JPH09223476A - 荷電粒子ビーム装置の非点補正方法 - Google Patents

荷電粒子ビーム装置の非点補正方法

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JPH09223476A
JPH09223476A JP8030594A JP3059496A JPH09223476A JP H09223476 A JPH09223476 A JP H09223476A JP 8030594 A JP8030594 A JP 8030594A JP 3059496 A JP3059496 A JP 3059496A JP H09223476 A JPH09223476 A JP H09223476A
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astigmatism correction
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JP8030594A
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Hirobumi Oki
博文 大木
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 荷電粒子ビームの非点補正を簡単に自動的に
行うことができる荷電粒子ビームの非点補正方法を実現
する。 【構成】 異なった非点補正値をセットするごとに電子
ビームEBの走査をX,Y方向で行い、各々の方向で得
られた検出信号を微分して波形メモリー15に記憶す
る。コンピュータ5は、各走査方向で微分波形の波高値
がピークとなるように、対物レンズ制御ユニット6を制
御し、対物レンズ3へのレンズ値を変化させる。このと
き得られた、各走査方向での波高値のピーク値、および
そのときのレンズ値は、与えられた非点補正値とともに
コンピュータに記憶される。非点補正値はあらかじめ指
定した範囲で変化するので、各非点補正値で前述のピー
ク値およびレンズ値が得られる。ここで、X方向とY方
向のレンズ値が一致する非点補正値aと、微分波形の波
高値のピークが最も大きくなる非点補正値bが求められ
る。最適非点補正値は(a+b)/2として、非点補正
器に設定される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、自動的に荷電粒子
ビームの非点の補正を行うことができる電子ビーム描画
装置や走査電子顕微鏡などの荷電粒子ビーム装置におけ
る荷電粒子ビームの非点補正方法に関する。
【0002】
【従来の技術】走査電子顕微鏡や電子ビーム描画装置等
の電子ビーム装置では、像の観察やパターンの描画を電
子ビームを用いて行う前に、電子ビームの非点の補正を
行っている。この電子ビームの非点の補正は、円形の金
粒子上で電子ビームの走査を行い、金粒子から発生した
2次電子や反射電子を検出し、その像を観察して、像が
真円になるように非点補正器を調整することにより行っ
ている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記した非点の補正
は、手動で行っており、個人差が出やすいので、走査電
子顕微鏡像の観察や電子ビームによるパターン描画の再
現性が良くない。設定した単一の非点補正値で全ての像
観察や電子ビームによるパターン描画を行うのであれ
ば、熟練により非点の有無の判定が目視で行える場合に
はさほど問題とならない。しかしながら、電子ビームの
偏向領域で、ダイナミックに非点補正を行う場合には、
自動補正ができないと、作業効率が著しく低下すること
になる。
【0004】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、荷電粒子ビームの非点補正を簡単
に自動的に行うことができる荷電粒子ビームの非点補正
方法を実現するにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に基づく
荷電粒子ビームの非点補正方法は、第1の方向と第1の
方向と直交する第2の方向に走査する荷電粒子ビームの
第1および第2の方向の非点補正を行うための非点補正
器に対し、異なった複数の非点補正値をセットし、各非
点補正値ごとに集束レンズによって荷電粒子ビームのフ
ォーカス合わせを行い、各非点補正値ごとに各走査方向
でフォーカスが合ったときのレンズ値を各々記憶すると
共に、各非点補正値ごとに試料上で荷電粒子ビームを走
査し、走査に応じて試料から得られた信号を微分し、フ
ォーカスが合ったときの微分波形の波高値を記憶し、記
憶された両走査方向のレンズ値変化から両者が一致する
レンズ値に対応した非点補正値aを求め、微分波形の波
高値の変化から波高値のピークが得られたときの非点補
正値bを求め、非点補正器に(a+b)/2の非点補正
値をセットするようにしたことを特徴としている。
【0006】請求項1の発明に基づく荷電粒子ビームの
非点補正においては、直交する2つの方向の非点補正値
を変化させ、各非点補正値ごとに各走査方向でフォーカ
スが合ったときのレンズ値を各々記憶すると共に、各非
点補正値ごとに試料上で荷電粒子ビームを走査し、走査
に応じて試料から得られた信号を微分し、フォーカスが
合ったときの微分波形の波高値を記憶し、記憶された両
走査方向のレンズ値変化から両者が一致するレンズ値に
対応した非点補正値aを求め、微分波形の波高値の変化
から波高値のピークが得られたときの非点補正値bを求
め、非点補正器に(a+b)/2の非点補正値をセット
する。
【0007】請求項2の発明に基づく荷電粒子ビームの
非点補正方法は、第1の方向と第1の方向と直交する第
2の方向に走査する荷電粒子ビームの第1および第2の
方向の非点補正を行うための非点補正器に対し、異なっ
た複数の非点補正値をセットし、各非点補正値ごとに集
束レンズによって荷電粒子ビームのフォーカス合わせを
行い、各非点補正値ごとに各走査方向でフォーカスが合
ったときのレンズ値を各々記憶すると共に、各非点補正
値ごとに試料上で荷電粒子ビームを走査し、走査に応じ
て試料から得られた信号を微分し、フォーカスが合った
ときの微分波形の波高値を記憶し、記憶された両走査方
向のレンズ値変化から両者が一致するレンズ値に対応し
た非点補正値aを求め、微分波形の波高値の変化から波
高値のピークが得られたときの非点補正値bを求め、前
記第1と第2の方向の非点補正器に(a+b)/2の非
点補正値をセットするステップと、次に、第1の方向と
45°傾斜した第3の方向と第3の方向に直交する第4
の方向の非点補正器に対し、第1と第2の方向の非点補
正器に対して非点補正値をセットする前記ステップと同
様のステップで非点補正値をセットするようにしたこと
を特徴としている。
【0008】請求項2の発明に基づく荷電粒子ビームの
非点補正においては、直交する第1と第2の方向の非点
補正値を変化させ、各非点補正値ごとに各走査方向でフ
ォーカスが合ったときのレンズ値を各々記憶すると共
に、各非点補正値ごとに試料上で荷電粒子ビームを走査
し、走査に応じて試料から得られた信号を微分し、フォ
ーカスが合ったときの微分波形の波高値を記憶し、記憶
された両走査方向のレンズ値変化から両者が一致するレ
ンズ値に対応した非点補正値aを求め、微分波形の波高
値の変化から波高値のピークが得られたときの非点補正
値bを求め、前記第1と第2の方向の非点補正器に(a
+b)/2の非点補正値をセットすると共に、このよう
なステップを第1の方向と45°傾斜した第3の方向と
第3の方向に直交する第4の方向の非点補正器に対し行
う。
【0009】請求項3の発明では、前記請求項1および
2の発明において、bの値を両走査方向のそれぞれの微
分波形の波高値のピークが得られたときの非点補正値の
中間値とした。
【0010】請求項4の発明では、前記請求項2の発明
において、第1と第2の方向の非点補正器への非点補正
値のセットと、第3と第4の方向の非点補正器への非点
補正値のセットを繰り返し行うようにした。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は本発明の方法を実施
するための、走査電子顕微鏡や電子ビーム描画装置とし
て用いられる電子ビーム装置の一例を示している。図中
1は電子銃であり、電子銃1から発生した電子ビームE
Bは、集束レンズ2と対物レンズ(最終段集束レンズ)
3によって試料4上に細く集束される。
【0012】対物レンズ3にはコンピュータ5から対物
レンズ制御ユニット6を介して励磁電流が供給される。
また、電子ビームEBは、偏向器7によって偏向され、
試料4上の電子ビームの照射位置は走査される。偏向器
7にはコンピュータ5から電子ビーム偏向ユニット8、
増幅器9を介して走査信号が供給される。また、10は
非点補正コイルであり、このコイル10にはコンピュー
タ5から非点補正値コントロールユニット11を介して
非点補正電流が供給される。非点補正コイル10は図2
に示すように、光軸Oに対称的に8極用意されており、
X−Y方向のコイル10aと、X−Y方向から45°傾
斜した方向のコイル10bとより構成されている。
【0013】試料4への電子ビームの照射によって発生
した2次電子は、2次電子検出器12によって検出され
る。検出器12の検出信号は、増幅器13によって増幅
された後、微分ユニット14に供給される。微分ユニッ
ト14においては検出信号が微分され、その微分信号は
波形メモリー15に供給されて記憶される。波形メモリ
ー15に記憶された微分信号のピーク値は、コンピュー
タ5に供給される。なお、16は非点補正を自動的に実
行するためのプログラムなどが格納されたメモリーであ
る。このような構成の動作を次に説明する。
【0014】通常の2次電子像を観察する場合、コンピ
ュータ5は電子ビーム偏向ユニット8を制御し、このユ
ニット8から所定の2次元走査信号を増幅器9を介して
偏向器7に供給する。その結果、試料4上の任意の2次
元領域が電子ビームEBによってラスター走査される。
試料4への電子ビームの照射によって発生した2次電子
は、検出器12によって検出される。その検出信号は、
増幅器13を介して偏向器5への走査信号と同期した陰
極線管(図示せず)に供給され、陰極線管には試料の任
意の領域の2次電子像が表示される。
【0015】また、この図1の装置を電子ビーム描画装
置として用いる場合には、試料4上で電子ビームの走査
がパターン情報に基づいて行われ、試料4上で任意のパ
ターンの描画が実行される。
【0016】次に、電子ビームの自動非点補正動作につ
いて説明する。まず自動非点補正を行うために試料4を
任意の観察位置にセットする。この場合、試料4には、
マークMが設けられている。次にコンピュータ5はメモ
リー16に格納された自動非点補正のプログラムにした
がって各ユニットを制御する。まず、コンピュータ5は
電子ビーム偏向ユニット8から、試料4上で電子ビーム
を直線状に走査する走査信号を発生させる。この走査信
号は増幅器9を介して偏向器7に供給される。その結
果、例えば、試料4上でマークMを横切って電子ビーム
が走査される。この試料4上での電子ビームの走査に基
づいて試料4からは2次電子が発生する。発生した2次
電子は2次電子検出器12によって検出される。
【0017】2次電子検出器12の検出信号は増幅器1
3によって増幅された後、微分ユニット14に供給され
る。微分ユニット14により微分された信号は波形メモ
リー15に供給されて記憶される。ここで、電子ビーム
の走査は、非点補正値コントロールユニット11から非
点補正コイル10に異なった非点補正値がセットされる
ごとに実行される。
【0018】図3,図4はそれぞれ検出信号波形とその
微分信号波形を示している。図3(a)は非点がない状
態の検出信号波形であり、図3(b)はその微分波形で
ある。図4(a)は非点がある状態の検出信号波形であ
り、図4(b)はその微分波形である。すなわち、非点
がない状態では、マークの端部において検出信号波形は
シャープに変化し、微分信号波形のピーク値Pは大きい
値となる。一方、非点がある状態では、マークの端部で
信号がなまり、微分信号波形のピーク値は比較的小さい
値となる。
【0019】このような傾向は、非点の有無の場合に限
らず、電子ビームのフォーカスの変化によっても同様に
生じる。すなわち、電子ビームのフォーカスが合ってい
る場合には、図3の波形となり、フォーカスが合ってい
ない場合には、図4の波形となる。この結果、ピーク値
が最大となるように対物レンズ制御ユニット6を制御
し、対物レンズ3の励磁電流を設定すれば、ジャストフ
ォーカスの状態とすることができる。
【0020】さて、本発明では、上記したように電子ビ
ームの走査を、非点補正値コントロールユニット11か
ら非点補正コイル10に異なった非点補正値がセットさ
れるごとに実行する。この場合、X,Y方向の非点補正
コイル10aと45°方向の非点補正コイル10bへの
非点補正値を0とした後、いずれか一方の非点補正値、
例えば、X,Y方向の非点補正値を−2a,−a,0,
+a,+2a(aは指定したパラメータ)と変化させ
る。まず、−2aの非点補正値をX方向の非点補正コイ
ル10a(x)に供給した状態で、電子ビームEBの走
査を行い、そのときの検出信号を微分して波形メモリー
15に記憶する。コンピュータ5は波形メモリー15に
記憶された微分波形の波高値(ピーク値)Pを検出す
る。
【0021】更に、コンピュータ5は異なった非点補正
値をセットするごとに対物レンズ制御ユニット8を制御
し、対物レンズ3へのレンズ値を変化させる。この対物
レンズ3のレンズ値の変化にともない、微分波形のピー
ク値Pは変化し、最も大きいピーク値が得られたときの
レンズ値は、そのときのピーク値と共にコンピュータ5
に記憶される。
【0022】このようなピーク値とレンズ値の検出と記
憶は、非点補正値を変えながら実行され、その結果、図
5(a)に示すようなX方向の非点補正値に応じたフォ
ーカス値(対物レンズ値)の曲線が得られ、また、図5
(b)に示すX方向の非点補正値に応じた最大微分波高
値(ピーク値)の曲線が得られる。同様の結果がY方向
に対しても得られる。
【0023】その結果、図6(a)に示すX方向のフォ
ーカス値変化曲線Fxと、Y方向のフォーカス値変化曲
線Fyとが得られ、また、図6(b)に示すX方向の最
大微分波高値曲線Dxと、Y方向の最大微分波高値曲線
Dyとが得られる。
【0024】ここで、非点補正が完了した状態とは、図
6(a)におけるX方向とY方向のフォーカス値が一致
する非点補正値aと、図6(b)における最大微分波高
値がピークとなる非点補正値bとが一致する状態であ
る。通常はこの両者(a,b)の値は一致しないので、
aとbの平均、すなわち、(a+b)/2を仮の最適非
点補正値として定義する。なお、aを求める際、測定に
用いた非点補正値でX方向とY方向のフォーカス値が一
致しない場合には、推定によりaを求めれば良い。ま
た、X方向の最大微分波高値のピークとY方向の最大微
分波高値のピークとが一致しない場合は、両者の中間の
非点補正値をbの値とする。
【0025】上記したステップにより求められた(a+
b)/2の値は、X,Y方向の非点補正コイル10aに
仮の最適非点補正値としてコンピュータ5より非点補正
値コントロールユニット11を介して供給される。次
に、X,Y方向から45°傾斜した方向の非点補正コイ
ル10bに対しても、X,Y方向と同様なステップで仮
の最適非点補正値が与えられる。
【0026】このX,Y方向と45°傾斜した方向に対
しての仮の最適非点補正値の設定を交互に繰り返し実行
すると、最大微分波高値変化曲線のピーク値bと最適フ
ォーカス値aとの差が、指定した許容値より小さくな
る。その段階で上記したステップを終了させ、最終的に
許容値以下となった補正値(a+b)/2を各非点補正
コイルにセットする。このようにして自動的に非点補正
動作を完了させることができる。
【0027】上記した方法で、最大微分波高値のピーク
が得られる非点補正値を求める際、精度とスピードを向
上させるため、最初は非点補正値の変化幅を粗くし、ピ
ークが近付いてきた段階で非点補正値の変化幅を細かく
設定することは有効である。また、精度面では低下する
が、(a+b)/2が設定値以下となるまでX,Y方向
と45°傾斜方向の非点補正値の設定を繰り返し行うこ
とはせず、それぞれ(a+b)/2の非点補正値の設定
を1回のみで終了させても良い。この場合には、aとb
を測定するステップが2回で終了する。
【0028】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこれらの形態に限定されない。例えば、2次電子
を検出したが、反射電子を検出してもよい。また、フォ
ーカス合わせ動作の際に対物レンズの励磁を変化させた
が、補助レンズを用い、補助レンズの励磁を変化させる
ようにしても良い。更に、走査電子顕微鏡などの電子ビ
ーム装置を例にして説明したが、本発明をイオンビーム
装置にも適用することができる。更にまた、非点補正器
として非点補正コイルを用い、磁気的に非点補正を行っ
たが、静電的な非点補正器を用いても良い。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1および2
の発明に基づく荷電粒子ビームの非点補正においては、
直交する2つの方向の非点補正値を変化させ、各非点補
正値ごとに各走査方向でフォーカスが合ったときのレン
ズ値を各々記憶すると共に、各非点補正値ごとに試料上
で荷電粒子ビームを走査し、走査に応じて試料から得ら
れた信号を微分し、フォーカスが合ったときの微分波形
の波高値を記憶し、記憶された両走査方向のレンズ値変
化から両者が一致するレンズ値に対応した非点補正値a
を求め、微分波形の波高値の変化から波高値のピークが
得られたときの非点補正値bを求め、非点補正器に(a
+b)/2の非点補正値をセットするようにしたので、
自動的に簡単に短時間に荷電粒子ビームの非点の補正を
行うことができる。また、荷電粒子ビームの偏向領域に
おいても、荷電粒子ビームの偏向角に応じてダイナミッ
クに非点の補正を行うことが可能となる。
【0030】また、請求項3に基づく荷電粒子ビームの
非点補正においては、前記請求項1および2の発明にお
いて、bの値を両走査方向のそれぞれの微分波形の波高
値のピークが得られたときの非点補正値の中間値とした
ので、2つの方向で微分波高値のピーク位置が相違して
いても自動的に非点の補正を行うことができる。
【0031】更に、請求項4に基づく荷電粒子ビームの
非点補正においては、第1と第2の方向の非点補正器へ
の非点補正値のセットと、第3と第4の方向の非点補正
器への非点補正値のセットを繰り返し行うようにしたの
で、非点補正の精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に基づく方法を実施するための電子ビー
ム装置の一例を示す図である。
【図2】非点補正コイルの光軸に対する配置を示す図で
ある。
【図3】検出信号波形と微分波形を示した図である。
【図4】検出信号波形と微分波形を示した図である。
【図5】非点補正値に対するフォーカス値変化と最大微
分波高値変化を示す図である。
【図6】非点補正値に対するフォーカス値変化と最大微
分波高値変化を示す図である。
【符号の説明】
1 電子銃 2 集束レンズ 3 対物レンズ 4 試料 5 コンピュータ 6 対物レンズ制御ユニット 7 偏向器 8 電子ビーム偏向ユニット 9 増幅器 10 非点補正コイル 11 非点補正値コントロールユニット 12 2次電子検出器 13 増幅器 14 微分ユニット 15 波形メモリー 16 メモリー

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の方向と第1の方向と直交する第2
    の方向に走査する荷電粒子ビームの第1および第2の方
    向の非点補正を行うための非点補正器に対し、異なった
    複数の非点補正値をセットし、各非点補正値ごとに集束
    レンズによって荷電粒子ビームのフォーカス合わせを行
    い、各非点補正値ごとに各走査方向でフォーカスが合っ
    たときのレンズ値を各々記憶すると共に、各非点補正値
    ごとに試料上で荷電粒子ビームを走査し、走査に応じて
    試料から得られた信号を微分し、フォーカスが合ったと
    きの微分波形の波高値を記憶し、記憶された両走査方向
    のレンズ値変化から両者が一致するレンズ値に対応した
    非点補正値aを求め、微分波形の波高値の変化から波高
    値のピークが得られたときの非点補正値bを求め、非点
    補正器に(a+b)/2の非点補正値をセットするよう
    にした荷電粒子ビームの非点補正方法。
  2. 【請求項2】 第1の方向と第1の方向と直交する第2
    の方向に走査する荷電粒子ビームの第1および第2の非
    点補正を行うための非点補正器に対し、異なった複数の
    非点補正値をセットし、各非点補正値ごとに集束レンズ
    によって荷電粒子ビームのフォーカス合わせを行い、各
    非点補正値ごとに各走査で向にフォーカスが合ったとき
    のレンズ値を各々記憶すると共に、各非点補正値ごとに
    試料上で荷電粒子ビームを走査し、走査に応じて試料か
    ら得られた信号を微分し、フォーカスが合ったときの微
    分波形の波高値を記憶し、記憶された両走査方向のレン
    ズ値変化から両者が一致するレンズ値に対応した非点補
    正値aを求め、微分波形の波高値の変化から波高値のピ
    ークが得られたときの非点補正値bを求め、前記第1と
    第2の方向の非点補正器に(a+b)/2の非点補正値
    をセットするステップと、次に、第1の方向と45°傾
    斜した第3の方向と第3の方向に直交する第4の方向の
    非点補正器に対し、第1と第2の方向の非点補正器に対
    して非点補正値をセットする前記ステップと同様のステ
    ップで非点補正値をセットするようにした荷電粒子ビー
    ムの非点補正方法。
  3. 【請求項3】 bの値を両走査方向のそれぞれの微分波
    形の波高値のピークが得られたときの非点補正値の中間
    値とした請求項1および2記載の荷電粒子ビームの非点
    補正方法。
  4. 【請求項4】 第1と第2の方向の非点補正器への非点
    補正値のセットと、第3と第4の方向の非点補正器への
    非点補正値のセットを繰り返し行うようにした請求項2
    記載の荷電粒子ビームの非点補正方法。
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WO2008082000A1 (en) * 2006-12-29 2008-07-10 Ricoh Company, Ltd. Aberration evaluation pattern, aberration evaluation method, aberration correction method, electron beam drawing apparatus, electron microscope, master, stamper, recording medium, and structure
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