JPH01294343A - エネルギー分析装置 - Google Patents

エネルギー分析装置

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JPH01294343A
JPH01294343A JP12359988A JP12359988A JPH01294343A JP H01294343 A JPH01294343 A JP H01294343A JP 12359988 A JP12359988 A JP 12359988A JP 12359988 A JP12359988 A JP 12359988A JP H01294343 A JPH01294343 A JP H01294343A
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中西 一成
Katsushige Tsuno
勝重 津野
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、エネルギー分析装置に係り、特に、電子ビー
ムのドリフト等に影響されず安定的に分析を行えるエネ
ルギー分析装置に関するものである。
[従来の技術] 透過電子顕微鏡で得られる回折パターンを分析するエネ
ルギー分析装置は、結晶構造の同定等のために広く用い
られている。回折パターン(暗視野像)を得るための手
法としては、画像処理による方法、あるいは走査電子顕
微鏡の手法を使った走査透過法等種々の方法があるが、
本出願人は、先に、対物ミニレンズと偏向フィルを用い
ることによって機構上無理がなく、シかも回折パターン
の選択を容易に行える分析装置を提案したところである
(昭和63年4月19日出願の「電子顕微鏡の結像系」
)。その構成を第3図に示す。図中、1は電子ビーム、
2は試料、3は対物レンズ(以下、対物レンズをOLと
称す。)、4は対物ミニレンズ(以下、対物ミニレンズ
をOMと称す。)、5は制限視野絞り、6は開口、7.
8は偏向コイルを示す。なお、図中、各レンズはレンズ
中心の位置だけを示す。以下、同様である。
第3図において、試料2には電子ビーム1が照射され、
その回折パターンがOL3の後焦点面に結像される。更
に、該回折パターンは0M4により制限視野絞り5に結
像される。制限視野絞り5に結像された回折パターンを
偏向コイル8により偏向させることによって、所望の回
折パターンだけを制限視野絞り5に設けられた開口6か
ら取り出し、ウィーンフィルタ等のエネルギーフィルタ
に入力させることによってエネルギー分析を行うことが
できるものである。なお、偏向コイル7′は試料2に照
射する電子ビーム1の位置を調整するために設けられて
いるものである。
[発明が解決しようとする課題] さて、いま制限視野絞り6には第4図に示すような回折
パターンが結像されているとする。第4図でA、  B
、  C,D、  EjF、  G、  HおよびIの
9点は非常に輝度の高い点を示し、それ以外は輝度が非
常に低いものとなっている。例えば、A点とE点を結ぶ
線の輝度分布は第5図のようである。
また、第4図でE点は、偏向コイル8を駆動しない状態
において、丁度開口6の位置にある回折パターンである
とする。
なお、第4図に示すような回折パターンを可視化するに
は、制限視野絞り6に替えて蛍光板を配置してもよいし
、または、偏向コイル8で第4図のX方向およびy方向
にラスター走査を行い、開口6から出力される電子ビー
ムの強度を検出し、CRTデイスプレィ装置等の適当な
表示装置に表示すればよい。
第4図でA−I点で示すような電子ビーム量(密度)の
高い部分を分析する場合には、分析のために必要なエネ
ルギー蓄積時間も短くて済み、従って分析時間も短いの
で良好な分析を行うことができるのであるが、第4図の
a+  b+  C+  d、eで示すような電子ビー
ム量の少ない箇所の分析を行おうとする場合には問題が
生じる。
つまり、例えば、第4図のa点の回折パターンを分析す
る場合には、偏向コイル8を駆動してa点を開口6の位
置に移動させ、開口6から出力される電子ビームを分析
するのであるが、輝度が低い、即ち電子ビームの強度が
小さいためにエネルギー蓄積のために時間を要し、分析
時間は1時間程度必要となる。しかしその間に電子ビー
ムのドリフトあるいは試料2の温度上昇によるドリフト
等の様々なドリフトにより試料上の分析点のずれが発生
し、エネルギー分析が安定に行えないという問題があっ
た。
本発明は、上記の課題を解決するものであって、輝度の
低い回折パターンでも安定的にエネルギー分析を行える
エネルギー分析装置を提供することを目的とするもので
ある。
[課題を解決するための手段] 上記の目的を達成するために、本発明のエネルギー分析
装置は、回折パターンのうち輝度の高い点の位置および
輝度を予め記憶する第1の手段と、所定の分析時間が経
過する毎に上記記憶された位置の輝度と予め記憶されて
いる輝度を比較し、ドリフトが生じているか否かを判断
する第2の手段と、該第2の手段でドリフトが生じてい
ると判断された場合に試料に照射する電子ビームの位置
を調整する第3の手段とを少なくとも具備することを特
徴とする。
〔作用コ 本発明においては、予め参照点の位置および輝度を参照
データとして記憶しておき、所定の参照時間が経過する
毎に参照データに基づいてドリフトの有無を検証し、ド
リフトが生じていなければ分析を続行し、ドリフトが生
じていれば、試料に照射する電子ビームを偏向し、位置
を調整するので、ドリフトに影響されることなく長時間
に渡ってエネルギー分析を行うことができるものである
[実施例コ 以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
第1図は本発明に係るエネルギー分析装置の1実施例の
構成を示す図であり、図中、1〜8は第3図と同じもの
を示す。9はCPU、10は可変抵抗器、11はA/D
変換器、12はスイッチ、13は検出器、14は増幅器
、15はA/D変換器、16.17はD/A変換器を示
す。
第1図において、CPU9は後述する処理を行うもので
、当該処理に必要なプログラム、ROM。
RAM等を含んでいる。可変抵抗器10は偏向コイル8
の駆動電流を設定するもので、抵抗値を調整することに
より制限視野絞り5上の回折パターンを任意に移動させ
ることができるものである。
なお、図では一つの可変抵抗器しか示されていないが、
実際には回折パターンを第4図のX方向、X方向に任意
に移動できるように構成されることは言うまでもない。
A/D変換器11は可変抵抗器10による電圧値をディ
ジタル値に変換するものである。スイッチ12は参照点
の位置データをCPU9に取り込む場合に使用するもの
である。
検出器13は光電変換器で構成され、開口6を通過して
きた電子ビームの強度(輝度)を検出するものであり、
検出器13の出力である輝度信号は増幅器14で増幅さ
れた後A/D変換器15によりディジタル値に変換され
てCPU9に取り込まれる。D/A変換器16.17は
CPU9から出力されるディジタルの駆動電流値をアナ
ログに変換して、それぞれ偏向コイル8.7に供給する
ものである。
さて、いま制限視野絞り5には、従来例で述べたと同様
に第4図の回折パターンが得られているとする。本エネ
ルギー分析装置においては、エネルギー分析に先だって
、先ず輝度の高い回折点を参照点として、その位置およ
び輝度をCPU9に記憶させる。その操作は次の通りで
あ番。
先ず、オペレータは可変抵抗器10を操作して第4図の
A点の電子ビームを開口6の位置に移動させ、移動操作
が終了したらスイッチ12を閉路してこのときの可変抵
抗器10による電圧値をCPU9に記憶させる。これに
よりCPU9はA点の位置、即ち座標を知ることができ
る。なお、A点を開口6の位置に移動させるについては
、例えば必要に応じて蛍光板を挿入して確認しながら行
えばよい。次にオペレータは、同様にしてB点の位置デ
ータをCPU9に記憶させる。そして、E点の位置は中
心位置として予め知られているから、以上の操作により
A1 BおよびEの3点の位置が知られたことになる。
−殻内に回折パターンは規則正しいパターンを描くので
、CPU9は、以上の3点の位置を知ることにより、−
りの6点(C。
D、  F、  G、  H,I)の位置を計算により
決定することができる。A−Iの全ての点の位置が決定
されたら、CPU9は、位置データに基づいて偏向コイ
ル8を駆動してA点を開口6の位置に移動させる。この
とき検出器13で検出されたA点の輝度情報は、増幅器
14、A/D変換器15を介してCPU9にとりこまれ
、記憶される。CPU9は以下同様にして9点全ての輝
度情報を記憶する。記憶された各点の位置データおよび
輝度データは、後述するように正確な分析を行うための
参照データとして使用される。なお、以上の説明では3
点の位置から全ての参照点の位置を算出するとしたが、
回折パターンによっては4点以上必要な場合もあるであ
ろうし、全ての参照点をオペレータが指示しなければな
らない場合もあるであろう。それは回折パターンによっ
て適宜決定すればよい事項である。
このようにして参照データが得られると、次に分析が開
始される。分析の手順を第2図のタイムチャートを参照
しつつ説明する。
いま、第4図のA点とE点を結ぶ線を5等分する&+ 
 b+  C+  dの4点の電子ビームをこの順序で
分析する場合を考える(以下、これらの4点を測定点と
称す。)。これら測定点の位置は図示しない入力装置に
より指示することができる。
CPU9は、入力された測定点aの位置から、a点を開
口6の位置に移動させるために必要な偏向コイル8の駆
動電流量を算出し、D/A変換器16を介して偏向コイ
ル8に当該駆動電流を供給する。このようにしてa点が
開口6の位置に移動されると、第2図の20で示す1+
時間だけエネルギー分析が行われる。20で示すt1時
間が経過すると、次の21で示すt2時間に、入射ビー
ムのドリフト等が生じていないかどうかを先に求めた参
照データを用いて検証する。つまり、21で示す期間に
、全ての参照点(第4図の場合は9点)をその位置デー
タに基づいて、順に開口6の位置に移動させ、その輝度
を検出し、該検出された輝度と参照輝度データとを比較
する。比較の結果ドリフトが生じていないと判断される
と、引き続いて第2図の22で示す1+の時間分析が行
われる。このようにして分析時間の合計時間、第2図の
場合は3t+s  が所定の時間、例えば1時間に達す
るとa点のエネルギー分析は終了し、続いてb点のエネ
ルギー分析が同様にして行われる。以下同様にC点、d
点の分析が行われ、エネルギー分析作業は終了する。な
お、第2図の25で示すtsの時間は、次の測定点を開
口8の位置に移動させる時間である。
ある検証のときにドリフトが生じていると判断されると
、CPU9はD/A変換器17を介して偏向コイル7に
対して駆動電流を供給し、試料2に照射する電子ビーム
1を適宜偏向する。つまり、検出した輝度と参照データ
として記憶されている輝度データとを比較することによ
ってドリフトが生じているか否かは判断できるが、どち
らの方向にどれだけずれているかは判断できないので、
電子ビームを適当に偏向させながら、その都度検出器1
3で輝度情報を取り込んで参照輝度データと比較するの
である。これによりドリフトが解消された場合には分析
を続行する。しかしドリフトの割合が極端に大きい場合
は、第2図の分析時間t、をより短く再設定し、初めか
ら分析をやり直すようにする。即ち、ドリフトが生じる
にしても、分析時間を短縮し、頻繁に電子ビーム1の位
置を補正することによって極端なずれを回避できるよう
にするのである。
電子ビーム1の偏向は、全くランダムに偏向させてもよ
いし、あるいはヘリカル走査、ラスター走査のように規
則的に走査してもよいものである。
以上の説明において、検証期間に全ての参照点の輝度を
比較する点は重要である。つまり、試料がわずかに傾斜
した場合には回折点の位置は変化しないが、それぞれの
点の電子の強度が変化するという現象が生じるからであ
る。その際にも電子ビーム1を偏向することによって、
傾斜が生じる以前の状態に戻すことができる。
以上の説明では、第4図のA点とE点を結ぶ線上の点の
ビームを分析する例を取り上げたが、第4図のeで示す
ような点を測定する場合も同様に行うことができること
は明かである。
[発明の効果コ 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、所定
の分析時間毎にドリフトが生じているか否かを検証し、
ドリフトが生じていれば試料に照射する電子ビームの位
置を調整するので種々のドリフトにも影響されず、長時
間に渡ってエネルギー分析を行うことができるので、特
に、輝度の低い電子ビームの分析に非常に有効である。
また、本発明においては、ドリフトの検出をわずかな数
の位置情報と輝度情報に基づいて行うので構成が簡単で
ある。つまり、ドリフトの検出を画像を用いて行おうと
すれば、パターン認識のような複雑な処理を行う必要が
あるが、本発明においてはそのような必要はないのであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るエネルギー分析装置の1実施例の
構成を示す図、第2図はエネルギー分析のタイムチャー
トを示す図、第3図は従来のエネルギー分析装置の例を
示す図、第4図は回折パターンの例を示す図、第5図は
輝度分布を示す図である。 1・・・電子ビーム、2・・・試料、3・・・対物レン
ズ、4・・・対物ミニレンズ、5・・・制限視野絞り、
6・・・開口、7.8・・・偏向コイ?し、9・・・C
PU110・・・可変抵抗器、11・・・A/D変換器
、12・・・スイッチ、13・・・検出器、14・・・
増幅器、15・・・A/D変換器、 16、17・・・
D/A変換器。 出 願 人   日本電子株式会社 代理人 弁理士 菅 井 英 雄(外4名)第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)回折パターンのうち輝度の高い点の位置および輝
    度を予め記憶する第1の手段と、所定の分析時間が経過
    する毎に上記記憶された位置の輝度と予め記憶されてい
    る輝度を比較し、ドリフトが生じているか否かを判断す
    る第2の手段と、該第2の手段でドリフトが生じている
    と判断された場合に試料に照射する電子ビームの位置を
    調整する第3の手段とを少なくとも具備することを特徴
    とするエネルギー分析装置。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070023689A1 (en) * 2005-07-04 2007-02-01 Nuflare Technology, Inc. Electron beam drift correction method and electron beam writing method

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