レンズの励磁を零又は極めて弱くするこ
とにより低倍率の電子顕微鏡像を蛍光板上に結像
する方法において、最終段集束レンズの励磁を電
子銃のクロスオーバー像が試料位置よりも僅か下
方に結像するようになし、この状態において結像
レンズ系の励磁を調整して蛍光板上に試料の回折
ハローに基づく火線を表示し、蛍光板上における
火線の形状が円形となるようにステイグメータを
調整し、次に前記最終段集束レンズの励磁を試料
入射開き角が小さくなる状態に弱めると共に結像
レンズ系の励磁を調整して低倍率の電子顕微鏡像
を蛍光板上に結像させることを特徴とする電子顕
微鏡の非点収差補正方法。 ２ 試料照射レンズ系とステイグメータが組込ま
れた結像レンズ系を有する電子顕微鏡の各電子レ
ンズの励磁強度の多数の組合せを予じめ記憶して
おき、観察モード指定手段によつて各電子レンズ
の励磁強度の特定の組合せを読出して各電子レン
ズを特定の励磁強度に設定する装置において、前
記観察モード指定手段により低倍率像モードを指
定した場合には対物レンズを零又は弱励磁の状態
とし試料を照射する電子線の試料開き角が小さく
なるように最終段集束レンズの励磁を設定すると
共に、前記観察モードの指定手段により非点モニ
ターモードを指定した場合には試料位置よりも僅
か下方に試料照射電子線が集束するように最終段
集束レンズの励磁を設定して観察用蛍光板上に試
料回折ハロー効果に基づく火線像が表示されるよ
うに各電子レンズを設定する手段を設けたことを
特徴とする電子顕微鏡の非点収差補正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205081A JPS57176658A (en) | 1981-04-24 | 1981-04-24 | Method and device for astigmatism correction of electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6205081A JPS57176658A (en) | 1981-04-24 | 1981-04-24 | Method and device for astigmatism correction of electron microscope |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57176658A JPS57176658A (en) | 1982-10-30 |
| JPS6332219B2 true JPS6332219B2 (ja) | 1988-06-29 |
Family
ID=13188933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6205081A Granted JPS57176658A (en) | 1981-04-24 | 1981-04-24 | Method and device for astigmatism correction of electron microscope |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57176658A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3762982B2 (ja) * | 2001-12-26 | 2006-04-05 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 透過電子顕微鏡の軸調整方法およびその装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4945027A (ja) * | 1972-09-08 | 1974-04-27 | ||
| JPS5136196A (ja) * | 1974-09-20 | 1976-03-26 | Sanyo Jido Hanbaiki Kk | |
| JPS55121259A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-18 | Hitachi Ltd | Elelctron microscope |
-
1981
- 1981-04-24 JP JP6205081A patent/JPS57176658A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4945027A (ja) * | 1972-09-08 | 1974-04-27 | ||
| JPS5136196A (ja) * | 1974-09-20 | 1976-03-26 | Sanyo Jido Hanbaiki Kk | |
| JPS55121259A (en) * | 1979-03-14 | 1980-09-18 | Hitachi Ltd | Elelctron microscope |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57176658A (en) | 1982-10-30 |
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