JPH08306331A

JPH08306331A - 荷電粒子線照射装置

Info

Publication number: JPH08306331A
Application number: JP7106252A
Authority: JP
Inventors: Hiroyasu Shimizu; 弘泰清水
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1995-04-28
Filing date: 1995-04-28
Publication date: 1996-11-22

Abstract

(57)【要約】【目的】集束レンズに追加して静電レンズを設けた構
成であっても、静電レンズの印加電圧を変化させる毎に
非点収差補正器の補正値を調整する必要がない荷電粒子
線照射装置を提供する。【構成】集束レンズ４と、集束レンズ４とは別の静電
レンズ６と、非点収差補正器８と、を備えた荷電粒子線
照射装置において、静電レンズ６の印加電圧と、非点収
差が許容範囲に収まるときの非点収差補正器８の補正値
とを対応付ける規則を記憶したメモリ１５ａと、装置の
特定の使用条件に対応して非点収差補正器８の補正値が
設定された状態から静電レンズ６の印加電圧が変更され
たときメモリ１５ａが記憶する規則に従って変更後の印
加電圧に対応する非点収差補正器８の補正値を特定し、
その特定された値に非点収差補正器８の補正値を設定す
る制御装置１５とを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば走査型電子顕微
鏡のように目標物へ荷電粒子線を照射する装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】図７は走査型電子顕微鏡の一例を示すも
のである。この図において１は電子線源であって、そこ
から放射された電子線２は照射レンズ３および対物レン
ズ４により集束作用を受けて試料５上で焦点を結ぶ。制
御電源１２から偏向器７に与えられる励磁電流の変化に
応じて試料５が電子線２で二次元的に走査され、その際
に放出される反射電子、二次電子や試料５に吸収された
電流が不図示の検出器で検出される。この検出器の検出
信号に基づいて試料５の像が形成される。ここで、上記
の顕微鏡では、光学系の各種の構成部品の加工誤差や組
立て誤差、あるいは使用に伴う汚れ等で非点収差が生じ
るため非点収差補正器８を備える。この非点収差補正器
８は、制御電源１０からの励磁電流に応じた非対称磁場
を電子線２の軌道上に生じさせて非点収差を補正する。
また、最近では対物レンズ４の近傍に静電レンズ６を追
加したものがある。制御電源１３から静電レンズ６に正
の電圧を印加すると、試料５からの二次電子が加速さ
れ、微小な孔（例えば半導体集積回路のコンタクトホー
ル）等でも明瞭に観察できる。なお、図７において９は
電子線源１からの電子線２の放射を制御する制御電源、
１１は照射レンズ３の励磁電流を制御する制御電源、１
４は対物レンズ４の励磁電流を制御する制御電源であ
る。

【０００３】また、いわゆる環境制御型の電子顕微鏡で
も対物レンズと試料との間に静電レンズが介装される。
その一例を図８により説明する。この例では、電子線源
（不図示）を収納した真空容器２０の下端に、電子線を
通過させるアパーチャ２１ａを備えたアパーチャプレー
ト２１が絶縁体２２を介して装着され、これらの外側に
集束レンズとしての対物レンズ２３が配置されている。
試料２４の観察時には、可変電源２５からアパーチャプ
レート２１に正の電圧が印加され、かつアパーチャプレ
ート２１と試料２４との間に二次電子の増幅作用を有す
る気体（例えば水蒸気）が供給される。この状態で試料
２４に電子線が照射されると、試料２４から放出された
二次電子がアパーチャプレート２１の電場と水蒸気等と
によって増幅されてアパーチャプレート２１に取り込ま
れ、さらにアンプ２６を介して不図示の処理装置へ導か
れる（例えば特開平６−６０８４１号公報）。この例で
はアパーチャプレート２１が二次電子の検出器と静電レ
ンズとを兼ねている。

【０００４】以上の他にも、電子顕微鏡等の光学系の動
的焦点補正や自動焦点合わせを電磁式の集束レンズの励
磁電流の調整で行なうと応答性が悪いため、集束レンズ
とは別に静電レンズを追加し、その印加電圧を調整して
焦点調整を行なう例がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、集束レ
ンズとは別に静電レンズを設けた場合、集束レンズの軸
と静電レンズの軸とが一致しないことがある。この場
合、非点収差補正器にて非点収差を補正した状態から静
電レンズの電圧が変化すると、上記の軸ずれに起因して
非点収差が発生し、非点収差補正器の補正値を再調整す
る必要があった。

【０００６】本発明の目的は、集束レンズに追加して静
電レンズを設けた構成であっても、静電レンズの印加電
圧を変化させる毎に非点収差補正器の補正値を手動調整
する必要がない荷電粒子線照射装置を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】一実施例を示す図１に対
応付けて説明すると、請求項１の発明は、荷電粒子線に
集束作用を与える集束レンズ４と、集束レンズ４とは別
に設けられ、印加電圧に応じた電場を荷電粒子線の軌道
上に生じさせる静電レンズ６と、非点収差補正器８とを
備えた荷電粒子線照射装置に適用される。そして、装置
の特定の使用条件に対応して非点収差補正器８の補正値
が設定された状態から静電レンズ６の印加電圧が変更さ
れたとき、変更後の印加電圧に基づいて非点収差補正器
８の補正値を変更する補正値制御手段１５を設けて上述
した目的を達成する。請求項２の発明は、荷電粒子線に
集束作用を与える集束レンズ４と、集束レンズ４とは別
に設けられ、印加電圧に応じた電場を荷電粒子線の軌道
上に生じさせる静電レンズ６と、非点収差補正器８とを
備えた荷電粒子線照射装置に適用される。そして、静電
レンズ６の印加電圧と、非点収差が許容範囲に収まると
きの非点収差補正器８の補正値とを対応付ける規則を記
憶した記憶手段１５ａと、装置の特定の使用条件に対応
して非点収差補正器８の補正値が設定された状態から静
電レンズ６の印加電圧が変更されたとき、記憶手段１５
ａが記憶する上記規則に従って変更後の印加電圧に対応
する非点収差補正器８の補正値を特定する特定手段１５
と、非点収差補正器８の補正値を特定手段１５にて特定
された値に設定する設定手段１５とを設けて上述した目
的を達成する。請求項３の発明は請求項２の荷電粒子線
照射装置に適用され、静電レンズ６の印加電圧と、非点
収差が許容範囲に収まるときの非点収差補正器８の補正
値との関係が二以上の条件について与えられたとき、当
該与えられた条件に基づいて上記規則を導出する導出手
段１５を設けた。請求項４の発明は請求項２の荷電粒子
線照射装置に適用され、静電レンズ６への印加電圧を非
点収差補正器８の補正値に変換する変換式を、導出手段
１５が上記規則として導出する。請求項５の発明は請求
項２の荷電粒子線照射装置に適用され、設定手段１５に
て非点収差補正器８の補正値が設定された後に静電レン
ズ６の印加電圧が一定のままで非点収差補正器８の補正
値が変更されたとき、当該変更後の補正値に対応して上
記規則を変更する規則変更手段１５を設けた。請求項６
の発明は、荷電粒子線光学系に付設された静電レンズ６
の印加電圧を予め定められた複数の試験値に順次設定
し、上記複数の試験値のそれぞれについて非点収差が許
容範囲に収まるよう荷電粒子線光学系内の非点収差補正
器８の補正値を調整する試験手段１５と、上記複数の試
験値と試験手段１５にて調整された後の非点収差補正器
８の補正値との対応関係に基づいて、静電レンズ６の印
加電圧と、非点収差が許容範囲に収まるときの非点収差
補正器８の補正値とを対応付ける規則を導出する導出手
段１５と、を備えた荷電粒子線照射装置により、上述し
た目的を達成する。なお、本発明にいう静電レンズは、
４極、８極等の電極を荷電粒子線の軌道の回りに配置し
て荷電粒子線を積極的に集束、あるいは拡散させるもの
に限らず、荷電粒子線の軌道に電場を生じさせ、その結
果として荷電粒子線にレンズ作用を与えるものすべてを
含む。例えば図８のアパーチャプレート２１も静電レン
ズに含まれる。

【０００８】

【作用】請求項１の発明では、装置の特定の使用条件に
対応して非点収差補正器８の補正値が設定された状態か
ら静電レンズ６の印加電圧が変更されると、補正値制御
手段１５により変更後の印加電圧に基づいて非点収差補
正器８の補正値が変更される。請求項２の発明では、装
置の特定の使用条件に対応して非点収差補正器８の補正
値が設定された状態から静電レンズ６の印加電圧が変更
されると、記憶手段１５ａの記憶した上記規則に従って
変更後の印加電圧に対する非点収差補正器８の補正値が
特定され、その特定された値に非点収差補正器８の補正
値が設定されて非点収差が許容範囲内に補正される。請
求項３の発明では、静電レンズ６の印加電圧と非点収差
が許容範囲に収まるときの非点収差補正器８の補正値と
の関係を二以上の条件について導出手段１５に与えると
上記規則が導出される。請求項４の発明では、静電レン
ズ６の印加電圧を非点収差補正器８の補正値に変換する
変換式が上記規則として導出される。請求項５の発明で
は、設定手段１５による非点収差補正器８の補正値の設
定後に静電レンズ６の印加電圧が一定のままで非点収差
補正器８の補正値が変更されると、変更後の補正値に対
応して変更手段１５により上記規則が変更される。請求
項６の発明では、試験手段１５により静電レンズ６の印
加電圧を予め定められた複数の試験値に順次設定する
と、各試験値毎に非点収差が許容範囲に収まるよう非点
収差補正器８の補正値が調整される。そして、上記複数
の試験値と試験手段１５にて調整された後の非点収差補
正器８の補正値との対応関係に基づいて、静電レンズ６
の印加電圧と、非点収差が許容範囲に収まるときの非点
収差補正器８の補正値とを対応付ける規則が導出手段１
５にて導出される。

【０００９】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段と作用の項では、本発明を分かり易
くするために実施例の図を用いたが、これにより本発明
が実施例に限定されるものではない。

【００１０】

【実施例】図１〜図６を参照して本発明を走査型電子顕
微鏡に適用した実施例を説明する。図１は本実施例の走
査型電子顕微鏡の概略を示し、図７との共通部分には同
一符号を付してある。図１から明らかなように、本実施
例では上述した図７の走査型電子顕微鏡に制御装置１５
を追加している。この制御装置１５は、静電レンズ６の
印加電圧に応じて非点収差補正器８の励磁電流を変更さ
せるべく図２，図４，図５の処理プログラムを保有す
る。なお、以下の説明では、非点収差補正器８が図６に
示すように、電子線の光軸ＡＸ（図１参照）の回りに９
０゜ピッチで配置される四極のｘ軸補正コイルＣ_xと、
コイルＣ_xに対して光軸Ａｘの回りに４５゜回転させて
配置される四極のｙ軸補正コイルＣ_yとを備えるものと
し、コイルＣ_xに対する励磁電流をＩ_x、コイルＣ_yに対
する励磁電流をＩ_yとする。

【００１１】図２は、静電レンズ６の印加電圧Ｖを非点
収差補正器８の励磁電流（Ｉ_x，Ｉ_y）に変換する変換式
の設定処理を示すフローチャートである。この処理の概
略は、静電レンズ６の印加電圧を予め定めた三つの電圧
Ｖ₁，Ｖ₂，Ｖ₃に順次切換え、各電圧毎に非点収差が解
消される励磁電流（Ｉ_x，Ｉ_y）を検出し、それらの結果
から変換式を求めるものである。以下詳細に説明する。

【００１２】制御装置１５に対して所定の変換式設定指
令が与えられると制御装置１５は図２の処理を開始し、
まずステップＳ１で変数ｉを初期値１に設定し、ステッ
プＳ２で制御電源１３に対して印加電圧Ｖ_iを指示す
る。これにより制御電源１３は指示された電圧Ｖ_iを静
電レンズ１３に印加する。続くステップＳ３では、非点
収差補正器８の制御電源１０を制御して非点収差補正処
理を行なう。この非点収差補正処理としては、例えば非
点収差補正器８の励磁電流（Ｉ_x，Ｉ_y）の一方（例えば
Ｉ_x）を固定した状態で他方（例えばＩ_y）を変化させつ
つ電子線のビーム径を検出してビーム径が最小となる位
置で他方の励磁電流Ｉ_yを固定し、次いで一方Ｉ_xの励磁
電流を変化させつつビーム径を検出してビーム径が最小
となる位置で一方の励磁電流Ｉ_xを固定する方法がある
（例えば特開平６−３３３５２６号公報参照）。その他
にも、電子線が試料面で焦線を結ぶときの励磁電流を二
方向の焦線のそれぞれについて検出し、検出された二組
の励磁電流の平均値を採る方法など各種の方法を選択し
てよい。なお、非点収差補正処理でどの程度まで非点収
差を補正するか、すなわち非点収差の許容範囲は顕微鏡
に要求される観察精度等に応じて適宜設定する。また、
電子線のビーム径は、例えば偏向器７の励磁電流を変化
させて試料５を電子線で走査し、試料５の特定のエッジ
を電子線が横切るときの試料５からの反射電子や二次電
子の強度変化を検出すれば特定できる。

【００１３】非点収差補正処理が終了するとステップＳ
４へ進み、その時点での非点収差補正器８の励磁電流
（Ｉ_xi，Ｉ_yi）を制御電源１０から読み込み、制御装置
１５に付設されたメモリ１５ａに記憶する。次のステッ
プＳ５では、印加電圧Ｖ₁，Ｖ₂，Ｖ₃のすべてについて
検出が終了したか否かを、変数ｉが３か否かによって判
断する。ステップＳ５で否定判断したときはステップＳ
６で変数ｉに１を加算してステップＳ２へ戻り、ステッ
プＳ５で肯定判断したときはステップＳ７へ進んで変換
式を導出し、導出された変換式をメモリ１５ａに記憶し
て変換式設定処理を終了する。

【００１４】ここで、図３を参照して上記の変換式を説
明する。静電レンズ６の電圧Ｖ₁，Ｖ₂，Ｖ₃に対して非
点収差が補正されたときの非点収差補正器８の励磁電流
を、それぞれ（Ｉ_x1，Ｉ_y1），（Ｉ_x2，Ｉ_y2），
（Ｉ_x3，Ｉ_y3）としたとき、これらの条件から静電レン
ズ６の電圧Ｖと非点収差補正器８の励磁電流（Ｉ_x，
Ｉ_y）との関係は図３に示す二次曲線で近似できる。な
お、図３（ａ）は電圧Ｖと励磁電流Ｉ_xとの関係を、図
３（ｂ）は電圧Ｖと励磁電流Ｉ_yとの関係をそれぞれ示
す。そして、図３の関係を式で表現すれば、

【数１】となる。ただし、

【数２】である。図２のステップＳ７では上記の式を変換式とし
て導出し、記憶する。

【００１５】なお、図２の処理を開始する際の上記の変
換式設定指令は、例えば制御装置１５に付設された不図
示の指令器からオペレータが適宜入力し、あるいは顕微
鏡の稼動時間が一定時間に達する毎または顕微鏡が立ち
上げられる毎に自動的に指令を与える。

【００１６】次に、図４に示す補正値設定処理を説明す
る。制御電源１３から静電レンズ６へ印加される電圧が
変更されると制御装置１５は図４の処理を開始する。な
お、この電圧の変更は、上述した図２の処理における電
圧Ｖ₁，Ｖ₂，Ｖ₃の切換えとは別の目的（例えば感度変
更）で行なわれるものである。図４の処理では、まずス
テップＳ１１で制御電源１３から変更後の電圧Ｖを読み
込み、ステップＳ１２で先に求めた変換式に従って電圧
Ｖに対応した励磁電流（Ｉ_x，Ｉ_y）を算出し、ステップ
Ｓ１３で算出された励磁電流（Ｉ_x，Ｉ_y）を非点収差補
正器８の制御電源１０に指示する。これにより、指示さ
れた励磁電流（Ｉ_x，Ｉ_y）が制御電源１０から非点収差
補正器８に与えられる。以上により、静電レンズ６の印
加電圧が変更される毎に上記の変換式に従って非点収差
が許容範囲内に補正されるよう非点収差補正器８の補正
値が自動的に設定変更される。なお、図４の処理が開始
された時点で変換式が制御装置１５のメモリ１５ａに記
憶されていない場合には、図４の処理を一旦中断して図
２の処理を実行すればよい。

【００１７】図４の処理を経た後に、非点収差が残る等
の理由で非点収差補正器８の励磁電流（Ｉ_x，Ｉ_y）がオ
ペレータにて手動調整された場合、制御装置１５は図５
の変換式変更処理を開始する。この処理ではステップＳ
２１で制御電源１３から静電レンズ６の印加電圧（仮に
Ｖ₄とする）を、制御電源１０から非点収差補正器８の
励磁電流（仮にＩ_x4，Ｉ_y4とする）を読み込み、続くス
テップＳ２２で下式のように変換式を変更する。

【数３】

【００１８】以上の実施例では、対物レンズ４が集束レ
ンズを、制御装置１５が補正値制御手段、特定手段、設
定手段、導出手段、規則変更手段および試験手段を、制
御装置１５のメモリ１５ａが記憶手段を、それぞれ構成
する。より詳しくは、図２のステップＳ１〜ステップＳ
６が試験手段を、ステップＳ７が導出手段を、図４の処
理全体が補正値制御手段を、図４のステップＳ１１およ
びＳ１２が特定手段を、ステップＳ１３が設定手段を、
図５の処理全体が規則変更手段をそれぞれ構成する。ま
た、励磁電流（Ｉ_x，Ｉ_y）が非点収差補正器の補正値に
相当する。なお、実施例では変換式を求める際の電圧設
定や非点収差の補正を自動化したが、それらの操作の一
方または両方をオペレータが手動にて実施し、電圧Ｖ_i
と励磁電流（Ｉ_xi，Ｉ_yi）との関係を制御装置１５に入
力してもよい。変換式を計算機シュミレーション等で予
め求めて制御装置１５に与えることで、図２の処理その
ものを省略してもよい。

【００１９】実施例では静電レンズ６の電圧Ｖと非点収
差補正器８の励磁電流（Ｉ_x，Ｉ_y）との関係を三つの条
件（電圧Ｖ₁，Ｖ₂，Ｖ₃）について測定し、それらの結
果から二次式を求めたが、変換式を決定する際の非点収
差補正の精度が十分でかつ非点収差の変化を直線で近似
できるときは二条件で変換式を求めてよい。直線で近似
できないときでもスプライン関数等の補間によって非点
収差を補正できる。非点収差の補正精度が十分でないと
きは多数の条件を設定し、最小二乗法等で近似するとよ
い。本発明は図１の構成の走査型電子顕微鏡に限らず、
その他にも集束レンズと静電レンズとが別々に設けられ
た各種の装置、例えば図８のような環境制御型の電子顕
微鏡、に適用できる。

【００２０】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１〜請求項
５の発明によれば、静電レンズの印加電圧が変更される
と、これに対応して非点収差が許容範囲に収まるように
非点収差補正器の補正値が自動的に変更されるから、静
電レンズの印加電圧が変更される毎に非点収差補正器の
補正値を手動で調整しなくても荷電粒子線のビーム径を
最小領域まで絞り込み、装置の性能（例えば電子顕微鏡
の分解能）を常に最大限に引き出すことができる。特に
請求項２の発明では、静電レンズの印加電圧と非点収差
補正器の補正値とを対応付ける規則を予め記憶手段に記
憶させているので、静電レンズの変更後の印加電圧に対
応した非点収差補正器の補正値を迅速に特定して非点収
差の補正を短時間で終了できる。請求項３の発明では、
静電レンズの印加電圧と非点収差補正器の補正値との関
係を二以上の条件について与えるだけで請求項２の規則
が導出されるので、規則の初期設定や変更が必要なとき
でも迅速に対応でき、導出された規則を記憶手段１５ａ
に記憶させるだけで請求項２の発明の作用が得られるよ
うになる。請求項４の発明では、静電レンズの印加電圧
と非点収差補正器の補正値とを対応付ける規則が変換式
の型で与えられるので、印加電圧の設定変更に対して非
点収差補正器の補正値を容易に特定できる。複雑なテー
ブル形式やグラフ形式で規則を定義する場合と比べて記
憶手段を簡素化できる。請求項５の発明では、非点収差
補正器の補正値が設定された後の補正値の変更を上記規
則に反映させて非点収差の補正精度を高めることができ
る。請求項６の発明では、静電レンズの印加電圧と、非
点収差が許容範囲に収まるときの非点収差補正器の補正
値とを対応付ける規則を求めるために必要な操作が自動
化され、上記規則の初期設定や変更が容易に行なえる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る走査型電子顕微鏡の概略
を示す図。

【図２】図１の制御装置にて実行される変換式設定処理
を示すフローチャート。

【図３】図１の装置における静電レンズの印加電圧と非
点収差補正器の励磁電流との関係を近似的に示す図。

【図４】図１の制御装置にて実行される補正値設定処理
を示すフローチャート。

【図５】図１の制御装置にて実行される変換式変更処理
を示すフローチャート。

【図６】図１の非点収差補正器の例を示す図。

【図７】走査型電子顕微鏡の一般例を示す図。

【図８】環境制御型の電子顕微鏡の一例を示す図。

【符号の説明】

１電子線源２電子線３照射レンズ４対物レンズ５試料６静電レンズ７偏向器８非点収差補正器９，１０，１１，１２，１３，１４制御電源１５制御装置１５ａ制御装置のメモリ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】荷電粒子線に集束作用を与える集束レン
ズと、前記集束レンズとは別に設けられ、印加電圧に応じた電
場を前記荷電粒子線の軌道上に生じさせる静電レンズ
と、非点収差補正器と、を備えた荷電粒子線照射装置におい
て、装置の特定の使用条件に対応して前記非点収差補正器の
補正値が設定された状態から前記静電レンズの印加電圧
が変更されたとき、変更後の印加電圧に基づいて前記非
点収差補正器の前記補正値を変更する補正値制御手段を
設けたことを特徴とする荷電粒子線照射装置。
【請求項２】荷電粒子線に集束作用を与える集束レン
ズと、前記集束レンズとは別に設けられ、印加電圧に応じた電
場を前記荷電粒子線の軌道上に生じさせる静電レンズ
と、非点収差補正器と、を備えた荷電粒子線照射装置におい
て、前記静電レンズの印加電圧と、非点収差が許容範囲に収
まるときの前記非点収差補正器の補正値とを対応付ける
規則を記憶した記憶手段と、装置の特定の使用条件に対応して前記非点収差補正器の
前記補正値が設定された状態から前記静電レンズの印加
電圧が変更されたとき、前記記憶手段が記憶する前記規
則に従って変更後の印加電圧に対応する前記非点収差補
正器の前記補正値を特定する特定手段と、前記非点収差補正器の前記補正値を前記特定手段にて特
定された値に設定する設定手段と、を設けたことを特徴
とする荷電粒子線照射装置。
【請求項３】前記静電レンズの印加電圧と、非点収差
が許容範囲に収まるときの前記非点収差補正器の補正値
との関係が二以上の条件について与えられたとき、当該
与えられた条件に基づいて前記規則を導出する導出手段
を設けたことを特徴とする請求項２記載の荷電粒子線照
射装置。
【請求項４】前記静電レンズへの印加電圧を前記非点
収差補正器の前記補正値に変換する変換式を、前記導出
手段が前記規則として導出することを特徴とする請求項
３記載の荷電粒子線照射装置。
【請求項５】前記設定手段にて前記非点収差補正器の
前記補正値が設定された後に前記静電レンズの前記印加
電圧が一定のままで前記非点収差補正器の前記補正値が
変更されたとき、当該変更後の前記補正値に対応して前
記規則を変更する規則変更手段を設けたことを特徴とす
る請求項２記載の荷電粒子線照射装置。
【請求項６】荷電粒子線光学系に付設された静電レン
ズの印加電圧を予め定められた複数の試験値に順次設定
し、前記複数の試験値のそれぞれについて非点収差が許
容範囲に収まるよう前記荷電粒子線光学系内の非点収差
補正器の補正値を調整する試験手段と、前記複数の試験値と前記試験手段にて調整された後の前
記非点収差補正器の前記補正値との対応関係に基づい
て、前記静電レンズの印加電圧と、非点収差が許容範囲
に収まるときの前記非点収差補正器の補正値とを対応付
ける規則を導出する導出手段と、を備えたことを特徴と
する荷電粒子線照射装置。