JPS61151959A - 走査型電子顕微鏡 - Google Patents

走査型電子顕微鏡

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Publication number
JPS61151959A
JPS61151959A JP59275345A JP27534584A JPS61151959A JP S61151959 A JPS61151959 A JP S61151959A JP 59275345 A JP59275345 A JP 59275345A JP 27534584 A JP27534584 A JP 27534584A JP S61151959 A JPS61151959 A JP S61151959A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
electron
sample
scanning
point
Prior art date
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Pending
Application number
JP59275345A
Other languages
English (en)
Inventor
Itsuo Umeo
楳生 逸雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP59275345A priority Critical patent/JPS61151959A/ja
Publication of JPS61151959A publication Critical patent/JPS61151959A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、走査型電子顕微鏡において、操作を容易にす
るための改良に関す墨。
電子顕微鏡を用いて対象となる試料を分析をするに当た
って、電子ビームを試料面上で走査して、所要の領域の
画像を得る方法と、電子ビームを一点に固定して照射し
、試料より発生するXvA量により試料の分析する方法
が用いられている。
この電子ビームを一点に固定して分析するに当たって、
電子ビームをその試料上の一点に固定する操作が煩雑で
あり、改善が要望されている。
〔従来の技術〕
走査型電子顕微鏡においては電子ビームを試料面上に照
射すると共に、該ビームを試料面上で電気的に走査を行
う。
該電子ビームの照射により、試料よりの二次電子、反射
電子、吸収電子あるいはXvA等を検出し、電気信号に
変換することにより対象試料の走i領域での画像を得る
電子ビームは極めて細いビーム(500Å以下)に集束
可能であり、走査型電子顕微鏡としては10万倍程度の
倍率を得ることが出来るので、高集積回路のごとく、ミ
クロン、あるいはサブミクロンの単位の、極めて微細な
構造をもった試料の測定、分析には、光学顕微鏡では及
ばない効果を得ることが出来る。
また、一方電子ビームを一点に固定して照射すれば、そ
の点より発生するX線の強度を測定することにより、該
点での試料の成分の分析を行うことも可能である。
然し一点に固定照射する場合、電子ビームを目的とする
試料の特定の位置に固定させることは、対象が微細な構
造であるため、簡単ではない。
従来、このような場合には、最初通常の走査型として電
子ビームで試料を走査し、ディスプレイ画面上に該試料
の画像を表示して、走査を止め、ディスプレイ上の残像
を見つつ、電子ビームを手動走査に切り換え、電子ビー
ムを所望の位置に動かすことが行われている。
また、別の方法として、電子ビームを見当をつけである
一点を照射し、X線分析を行う。次いで、電子ビームで
該点の周辺を走査して走査像をディスプレイ上に表示さ
せる。さきに一点照射されたところは汚染されているの
で黒点画像として見える。黒点の位置により分析点の試
料面での位置を判定することが出来る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記に述べた、従来の技術による方法では、次に述べる
ごとき問題点がある。
まず、ディスプレイ上の残像を用いる方法では、電子ビ
ームの走査が比較的緩やかに行われるので、ディスプレ
イ管の残光特性を利用して、せいぜい数秒以内に、手動
で電子ビームを希望の位置に動かすことが必要である。
もし、残像が無(なれば、再度、上記の操作を繰゛り返
すことが必要である。
また、別の方法としての、電子ビームを見当をつけて一
点を照射し、X線分析を行い、次いで、電子ビームを走
査して走査像をディスプレイ上に表示し、黒点によって
分析点の位置を判定する方法も繰り返し操作を必要とし
、煩雑であり、満足な方法ではない。
〔問題を解決するための手段〕
電子顕微鏡において、2本の電子ビーム発生部を備え、
それぞれ独立した制御部を持ち、且つ、同一の該試料を
照射する構成とする。
また、2本の電子ビームは個別に該試料を走査しうる構
成とし、1本の電子ビームで電気的自動走査を行い、他
の1本の電子ビームは手動で走査を行うことを可能とし
た本発明の構造によって解決される。
〔作用〕
従来、1本の電子ビーム発生部をもっていたが、本発明
による2本の電子ビームで試料を同時に照射することに
より、第1の電子ビームからは走査像が得られ、その走
査像のなかに、第2の電子ビームで照射された明るい固
定点が浮かび上がる。
これによって、一点固定照射の電子ビームの位置決めが
極めて容易になる。
次いで、第1の走査している電子ビームを止めることに
より、第2の電子ビームによる、点分析を容易に行うこ
とが出来る。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す、電子顕微鏡の構成図
である。電子銃1より放出された電子ビームは、アノー
ド2により加速され、集束レンズ系3を通って、偏向コ
イル部4射出される。更に、ビームは対物レンズ5を通
って試料6に照射される。
試料6より放出された電子線は電子線検出器11により
検知され増幅器13を経てディスプレイ画面10の上に
表示される。14は偏向系に対する電源部、15はレン
ズ系の電源部、16は電子ビームに対する高圧電源部を
それぞれ示す。
本発明では、更に第2の電子銃7を備え、アノード8に
より加速された電子ビームは偏向板9を経て、同じく試
料6に照射される。
この第2の電子銃よりの電子ビームは、点分析のみに使
用するときは、僅かな位置ずれの修正を行うだけの偏向
機能があれば良い。従って、第2の電子ビームの電子銃
部7、集束および偏向系9は小型で簡単な構造ですむ。
次に、本電子顕微鏡の操作の概要を説明する。
通常の走査画像を得るための使用では、第2の電子ビー
ムはオフの状態で使用する。
また、点分析を行う時には、第2図に示すごとく、第1
の電子ビームによる通常の走査画像17をディスプレイ
10の上に表示し、その上に第2の電子ビームによる固
定点の信号が重畳されて、明るい点としての表示を得る
走査画像との位置関係から、第2の電子ビームの照射位
置A点が所望のB点と位置がずれているときは、第2の
電子ビームの偏向系9の電圧を手動で?lX調すること
にまり、所望の位置B点にビームを移動させる。しかる
後、第1の電子ビームの走査画像を止めて第2電子ビー
ムによるX線をX線検出器12により検知し分析を行う
従って、点分析の位置を走査画像の上で直視しながら設
定出来るので、操作が著しく簡易化される。
〔発明の効果〕
以上に説明せるごと(、電子顕微鏡において、2本の電
子ビーム発生機構を備え、第1の電子ビームでは走査像
を、第2の電子ビームでは固定点の照射を行うことによ
り、点分析の位置ぎめ操作が極めて容易に行える。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明にかかわる電子顕微鏡の構成図を示す。 第2図は2本の電子ビームを使ってデイスプレ−イ上に
表示したときの画像を示す。 図面において、1,7は電子銃、2,8は加速電極、3
は集束コイル、4は偏向コイル、5は対物レンズ、6は
試料、9は偏向板、10はディスプレイ管、11は電子
線検出器、12はX線検出器、13は信号増幅器、14
は偏向回路電源、15は集束コイル電源、16は高圧電
源、17は走査画像をそれぞれ示     lす。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、電子ビームを試料表面に照射して、該試料の照
    射部分より出る電子線、あるいはX線を検出することに
    より該試料の測定あるいは分析を行う電子顕微鏡におい
    て、それぞれ独立した制御部を持ち、且つ、同一の該試
    料を照射する2本の電子ビーム発生部を設けたことを特
    徴とする走査型電子顕微鏡。
  2. (2)、特許請求範囲第(1)項記載の電子顕微鏡にお
    いて、前記2本の電子ビーム発生部は別個に該試料を走
    査しうる構成としたことを特徴とする走査型電子顕微鏡
  3. (3)、特許請求範囲第(2)項記載の電子顕微鏡にお
    いて、1方の電子ビーム発生部で電気的自動走査を行い
    、他方の電子ビーム発生部は手動でのみ走査可能とした
    ことを特徴とする走査型電子顕微鏡。
JP59275345A 1984-12-25 1984-12-25 走査型電子顕微鏡 Pending JPS61151959A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59275345A JPS61151959A (ja) 1984-12-25 1984-12-25 走査型電子顕微鏡

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JP59275345A JPS61151959A (ja) 1984-12-25 1984-12-25 走査型電子顕微鏡

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61151959A true JPS61151959A (ja) 1986-07-10

Family

ID=17554176

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59275345A Pending JPS61151959A (ja) 1984-12-25 1984-12-25 走査型電子顕微鏡

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JP (1) JPS61151959A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01206551A (ja) * 1988-02-12 1989-08-18 Shimadzu Corp 表面分析装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01206551A (ja) * 1988-02-12 1989-08-18 Shimadzu Corp 表面分析装置

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