JPS6151377B2 - - Google Patents
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- JPS6151377B2 JPS6151377B2 JP54036445A JP3644579A JPS6151377B2 JP S6151377 B2 JPS6151377 B2 JP S6151377B2 JP 54036445 A JP54036445 A JP 54036445A JP 3644579 A JP3644579 A JP 3644579A JP S6151377 B2 JPS6151377 B2 JP S6151377B2
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- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 36
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 33
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 22
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、走査電子顕微鏡等に組込まれる非点
補正装置の改良に関する。
補正装置の改良に関する。
走査電子顕微鏡（SEM）においては電子銃か
ら発生する電子線を集束レンズ系によつて試料表
面上で細く絞つた状態で照射し、該照射位置を二
次元的に走査して走査像を得ている。このとき集
束レンズ系に非点収差が存在すると試料面上にお
ける電子線の断面径を十分に短かくすることがで
きず走査像の分解能を高くすることができないた
め、集束レンズ系内に非点収差による影響を打ち
消すような非対称磁場を発生する非点補正装置が
組み込まれている。
ら発生する電子線を集束レンズ系によつて試料表
面上で細く絞つた状態で照射し、該照射位置を二
次元的に走査して走査像を得ている。このとき集
束レンズ系に非点収差が存在すると試料面上にお
ける電子線の断面径を十分に短かくすることがで
きず走査像の分解能を高くすることができないた
め、集束レンズ系内に非点収差による影響を打ち
消すような非対称磁場を発生する非点補正装置が
組み込まれている。
しかしながら非点補正装置の調整は集束レンズ
による焦点合わせの調整と比較して格段に難かし
く、その最適状態への調整を行うためには相当な
熟練を要していた。即ち、通常、非点補正装置を
調整する前に予じめ比較的高倍率の走査像を観察
しながら集束レンズ系を構成する磁界型電子レン
ズへ供給する励磁電流を調整して焦点合わせ操作
を完了させておき、次に走査画像を観察しつつ非
点補正装置の調整を行うが、非点補正装置の調整
ツマミは２つあり、しかも走査像に現われる非点
収差の影響の有無を識別することの難かしさが手
動調整に熟練を要する原因となつていた。
による焦点合わせの調整と比較して格段に難かし
く、その最適状態への調整を行うためには相当な
熟練を要していた。即ち、通常、非点補正装置を
調整する前に予じめ比較的高倍率の走査像を観察
しながら集束レンズ系を構成する磁界型電子レン
ズへ供給する励磁電流を調整して焦点合わせ操作
を完了させておき、次に走査画像を観察しつつ非
点補正装置の調整を行うが、非点補正装置の調整
ツマミは２つあり、しかも走査像に現われる非点
収差の影響の有無を識別することの難かしさが手
動調整に熟練を要する原因となつていた。
本発明は観察中の走査画像に非点収差に基づく
影響が認められた場合には結像レンズ系に組み込
まれた電磁非点補正装置（所謂xy方式非点補正
装置）におけるｘ方向，ｙ方向の補正電流を独立
に自動調整する手段を作動させて非点収差の補正
を自動化する装置を提供するものである。
影響が認められた場合には結像レンズ系に組み込
まれた電磁非点補正装置（所謂xy方式非点補正
装置）におけるｘ方向，ｙ方向の補正電流を独立
に自動調整する手段を作動させて非点収差の補正
を自動化する装置を提供するものである。
非点収差の原因は第１図に示す如く電子レンズ
の焦点距離が直交する二方向で異なるためであ
る。同図において、ｘ，ｙ軸の交点にレンズ主面
が通つているとするとｘ方向の焦点面に焦線ｃ
が、又ｙ方向の焦点面に焦線Ｅが夫々形成され、
Ｃ，Ｅの中間に最小錯乱円Ｄが形成される。この
Ｄ点が非点収差が補正されたときの焦点位置に相
当する。CEの間隔はいわゆる非点隔差△Ｆであ
る。
の焦点距離が直交する二方向で異なるためであ
る。同図において、ｘ，ｙ軸の交点にレンズ主面
が通つているとするとｘ方向の焦点面に焦線ｃ
が、又ｙ方向の焦点面に焦線Ｅが夫々形成され、
Ｃ，Ｅの中間に最小錯乱円Ｄが形成される。この
Ｄ点が非点収差が補正されたときの焦点位置に相
当する。CEの間隔はいわゆる非点隔差△Ｆであ
る。
いま、第２図ａに示すように、ｘ軸と角度を
なすベクトル△Ｆで表わされるレンズ非点収差を
４極２対型の電磁非点補正装置（いわゆるxy型
非点補正装置）によつて補正することを考える。
図中Ｓxは○印で示されるｘ軸及びｙ軸上に位置
する４極レンズによつて生ずる非点補正ベクトル
を表わし、Ｓyはｘ軸及びｙ軸と45゜回転させた
〓で示される位置に設けらた他の４極レンズによ
つて生ずる非点補正ベクトルを表わす。ここで、
これらのベクトル関係の考察を容易にするため各
ベクトルがＸ軸となす角度を全て２倍にして第２
図ｂに示す如く△Ｆ，Sx，Syとする。
なすベクトル△Ｆで表わされるレンズ非点収差を
４極２対型の電磁非点補正装置（いわゆるxy型
非点補正装置）によつて補正することを考える。
図中Ｓxは○印で示されるｘ軸及びｙ軸上に位置
する４極レンズによつて生ずる非点補正ベクトル
を表わし、Ｓyはｘ軸及びｙ軸と45゜回転させた
〓で示される位置に設けらた他の４極レンズによ
つて生ずる非点補正ベクトルを表わす。ここで、
これらのベクトル関係の考察を容易にするため各
ベクトルがＸ軸となす角度を全て２倍にして第２
図ｂに示す如く△Ｆ，Sx，Syとする。
第２図ｂにおいて、△Ｆはxy方向成分△Fxと
△Fyに分割され、その大きさは前述した非点隔
差△Ｆと一致する。この△Ｆは次式で表される。
△Fyに分割され、その大きさは前述した非点隔
差△Ｆと一致する。この△Ｆは次式で表される。
△Ｆ＝√△2＋△2
又、最小錯乱円の直径δは非点隔差△Ｆに比例
し、 δ＝Ｋ・△Ｆ ……(1) となる。ここで、Ｋは電子線の試料に対する開き
角αに関する係数である。
し、 δ＝Ｋ・△Ｆ ……(1) となる。ここで、Ｋは電子線の試料に対する開き
角αに関する係数である。
第２図ｃ中△F′は非点補正装置を動作させた
ときの合成非点ベクトルを示し、△F′に対応す
る非点隔差△F′は次式で表される。
ときの合成非点ベクトルを示し、△F′に対応す
る非点隔差△F′は次式で表される。
△F′
＝√（△−）2＋（△−）2 ……(2)
従つて、(1)式の関係から、このときの最小錯乱
円の直径δ′は次のようになる。
円の直径δ′は次のようになる。
δ′＝Ｋ・√（△−）2＋（△−）2
……(3)
以上のことから、最小錯乱円の状態で非点収差
補正装置の２組の４極レンズを夫々独立に操作し
δ′が順次最小値になるように制御すれば、△
F′→０即ち、δ′→０になし得、非点収差を完全
に補正することができることが分る。
補正装置の２組の４極レンズを夫々独立に操作し
δ′が順次最小値になるように制御すれば、△
F′→０即ち、δ′→０になし得、非点収差を完全
に補正することができることが分る。
通常SEM等の走査画像に非点収差による影響
が認められるような状態での手動による焦点合わ
せ操作を行えば試料上における電子線の断面形状
はほぼ最小錯乱円の状態に達していると考えられ
るので、この状態からxy方式非点補正装置のｘ
方向，ｙ方向の補正電流を独立に調整して最小錯
乱円を小さくする自動制御を行えば前述した原理
から非点補正の自動化が達成される。
が認められるような状態での手動による焦点合わ
せ操作を行えば試料上における電子線の断面形状
はほぼ最小錯乱円の状態に達していると考えられ
るので、この状態からxy方式非点補正装置のｘ
方向，ｙ方向の補正電流を独立に調整して最小錯
乱円を小さくする自動制御を行えば前述した原理
から非点補正の自動化が達成される。
第３図は、上述した本発明の原理に基づく本発
明装置の一例を示す略図である。
明装置の一例を示す略図である。
同図において１は図示しない電子銃から発生し
た電子ビームであり、該電子ビームは対物レンズ
２によつて試料３上へ細く集束されると共に偏向
コイル４ｘ，４ｙによつて試料３上で２次元的に
走査される。５ｘ，５ｙは夫々ｘ方向及びｙ方向
非点補正コイルである。尚、偏向コイルのＸ，Ｙ
方向と非点補正コイルのｘ，ｙ方向は相互に関係
なく自由に定められている。電子線照射により試
料３より発生した２次電子等の情報は検出器６に
よつて検出され、得られた検出信号は増巾器７を
介して表示装置８及び自動焦点合わせ制御装置９
へ送られる。該制御装置９はタイミング回路１０
からのスタート信号ａによつて動作を開始し、逆
に停止信号ｂを上記タイミング回路１０へ送つて
動作を終了する。動作中、上記制御装置９は励磁
電流指定信号ｄを発し、該信号ｄは対物レンズ駆
動回路１１又は非点補正コイル駆動回路１２ｘ，
１２ｙへ切換回路S1，S2及び記憶回路１３ｘ，１
３ｙを介して送られる。
た電子ビームであり、該電子ビームは対物レンズ
２によつて試料３上へ細く集束されると共に偏向
コイル４ｘ，４ｙによつて試料３上で２次元的に
走査される。５ｘ，５ｙは夫々ｘ方向及びｙ方向
非点補正コイルである。尚、偏向コイルのＸ，Ｙ
方向と非点補正コイルのｘ，ｙ方向は相互に関係
なく自由に定められている。電子線照射により試
料３より発生した２次電子等の情報は検出器６に
よつて検出され、得られた検出信号は増巾器７を
介して表示装置８及び自動焦点合わせ制御装置９
へ送られる。該制御装置９はタイミング回路１０
からのスタート信号ａによつて動作を開始し、逆
に停止信号ｂを上記タイミング回路１０へ送つて
動作を終了する。動作中、上記制御装置９は励磁
電流指定信号ｄを発し、該信号ｄは対物レンズ駆
動回路１１又は非点補正コイル駆動回路１２ｘ，
１２ｙへ切換回路S1，S2及び記憶回路１３ｘ，１
３ｙを介して送られる。
１４及び１５は記憶回路であり、該記憶回路１
４，１５には切換回路S3，S4を介して動作終了時
の励磁電流指定信号ｄの値が記憶される。１６は
平均回路であり、該平均回路１６は上記記憶回路
１４，１５に記憶されている信号値の平均値ｅを
求め、該平均値ｅを前記切換回路S1を介して前記
駆動回路１１へ送り最小錯乱円を与える励磁電流
を対物レンズ２に供給する。
４，１５には切換回路S3，S4を介して動作終了時
の励磁電流指定信号ｄの値が記憶される。１６は
平均回路であり、該平均回路１６は上記記憶回路
１４，１５に記憶されている信号値の平均値ｅを
求め、該平均値ｅを前記切換回路S1を介して前記
駆動回路１１へ送り最小錯乱円を与える励磁電流
を対物レンズ２に供給する。
１７は走査回路であり、該走査回路１７より発
生したＸ走査信号及びＹ走査信号は切換回路S5，
S6を介して偏向コイル駆動回路１８Ｘ，１８Ｙへ
送られる。尚Ｘ走査信号のみは切換回路S6を介し
て偏向コイル駆動回路１８Ｙへも供給可能にされ
ている。又上記走査回路１７はＸ走査信号に同期
した同期信号ｆを発生し、該同期信号ｆは前記タ
イミング回路１０及び制御装置９へ送られる。そ
して該タイミング回路１０は該同期信号ｆ，前記
停止信号ｂ及び予め定められた順序に従つて切換
回路S1〜S6の切換を行う。
生したＸ走査信号及びＹ走査信号は切換回路S5，
S6を介して偏向コイル駆動回路１８Ｘ，１８Ｙへ
送られる。尚Ｘ走査信号のみは切換回路S6を介し
て偏向コイル駆動回路１８Ｙへも供給可能にされ
ている。又上記走査回路１７はＸ走査信号に同期
した同期信号ｆを発生し、該同期信号ｆは前記タ
イミング回路１０及び制御装置９へ送られる。そ
して該タイミング回路１０は該同期信号ｆ，前記
停止信号ｂ及び予め定められた順序に従つて切換
回路S1〜S6の切換を行う。
上述した如き構成を有する装置の動作を第４図
に示すタイミング図に従つて説明する。
に示すタイミング図に従つて説明する。
オペレータによつてスタートが指示されるとタ
イミング回路１０はスタート信号ａ1を制御装置
９へ送ると共にＳ1をの状態、Ｓ2およびＳ6を
の状態とする。従つて電子ビーム１は試料３上
でＸ方向にのみ走査され、各走査毎に制御装置９
により対物レンズ２の励磁電流が変化され、所謂
焦点合わせ操作が行われる。即ち制御装置９は対
物レンズ２の励磁電流を電子ビームの１回のＸ方
向走査毎に徐々に段階的に変化させると共に、例
えば走査毎に得られる検出信号の変化分の大きさ
を積算し、この積算値が最大となる様な励磁電流
値を求め、その値に励磁電流を固定する。従つて
この電流値の時に電子ビーム径が最も細くなつて
いる。
イミング回路１０はスタート信号ａ1を制御装置
９へ送ると共にＳ1をの状態、Ｓ2およびＳ6を
の状態とする。従つて電子ビーム１は試料３上
でＸ方向にのみ走査され、各走査毎に制御装置９
により対物レンズ２の励磁電流が変化され、所謂
焦点合わせ操作が行われる。即ち制御装置９は対
物レンズ２の励磁電流を電子ビームの１回のＸ方
向走査毎に徐々に段階的に変化させると共に、例
えば走査毎に得られる検出信号の変化分の大きさ
を積算し、この積算値が最大となる様な励磁電流
値を求め、その値に励磁電流を固定する。従つて
この電流値の時に電子ビーム径が最も細くなつて
いる。
ところがこの焦点合わせ操作時Ｓ2はの状態
にあり、しかも記憶回路１３ｘ，１３ｙはタイミ
ング回路１０からのクリアパルスＣによつてクリ
アされており非点補正コイル５ｘ，５ｙは作動し
ていないため、非点収差は全く補正されていな
い。そのため試料３上には第５図に示す様な非点
収差により橢円形となつた電子ビームが照射され
ている。ここで橢円の長軸と走査方向Ｘとが角度
θ傾いているとすれば、上述した積算値は橢円の
走査方向Ｘにおける太さ（第５図における′）
が最小となつた時に検出信号が最も鋭い変化を示
すために最大となる。従つて制御装置９が対物レ
ンズ２の励磁電流を徐々に段階的に変化させるこ
とにより電子ビームの形状を第１図に示す様にＦ
からＣ→Ｇ→Ｄ→Ｈ→Ｅ→Ｉの様に変化させれば
′が例えば焦線Ｃと最小錯乱円Ｄとの間（例え
ばＧ）で必ず最小値を持ち、この最小値を与える
励磁電流値Ｉ1の所で制御装置９は停止信号ｂ1を
発して焦点合わせ操作を停止する。
にあり、しかも記憶回路１３ｘ，１３ｙはタイミ
ング回路１０からのクリアパルスＣによつてクリ
アされており非点補正コイル５ｘ，５ｙは作動し
ていないため、非点収差は全く補正されていな
い。そのため試料３上には第５図に示す様な非点
収差により橢円形となつた電子ビームが照射され
ている。ここで橢円の長軸と走査方向Ｘとが角度
θ傾いているとすれば、上述した積算値は橢円の
走査方向Ｘにおける太さ（第５図における′）
が最小となつた時に検出信号が最も鋭い変化を示
すために最大となる。従つて制御装置９が対物レ
ンズ２の励磁電流を徐々に段階的に変化させるこ
とにより電子ビームの形状を第１図に示す様にＦ
からＣ→Ｇ→Ｄ→Ｈ→Ｅ→Ｉの様に変化させれば
′が例えば焦線Ｃと最小錯乱円Ｄとの間（例え
ばＧ）で必ず最小値を持ち、この最小値を与える
励磁電流値Ｉ1の所で制御装置９は停止信号ｂ1を
発して焦点合わせ操作を停止する。
タイミング回路１０は該停止信号ｂ1に同期し
てＳ3を短期間だけの状態として上記電流値Ｉ1
に対応する励磁電流指定信号Ｋ1を記憶回路１４
に記憶させると共に、Ｓ5およびＳ6をの状態に
することにより、電子ビームの走査方向をＹ方向
とする。そしてタイミング回路１０はこの状態で
スタート信号ａ2を制御装置９へ送り、Ｙ方向の
電子ビーム走査における焦点合わせ操作を行う。
従つてＸ方向の場合と全く同様な手順で第５図に
おける′が最小値となる（例えば第１図におけ
るＨ）励磁電流値Ｉ2が求められる。そして焦点
合わせ操作の終了を示す停止信号ｂ2に同期して
タイミング回路１０は短期間だけＳ4をの状態
として上記電流値Ｉ2に対応する励磁電流指定信
号値Ｋ2を記憶回路１５に記憶させる。この様に
して記憶回路１４，１５にＫ1，Ｋ2が納められる
と、タイミング回路１０はＳ1をの状態として
平均回路１６の出力信号ｅ＝（Ｋ１＋Ｋ２／２）を駆動
回 路１１へ送る。従つて対物レンズ２の励磁電流は
Ｉ１＋Ｉ２／２となり、試料３には第１図に示すＧとＨ
の 丁度中間に存在する最小錯乱円Ｄの状態で電子ビ
ームが照射されることとなる。そしてこの最小錯
乱円の状態で対物レンズ２の励磁電流を固定した
まま、次に非点補正が行われる。
てＳ3を短期間だけの状態として上記電流値Ｉ1
に対応する励磁電流指定信号Ｋ1を記憶回路１４
に記憶させると共に、Ｓ5およびＳ6をの状態に
することにより、電子ビームの走査方向をＹ方向
とする。そしてタイミング回路１０はこの状態で
スタート信号ａ2を制御装置９へ送り、Ｙ方向の
電子ビーム走査における焦点合わせ操作を行う。
従つてＸ方向の場合と全く同様な手順で第５図に
おける′が最小値となる（例えば第１図におけ
るＨ）励磁電流値Ｉ2が求められる。そして焦点
合わせ操作の終了を示す停止信号ｂ2に同期して
タイミング回路１０は短期間だけＳ4をの状態
として上記電流値Ｉ2に対応する励磁電流指定信
号値Ｋ2を記憶回路１５に記憶させる。この様に
して記憶回路１４，１５にＫ1，Ｋ2が納められる
と、タイミング回路１０はＳ1をの状態として
平均回路１６の出力信号ｅ＝（Ｋ１＋Ｋ２／２）を駆動
回 路１１へ送る。従つて対物レンズ２の励磁電流は
Ｉ１＋Ｉ２／２となり、試料３には第１図に示すＧとＨ
の 丁度中間に存在する最小錯乱円Ｄの状態で電子ビ
ームが照射されることとなる。そしてこの最小錯
乱円の状態で対物レンズ２の励磁電流を固定した
まま、次に非点補正が行われる。
即ち、タイミング回路１０はＳ2をの状態に
すると共にスタート信号ａ3を制御装置９へ送る
ことにより、電子ビームをＹ方向に走査した状態
でｙ方向非点補正コイル５ｙを動作させる。制御
装置９は先の焦点合わせ操作の場合と全く同様
に、電子ビームの１回のＹ方向走査毎に非点補正
コイル５ｙに流す電流を徐々に段階的に変化させ
ると共に、１回の電子ビーム走査毎に得られる検
出信号における変化分の積算値を求め、該積算値
が最大即ち電子ビーム径が最小となる電流値（例
えばＩ3）を検出し、該電流値Ｉ3に非点補正コイ
ル５ｙの励磁電流を固定する。そしてこの電流値
Ｉ3はＳ2が切換えられても記憶回路１３ｙによつ
て保持される。この様な操作は言い換えれば第１
図における焦線Ｅを非点補正コイル５ｙにより錯
乱円Ｄの位置へ移動させることに相当し、これに
よりｙ方向の電子ビーム径を最小とすることがで
きる。
すると共にスタート信号ａ3を制御装置９へ送る
ことにより、電子ビームをＹ方向に走査した状態
でｙ方向非点補正コイル５ｙを動作させる。制御
装置９は先の焦点合わせ操作の場合と全く同様
に、電子ビームの１回のＹ方向走査毎に非点補正
コイル５ｙに流す電流を徐々に段階的に変化させ
ると共に、１回の電子ビーム走査毎に得られる検
出信号における変化分の積算値を求め、該積算値
が最大即ち電子ビーム径が最小となる電流値（例
えばＩ3）を検出し、該電流値Ｉ3に非点補正コイ
ル５ｙの励磁電流を固定する。そしてこの電流値
Ｉ3はＳ2が切換えられても記憶回路１３ｙによつ
て保持される。この様な操作は言い換えれば第１
図における焦線Ｅを非点補正コイル５ｙにより錯
乱円Ｄの位置へ移動させることに相当し、これに
よりｙ方向の電子ビーム径を最小とすることがで
きる。
停止信号ｂ3によりｙ方向の電子ビーム径が最
小となつたことを確認した後にタイミング回路は
Ｓ2をの状態としてｘ方向非点補正コイル５ｘ
を動作させ、更にスタート信号ａ4を制御装置９
へ送り、ｘ方向の非点補正を開始させる。そして
制御装置はｙ方向の場合と全く同様にｘ方向の電
子ビーム径を最小とする電流値Ｉ4を検出し、そ
の値に非点補正コイル５ｘの励磁電流を固定す
る。従つて停止信号ｂ4の時点では電子ビームは
ｘ，ｙ両方向の非点が補正された円形で最小のビ
ーム径となつている。そこで停止信号ｂ4に同期
してＳ5およびＳ6をの状態にもどし電子ビーム
を試料３上で通常の２次元走査させれば、該走査
に同期した表示装置８の画面には非点収差が補正
され、しかも焦点が合つた鮮明な走査電子顕微鏡
像が表示されることになる。
小となつたことを確認した後にタイミング回路は
Ｓ2をの状態としてｘ方向非点補正コイル５ｘ
を動作させ、更にスタート信号ａ4を制御装置９
へ送り、ｘ方向の非点補正を開始させる。そして
制御装置はｙ方向の場合と全く同様にｘ方向の電
子ビーム径を最小とする電流値Ｉ4を検出し、そ
の値に非点補正コイル５ｘの励磁電流を固定す
る。従つて停止信号ｂ4の時点では電子ビームは
ｘ，ｙ両方向の非点が補正された円形で最小のビ
ーム径となつている。そこで停止信号ｂ4に同期
してＳ5およびＳ6をの状態にもどし電子ビーム
を試料３上で通常の２次元走査させれば、該走査
に同期した表示装置８の画面には非点収差が補正
され、しかも焦点が合つた鮮明な走査電子顕微鏡
像が表示されることになる。
尚、上述した焦点合わせ操作及び非点補正操作
のいずれか一方あるいは両方共繰返し行えば更に
効果があることは言うまでもない。
のいずれか一方あるいは両方共繰返し行えば更に
効果があることは言うまでもない。
又、上述した実施例では一つの制御装置９を切
換えることにより焦点合わせ操作と非点補正操作
を行つたが、２つの制御装置を別個に備えるよう
にしても良いし、制御装置自体も上述した検出信
号の変化分の積算値を求める方式のものに限らず
その他の方式、例えば検出信号の微分値が最も大
きくなるようにする方式のものなど、要するに電
子ビーム径（走査方向の）が最も小さくなつたこ
とを検出できるものであればどんなものでも良
い。
換えることにより焦点合わせ操作と非点補正操作
を行つたが、２つの制御装置を別個に備えるよう
にしても良いし、制御装置自体も上述した検出信
号の変化分の積算値を求める方式のものに限らず
その他の方式、例えば検出信号の微分値が最も大
きくなるようにする方式のものなど、要するに電
子ビーム径（走査方向の）が最も小さくなつたこ
とを検出できるものであればどんなものでも良
い。
更に電子線を試料上で最小錯乱円の状態にする
ことは、上述した方式に限らず例えば試料上で電
子線を円形走査させながら制御装置を動作させる
方式によつても実現できる。
ことは、上述した方式に限らず例えば試料上で電
子線を円形走査させながら制御装置を動作させる
方式によつても実現できる。
第１図は非点収差を説明するための図、第２図
ａ，ｂ，ｃは夫々本発明の原理を説明するための
図、第３図は本発明を実施した装置の一例を示す
構成図、第４図は上記実施例の動作を説明するた
めのタイミング図、第５図は橢円形の電子ビーム
と走査方向との関係を示す図である。 １：電子ビーム、２：対物レンズ、４Ｘ，４
Ｙ：偏向コイル、５ｘ，５ｙ：非点補正コイル、
６：検出器、８：表示装置、９：焦点合わせ制御
装置、１０：タイミング回路、１３ｘ，１３ｙ，
１４，１５：記憶回路、１６：平均回路、１７：
走査回路、Ｓ1，Ｓ6：切換回路。
ａ，ｂ，ｃは夫々本発明の原理を説明するための
図、第３図は本発明を実施した装置の一例を示す
構成図、第４図は上記実施例の動作を説明するた
めのタイミング図、第５図は橢円形の電子ビーム
と走査方向との関係を示す図である。 １：電子ビーム、２：対物レンズ、４Ｘ，４
Ｙ：偏向コイル、５ｘ，５ｙ：非点補正コイル、
６：検出器、８：表示装置、９：焦点合わせ制御
装置、１０：タイミング回路、１３ｘ，１３ｙ，
１４，１５：記憶回路、１６：平均回路、１７：
走査回路、Ｓ1，Ｓ6：切換回路。
Claims (1)
- １ 試料上に照射される電子ビームを細く集束す
るための集束レンズ系と、電子ビームを試料上で
二次元的に繰返し走査するための偏向手段と、前
記集束レンズ系に組込まれたxy方式非点収差補
正装置とを備えた装置において、電子ビームに照
射される試料より発生する情報から試料上におけ
る電子ビーム径に対応する信号を発生する手段
と、電子ビームの走査期間中前記xy方式非点収
差補正装置のｘ方向励磁強度を一定に保つたまま
電子ビームの走査と同期してｙ方向励磁強度を順
次変更させて前述した電子ビーム径に対応する信
号が最も大きくなるようにｙ方向励磁強度を設定
する手段と、電子ビームの走査期間中前記xy方
式非点収差補正装置のｙ方向励磁強度を一定に保
つたまま電子ビームの走査と同期してｘ方向励磁
強度を順次変化させて前述した電子ビーム径に対
応する信号が最も大きくなるようにｘ方向励磁強
度を設定する手段を設けたことを特徴とする走査
電子顕微鏡等における非点補正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3644579A JPS556784A (en) | 1979-03-28 | 1979-03-28 | Method and device for astrigmatism correction in scanning electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3644579A JPS556784A (en) | 1979-03-28 | 1979-03-28 | Method and device for astrigmatism correction in scanning electron microscope |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15779077A Division JPS5492050A (en) | 1977-12-29 | 1977-12-29 | Method and apparatus for astigmatic correction of scanning electronic microscope and others |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS556784A JPS556784A (en) | 1980-01-18 |
| JPS6151377B2 true JPS6151377B2 (ja) | 1986-11-08 |
Family
ID=12470000
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3644579A Granted JPS556784A (en) | 1979-03-28 | 1979-03-28 | Method and device for astrigmatism correction in scanning electron microscope |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS556784A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006104193A1 (ja) * | 2005-03-29 | 2008-09-11 | パイオニア株式会社 | 非点収差の調整方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5766637A (en) * | 1980-10-14 | 1982-04-22 | Toshiba Corp | Exposure device for electron beam |
| JPS58207561A (ja) * | 1982-05-27 | 1983-12-03 | Honda Motor Co Ltd | 自動変速プ−リ |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4834477A (ja) * | 1971-09-06 | 1973-05-18 | ||
| JPS50141261A (ja) * | 1974-04-24 | 1975-11-13 | ||
| JPS5218161A (en) * | 1975-08-01 | 1977-02-10 | Hitachi Ltd | Sample scan type sample image display unit |
-
1979
- 1979-03-28 JP JP3644579A patent/JPS556784A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4834477A (ja) * | 1971-09-06 | 1973-05-18 | ||
| JPS50141261A (ja) * | 1974-04-24 | 1975-11-13 | ||
| JPS5218161A (en) * | 1975-08-01 | 1977-02-10 | Hitachi Ltd | Sample scan type sample image display unit |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPWO2006104193A1 (ja) * | 2005-03-29 | 2008-09-11 | パイオニア株式会社 | 非点収差の調整方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS556784A (en) | 1980-01-18 |
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