JP3112548B2 - 荷電粒子ビーム装置における像信号処理方法 - Google Patents

荷電粒子ビーム装置における像信号処理方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、適切に荷電粒子ビーム
の焦点合わせや非点補正を行うことができる荷電粒子ビ
ーム装置における像信号処理方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図1は従来の走査電子顕微鏡における焦
点合わせと非点補正を行う構成を示しており、1は電子
銃である。電子銃1から発生した電子ビームEBは、集
束レンズ2と対物レンズ3によって試料4上に細く集束
される。また、電子ビームEBは、偏向コイル5によっ
て偏向され、試料4上の電子ビームの照射位置は走査さ
れる。試料4への電子ビームの照射によって発生した2
次電子は、2次電子検出器6によって検出される。検出
器6の検出信号は、増幅器7によって増幅された後、ハ
イパスフィルタ8と陰極線管9に供給される。ハイパス
フィルタ8を通過した信号は、絶対値回路10を経て積
分器11に供給される。積分器11の積分結果は、AD
変換器12を介してピーク検出回路13に供給される。
ピーク検出回路13で検出されたヒーク値は、制御回路
14に供給される。15は操作盤であり、操作盤15
は、制御回路14に指示信号を送る。制御回路14は、
対物レンズ3の駆動電源16と偏向コイル5の駆動電源
17、さらには、電子ビームの非点補正コイル18の駆
動電源19を制御する。このような構成の動作は次の通
りである。
【0003】通常の2次電子像を観察する場合、操作盤
15からの指示信号に基づき、制御回路14は駆動電源
17を制御し、駆動電源17から所定の走査信号が偏向
コイル5に供給され、試料4上の任意の領域が電子ビー
ムEBによって走査される。試料4への電子ビームの照
射によって発生した2次電子は、検出器6によって検出
される。その検出信号は、増幅器7を介して偏向コイル
5への走査信号と同期した陰極線管9に供給され、陰極
線管9には試料の任意の領域の2次電子像が表示され
る。
【0004】次に、通常の電子ビームの焦点合わせ動作
を行う場合について説明する。操作盤15を操作し、焦
点合わせモードの指示を行うと、制御回路14は、対物
レンズ3の駆動電源16と偏向コイル5の駆動電源17
とを制御する。この結果、駆動電源16は対物レンズ3
にステップ状に変化する励磁電流を供給し、駆動電源1
7はステップ状の励磁電流の変化の都度、試料の所定領
域の走査を行うための走査信号を偏向コイル5に供給す
る。各ステップ状の励磁電流によるフォーカスの状態に
おける検出器6によって検出された2次電子信号は、増
幅器7によって増幅された後、ハイパスフィルタ8によ
って直流分が除去された後、絶対値回路10によって正
の信号に変換させられる。絶対値回路10の出力は、積
分器11に供給され、対物レンズ3の各励磁ステップご
との1回の電子ビームの走査に基づく信号が積分され
る。積分器11の積分値は、AD変換器12によってデ
ィジタル信号に変換された後、ピーク検出回路13に供
給される。
【0005】ピーク検出回路13においては、対物レン
ズ3の各励磁ステップごとに積分器11の積分値を記憶
する。図2はこのときの記憶された積分値変化を示して
おり、縦軸が積分値、横軸が対物レンズ3の励磁強度で
ある。ピーク検出回路13は、記憶された積分値の変化
曲線のピークの時の対物レンズ3の励磁強度を検出し、
その値は制御回路14に供給される。制御回路14は、
駆動電源16を制御し、ピークの時の励磁強度に対物レ
ンズ3を設定し、このようにして焦点合わせ動作が行わ
れる。
【0006】次に、通常の電子ビームの非点補正動作を
行う場合について説明する。操作盤15を操作し、非点
補正モードの指示を行うと、制御回路14は、非点補正
コイル18の駆動電源19と偏向コイル5の駆動電源1
7とを制御する。この結果、駆動電源19は非点補正コ
イル18にステップ状に変化する非点補正電流を供給
し、駆動電源17はステップ状の非点補正電流の変化の
都度、試料の所定領域の走査を行うための走査信号を偏
向コイル5に供給する。各ステップ状の非点補正電流に
よる電子ビームの非点の状態における検出器6によって
検出された2次電子信号は、増幅器7によって増幅され
た後、ハイパスフィルタ8によって直流分が除去された
後、絶対値回路10によって正の信号に変換させられ
る。絶対値回路10の出力は、積分器11に供給され、
非点補正コイル18による各非点のステップごとの1回
の電子ビームの走査に基づく信号が積分される。積分器
11の積分値は、AD変換器12によってディジタル信
号に変換された後、ピーク検出回路13に供給される。
【0007】ピーク検出回路13においては、非点補正
コイル18の各非点ステップごとに積分器11の積分値
を記憶する。図3はこのときの記憶された積分値変化を
示しており、縦軸が積分値、横軸が非点補正コイル18
への非点補正電流値である。ピーク検出回路13は、記
憶された積分値の変化曲線のピークの時の非点補正電流
値を検出し、その値は制御回路14に供給される。制御
回路14は、ピークの時の非点補正電流が非点補正コイ
ル18に供給されるように駆動電源19を制御し、この
ようにして非点補正動作が行われる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上述した焦点合わせに
おいては、例えば、図4に示すように、試料の凹凸に方
向性がない場合には問題ないが、図5に示すように試料
の凹凸に方向性があると、最適な位置で焦点合わせや非
点の補正動作を行うことができなくなる。すなわち、図
5に示すように試料の凹凸が縦方向に伸びておりその伸
びた方向と電子ビームの非点による伸びの方向が一致し
ていると、非点があるにもかかわらず、その時に2次電
子の像信号の積分値が最大となり、焦点合わせが正確に
行われていない状態や非点が補正されていない状態で信
号処理上は最適補正が成されたことになってしまう。
【0009】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、試料の表面形状に方向性がある場
合にも、正確に焦点合わせや非点補正を行うことができ
る荷電粒子ビームにおける像信号処理方法を実現するに
ある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明に基づく荷電粒子
ビーム装置における像信号処理方法は、荷電粒子ビーム
を試料上に集束するための集束レンズと、試料上の荷電
粒子ビームの照射位置を走査するための走査手段と、試
料への荷電粒子ビームの照射によって得られた信号を検
出する検出器とを備えた荷電粒子ビーム装置において、
検出器によって検出された信号を画像メモリに記憶さ
せ、画像メモリに記憶された各画素信号に対し、異なっ
た方向について境界を検出するための複数の境界検出空
間フィルタ演算を施し、その演算結果につき、画素絶対
値総和演算を行うようにしたことを特徴としている。
【0011】
【作用】本発明に基づく荷電粒子ビーム装置における像
信号処理方法は、像信号を画像メモリに記憶させ、画像
メモリに記憶された各画素信号に対し、異なった方向に
ついて境界を検出するための複数の境界検出空間フィル
タ演算を施し、その演算結果につき、画素絶対値総和演
算を行う。
【0012】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図6は、本発明の方法を実施するための走
査電子顕微鏡の一例を示しており、図1に示した走査電
子顕微鏡と同一部分には同一番号を付してその詳細な説
明は省略する。図6の走査電子顕微鏡において、2次電
子検出器6の検出信号は、増幅器7によって増幅された
後、AD変換器21に供給されてディジタル信号に変換
される。このAD変換器21の出力信号は、フレームメ
モリ22に供給され記憶される。メモリ22に記憶され
た各画素信号は、逐次読み出され、境界検出空間フィル
タ演算器23に供給されて演算される。演算器23の演
算結果は、画素絶対値総和演算器24に供給されて総和
演算が行われ、総和演算結果は、ピーク検出回路25に
供給される。このような構成の動作は次の通りである。
【0013】まず、電子ビームの焦点合わせ動作を行う
場合について説明する。操作盤17を操作し、焦点合わ
せモードの指示を行うと、制御回路14は、対物レンズ
3の駆動電源16と偏向コイル5の駆動電源17とを制
御する。この結果、駆動電源16は対物レンズ3にステ
ップ状に変化する励磁電流を供給し、駆動電源17はス
テップ状の励磁電流の変化の都度、試料の所定領域の操
作を行うための走査信号を偏向コイル5に供給する。各
ステップ状の励磁電流によるフォーカスの状態における
検出器6によって検出された2次電子信号は、増幅器7
によって増幅された後、AD変換器21によってディジ
タル信号に変換され、フレームメモリ22に供給されて
記憶される。フレームメモリ22には、偏向コイル5に
よる1回の試料の所定領域の走査に基づいて得られた検
出信号が記憶される。メモリ22に記憶された各画素信
号は、逐次読み出され、境界検出空間フィルタ演算器2
3に供給される。この演算器は、0°,45°,90
°,135°方向の境界を検出するための4つの3×3
空間フィルタ演算器である。
【0014】演算器23は、まず、0°の境界を検出す
るための演算を行う。図7はこの演算の様子を示したも
ので、図7(a)は、フレームメモリ22に記憶された
2次電子像である。この像の各画素信号は読み出され、
図7(b)の0°の空間フィルタに基づく演算、すなわ
ち、良く知られているたたみ込み積分が施される。この
フィルタにより、演算された結果は図7(c)に示すよ
うに、0°方向の境界が強調されたものとなる。この図
7(c)の像信号は、画素絶対値総和演算器24に供給
され、各画素の値の絶対値が求められると共に、1画面
分の画素の総和(積算値)が求められる。演算器24で
求められた0°方向の境界が強調された像信号の総和
は、ピーク検出回路25に供給されて記憶される。
【0015】同様にして、境界検出空間フィルタ演算器
23は、図8(a),(b),(c)にそれぞれ示した
45°,90°,135°の空間フィルタを用いて、4
5°,90°,135°の各方向の境界を検出し、各方
向の境界像信号はそれぞれが画素絶対値総和演算器24
において総和が求められ、その値はピーク検出回路25
に供給されて記憶される。このように、0°,45°,
90°,135°の4つの方向において対物レンズ3の
各励磁ステップごとに行われる1回の試料の所定領域の
走査ごとに、像信号から境界が検出され、更には、試料
の所定領域の走査ごとに画素絶対値総和演算が行われ
る。図9および図10はこのような演算によって求めら
れた4つの方向ごとの演算結果を示しており、図9のケ
ースは電子ビームに非点がない場合、図10のケースは
非点が存在する場合で、どちらのケースも横軸は対物レ
ンズ3の励磁強度,縦軸は画素絶対値総和である。な
お、図中、Z,Z45,Z90,Z135は、それぞ
れ0°,45°,90°,135°の空間的フィルタを
用いて境界検出が行われ、さらに、演算器24で演算さ
れた画素絶対値総和曲線を示している。
【0016】図9のケースは、電子ビームに非点収差が
ない場合で、いずれの像方向性評価値も最小錯乱円位置
で最大となっている。従って、各波形の中心位置fが正
確な最小錯乱円位置であり、ピーク検出回路25は、こ
のピーク位置fのときの対物レンズ3の励磁強度を検出
し、その値は制御回路14に供給される。制御回路14
は、駆動電源16を制御し、ピークの時の励磁強度に対
物レンズ3を設定し、このようにして焦点合わせ動作が
行われる。図10の非点収差のあるケースでは、最小錯
乱円位置のアンダーフォーカス側とオーバーフォーカス
側で像の歪が直交した方向に出るので、像方向性評価値
が最小錯乱円位置を中心に、両方に分かれて最大値とな
る。従って、最大,最小のピークの中点、または、最も
離れた1組のピークの中点をフォーカス最小錯乱円位置
とする。例えば、ピーク検出回路25は、外側のピーク
とfとを検出し、その中間位置fを正確なフォ
ーカス位置として検出する。ピーク検出回路25で検出
されたfの値は制御回路14に供給され、制御回路1
4は、駆動電源16を制御し、fの時の励磁強度に対
物レンズ3を設定し、焦点合わせを行う。図11は図1
0のケース、すなわち、電子ビームに非点が存在する場
合の焦点合わせ動作における像の歪みを示している。図
11において、左側の像は、図10の最も左側のピーク
のフォーカス位置fにおける像を示し、右側の像は、
図10の最も右側のピークのフォーカス位置fにおけ
る像を示し、真中の像は、fとfの中間位置f
おける歪みのない像を示している。なお、左右の像中の
実線は、検出された境界を示している。
【0017】次に本発明に基づく非点補正動作について
説明する。操作盤15を操作し、非点補正モードの指示
を行うと、制御回路14は、非点補正コイル18の駆動
電源19と偏向コイル5の駆動電源17とを制御する。
この結果、駆動電源19は非点補正コイル18のX方向
の非点補正コイルにステップ状に変化する非点補正電流
を供給し、駆動電源17はステップ状の非点補正電流の
変化の都度、試料の所定領域の走査を行うための走査信
号を偏向コイル5に供給する。各ステップ状の非点補正
電流による電子ビームの非点の状態における検出器6に
よって検出された2次電子信号は、増幅器7によって増
幅された後、AD変換器21によってディジタル信号に
変換され、フレームメモリ22に供給されて記憶され
る。フレームメモリ22には、偏向コイル5による1回
の試料の所定領域の走査に基づいて得られた検出信号が
記憶される。メモリ22に記憶された各画素信号は、逐
次読み出され、境界検出空間フィルタ演算器23に供給
される。この境界検出空間フィルタ演算器23と画素絶
対値総和演算器24における演算動作は、前述した焦点
合わせの際の動作と全く同じであり、その結果、0°,
45°,90°,135°の4つの方向において非点補
正コイル18のステップ状の各非点補正電流ごとに行わ
れる1回の試料の所定領域の走査ごとに、像信号から境
界が検出され、更には、試料の所定領域の走査ごとに画
素絶対値総和演算が行われる。
【0018】図12はこのようにして求められた演算結
果を示しており、横軸がX方向の非点補正電流、縦軸が
画素絶対値総和である。図12のケースでは、像は、非
点収差最適補正値の両側でエッジのはっきりした状態と
なって、それが互いに異なる方向の歪を生じている。従
って、各波形のピーク位置が異なっており、ピーク検出
回路25は、外側のピークxとxとを検出し、その
中間位置xを最適な非点補正位置として検出する。ピ
ーク検出回路25で検出されたxの値は制御回路14
に供給され、制御回路14は、駆動電源19を制御し、
の時の非点補正電流を非点補正コイル19のX方向
の非点補正コイルに供給する。次に、駆動電源19は非
点補正コイル18のY方向の非点補正コイルにステップ
状に変化する非点補正電流を供給し、前記したと同様な
ステップでY方向の非点補正動作を行う。図13は図1
2のケース、すなわち、電子ビームに非点が存在する場
合の非点補正動作における像の歪みを示している。図1
3において、左側の像は、図12の最も左側のピーク位
置xにおける像を、右側の像は、図12の最も右側の
ピーク位置xにおける像を、真中の像は、xとx
の中間位置xにおける非点のない像を示している。な
お、左右の像中の実線は、検出された境界を示してい
る。このようにして、X方向の非点収差の補正を行った
後、同様の手法でY方向の非点収差の補正が行われる。
【0019】以上本発明の一実施例を詳述したが、本発
明はこの実施例に限定されない。例えば、2次電子を検
出したが、反射電子を検出してもよい。また、実施例で
は、走査電子顕微鏡を例に説明したが、イオンビームを
用いた装置などにも本発明を適用することかできる。更
に、境界検出空間フィルタは、3×3の4方向検出用の
フィルタを用いたが、5×5あるいはそれ以上のフィル
タを用い、検出角度を小刻みにしても良い。また、境界
検出空間フィルタ演算や画素絶対値総和演算は、ハード
ウェアで行う必要はなく、全てソフトウェアで実行して
も良い。更には、焦点合わせや非点補正の際、最も外側
の1組のピークを用いたが、最大ピーク同志を用いた
り、最小ピーク同志を用いることは可能である。さらに
また、焦点合わせのため、対物レンズ3の励磁電流を調
整するようにしたが、対物レンズは固定して使用し、補
助レンズを用いてその補助レンズの励磁を変えるように
構成しても良い。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づく荷
電粒子ビーム装置における像信号処理方法は、像信号を
画像メモリに記憶させ、画像メモリに記憶された各画素
信号に対し、異なった方向について境界を検出するため
の複数の境界検出空間フィルタ演算を施し、その演算結
果につき、画素絶対値総和演算を行うようにしたので、
試料の表面形状に方向性がある場合にも、正確にフォー
カス最小錯乱円位置や非点収差補正値を求めることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の走査電子顕微鏡を示す図である。
【図2】対物レンズの励磁強度と積分値との関係を示す
図である。
【図3】非点補正電流と積分値との関係を示す図であ
る。
【図4】表面形状に方向性がない試料像を示す図であ
る。
【図5】表面形状に方向性がある試料像を示す図であ
る。
【図6】本発明の方法を実施するための走査電子顕微鏡
の一例を示す図である。
【図7】0°方向の境界検出空間フィルタ演算の様子を
示す図である。
【図8】45°,90°,135°の空間フィルタを示
す図である。
【図9】画素絶対値総和演算器の演算結果を示す図であ
る。
【図10】画素絶対値総和演算器の演算結果を示す図で
ある。
【図11】焦点合わせ動作における像の歪みを示す図で
ある。
【図12】非点補正動作時の画素絶対値総和演算器の演
算結果を示す図である。
【図13】非点補正動作における像の歪みを示す図であ
る。
【符号の説明】
1 電子銃 2 集束レンズ 3 対物レンズ 4 試料 5 偏向コイル 6 検出器 7 増幅器 9 陰極線管 12 AD変換器 14 制御回路 15 操作盤 16 駆動電源 17 駆動電源 18 非点補正コイル 19 駆動電源 21 AD変換器 22 フレームメモリ 23 境界検出空間フィルタ演算器 24 画素絶対値総和演算器 25 ピーク検出回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 37/21 G06F 17/10 H01J 37/153 H01J 37/22

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 荷電粒子ビームを試料上に集束するため
    の集束レンズと、試料上の荷電粒子ビームの照射位置を
    走査するための走査手段と、試料への荷電粒子ビームの
    照射によって得られた信号を検出する検出器とを備えた
    荷電粒子ビーム装置において、検出器によって検出され
    た信号を画像メモリに記憶させ、画像メモリに記憶され
    た各画素信号に対し、異なった方向について境界を検出
    するための複数の境界検出空間フィルタ演算を施し、そ
    の演算結果につき、画素絶対値総和演算を行うようにし
    た荷電粒子ビーム装置における像信号処理方法。
  2. 【請求項2】 荷電粒子ビームを試料上に集束するため
    の集束レンズと、試料上の荷電粒子ビームの照射位置を
    走査するための走査手段と、試料への荷電粒子ビームの
    照射によって得られた信号を検出する検出器と、試料上
    の荷電粒子ビームの集束状態をステップ状に変化させる
    手段とを備えた荷電粒子ビーム装置において、各集束状
    態のときに試料の所定領域を荷電粒子ビームで走査し、
    その際、検出器によって検出された信号を画像メモリに
    記憶させ、画像メモリに記憶された各画素信号に対し、
    異なった方向について境界を検出するための複数の境界
    検出空間フィルタ演算を施し、その演算結果につき、画
    素絶対値総和演算を行うようにし、各荷電粒子ビームの
    集束状態ごとの画素絶対値総和演算に応じて荷電粒子ビ
    ームの焦点合わせを行うようにした荷電粒子ビーム装置
    における像信号処理方法。
  3. 【請求項3】 荷電粒子ビームを試料上に集束するため
    の集束レンズと、試料上の荷電粒子ビームの照射位置を
    走査するための走査手段と、試料への荷電粒子ビームの
    照射によって得られた信号を検出する検出器と、荷電粒
    子ビームの非点を補正するための非点補正手段と、非点
    補正手段の値をステップ状に変化させる手段とを備えた
    荷電粒子ビーム装置において、各非点補正値のときに試
    料の所定領域を荷電粒子ビームで走査し、その際、検出
    器によって検出された信号を画像メモリに記憶させ、画
    像メモリに記憶された各画素信号に対し、異なった方向
    について境界を検出するための複数の境界検出空間フィ
    ルタ演算を施し、その演算結果につき、画素絶対値総和
    演算を行うようにし、各非点補正値ごとの画素絶対値総
    和演算に応じて荷電粒子ビームの非点補正を行うように
    した荷電粒子ビーム装置における像信号処理方法。
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