JP3453247B2 - 走査電子顕微鏡およびその制御方法 - Google Patents
走査電子顕微鏡およびその制御方法Info
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- JP3453247B2 JP3453247B2 JP12822196A JP12822196A JP3453247B2 JP 3453247 B2 JP3453247 B2 JP 3453247B2 JP 12822196 A JP12822196 A JP 12822196A JP 12822196 A JP12822196 A JP 12822196A JP 3453247 B2 JP3453247 B2 JP 3453247B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ制御
で各レンズの強度を調整したり、非点補正値を設定する
ようにした走査電子顕微鏡に関する。
で各レンズの強度を調整したり、非点補正値を設定する
ようにした走査電子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の走査電子顕微鏡では、電子銃から
の電子ビームをコンデンサレンズと対物レンズにより試
料上に細く集束し、更に、電子ビームを走査コイルによ
り試料上で２次元的に走査している。この走査電子顕微
鏡では、対物レンズの励磁強度を変えてフォーカスの調
整をしたり、非点補正コイルに非点補正値を設定したり
している。
の電子ビームをコンデンサレンズと対物レンズにより試
料上に細く集束し、更に、電子ビームを走査コイルによ
り試料上で２次元的に走査している。この走査電子顕微
鏡では、対物レンズの励磁強度を変えてフォーカスの調
整をしたり、非点補正コイルに非点補正値を設定したり
している。
【０００３】このような電子光学系の各パラメータ制御
は、図１の構成により行っている。図において１はロー
タリーエンコーダやキーボード等の入力装置であり、入
力装置１から入力された信号は、ＣＰＵ２に供給され
る。ＣＰＵ２は入力信号に応じて制御信号を作成し、Ｄ
Ａ変換器３と増幅器４から成る制御回路５に供給する。
制御回路５からの信号は、電子光学系６に供給される。
この電子光学系は、例えば、対物レンズ、非点補正コイ
ル、イメージシフトコイル等である。
は、図１の構成により行っている。図において１はロー
タリーエンコーダやキーボード等の入力装置であり、入
力装置１から入力された信号は、ＣＰＵ２に供給され
る。ＣＰＵ２は入力信号に応じて制御信号を作成し、Ｄ
Ａ変換器３と増幅器４から成る制御回路５に供給する。
制御回路５からの信号は、電子光学系６に供給される。
この電子光学系は、例えば、対物レンズ、非点補正コイ
ル、イメージシフトコイル等である。
【０００４】今、電子光学系６のうちの対物レンズの焦
点距離を調整する場合、入力装置１により焦点距離の変
化量が入力される。ＣＰＵ２は入力信号による焦点距離
に応じたディジタル制御信号を作成し、制御回路５に供
給する。制御回路５ではＤＡ変換器３によりディジタル
制御量をアナログ信号に変換し、増幅器４によって増幅
して電子光学系６のうちの対物レンズに供給する。
点距離を調整する場合、入力装置１により焦点距離の変
化量が入力される。ＣＰＵ２は入力信号による焦点距離
に応じたディジタル制御信号を作成し、制御回路５に供
給する。制御回路５ではＤＡ変換器３によりディジタル
制御量をアナログ信号に変換し、増幅器４によって増幅
して電子光学系６のうちの対物レンズに供給する。
【０００５】非点補正等の電子光学系６の他のパラメー
タを制御する場合にも、前記したと同様な動作で実行さ
れる。このような電子光学系のパラメータ制御におい
て、ディジタル入力手段の１ステップの変化に対し、Ｄ
Ａ変換器３も１ステップ変化させていた。
タを制御する場合にも、前記したと同様な動作で実行さ
れる。このような電子光学系のパラメータ制御におい
て、ディジタル入力手段の１ステップの変化に対し、Ｄ
Ａ変換器３も１ステップ変化させていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記した制御方式で
は、倍率が高い場合も低い場合でも、ディジタル入力手
段の１ステップの変化に対し、ＤＡ変換器３も１ステッ
プ変化させている。ここで、ディジタル入力手段の１ス
テップの変化に対する適切な電子光学系の変化量につい
て考察すると、図２の関係があることが分かる。
は、倍率が高い場合も低い場合でも、ディジタル入力手
段の１ステップの変化に対し、ＤＡ変換器３も１ステッ
プ変化させている。ここで、ディジタル入力手段の１ス
テップの変化に対する適切な電子光学系の変化量につい
て考察すると、図２の関係があることが分かる。
【０００７】すなわち、図２の横軸は倍率であり、縦軸
はパラメータ変化量である。この図から明らかなよう
に、倍率が低くなるにつれて変化量を増す必要がある。
従来は前記したように、入力の１ステップに対してＤＡ
変換器も１ステップ変化させているので、ＤＡ変換器の
１ステップの変化量を高倍率の時に適した値とすると、
低倍率では入力手段を著しく多く変化させねばならず、
操作性が悪い欠点を有している。
はパラメータ変化量である。この図から明らかなよう
に、倍率が低くなるにつれて変化量を増す必要がある。
従来は前記したように、入力の１ステップに対してＤＡ
変換器も１ステップ変化させているので、ＤＡ変換器の
１ステップの変化量を高倍率の時に適した値とすると、
低倍率では入力手段を著しく多く変化させねばならず、
操作性が悪い欠点を有している。
【０００８】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、低倍率の際にも操作性が優れた走
査電子顕微鏡を実現するにある。
もので、その目的は、低倍率の際にも操作性が優れた走
査電子顕微鏡を実現するにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明に基づく
走査電子顕微鏡は、電子ビームを試料上に集束するため
のレンズや試料上の電子ビームの照射位置を走査するた
めの走査手段を備えた電子光学系と、試料への電子ビー
ムの照射によって得られた信号を検出する検出器とを備
えた走査電子顕微鏡において、電子光学系の各パラメー
タを設定する入力装置と、入力装置からの値を演算する
演算手段とを備えており、演算手段は、入力装置から与
えられたパラメータの値の変化量を設定倍率に反比例す
るように演算により変化させ、電子光学系の所定の構成
要素を制御するように構成したことを特徴としている。
走査電子顕微鏡は、電子ビームを試料上に集束するため
のレンズや試料上の電子ビームの照射位置を走査するた
めの走査手段を備えた電子光学系と、試料への電子ビー
ムの照射によって得られた信号を検出する検出器とを備
えた走査電子顕微鏡において、電子光学系の各パラメー
タを設定する入力装置と、入力装置からの値を演算する
演算手段とを備えており、演算手段は、入力装置から与
えられたパラメータの値の変化量を設定倍率に反比例す
るように演算により変化させ、電子光学系の所定の構成
要素を制御するように構成したことを特徴としている。
【００１０】請求項１の発明では、入力装置から与えら
れた電子光学系のパラメータの値の変化量を設定倍率に
反比例するように演算により変化させ、電子光学系の所
定の構成要素を制御する。請求項２の発明に基づく走査
電子顕微鏡は、入力装置からの値の変化量をｘ、倍率を
Ｍ、ｎとｋを装置固有の定数とすると、演算手段は式Ｘ
＝（ｋ／Ｍn ）・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学
系の所定の構成要素を制御するようにしたことを特徴と
している。
れた電子光学系のパラメータの値の変化量を設定倍率に
反比例するように演算により変化させ、電子光学系の所
定の構成要素を制御する。請求項２の発明に基づく走査
電子顕微鏡は、入力装置からの値の変化量をｘ、倍率を
Ｍ、ｎとｋを装置固有の定数とすると、演算手段は式Ｘ
＝（ｋ／Ｍn ）・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学
系の所定の構成要素を制御するようにしたことを特徴と
している。
【００１１】請求項２の発明では、入力装置からの値の
変化量をｘ、倍率をＭ、ｎとｋを装置固有の定数とする
と、式Ｘ＝（ｋ／Ｍn ）・ｘによって求めた値Ｘにより
電子光学系の所定の構成要素を制御する。請求項３の発
明に基づく走査電子顕微鏡の制御方法は、電子ビームを
試料上に集束するためのレンズや試料上の電子ビームの
照射位置を走査するための走査手段を備えた電子光学系
と、電子光学系の各パラメータを設定する入力装置と、
試料への電子ビームの照射によって得られた信号を検出
する検出器とを備えた走査電子顕微鏡を制御する方法で
あって、入力装置から与えられたパラメータの値の変化
量を設定倍率に反比例するように演算により変化させて
電子光学系の所定の構成要素を制御することを特徴とし
ている。請求項３の発明では、入力装置から与えられた
電子光学系のパラメータの値の変化量を設定倍率に反比
例するように演算により変化させ、電子光学系の所定の
構成要素を制御する。請求項４の発明に基づく走査電子
顕微鏡の制御方法は、入力装置からの値の変化量をｘ、
倍率をＭ、ｎとｋを装置固有の定数とすると、式Ｘ＝
（ｋ／Ｍn ）・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学系
の所定の構成要素を制御することを特徴としている。請
求項４の発明では、入力装置からの値の変化量をｘ、倍
率をＭ、ｎとｋを装置固有の定数とすると、式Ｘ＝（ｋ
／Ｍn ）・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学系の所
定の構成要素を制御する。
変化量をｘ、倍率をＭ、ｎとｋを装置固有の定数とする
と、式Ｘ＝（ｋ／Ｍn ）・ｘによって求めた値Ｘにより
電子光学系の所定の構成要素を制御する。請求項３の発
明に基づく走査電子顕微鏡の制御方法は、電子ビームを
試料上に集束するためのレンズや試料上の電子ビームの
照射位置を走査するための走査手段を備えた電子光学系
と、電子光学系の各パラメータを設定する入力装置と、
試料への電子ビームの照射によって得られた信号を検出
する検出器とを備えた走査電子顕微鏡を制御する方法で
あって、入力装置から与えられたパラメータの値の変化
量を設定倍率に反比例するように演算により変化させて
電子光学系の所定の構成要素を制御することを特徴とし
ている。請求項３の発明では、入力装置から与えられた
電子光学系のパラメータの値の変化量を設定倍率に反比
例するように演算により変化させ、電子光学系の所定の
構成要素を制御する。請求項４の発明に基づく走査電子
顕微鏡の制御方法は、入力装置からの値の変化量をｘ、
倍率をＭ、ｎとｋを装置固有の定数とすると、式Ｘ＝
（ｋ／Ｍn ）・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学系
の所定の構成要素を制御することを特徴としている。請
求項４の発明では、入力装置からの値の変化量をｘ、倍
率をＭ、ｎとｋを装置固有の定数とすると、式Ｘ＝（ｋ
／Ｍn ）・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学系の所
定の構成要素を制御する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図３は本発明に基づく走査
電子顕微鏡の一例を示しており、１０は電子銃である。
電子銃１０から発生し加速された電子ビームＥＢは、コ
ンデンサレンズ１１と対物レンズ１２とによって試料１
３上に細く集束される。
施の形態を詳細に説明する。図３は本発明に基づく走査
電子顕微鏡の一例を示しており、１０は電子銃である。
電子銃１０から発生し加速された電子ビームＥＢは、コ
ンデンサレンズ１１と対物レンズ１２とによって試料１
３上に細く集束される。
【００１３】更に、電子ビームＥＢは走査コイル１４に
供給される走査信号により、試料１３上で２次元的に走
査される。試料への電子ビームＥＢの照射によって発生
した２次電子は、検出器１５によって検出される。検出
器１５の検出信号は、増幅されて図示していない陰極線
管に供給され、試料の２次電子像が表示される。
供給される走査信号により、試料１３上で２次元的に走
査される。試料への電子ビームＥＢの照射によって発生
した２次電子は、検出器１５によって検出される。検出
器１５の検出信号は、増幅されて図示していない陰極線
管に供給され、試料の２次電子像が表示される。
【００１４】電子ビームＥＢの光軸に沿って、イメージ
シフトコイル１６，非点補正コイル１７が配置されてい
るが、イメージシフトコイル１６は試料上の電子ビーム
の２次元走査領域を適宜シフトするために用いられ、ま
た、非点補正コイル１７は試料に照射される電子ビーム
の非点を補正するために用いられる。
シフトコイル１６，非点補正コイル１７が配置されてい
るが、イメージシフトコイル１６は試料上の電子ビーム
の２次元走査領域を適宜シフトするために用いられ、ま
た、非点補正コイル１７は試料に照射される電子ビーム
の非点を補正するために用いられる。
【００１５】更に、電子ビームの光軸上には対物レンズ
絞り１８が配置されており、この対物レンズ絞り１８と
電子レンズとによって試料１３に照射される電子ビーム
の電流量と開き角を調整するようにしている。
絞り１８が配置されており、この対物レンズ絞り１８と
電子レンズとによって試料１３に照射される電子ビーム
の電流量と開き角を調整するようにしている。
【００１６】前記電子銃１０は加速電圧制御回路１９に
接続されており、加速電圧制御回路１９により、発生す
る電子ビームの加速電圧が調整される。コンデンサレン
ズ１１はコンデンサレンズ制御回路２０に接続されてお
り、コンデンサレンズ制御回路２０によりコンデンサレ
ンズ１１の励磁強度は調整される。対物レンズ１２は対
物レンズ制御回路２１に接続されており、対物レンズ制
御回路２１により対物レンズ１２の励磁強度は調整され
る。
接続されており、加速電圧制御回路１９により、発生す
る電子ビームの加速電圧が調整される。コンデンサレン
ズ１１はコンデンサレンズ制御回路２０に接続されてお
り、コンデンサレンズ制御回路２０によりコンデンサレ
ンズ１１の励磁強度は調整される。対物レンズ１２は対
物レンズ制御回路２１に接続されており、対物レンズ制
御回路２１により対物レンズ１２の励磁強度は調整され
る。
【００１７】走査コイル１４は走査制御回路２２に接続
されており、走査制御回路２２からの走査信号により電
子ビームを試料上で２次元的に走査する。イメージシフ
トコイル１６はイメージシフトコイル制御回路２３に接
続されており、イメージシフトコイル制御回路２３から
のシフト信号により、電子ビームの走査範囲をシフトす
る。非点補正コイル１７は非点補正コイル制御回路２４
に接続されており、非点補正コイル制御回路２４からの
非点補正信号により、電子ビームの非点の補正を行う。
されており、走査制御回路２２からの走査信号により電
子ビームを試料上で２次元的に走査する。イメージシフ
トコイル１６はイメージシフトコイル制御回路２３に接
続されており、イメージシフトコイル制御回路２３から
のシフト信号により、電子ビームの走査範囲をシフトす
る。非点補正コイル１７は非点補正コイル制御回路２４
に接続されており、非点補正コイル制御回路２４からの
非点補正信号により、電子ビームの非点の補正を行う。
【００１８】上記した各制御回路１９，２０，２１，２
２，２３，２４は、ＣＰＵ２５に接続されており、ＣＰ
Ｕ２５からの信号により制御される。また、ＣＰＵ２５
はロータリエンコーダやキーボード等の入力装置２６に
接続されている。このような構成の動作を次に説明す
る。
２，２３，２４は、ＣＰＵ２５に接続されており、ＣＰ
Ｕ２５からの信号により制御される。また、ＣＰＵ２５
はロータリエンコーダやキーボード等の入力装置２６に
接続されている。このような構成の動作を次に説明す
る。
【００１９】２次電子像を観察する場合、電子銃１０か
らの電子ビームＥＢをコンデンサレンズ１１と対物レン
ズ１２によって試料１３上に細く絞って照射すると共
に、走査コイル１４により試料１３上で電子ビームを２
次元的に走査する。試料１３への電子ビームの照射によ
って発生した２次電子は、２次電子検出器１５によって
検出され、検出器１５の検出信号は、走査信号に同期し
た陰極線管に供給されることから、陰極線管上に２次電
子像が表示される。
らの電子ビームＥＢをコンデンサレンズ１１と対物レン
ズ１２によって試料１３上に細く絞って照射すると共
に、走査コイル１４により試料１３上で電子ビームを２
次元的に走査する。試料１３への電子ビームの照射によ
って発生した２次電子は、２次電子検出器１５によって
検出され、検出器１５の検出信号は、走査信号に同期し
た陰極線管に供給されることから、陰極線管上に２次電
子像が表示される。
【００２０】ここで、観察倍率を変える場合には、入力
装置２６に倍率を設定する。ＣＰＵ２５は、走査コイル
１４に供給される走査信号が設定された倍率に応じた走
査振幅となるように走査コイル制御回路２２を制御す
る。また、電子ビームＥＢの加速電圧を変化させる場合
には、入力装置２６にその電圧を設定する。ＣＰＵ２５
は設定された電圧に応じて加速電圧制御回路１９を制御
する。
装置２６に倍率を設定する。ＣＰＵ２５は、走査コイル
１４に供給される走査信号が設定された倍率に応じた走
査振幅となるように走査コイル制御回路２２を制御す
る。また、電子ビームＥＢの加速電圧を変化させる場合
には、入力装置２６にその電圧を設定する。ＣＰＵ２５
は設定された電圧に応じて加速電圧制御回路１９を制御
する。
【００２１】同様に、イメージシフト量を変化させる場
合や、非点補正量を変化させる場合なども、入力装置２
６に必要なデータを入力し、ＣＰＵ２５によって関連し
た制御回路を制御してそれらを所望の状態とする。
合や、非点補正量を変化させる場合なども、入力装置２
６に必要なデータを入力し、ＣＰＵ２５によって関連し
た制御回路を制御してそれらを所望の状態とする。
【００２２】次に、対物レンズ１２の制御について図４
のフローチャートを参照してより詳細に説明する。例え
ば、試料１３上に照射される電子ビームＥＢのフォーカ
スを調整する場合、入力装置２６にその変化量を入力す
る。この入力ｘはＣＰＵ２５に供給されるが、ＣＰＵ２
５には既に倍率Ｍが設定されている。ＣＰＵ２５は入力
された変化量ｘと倍率Ｍから次の演算を行う。
のフローチャートを参照してより詳細に説明する。例え
ば、試料１３上に照射される電子ビームＥＢのフォーカ
スを調整する場合、入力装置２６にその変化量を入力す
る。この入力ｘはＣＰＵ２５に供給されるが、ＣＰＵ２
５には既に倍率Ｍが設定されている。ＣＰＵ２５は入力
された変化量ｘと倍率Ｍから次の演算を行う。
【００２３】Ｘ＝（ｋ／Ｍn ）・ｘ
ここで、ｋ，ｎは装置固有の定数である。ＣＰＵ２５は
演算によって求めた変化量Ｘをパラメータ変化量として
対物レンズ制御回路２１に供給する。対物レンズ１２の
励磁強度は、このパラメータ変化量Ｘによって変えられ
る。
演算によって求めた変化量Ｘをパラメータ変化量として
対物レンズ制御回路２１に供給する。対物レンズ１２の
励磁強度は、このパラメータ変化量Ｘによって変えられ
る。
【００２４】このように、対物レンズの変化量は倍率Ｍ
に反比例しているので、倍率が小さい場合には変化量が
大きくなり、逆に倍率が高い場合には変化量は小さくな
る。このような演算を行うことにより、図２に示した倍
率に応じた適切な変化量となり、倍率が低い場合に入力
装置２６上で変化量を大きくする煩わしさはなくなり、
装置の操作性を著しく向上させることができる。
に反比例しているので、倍率が小さい場合には変化量が
大きくなり、逆に倍率が高い場合には変化量は小さくな
る。このような演算を行うことにより、図２に示した倍
率に応じた適切な変化量となり、倍率が低い場合に入力
装置２６上で変化量を大きくする煩わしさはなくなり、
装置の操作性を著しく向上させることができる。
【００２５】なお、上記定数ｎは通常１ではなく、１よ
り若干小さい値とすることにより、パラメータの変化量
が倍率に応じた適切な値となることが、実験的に確かめ
られた。
り若干小さい値とすることにより、パラメータの変化量
が倍率に応じた適切な値となることが、実験的に確かめ
られた。
【００２６】上記した説明は、電子光学系のパラメータ
制御をＣＰＵ２５内でソフト的に行う場合についてであ
るが、この動作をハード的に行う例を図５に示す。図に
おいて、ＣＰＵ２５内には入力変化検出回路２７とパラ
メータ変化量演算回路２８が設けられている。また、Ｃ
ＰＵ２５内部のメモリ２９には入力装置２６より倍率Ｍ
が設定される。
制御をＣＰＵ２５内でソフト的に行う場合についてであ
るが、この動作をハード的に行う例を図５に示す。図に
おいて、ＣＰＵ２５内には入力変化検出回路２７とパラ
メータ変化量演算回路２８が設けられている。また、Ｃ
ＰＵ２５内部のメモリ２９には入力装置２６より倍率Ｍ
が設定される。
【００２７】ここで、入力装置２６より対物レンズ１２
の値を設定すると、入力変化検出回路２７は現在の対物
レンズ値と入力された対物レンズ値との変化分ｘを検出
する。この変化分ｘはパラメータ変化量演算回路２８に
供給され、この演算回路では、メモリ２９からの倍率信
号Ｍとにより、Ｘ＝（ｋ／Ｍn ）・ｘが演算される。演
算回路２８で求められた変化量は、対物レンズ制御回路
２１に供給される。
の値を設定すると、入力変化検出回路２７は現在の対物
レンズ値と入力された対物レンズ値との変化分ｘを検出
する。この変化分ｘはパラメータ変化量演算回路２８に
供給され、この演算回路では、メモリ２９からの倍率信
号Ｍとにより、Ｘ＝（ｋ／Ｍn ）・ｘが演算される。演
算回路２８で求められた変化量は、対物レンズ制御回路
２１に供給される。
【００２８】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこの形態に限定されない。例えば、対物レンズの
制御を例に説明したが、イメージシフトコイルや非点補
正コイルなど他の電子光学系のパラメータを変える場合
にも本発明を同様に適用することができる。
発明はこの形態に限定されない。例えば、対物レンズの
制御を例に説明したが、イメージシフトコイルや非点補
正コイルなど他の電子光学系のパラメータを変える場合
にも本発明を同様に適用することができる。
【００２９】
【発明の効果】請求項１の発明に基づく走査電子顕微鏡
では、入力装置から与えられた電子光学系のパラメータ
の値の変化量を設定倍率に反比例するように演算により
変化させ、電子光学系の所定の構成要素を制御するよう
に構成したので、倍率が低い場合でも、入力装置での変
化量を大きくすることなく電子光学系の所定の制御を行
うことができ、装置の操作性を向上させることができ
る。
では、入力装置から与えられた電子光学系のパラメータ
の値の変化量を設定倍率に反比例するように演算により
変化させ、電子光学系の所定の構成要素を制御するよう
に構成したので、倍率が低い場合でも、入力装置での変
化量を大きくすることなく電子光学系の所定の制御を行
うことができ、装置の操作性を向上させることができ
る。
【００３０】請求項２の発明に基づく走査電子顕微鏡で
は、入力装置からの値の変化量をｘ、倍率をＭ、ｎとｋ
を装置固有の定数とすると、式Ｘ＝（ｋ／Ｍn ）・ｘに
よって求めた値Ｘにより電子光学系の所定の構成要素を
制御するように構成したので、倍率が低い場合でも、入
力装置での変化量を大きくすることなく電子光学系の所
定の制御を行うことができ、装置の操作性を向上させる
ことができる。請求項３の発明に基づく走査電子顕微鏡
の制御方法では、入力装置から与えられた電子光学系の
パラメータの値の変化量を設定倍率に反比例するように
演算により変化させ、電子光学系の所定の構成要素を制
御するようにしたので、倍率が低い場合でも、入力装置
での変化量を大きくすることなく電子光学系の所定の制
御を行うことができ、装置の操作性を向上させることが
できる。請求項４の発明に基づく走査電子顕微鏡の制御
方法では、入力装置からの値の変化量をｘ、倍率をＭ、
ｎとｋを装置固有の定数とすると、式Ｘ＝（ｋ／Ｍn ）
・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学系の所定の構成
要素を制御するようにしたので、倍率が低い場合でも、
入力装置での変化量を大きくすることなく電子光学系の
所定の制御を行うことができ、装置の操作性を向上させ
ることができる。
は、入力装置からの値の変化量をｘ、倍率をＭ、ｎとｋ
を装置固有の定数とすると、式Ｘ＝（ｋ／Ｍn ）・ｘに
よって求めた値Ｘにより電子光学系の所定の構成要素を
制御するように構成したので、倍率が低い場合でも、入
力装置での変化量を大きくすることなく電子光学系の所
定の制御を行うことができ、装置の操作性を向上させる
ことができる。請求項３の発明に基づく走査電子顕微鏡
の制御方法では、入力装置から与えられた電子光学系の
パラメータの値の変化量を設定倍率に反比例するように
演算により変化させ、電子光学系の所定の構成要素を制
御するようにしたので、倍率が低い場合でも、入力装置
での変化量を大きくすることなく電子光学系の所定の制
御を行うことができ、装置の操作性を向上させることが
できる。請求項４の発明に基づく走査電子顕微鏡の制御
方法では、入力装置からの値の変化量をｘ、倍率をＭ、
ｎとｋを装置固有の定数とすると、式Ｘ＝（ｋ／Ｍn ）
・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学系の所定の構成
要素を制御するようにしたので、倍率が低い場合でも、
入力装置での変化量を大きくすることなく電子光学系の
所定の制御を行うことができ、装置の操作性を向上させ
ることができる。
【図１】従来の電子光学系のパラメート制御を説明する
ための図である。
ための図である。
【図２】倍率に応じた適切なパラメータ変化量を示す図
である。
である。
【図３】本発明に基づく走査電子顕微鏡の一例を示す図
である。
である。
【図４】図３の装置の動作を説明するためのフローチャ
ートである。
ートである。
【図５】本発明に基づく走査電子顕微鏡の他の例の要部
を示す図である。
を示す図である。
１０ 電子銃
１１ コンデンサレンズ
１２ 対物レンズ
１３ 試料
１４ 走査コイル
１６ イメージシフトコイル
１７ 非点補正コイル
１８ 対物レンズ絞り
１９，２０，２１，２２，２３，２４ 制御回路
２５ ＣＰＵ
２６ 入力装置
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平５−151926（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−248843（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−343019（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−200450（ＪＰ，Ａ)
特開 昭63−193446（ＪＰ，Ａ)
特開 昭52−26154（ＪＰ，Ａ)
特開 平５−102259（ＪＰ，Ａ)
特開 平９−82263（ＪＰ，Ａ)
特開 昭58−5956（ＪＰ，Ａ)
特開 昭55−144640（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H01J 37/153
H01J 37/28
Claims (4)
- 【請求項１】 電子ビームを試料上に集束するためのレ
ンズや試料上の電子ビームの照射位置を走査するための
走査手段を備えた電子光学系と、試料への電子ビームの
照射によって得られた信号を検出する検出器とを備えた
走査電子顕微鏡において、電子光学系の各パラメータを
設定する入力装置と、入力装置からの値を演算する演算
手段とを備えており、演算手段は、入力装置から与えら
れたパラメータの値の変化量を設定倍率に反比例するよ
うに演算により変化させ、電子光学系の所定の構成要素
を制御するように構成した走査電子顕微鏡。 - 【請求項２】 入力装置からの値の変化量をｘ、倍率を
Ｍ、ｎとｋを装置固有の定数とすると、演算手段は式Ｘ
＝（ｋ／Ｍn ）・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学
系の所定の構成要素を制御するようにした請求項１記載
の走査電子顕微鏡。 - 【請求項３】 電子ビームを試料上に集束するためのレ
ンズや試料上の電子ビームの照射位置を走査するための
走査手段を備えた電子光学系と、電子光学系の各パラメ
ータを設定する入力装置と、試料への電子ビームの照射
によって得られた信号を検出する検出器とを備えた走査
電子顕微鏡を制御する方法であって、入力装置から与え
られたパラメータの値の変化量を設定倍率に反比例する
ように演算により変化させて電子光学系の所定の構成要
素を制御する走査電子顕微鏡の制御方法。 - 【請求項４】 入力装置からの値の変化量をｘ、倍率を
Ｍ、ｎとｋを装置固有の定数とすると、式Ｘ＝（ｋ／Ｍ
n ）・ｘによって求めた値Ｘにより電子光学系の所定の
構成要素を制御する請求項３記載の走査電子顕微鏡の制
御方法。
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|---|---|---|---|
| JP12822196A JP3453247B2 (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | 走査電子顕微鏡およびその制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12822196A JP3453247B2 (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | 走査電子顕微鏡およびその制御方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH09312142A JPH09312142A (ja) | 1997-12-02 |
| JP3453247B2 true JP3453247B2 (ja) | 2003-10-06 |
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ID=14979499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12822196A Expired - Fee Related JP3453247B2 (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | 走査電子顕微鏡およびその制御方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3453247B2 (ja) |
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-
1996
- 1996-05-23 JP JP12822196A patent/JP3453247B2/ja not_active Expired - Fee Related
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