JPS6193537A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPS6193537A JPS6193537A JP59214655A JP21465584A JPS6193537A JP S6193537 A JPS6193537 A JP S6193537A JP 59214655 A JP59214655 A JP 59214655A JP 21465584 A JP21465584 A JP 21465584A JP S6193537 A JPS6193537 A JP S6193537A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- point
- sample
- area
- electron beam
- screen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
- H01J37/256—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers using scanning beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は走査−電子顕微鏡に関し、特に点分析機能を備
えた走査電子顕微鏡に関する。
えた走査電子顕微鏡に関する。
［従来の技術］
最近の走査電子顕微鏡としては、単に試料像を観察する
機能ばかりでなく、例えば試料上の所望点における元素
分析や組成解析を行う点分析機能を併せ持つものが普及
して来ている。点分析としては、例えば電子線照射点か
ら発生するＸ線を分析するＸ線分析や、同じくオージェ
電子を分析する電子分光分析や、電子線照射点を透過し
た電子線のエネルギーを分析するエネルギー分析等が行
われる。
機能ばかりでなく、例えば試料上の所望点における元素
分析や組成解析を行う点分析機能を併せ持つものが普及
して来ている。点分析としては、例えば電子線照射点か
ら発生するＸ線を分析するＸ線分析や、同じくオージェ
電子を分析する電子分光分析や、電子線照射点を透過し
た電子線のエネルギーを分析するエネルギー分析等が行
われる。
このような点分析機能を備えた走査電子顕微鏡では、先
ず細く絞られた電子線を試料上の比較的広い領域で二次
元的に走査して通常の走査像を得、この走査像を！！察
して分析すべき点の選択を行い、それから電子線をその
選択された点に停止させ点分析を開始するという手順が
とられる。
ず細く絞られた電子線を試料上の比較的広い領域で二次
元的に走査して通常の走査像を得、この走査像を！！察
して分析すべき点の選択を行い、それから電子線をその
選択された点に停止させ点分析を開始するという手順が
とられる。
［発明が解決しようとする問題点１
通常、走査像を高分解能で観察するため電子線のスポッ
ト径は１００オングストローム程度に細く絞られており
、走査像を取得するモードから点分析を行うモードに移
行する際、従来は電子線のスポット径はそのままで分析
すべき点へ移動し、継続的にその点に電子線が照射され
る。
ト径は１００オングストローム程度に細く絞られており
、走査像を取得するモードから点分析を行うモードに移
行する際、従来は電子線のスポット径はそのままで分析
すべき点へ移動し、継続的にその点に電子線が照射され
る。
そのため、例えば点分析したい領域が直径１０００オン
グストロームあるいはそれ以上にもわたる領域である場
合、分析したい領域の微小部分の情報しか得られず、全
領域の平均的情報が得られないという問題がある。
グストロームあるいはそれ以上にもわたる領域である場
合、分析したい領域の微小部分の情報しか得られず、全
領域の平均的情報が得られないという問題がある。
そこで、平均的情報を得るために電子線のスポット径を
大きくすると、今度は走査像を取得するモードで高分解
能が得られず、分析する領域を正確に選択できないとい
う問題が発生する。
大きくすると、今度は走査像を取得するモードで高分解
能が得られず、分析する領域を正確に選択できないとい
う問題が発生する。
本発明は上述した点に鑑みてなされたものであり、走査
像観察時は小さなスポット径により高分解能の像が得ら
れ、点分析時には分析したい領域の大きさに対応した大
きさのスポット径に設定することができると共に、その
設定を画面観察に基づき容易に行うことのできる走査電
子顕微鏡を提供することを目的としている。
像観察時は小さなスポット径により高分解能の像が得ら
れ、点分析時には分析したい領域の大きさに対応した大
きさのスポット径に設定することができると共に、その
設定を画面観察に基づき容易に行うことのできる走査電
子顕微鏡を提供することを目的としている。
［問題点を解決するための手段］
口の目的を達成するため、本発明は、試料上で細く集束
した電子線を二次元的に走査し、該走査に基づいて試料
から発生する情報信号を検出し、該情報信号を表示装置
へ供給して試料の走査像を表示するようにした走査電子
顕微鏡において、試料上の所望点に電子線スポットを継
続して照射し、該所望点から発生する情報信号を検出し
て点分析を行い得るように構成すると共に、前記表示装
置の画面上に分析を行う点を示す領域を他と区別して表
示し、この領域の画面上の位置及び大きさを可変となし
、点分析の指令に基づき、上記領域の画面上での位置に
対応する試料上の位置に電子線スポットを継続的に照射
し、且つ該電子線スポットの径を前記領域の大きざに対
応して設定するように構成したことを特徴としている。
した電子線を二次元的に走査し、該走査に基づいて試料
から発生する情報信号を検出し、該情報信号を表示装置
へ供給して試料の走査像を表示するようにした走査電子
顕微鏡において、試料上の所望点に電子線スポットを継
続して照射し、該所望点から発生する情報信号を検出し
て点分析を行い得るように構成すると共に、前記表示装
置の画面上に分析を行う点を示す領域を他と区別して表
示し、この領域の画面上の位置及び大きさを可変となし
、点分析の指令に基づき、上記領域の画面上での位置に
対応する試料上の位置に電子線スポットを継続的に照射
し、且つ該電子線スポットの径を前記領域の大きざに対
応して設定するように構成したことを特徴としている。
［実施例１］
以下、図面を用いて本発明の一実施例を詳説する。
第１図は本発明を実施した走査電子顕微鏡の一例を示す
図である。図において電子銃１から発生した電子線は集
束レンズ２及び対物レンズ３によって試料４上に細く集
束されると共に、偏向コイル５によって試料上で二次元
的に走査される。試料を透過した電子線は、結像レンズ
６によってエネルギーアナライザ７へ導かれる。８はエ
ネルギーアナライザ７を通過した電子を検出する検出器
、９は試料を透過した電子を検出ｊるための検出器、１
０は試料から発生したＸ線を検出するためのエネルギー
分散型Ｘ線検出器である。
図である。図において電子銃１から発生した電子線は集
束レンズ２及び対物レンズ３によって試料４上に細く集
束されると共に、偏向コイル５によって試料上で二次元
的に走査される。試料を透過した電子線は、結像レンズ
６によってエネルギーアナライザ７へ導かれる。８はエ
ネルギーアナライザ７を通過した電子を検出する検出器
、９は試料を透過した電子を検出ｊるための検出器、１
０は試料から発生したＸ線を検出するためのエネルギー
分散型Ｘ線検出器である。
１１は走査信号を発生する発振器、１２は偏向コイル制
御回路、Ｍは該制御回路１２に付属するイ８率調整ツマ
ミ、１３は偏向コイル駆動回路、１４は陰極線管表示装
置、１５は分析点を指定するカーソルを表示ブるための
カーソル信号発生回路、Ｄｈ 、 ［）ｖ 、 ［）ｒ
は夫々カーソル調整ツマミ、１６は合成回路、１７は集
束レンズ電流制御回路である。
御回路、Ｍは該制御回路１２に付属するイ８率調整ツマ
ミ、１３は偏向コイル駆動回路、１４は陰極線管表示装
置、１５は分析点を指定するカーソルを表示ブるための
カーソル信号発生回路、Ｄｈ 、 ［）ｖ 、 ［）ｒ
は夫々カーソル調整ツマミ、１６は合成回路、１７は集
束レンズ電流制御回路である。
上述の如き構成において、偏向コイル制御回路１２はは
じめ像観察モードに設定されている。口のモードにおい
て、制御 ら送られて来る鋸歯状波形の水平，垂直走査信号に、倍
率ツマミＭで指定される振幅を与えて駆動回路１３を介
して偏向コイル５へ送るため、電子線は試料４上でラス
ク走査される。試料を透過した電子線はその通路に挿入
されている検出器９によって検出され、得られた透過電
子検出信号は試料上での電子線走査に周期して走査され
る表示装置１４へ映像信号として送られるため、表示装
置１４の画面には試料の透過電子像がツマミＭで指定さ
れた倍率で表示されることになる。
じめ像観察モードに設定されている。口のモードにおい
て、制御 ら送られて来る鋸歯状波形の水平，垂直走査信号に、倍
率ツマミＭで指定される振幅を与えて駆動回路１３を介
して偏向コイル５へ送るため、電子線は試料４上でラス
ク走査される。試料を透過した電子線はその通路に挿入
されている検出器９によって検出され、得られた透過電
子検出信号は試料上での電子線走査に周期して走査され
る表示装置１４へ映像信号として送られるため、表示装
置１４の画面には試料の透過電子像がツマミＭで指定さ
れた倍率で表示されることになる。
カーソル信号発生回路１５は、水平走査の特定のタイミ
ングでパルスを発生し、合成回路１６で映像信号に型費
することにより垂直カーソルＣＶを透過電子像に重畳表
示すると共に、画像中の特定の水平走査期間輝度を上昇
させる信号を発生し、合成回路１６で映像信号に重畳・
することにより水平カーソルｃｈを表示する。夫々のカ
ーソルの位置はツマミＤｈ 、Ｄｖを調整することによ
り画面内の任意の位置へ移動させることができ、従って
、２本のカーソルの交点Ｐで与えられる分析点を画面内
の任意の位置に設定することができる。
ングでパルスを発生し、合成回路１６で映像信号に型費
することにより垂直カーソルＣＶを透過電子像に重畳表
示すると共に、画像中の特定の水平走査期間輝度を上昇
させる信号を発生し、合成回路１６で映像信号に重畳・
することにより水平カーソルｃｈを表示する。夫々のカ
ーソルの位置はツマミＤｈ 、Ｄｖを調整することによ
り画面内の任意の位置へ移動させることができ、従って
、２本のカーソルの交点Ｐで与えられる分析点を画面内
の任意の位置に設定することができる。
カーソル信号発生回路１５は更に、この交点Ｐを中心と
しツマミ［）ｒで設定された半径ｒを持つ円を画面に表
示するためのパターン信号を発生し、これも合成回路１
６で映像信号に重畳するため、画面には交点Ｐを中心と
した円Ａが更に表示される。
しツマミ［）ｒで設定された半径ｒを持つ円を画面に表
示するためのパターン信号を発生し、これも合成回路１
６で映像信号に重畳するため、画面には交点Ｐを中心と
した円Ａが更に表示される。
そのため、オペレータはツマミ［）ｈ、［）ｖを調整し
て交点Ｐを分析すべき領域の中心付近に移動させ、更に
ツマミＱｒを調整してその領域が十分カバーされるよう
に円Ａの大きさを設定することができる。
て交点Ｐを分析すべき領域の中心付近に移動させ、更に
ツマミＱｒを調整してその領域が十分カバーされるよう
に円Ａの大きさを設定することができる。
その作業が終了した時点で偏向コイル制御回路７２を点
分析モードに変更すると、制御回路１２はカーソル信号
発生回路１５から送られて来るカーソルＣｈ、Ｃｖの位
置信号に基づき、画面上の交点Ｐの水平及び垂直借賃に
対応した水平及び垂直偏向信号を継続的に発生して駆動
回路１３を介して偏向レンズ５へ送るため、電子線は画
面上の交点Ｐに対応する試料上の点に継続的に照射され
る。
分析モードに変更すると、制御回路１２はカーソル信号
発生回路１５から送られて来るカーソルＣｈ、Ｃｖの位
置信号に基づき、画面上の交点Ｐの水平及び垂直借賃に
対応した水平及び垂直偏向信号を継続的に発生して駆動
回路１３を介して偏向レンズ５へ送るため、電子線は画
面上の交点Ｐに対応する試料上の点に継続的に照射され
る。
それと同時に、集束レンズ電流制御回路１７は、カーソ
ル信号発生回路１５から送られて来る円Ａの半径ｒを示
す信号に基づき、試料上における電子線のスポット径が
、その半径ｒに対応した大きさになるように集束レンズ
２のレンズ電流を制御する。
ル信号発生回路１５から送られて来る円Ａの半径ｒを示
す信号に基づき、試料上における電子線のスポット径が
、その半径ｒに対応した大きさになるように集束レンズ
２のレンズ電流を制御する。
従って、電子線は画面上の交点Ｐに対応する試料上の点
を中心とし、画面上の円Ａで囲まれた領域に対応する試
料上の領域全体に照射されることになり、Ｘ線検出器１
０にはその領域全体から発生したＸ線が入射し、その領
域全体の平均的情報を得ることができる。又、広い領域
に電子線が照射されるため、発生する情報量も多くなり
、測定感度の面でも良い結果が得られる。エネルギーア
ナライザ７による点分析を行う場合には、検出器９を電
子線通路から外せば良いことは言うまでもない。
を中心とし、画面上の円Ａで囲まれた領域に対応する試
料上の領域全体に照射されることになり、Ｘ線検出器１
０にはその領域全体から発生したＸ線が入射し、その領
域全体の平均的情報を得ることができる。又、広い領域
に電子線が照射されるため、発生する情報量も多くなり
、測定感度の面でも良い結果が得られる。エネルギーア
ナライザ７による点分析を行う場合には、検出器９を電
子線通路から外せば良いことは言うまでもない。
〔実施例２］
第２図は本発明の他の実施例の構成を示すブロック図で
あり、第１図の実施例と同一の構成要素には同一番号が
付されている。第２図（おいて偏向コイル制御回路１２
は制限視野観察モードも備えており、３ａは視野の大き
さを設定するためのツマミ、Ｓｈ 、３ｖはその視野を
移動させるためのツマミである。、１８は制限視野観察
モードにおける水平走査信号の振幅を検出する検出回路
、１９は検出回路１８で検出した振幅を点分析時に設定
する電子線のスポット径に換算する換算回路である。
あり、第１図の実施例と同一の構成要素には同一番号が
付されている。第２図（おいて偏向コイル制御回路１２
は制限視野観察モードも備えており、３ａは視野の大き
さを設定するためのツマミ、Ｓｈ 、３ｖはその視野を
移動させるためのツマミである。、１８は制限視野観察
モードにおける水平走査信号の振幅を検出する検出回路
、１９は検出回路１８で検出した振幅を点分析時に設定
する電子線のスポット径に換算する換算回路である。
本実施例においても、偏向コイル制御回路１２ははじめ
像観察モードに設定されており、第１図の実施例と全く
同様にして倍率ツマミＭによって設定された倍率の試料
の走査像が表示装置１の画面一杯に例えば第３図（ａ）
に示すように表示される。この走査像は細く絞られた電
子線の走査によって得られる分解能の高いものであり、
この像に基づいて分析すべき領域例えば、第３図（ａ）
において斜線を施したＧを的確に選択できる。
像観察モードに設定されており、第１図の実施例と全く
同様にして倍率ツマミＭによって設定された倍率の試料
の走査像が表示装置１の画面一杯に例えば第３図（ａ）
に示すように表示される。この走査像は細く絞られた電
子線の走査によって得られる分解能の高いものであり、
この像に基づいて分析すべき領域例えば、第３図（ａ）
において斜線を施したＧを的確に選択できる。
そして、次に制御回路１２は制限視野観察モードに切換
えられる。このモードにおいては、先に像観察モードで
観察していた視野内の所望の領域Ｆのみ像を表示し、そ
れ以外の領域をマスクした、例えば第３図（ｂ）に示す
ような象が表示装置１４の画面に得られる。オペレータ
はツマミＳａを操作することにより領ｂＸＦの大きさを
調節することができ、それと同時に位置調整ツマミ３ｈ
及びＳｖを調節することにより、この領１４Ｆを視野内
の任意の位置へ移動させることができる。この時試料上
では、像中のこの領域Ｆに対応プる領域で電子線がラス
ク走査されており、検出回路１８において水平走査信号
の振幅を常に検出し、更に換算回路１９においてこの振
幅から換ｎすることにより、この走査領域の幅Ｗｆが常
にモニタされている。
えられる。このモードにおいては、先に像観察モードで
観察していた視野内の所望の領域Ｆのみ像を表示し、そ
れ以外の領域をマスクした、例えば第３図（ｂ）に示す
ような象が表示装置１４の画面に得られる。オペレータ
はツマミＳａを操作することにより領ｂＸＦの大きさを
調節することができ、それと同時に位置調整ツマミ３ｈ
及びＳｖを調節することにより、この領１４Ｆを視野内
の任意の位置へ移動させることができる。この時試料上
では、像中のこの領域Ｆに対応プる領域で電子線がラス
ク走査されており、検出回路１８において水平走査信号
の振幅を常に検出し、更に換算回路１９においてこの振
幅から換ｎすることにより、この走査領域の幅Ｗｆが常
にモニタされている。
そしてオペレータは、前記ツマミＳａ 、 ３ｈ 。
Ｓ■の操作により上記領域Ｆを先に選択した領域Ｇに一
致させた後、制御回路１２を点分析モードに切換える。
致させた後、制御回路１２を点分析モードに切換える。
このモードにおいて、制御回路１２は、先の制限視野観
察モードにおいて切換直前に偏向コイル５へ供給されて
いた走査信号の交流成分を除き直流成分のみを偏向コイ
ル５へ送るようにするため、電子線は先に選択した領域
Ｆ（Ｇに一致している）の中心に継続的に照射される。
察モードにおいて切換直前に偏向コイル５へ供給されて
いた走査信号の交流成分を除き直流成分のみを偏向コイ
ル５へ送るようにするため、電子線は先に選択した領域
Ｆ（Ｇに一致している）の中心に継続的に照射される。
それと同時に、集束レンズ制御回路１７は、試料上にお
ける電子線のスポット径が、検出回路１８及び換算回路
１つによってモニタされて来た走査領域の幅Ｗｆの切換
直前の値に一致するように集束レンズのレンズ電流を適
宜調節する。従って、電子線は先の制限視野観察モード
において画面上で選択及び設定した領域Ｆに対応する試
料上の領域全体をカバーする径でもって照射されること
になる。
ける電子線のスポット径が、検出回路１８及び換算回路
１つによってモニタされて来た走査領域の幅Ｗｆの切換
直前の値に一致するように集束レンズのレンズ電流を適
宜調節する。従って、電子線は先の制限視野観察モード
において画面上で選択及び設定した領域Ｆに対応する試
料上の領域全体をカバーする径でもって照射されること
になる。
［発明の効果］
以上詳述した如く本発明によれば、走査像観察時は小さ
なスポット径により高分解能の像が得られ、点分析時に
は分析したい領域の大きさに対応した大きさのスポット
径に設定することができ、しかもその設定を画面観察に
基づき容易に行うことのできる走査電子顕微鏡が実現さ
れる。
なスポット径により高分解能の像が得られ、点分析時に
は分析したい領域の大きさに対応した大きさのスポット
径に設定することができ、しかもその設定を画面観察に
基づき容易に行うことのできる走査電子顕微鏡が実現さ
れる。
第１図は本発明を実施した走査電子顕微鏡の一例を示す
図、第２図は他の実施例を示す図、第３図は第２図の実
施例の動作を説明するための図である。 １：電子銃 ２：集束レンズ ３：対物レンズ ４：試料 ５：偏向コイル ６：結像レンズ ７：エネルギーアナライザ ８．９：検出器 １ｏ：エネルギー分散型Ｘ線検出器 １１：発振器 １２：偏向コイル制御回路Ｍ：倍率調
整ツマミ １３：偏向コイル駆動回路 １４：陰極線管表示装置 １５：カーソル信号発生回路 Ｄｈ 、ＤＶ 、Ｄｒ ： カーソ／Ｌｚｌ整ツマミ１
６：合成回路 １７：集束レンズ電流副部回路
図、第２図は他の実施例を示す図、第３図は第２図の実
施例の動作を説明するための図である。 １：電子銃 ２：集束レンズ ３：対物レンズ ４：試料 ５：偏向コイル ６：結像レンズ ７：エネルギーアナライザ ８．９：検出器 １ｏ：エネルギー分散型Ｘ線検出器 １１：発振器 １２：偏向コイル制御回路Ｍ：倍率調
整ツマミ １３：偏向コイル駆動回路 １４：陰極線管表示装置 １５：カーソル信号発生回路 Ｄｈ 、ＤＶ 、Ｄｒ ： カーソ／Ｌｚｌ整ツマミ１
６：合成回路 １７：集束レンズ電流副部回路
Claims (2)
- （１）試料上で細く集束した電子線を二次元的に走査し
、該走査に基づいて試料から発生する情報信号を検出し
、該情報信号を表示装置へ供給して試料の走査像を表示
するようにした走査電子顕微鏡において、試料上の所望
点に電子線スポットを継続して照射し、該所望点から発
生する情報信号を検出して点分析を行い得るように構成
すると共に、前記表示装置の画面上に分析を行う点を示
す領域を他と区別して表示し、この領域の画面上の位置
及び大きさを可変となし、点分析の指令に基づき、上記
領域の画面上での位置に対応する試料上の位置に電子線
スポットを継続的に照射し、且つ該電子線スポットの径
を前記領域の大きさに対応して設定するように構成した
ことを特徴とする走査電子顕微鏡。 - （２）前記表示装置の画面上に分析領域を示す枠を試料
の走査像に重畳して表示するようにした特許請求の範囲
第１項記載の走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59214655A JPS6193537A (ja) | 1984-10-13 | 1984-10-13 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59214655A JPS6193537A (ja) | 1984-10-13 | 1984-10-13 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6193537A true JPS6193537A (ja) | 1986-05-12 |
Family
ID=16659362
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59214655A Pending JPS6193537A (ja) | 1984-10-13 | 1984-10-13 | 走査電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6193537A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002062270A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-28 | Jeol Ltd | 電子線を用いた表面分析装置における面分析データ表示方法 |
| JP2008171756A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡の歪み測定方法及び輝度補正方法 |
-
1984
- 1984-10-13 JP JP59214655A patent/JPS6193537A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002062270A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-28 | Jeol Ltd | 電子線を用いた表面分析装置における面分析データ表示方法 |
| JP2008171756A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡の歪み測定方法及び輝度補正方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2003331773A (ja) | 電子顕微鏡 | |
| US4199681A (en) | Method and apparatus for automatically focusing an electron beam in a scanning beam device | |
| JP2003098123A (ja) | 電子顕微鏡における分析方法 | |
| US4020343A (en) | Scanning electron device | |
| US4880977A (en) | Analytical electron microscope | |
| JPS6193537A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| US5081354A (en) | Method of determining the position of electron beam irradiation and device used in such method | |
| US4321468A (en) | Method and apparatus for correcting astigmatism in scanning electron microscopes and similar equipment | |
| JPH071688B2 (ja) | 走査型反射電子回折顕微鏡 | |
| US5895916A (en) | Method and apparatus for adjusting electron beam apparatus | |
| JP4050948B2 (ja) | 電子顕微鏡 | |
| JPH11135052A (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPS62229646A (ja) | 荷電粒子線を用いた分析装置 | |
| JP3236433B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置における焦点合わせ方法 | |
| JPH0238368Y2 (ja) | ||
| JPS5858779B2 (ja) | 電子顕微鏡等用視野移動装置 | |
| JPS61151959A (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
| JPS62198043A (ja) | 立体観察装置 | |
| US20220244201A1 (en) | Transmission Electron Microscope and Inspection Method Using Transmission Electron Microscope | |
| JP2004192843A (ja) | 荷電粒子ビーム装置におけるステージ移動制御方法並びに荷電粒子ビームを用いた観察方法及び装置 | |
| JPS62223961A (ja) | 走査型反射電子回折顕微装置 | |
| JPS5914222B2 (ja) | 走査電子顕微鏡等用倍率制御装置 | |
| JPS5827621B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JPS6332220B2 (ja) | ||
| JPH027507B2 (ja) |