JPS63318054A - Ｅｐｍａの測定デ−タ表示方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は、ＥＰＭＡで測定される特定元素のＸ線強度の
プロファイルを画像表示する測定データ表示方法に関す
る。

（ロ）従来技術とその問題点 一般に、ＥＰＭＡを用いて試料に含まれる元素の分布状
態を測定するには、面分析や線分析が行われる。たとえ
ば、線分析を行うには、第６図（ａ）に示すように、電
子ビームを直線状に走査しつつ、試料からの特性Ｘ線を
検出し、同図（ｂ）に示すように、Ｘ線強度を縦軸に、
分析位置を横軸としたプロファイルを描かせることで一
つの直線上に位置する元素の分布状態が測定される。ま
た、電子ビームの照射位置を１ラインずつずらせながら
試料全面に渡るプロファイルを描かせれば、いわゆるエ
アロビュー表示となる。

このように、従来では、特定元素のプロファイルを得る
際には、電子ビームを直線走査することしか行われてい
ない。そのため、得られる情報も一つの直線上に存在す
る元素の分布状態か、あるいは、全面の分布状態かのい
ずれか一つであり、試料上の元素分布に関して固定的な
情報しか得られなかった。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、試料面」−の任意の位置および方向に関する元素の
分布状態をリアルタイツ２、て把握てきるようにするこ
とを目的とする。

（ハ）問題点を解決するための手段 本発明は、上記の目的を達成するために、マウス、トラ
ックボール等の入力装置を適用して試料上の所望の曲線
に沿って分析位置を指定し、その指定された分析位置の
情報に従って電子ビームを走査するとともに、これに同
期してＣＲＴディスプレイのラスターを走査して画面上
に前記電子ビーム走査に対応する軌跡とこの軌跡をベー
スラインとして試料から検出されるＸ線強度のプロファ
イルとを表示するようにした。

（ニ）作用 本発明の測定データ表示方法によれば、試料面上の任意
の位置および方向に関して特定元素のＸ線強度のプロフ
ァイルを画像表示できる。このため、試料表面上の任意
位置と方向における特定元素の濃度分布状態をリアルタ
イムで把握できるようになる。

（ホ）実施例 第１図は本発明を適用するための装置を示す構成図であ
る。同図において、符号ｌはＥＰＭＡ本体、２は試料、
４は電子銃、６は集束レンズ、８は電子ビームを走査す
る走査用コイル、ＩＯは試料２に含まれる元素から発生
ずる特性Ｘ線を検出するＸ線検出器、１２は走査用コイ
ル８に走査電流を供給するスイープ用電源、１４はＣＲ
Ｔディスプレイ、１６はＣＲＴディスプレイ１４に画像
を表示するための表示信号を発生する表示用回路、１８
は試料２上の所望の曲線に沿って分析位置を指定すると
ともに、表示モードの切り換え等の指令信号を入力する
入力装置としてのマウスである。

２０はマウス１８で指定された分析位置の情報を記憶す
る分析位置メモリ、２２は分析位置メモリ２０に記憶さ
れた分析位置の情報に基づいて電子ビーム走査を制御す
るためのスイープ制御信号を出力するとともに、表示用
回路１６の表示動作を制御すコントローラ、２４はコン
トローラ２２の動作制御用の情報が記憶されているＲＯ
Ｍである。

次に、上記構成の装置を適用した本発明の測定データ表
示方法について第２図に示すフローチャ一トを参照して
説明する。

所望の曲線に沿った特定元素のＸ線強度のプロファイル
を描かせるには、試料２上の分析位置を確認してから指
定する必要があるので、たとえば、予めＳＥＭ像（二次
電子像）を表示しておき（ステップ■）、この状態で必
要に応じて写真撮影を行う（ステップ■）。次に、マウ
ス１８を操作して表示モードの切り換え信号をコントロ
ーラ２２に入力し、ＳＥＭ像の表示モードからＸ線強度
のプロファイル表示モードに切り換える（ステップ■）
。これにより、ＣＲＴディスプレイ１４には分析位置指
定用のカーソルが表示されるので（ステップ■）、続い
て、マウス１８を操作してカーソルを移動させつつ試料
２上の所望の分析位置を指定する（ステップ■）。たと
えば、第３図（ａ）〜第５図（ａ）に示すような曲線状
の分析位置を指定する。この指定された分析位置の情報
を一旦分析位置メモリ２０に記憶する（ステップ■）。

次に、コントローラ２２は、上記のようにして指定され
た分析位置の情報を分析位置メモリ２０から読み出し、
この情報に従って電子ビームの走査を制御するスイープ
制御信号を出力する。このスイープ制御信号は、スイー
プ用電源１２と表示用回路１６に共通に与えられる。こ
れにより、走査用コイル８に供給される電流が変化され
るので、電子銃４から照射される電子ビームが試料２面
上の予め指定された分析位置に沿って走査される（ステ
ップ■）。この走査に伴って試料２から特性Ｘ線が発生
するので、これをＸ線検出器ＩＯで検出し、その検出信
号を表示用回路１６に与える。表示用回路１６では、コ
ントローラ２２から与えられたスイープ制御信号にＸ線
検出器１０で得られた検出信号を重畳し、この信号に基
づいてラスター走査を制御する。また、コントローラ２
２は、表示用回路１６を制御して一定周期ごとにスープ
制御信号のみでラスクー走査を制御するようにする。こ
れにより、ＣＲＴディスプレイ１４の画面上には、第３
図（ｂ）〜第５図（ｂ）に示すように、試料２表面を走
査される電子ビームの位置に対応する軌跡とこの軌跡を
ベースラインとしたＸ線強度のプロファイルが表示され
る（ステップ■）。そして、必要に応じてステップで撮
影したＳＥＭ像に対して多重露光により写真撮影を行え
ば、ＳＥＭ像を背景とした特定元素のプロファイルが得
られることになる（ステップ■）。

このように、マウス１８により試料上の所望の曲線に沿
って分析位置を指定し、その指定した分析位置の情報に
従って電子ビームを走査してＣＲＴディスプレイの画面
上に電子ビーム走査に対応する軌跡とこの軌跡をベース
ラインとしたＸ線強度のプロファイルとをリアルタイム
で表示することにより、試料面上の任意の位置および方
向に関して特定元素の分布状態を把握することができる
。

（へ）効果 以上のように本発明によれば、特定元素の任意位置での
分布状態をリアルタイムで把握できるようになる等の優
れた効果が発揮される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用するための装置を示す構成図、第
２図は本発明の方法の操作手順を示すファー ローチャート、第３図ないし第５図は分析位置の指定と
指定位置から得られる特性Ｘ線強度のプロファイルを示
す説明図、第６図は従来の試料に対する電子ビームの走
査とこれに基づくＸ線強度のプロファイルを示す説明図
である。 ｌ・・・ＥＰＭＡ本体、１４・・・ＣＲＴディスプレイ
、１８・・・マウス、２０・・・分析位置メモリ、２２
・・・コントローラ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）マウス、トラックボール等の入力装置を適用して
   試料上の所望の曲線に沿って分析位置を指定し、その指
   定された分析位置の情報に従って電子ビームを走査する
   とともに、これに同期してＣＲＴディスプレイのラスタ
   ーを走査して画面上に前記電子ビーム走査に対応する軌
   跡とこの軌跡をベースラインとして試料から検出される
   Ｘ線強度のプロファイルとを表示することを特徴とする
   ＥＰＭＡの測定データ表示方法。