JPS61109253A - 電子線マイクロアナライザ - Google Patents
電子線マイクロアナライザInfo
- Publication number
- JPS61109253A JPS61109253A JP59230579A JP23057984A JPS61109253A JP S61109253 A JPS61109253 A JP S61109253A JP 59230579 A JP59230579 A JP 59230579A JP 23057984 A JP23057984 A JP 23057984A JP S61109253 A JPS61109253 A JP S61109253A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- analysis
- sample
- point
- scanning
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
- H01J37/256—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ産業上の利用分野
本発明は電子線マイクロアナライザに関し、特に長時間
Ｘ線分析に適する電子線マイクロアナライザに関する。
Ｘ線分析に適する電子線マイクロアナライザに関する。
口 従来の技術
電子線マイクロアナライザでＸ線分析を行う場合、試料
上の一点について長時間にわたりデータを採ることがあ
り、そのような場合、試料は電子ビームの照射により温
度が上昇し変形することがあって、分析点が移動し正確
なデータが得難いものであった。
上の一点について長時間にわたりデータを採ることがあ
り、そのような場合、試料は電子ビームの照射により温
度が上昇し変形することがあって、分析点が移動し正確
なデータが得難いものであった。
ハ 発明が解決しようとする問題点
本発明は電子線マイクロアナライザによる長時間Ｘ線分
析における試料の変形による分析点の移動の問題を解消
しようとするものである。
析における試料の変形による分析点の移動の問題を解消
しようとするものである。
二 問題解決のための手段
試料面を電子ビームで走査して２次電子等によ蛛
る像上の幾つかの特シ点を選択し、２次電子等の像の映
像信号を記憶しておき、Ｘ線分析の経過中適宜時間間隔
で試料面を電子ビームで走査して得られる２次電子等の
映像信号を先に記憶しておいた映像信号と比較して、先
に選択しておいた特殊点の移動量を検出し、この移動量
を相殺するようにＸ線分析時の電子ビーム偏向信号を制
御し或は試料の微動装置を駆動する制御手段を設けるも
のである。
像信号を記憶しておき、Ｘ線分析の経過中適宜時間間隔
で試料面を電子ビームで走査して得られる２次電子等の
映像信号を先に記憶しておいた映像信号と比較して、先
に選択しておいた特殊点の移動量を検出し、この移動量
を相殺するようにＸ線分析時の電子ビーム偏向信号を制
御し或は試料の微動装置を駆動する制御手段を設けるも
のである。
ホ 作用
分析点を含む試料面上の微小領域を考えると、試料の変
形の影響は同領域の並進運動と回転運動とＩこ還元でき
、これらの運動の検出は同領域内の最低２点の移動量の
測定によって可能である。適当時間間隔で試料面を走査
して映像信号を求め、これを始めに記憶しておいた映像
信号と比較し、始めと同じ映像信号が得られるように電
子ビームの試料照射点或は試料を移動させれば、分析点
はもとの位置に戻る。かくして長時間にわたる一定点の
Ｘ線分析が可能となる。
形の影響は同領域の並進運動と回転運動とＩこ還元でき
、これらの運動の検出は同領域内の最低２点の移動量の
測定によって可能である。適当時間間隔で試料面を走査
して映像信号を求め、これを始めに記憶しておいた映像
信号と比較し、始めと同じ映像信号が得られるように電
子ビームの試料照射点或は試料を移動させれば、分析点
はもとの位置に戻る。かくして長時間にわたる一定点の
Ｘ線分析が可能となる。
へ 実施例
第１図は本発明の一実施例を示す。Ｅは電子ビーム、Ｓ
は試料、Ｘは試料から放電されたＸ線、ＣはＸ線分光結
晶、ＤはＸ線検出器で、これらの構成により試料上の一
定点のＸ線分析が行われる。
は試料、Ｘは試料から放電されたＸ線、ＣはＸ線分光結
晶、ＤはＸ線検出器で、これらの構成により試料上の一
定点のＸ線分析が行われる。
図では電子光学系の電子銃、コンデンサレンズ、対物レ
ンズ等は省いである。１は走査コイルで電子ビームＥ’
ｉ−Ｘ方向ｈＹ方向に偏向する。２は走査信号発生器で
、その出力が走査アンプ３を介して走査コイルに印加さ
れる。走査アンプは差動アンプの構成を有し、（→端子
は通常Ｏレベルであるが、コンピュータ（ＣＰＵ）から
の信号が印加されると、出力である走査信号には一定の
バイアスが付加されることになる。４は２次電子検出器
で、その検出信号はアンプＡｔ、Ａ２を介して表示用Ｃ
ＲＴ５に輝度信号として印加される。表示用ＣＲＴ５に
は走査信号発生器２から走査信号が入力され、電子ビー
ムＥによる試料面走査と同期して画面走査が行われて試
料面の２次電子像が形成される。６は画像メモリで２チ
ャンネルあり、夫々のチャンネルに２次電子検出器４の
出力即ち映像 、１信号が記憶せしめられる
ようになっている。
ンズ等は省いである。１は走査コイルで電子ビームＥ’
ｉ−Ｘ方向ｈＹ方向に偏向する。２は走査信号発生器で
、その出力が走査アンプ３を介して走査コイルに印加さ
れる。走査アンプは差動アンプの構成を有し、（→端子
は通常Ｏレベルであるが、コンピュータ（ＣＰＵ）から
の信号が印加されると、出力である走査信号には一定の
バイアスが付加されることになる。４は２次電子検出器
で、その検出信号はアンプＡｔ、Ａ２を介して表示用Ｃ
ＲＴ５に輝度信号として印加される。表示用ＣＲＴ５に
は走査信号発生器２から走査信号が入力され、電子ビー
ムＥによる試料面走査と同期して画面走査が行われて試
料面の２次電子像が形成される。６は画像メモリで２チ
ャンネルあり、夫々のチャンネルに２次電子検出器４の
出力即ち映像 、１信号が記憶せしめられる
ようになっている。
この装置で長時間Ｘ線分析は次のようにして行われる。
オペレータは装置を始動させ、試料面を電子ビームで走
査して表示ＣＲＴ５に２次゛心子像を映出させ、この像
を見ながら分析点を選定して、その点が画面中央に来る
ように試料微動装置を操作する。この間走査アンプ３の
（→端子入力はＯである。分析点の選定が終るとコンピ
ュータに長時間Ｘ線分析の指令を与える。そうするとコ
ンピュータは第２図に示すような動作を行う。試料面着
戒を走査し２次電子の映像信号を画像メモリ６の第１チ
ャンネルに格納する（イ）。次いで特徴点指定の指示を
発し、オペレータはＣＲＴ５の画面上のカーソルを移動
させて表示ＣＲＴ５の画面で２個以上の高輝度点を指定
すると、その座標及び信号レベルを記憶する（口）。そ
の後電子ビームの走査を停止（ハ）、Ｘ線分析開始に）
、一定時間待ち（ホ）しその間Ｘ線分析を続け、所定時
間経過でＸ線分析を中止（へ）し、分析時間終了判定（
ト）がＮＯのときは電子ビームの走査を開始（→し、２
次電子の映像信号を画像メモリ６の第２チャンネルに格
納しくす）、そのデータを同メモリの第１チャンネルの
データと比較して走査コイルｌに印加するバイアスを決
定（（６）して、走査アンプ３の（→端子に出力しくＩ
す、動作はに）のステップ■こ戻る。以下に）からＱＯ
までの動作が繰返され、分析終了の判定ステップ（ト）
がＹＥＳになって一回の分析動作を終る。
査して表示ＣＲＴ５に２次゛心子像を映出させ、この像
を見ながら分析点を選定して、その点が画面中央に来る
ように試料微動装置を操作する。この間走査アンプ３の
（→端子入力はＯである。分析点の選定が終るとコンピ
ュータに長時間Ｘ線分析の指令を与える。そうするとコ
ンピュータは第２図に示すような動作を行う。試料面着
戒を走査し２次電子の映像信号を画像メモリ６の第１チ
ャンネルに格納する（イ）。次いで特徴点指定の指示を
発し、オペレータはＣＲＴ５の画面上のカーソルを移動
させて表示ＣＲＴ５の画面で２個以上の高輝度点を指定
すると、その座標及び信号レベルを記憶する（口）。そ
の後電子ビームの走査を停止（ハ）、Ｘ線分析開始に）
、一定時間待ち（ホ）しその間Ｘ線分析を続け、所定時
間経過でＸ線分析を中止（へ）し、分析時間終了判定（
ト）がＮＯのときは電子ビームの走査を開始（→し、２
次電子の映像信号を画像メモリ６の第２チャンネルに格
納しくす）、そのデータを同メモリの第１チャンネルの
データと比較して走査コイルｌに印加するバイアスを決
定（（６）して、走査アンプ３の（→端子に出力しくＩ
す、動作はに）のステップ■こ戻る。以下に）からＱＯ
までの動作が繰返され、分析終了の判定ステップ（ト）
がＹＥＳになって一回の分析動作を終る。
と遅動作における（口）のステップの動作内容の一例は
次のようなものである。（ロ）のステップで特徴点の信
号レベルが記憶しであるので、第２チャンネルのデータ
からレベル選別で特徴点を検索し、その座標を求める。
次のようなものである。（ロ）のステップで特徴点の信
号レベルが記憶しであるので、第２チャンネルのデータ
からレベル選別で特徴点を検索し、その座標を求める。
次に第１．第２チャンネルのデータにおける対応特徴点
（メモリ上の順位によって判定できる）の第１チャンネ
ルの座標値から第１チャンネルの座標値を引算した座標
値の差を算出し、各特徴点のＸ座標の差の平均及びＹ座
標の差の平均を算し、この平均をバイアス信号として出
力する。差の平均が（→であると云うことは試料がＸの
負方向に移動したと云うことで、これをバイアス信号と
して走査アンプ３の（→端子に入力すると、走査アンプ
３は差動アンプであるから、このバイアスは反転されて
走査コイルに入力され、電子ビームはＸの負方向に上記
平均値だけ偏向される。Ｙ座標の差の平均Ｃζ対しても
同様である。
（メモリ上の順位によって判定できる）の第１チャンネ
ルの座標値から第１チャンネルの座標値を引算した座標
値の差を算出し、各特徴点のＸ座標の差の平均及びＹ座
標の差の平均を算し、この平均をバイアス信号として出
力する。差の平均が（→であると云うことは試料がＸの
負方向に移動したと云うことで、これをバイアス信号と
して走査アンプ３の（→端子に入力すると、走査アンプ
３は差動アンプであるから、このバイアスは反転されて
走査コイルに入力され、電子ビームはＸの負方向に上記
平均値だけ偏向される。Ｙ座標の差の平均Ｃζ対しても
同様である。
これによってＸ線分析時の電子ビームの試料照射点は試
料の変形に追従して移動せしめられ、試料上の同一点の
分析を継続することができる。この平均法は特徴点を分
析点の周囲に均等に分布するように選択することを前提
として右り、この場合分析点を含む微小領域（電子ビー
ムによる走査範囲）が並進移動と回転を合成した移動で
あっても、分析点の移動を正しく補償することができる
。微小領域の回転が無視できる場合には特徴点の選定は
分析点の一方側に片寄っていても支障はなく、特徴点は
一個だけでもよい。
料の変形に追従して移動せしめられ、試料上の同一点の
分析を継続することができる。この平均法は特徴点を分
析点の周囲に均等に分布するように選択することを前提
として右り、この場合分析点を含む微小領域（電子ビー
ムによる走査範囲）が並進移動と回転を合成した移動で
あっても、分析点の移動を正しく補償することができる
。微小領域の回転が無視できる場合には特徴点の選定は
分析点の一方側に片寄っていても支障はなく、特徴点は
一個だけでもよい。
上記（内のステップの内容としては特徴点の座標の差を
求める方法の池、第２チャンネルのデータを少しずつず
らせて第１チャンネルのデータとの相関を求め、相関が
最大になるＸ、 Ｙ両方向のずらせ里を求めると云う
ような方法も可能である。
求める方法の池、第２チャンネルのデータを少しずつず
らせて第１チャンネルのデータとの相関を求め、相関が
最大になるＸ、 Ｙ両方向のずらせ里を求めると云う
ような方法も可能である。
また上述実施例では走査コイルにバイアスを与えるよう
にしているが、上記只のステップで得られたデータによ
り試料微動機溝を駆動して、分析点をもとの位置に戻す
ようにしてもよい。
にしているが、上記只のステップで得られたデータによ
り試料微動機溝を駆動して、分析点をもとの位置に戻す
ようにしてもよい。
ト 効果
本発明は上述したような構成で、長時間分析で試料が変
形するような場合でも変形による分析点の移動を補償し
て常に一定点Ｃ正確には一定領域）の分析を継続でき、
分析結果の正確さ、信頼性が向上する。
形するような場合でも変形による分析点の移動を補償し
て常に一定点Ｃ正確には一定領域）の分析を継続でき、
分析結果の正確さ、信頼性が向上する。
第１図は本発明の一実施例装置のブロック図、第２図は
同実施例のコンピュータの制御動作のフローチャートで
ある。 代理人 弁理士 課 浩 介第１図
同実施例のコンピュータの制御動作のフローチャートで
ある。 代理人 弁理士 課 浩 介第１図
Claims (1)
- 試料面を電子ビームで走査する手段と、試料面から放出
される２次電子等を検出する検出器と、同検出器の出力
である映像信号を記憶する２チャンネルを有する画像メ
モリと制御用のコンピュータを有し、同コンピュータは
電子ビームによる試料面の最初の走査における映像信号
のデータを上記画像メモリの第１チャンネルに格納し、
その後試料面のＸ線分析等を開始し、所定時間毎に試料
面を走査してそのときの映像信号のデータを上記画像メ
モリの第２チャンネルに格納し、第１、第２チャンネル
のデータを比較して試料面の変位量を検出し、電子ビー
ムの偏向或は試料の位置を制御し、上記変位を補償する
ようになつていることを特徴とする電子線マイクロアナ
ライザ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59230579A JPS61109253A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 電子線マイクロアナライザ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59230579A JPS61109253A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 電子線マイクロアナライザ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61109253A true JPS61109253A (ja) | 1986-05-27 |
Family
ID=16909950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59230579A Pending JPS61109253A (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 電子線マイクロアナライザ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61109253A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6385422A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-15 | Shimadzu Corp | 同期観察装置 |
| JPS63202834A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-22 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡のドリフト補正装置 |
| JPH01294343A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-28 | Jeol Ltd | エネルギー分析装置 |
| US6774362B2 (en) | 2001-09-27 | 2004-08-10 | Jeol Ltd. | Analytical method for electron microscopy |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5177260A (en) * | 1974-08-27 | 1976-07-05 | Max Planck Gesellschaft | Ryushisenkenbikyo |
| JPS5814667B2 (ja) * | 1977-03-07 | 1983-03-22 | イ−ストマン コダック カンパニ− | フイルムカ−トリッジ組立体 |
-
1984
- 1984-10-31 JP JP59230579A patent/JPS61109253A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5177260A (en) * | 1974-08-27 | 1976-07-05 | Max Planck Gesellschaft | Ryushisenkenbikyo |
| JPS5814667B2 (ja) * | 1977-03-07 | 1983-03-22 | イ−ストマン コダック カンパニ− | フイルムカ−トリッジ組立体 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6385422A (ja) * | 1986-09-30 | 1988-04-15 | Shimadzu Corp | 同期観察装置 |
| JPS63202834A (ja) * | 1987-02-17 | 1988-08-22 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡のドリフト補正装置 |
| JPH01294343A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-28 | Jeol Ltd | エネルギー分析装置 |
| US6774362B2 (en) | 2001-09-27 | 2004-08-10 | Jeol Ltd. | Analytical method for electron microscopy |
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