JPS633258B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS633258B2 JPS633258B2 JP54033911A JP3391179A JPS633258B2 JP S633258 B2 JPS633258 B2 JP S633258B2 JP 54033911 A JP54033911 A JP 54033911A JP 3391179 A JP3391179 A JP 3391179A JP S633258 B2 JPS633258 B2 JP S633258B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- electron beam
- drift
- ray tube
- cathode ray
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 32
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は試料のドリフトを補正するように成し
た分析装置に関する。
た分析装置に関する。
試料上のある微小領域に電子線スポツトを照射
し、該領域から発生した二次的な粒子線及び若し
くは該領域を透過した電子線を検出して、該領域
を分析するようになした分析装置では、前記試料
を保持する機構や試料を移動する機構が決まる
と、これらの機構の構造による試料のドリフトや
試料に電子線を照射した際、該照射に加熱が伴う
ことによる試料ドリフトが生じ、その為電子線束
と試料の相対位置関係が崩れてしまう。
し、該領域から発生した二次的な粒子線及び若し
くは該領域を透過した電子線を検出して、該領域
を分析するようになした分析装置では、前記試料
を保持する機構や試料を移動する機構が決まる
と、これらの機構の構造による試料のドリフトや
試料に電子線を照射した際、該照射に加熱が伴う
ことによる試料ドリフトが生じ、その為電子線束
と試料の相対位置関係が崩れてしまう。
本発明はこの様な点に鑑みてなされたもので、
試料のドリフトを補正するように成した新規な分
析装置を提供するものである。
試料のドリフトを補正するように成した新規な分
析装置を提供するものである。
第１図は本発明の一実施例を示した走査型電子
顕微鏡の概略図である。図中１は電子銃で、該電
子銃から射出された電子線束２は集束レンズ３及
び対物レンズ４により試料ホルダー６上の試料５
上にスポツト状に縮小結像されると同時に、偏向
コイルより成る偏向装置７ｘ，７ｙにより偏向さ
れて該試料上を走査する。８はエネルギー分散型
Ｘ線検出器で、該試料から発生した特性Ｘ線を検
出する。９は該検出器の出力信号を信号処理し、
前記試料の元素分析を行なう信号処理回路であ
る。１０は試料５を照射した時に発生する二次電
子線を検出する二次電子線検出器で、該検出器の
出力信号は増幅器１１を介して陰極線管１２のグ
リツドに供給される。１３はデイジタルコンピユ
ータの如き制御装置で、前記偏向装置７ｘ，７ｙ
に種々の指令信号（電流信号）を各々Ｄ−Ａ変換
器１４ｘ，１４ｙを介して供給する。該偏向装置
は該指令信号により適宜な走査モードを形成し、
電子線束２を該モードに基づいて試料上でデイジ
タル走査させる。又該制御装置は前記陰極線管１
２の偏向装置１５にもＤ−Ａ変換器１６を介して
該指令信号を供給するので、前記二次電子線検出
器１０の出力信号により輝度制御される該陰極線
管の電子線は、前記走査に同期して画面１７上を
走査する。１８はライトペンで、前記画面１７に
当てるべき先端部にCdSの如き光電素子が設けら
れており、光電変換された信号は演算記憶装置１
９に供給される。該装置は前記ライトペン１８か
らの信号により種々の演算を行ない、その演算結
果を記憶する。該演算結果は前記制御装置１３に
供給されるので、該制御装置は、該演算結果に基
づいて前記偏向装置７ｘ，７ｙ及び１５を制御す
る。
顕微鏡の概略図である。図中１は電子銃で、該電
子銃から射出された電子線束２は集束レンズ３及
び対物レンズ４により試料ホルダー６上の試料５
上にスポツト状に縮小結像されると同時に、偏向
コイルより成る偏向装置７ｘ，７ｙにより偏向さ
れて該試料上を走査する。８はエネルギー分散型
Ｘ線検出器で、該試料から発生した特性Ｘ線を検
出する。９は該検出器の出力信号を信号処理し、
前記試料の元素分析を行なう信号処理回路であ
る。１０は試料５を照射した時に発生する二次電
子線を検出する二次電子線検出器で、該検出器の
出力信号は増幅器１１を介して陰極線管１２のグ
リツドに供給される。１３はデイジタルコンピユ
ータの如き制御装置で、前記偏向装置７ｘ，７ｙ
に種々の指令信号（電流信号）を各々Ｄ−Ａ変換
器１４ｘ，１４ｙを介して供給する。該偏向装置
は該指令信号により適宜な走査モードを形成し、
電子線束２を該モードに基づいて試料上でデイジ
タル走査させる。又該制御装置は前記陰極線管１
２の偏向装置１５にもＤ−Ａ変換器１６を介して
該指令信号を供給するので、前記二次電子線検出
器１０の出力信号により輝度制御される該陰極線
管の電子線は、前記走査に同期して画面１７上を
走査する。１８はライトペンで、前記画面１７に
当てるべき先端部にCdSの如き光電素子が設けら
れており、光電変換された信号は演算記憶装置１
９に供給される。該装置は前記ライトペン１８か
らの信号により種々の演算を行ない、その演算結
果を記憶する。該演算結果は前記制御装置１３に
供給されるので、該制御装置は、該演算結果に基
づいて前記偏向装置７ｘ，７ｙ及び１５を制御す
る。
斯くの如き走査型電子顕微鏡において、電子銃
１からの電子線束２を数100Åに絞り、該電子線
束が試料５上を面走査するように前記制御装置１
３からＤ−Ａ変換器１４ｘ，１４ｙ及び１６を介
して偏向装置７ｘ，７ｙ及び１５に指令信号を供
給する。而して、該走査により試料５から発生し
た二次電子線を二次電子線検出器１０により検出
し、陰極線管１２の画面１７上の走査像を観察し
ながら、試料上の分析すべき点を選択した後、電
子線束が試料５上の該分析すべき点に固定される
ように前記制御装置１３から偏向装置７ｘ，７ｙ
及び１５に指令信号を供給する。而して、試料５
上の分析すべき点から発生した特生Ｘ線をＸ線検
出器８にて検出し、信号処理回路９にて種々の信
号処理を施し、試料の元素分析が行なわれる。さ
て、前記電子線束を試料上の分析すべき点に固定
する時間は数100秒程度と長時間に亘る為、試料
５は該電子線束照射による加熱による温度上昇や
試料を保持する機構等の構造等によりドリフトす
る。この試料のドリフトの方向と大きさ（速度）
は試料の種類、試料を保持する機構の構造が決定
すれば、一定強度の電子線照射の下ではほぼ一定
なので陰極線管画面上に表示される試料二次電子
線像の視野移動を観察することにより検知するこ
とが可能である。以下に試料のドリフトの速度の
検出から自動的に試料のドリフトを補正する過程
を説明する。
１からの電子線束２を数100Åに絞り、該電子線
束が試料５上を面走査するように前記制御装置１
３からＤ−Ａ変換器１４ｘ，１４ｙ及び１６を介
して偏向装置７ｘ，７ｙ及び１５に指令信号を供
給する。而して、該走査により試料５から発生し
た二次電子線を二次電子線検出器１０により検出
し、陰極線管１２の画面１７上の走査像を観察し
ながら、試料上の分析すべき点を選択した後、電
子線束が試料５上の該分析すべき点に固定される
ように前記制御装置１３から偏向装置７ｘ，７ｙ
及び１５に指令信号を供給する。而して、試料５
上の分析すべき点から発生した特生Ｘ線をＸ線検
出器８にて検出し、信号処理回路９にて種々の信
号処理を施し、試料の元素分析が行なわれる。さ
て、前記電子線束を試料上の分析すべき点に固定
する時間は数100秒程度と長時間に亘る為、試料
５は該電子線束照射による加熱による温度上昇や
試料を保持する機構等の構造等によりドリフトす
る。この試料のドリフトの方向と大きさ（速度）
は試料の種類、試料を保持する機構の構造が決定
すれば、一定強度の電子線照射の下ではほぼ一定
なので陰極線管画面上に表示される試料二次電子
線像の視野移動を観察することにより検知するこ
とが可能である。以下に試料のドリフトの速度の
検出から自動的に試料のドリフトを補正する過程
を説明する。
先ず、陰極線管画面１７上に表示されている試
料の微小領域像が、第２図に示す様に時刻t1の時
に座標（x1、y1）で表わされる点Ａにあつたとす
る。該像が矢印Ｐ方向に移動し始め時刻t2の時に
点Ａから距離Ｄ離れた点Ｂ（x2、y2）に位置した
とする。この時刻t1時の点Ａ（x1、y1）及びt2時の
点Ｂ（x2、y2）はライトペン１８を使つて検知さ
れる。すなわち時刻t1時にライトペン１８にて点
Ａを当て、時刻t2時に点Ｂを当てる。而して該ラ
イトペンにて検知された前記時刻、座標信号は演
算：記憶装置１９に供給され、該装置にて試料ド
リフトの大きさ（速さ）及び方向が求められる。
すなわち該装置内では以下の様な演算が行なわれ
る。
料の微小領域像が、第２図に示す様に時刻t1の時
に座標（x1、y1）で表わされる点Ａにあつたとす
る。該像が矢印Ｐ方向に移動し始め時刻t2の時に
点Ａから距離Ｄ離れた点Ｂ（x2、y2）に位置した
とする。この時刻t1時の点Ａ（x1、y1）及びt2時の
点Ｂ（x2、y2）はライトペン１８を使つて検知さ
れる。すなわち時刻t1時にライトペン１８にて点
Ａを当て、時刻t2時に点Ｂを当てる。而して該ラ
イトペンにて検知された前記時刻、座標信号は演
算：記憶装置１９に供給され、該装置にて試料ド
リフトの大きさ（速さ）及び方向が求められる。
すなわち該装置内では以下の様な演算が行なわれ
る。
単位時間当りの試料ドリフトの大きさ（ドリフ
トの速度）△ｄ／△ｔは、△ｄ／△ｔ＝１／t2−
t1・Ｄ／Ｍである。
トの速度）△ｄ／△ｔは、△ｄ／△ｔ＝１／t2−
t1・Ｄ／Ｍである。
但しＭは陰極線管上の像の倍率であり、又ドリ
フト量はＤ＝√（2−1）2＋（2−1）2で与えら
れ
る。
フト量はＤ＝√（2−1）2＋（2−1）2で与えら
れ
る。
又ドリフトの方向θはθ＝tan-1y2ry1／x2−x1
である。
である。
該演算・記憶装置１９は上記ドリフトの単位時
間当りの大きさと方向を記憶しておき、制御装置
１３に供給される。該制御装置は該ドリフトの大
きさと方向に対応する電気信号をＤ−Ａ変換器１
４ｘ，１４ｙを介して偏向装置７ｘ，７ｙに供給
する。而して電子銃から放射された電子線束２及
び陰極線管の電子線は該偏向装置によりドリフト
の大きさと方向に対応した偏向を受けるので、該
電子線は試料のドリフトに追従して移動する。従
つて見かけ上、電子線束は試料の分析すべき点に
固定される。
間当りの大きさと方向を記憶しておき、制御装置
１３に供給される。該制御装置は該ドリフトの大
きさと方向に対応する電気信号をＤ−Ａ変換器１
４ｘ，１４ｙを介して偏向装置７ｘ，７ｙに供給
する。而して電子銃から放射された電子線束２及
び陰極線管の電子線は該偏向装置によりドリフト
の大きさと方向に対応した偏向を受けるので、該
電子線は試料のドリフトに追従して移動する。従
つて見かけ上、電子線束は試料の分析すべき点に
固定される。
本発明は陰極線管とライトペンの簡単な検出手
段を具備する事により、試料保持機構の構造によ
る試料のドリフトや電子線照射に伴う加熱による
試料のドリフトを完全に補正する事が出来る。そ
して、この結果、試料のドリフトがあつても、常
に電子線を試料の分析すべき点に固定する事が出
来る。
段を具備する事により、試料保持機構の構造によ
る試料のドリフトや電子線照射に伴う加熱による
試料のドリフトを完全に補正する事が出来る。そ
して、この結果、試料のドリフトがあつても、常
に電子線を試料の分析すべき点に固定する事が出
来る。
第１図は本発明の一実施例を示した走査型電子
顕微鏡の概略図、第２図は本発明の動作の説明を
補足する為の図である。 ２：電子線束、５：試料、７ｘ，７ｙ：偏向装
置、１０：二次電子線検出器、１２：陰極線管、
１３：制御装置、１５：偏向装置、１８：ライト
ペン、１９：演算・記憶装置。
顕微鏡の概略図、第２図は本発明の動作の説明を
補足する為の図である。 ２：電子線束、５：試料、７ｘ，７ｙ：偏向装
置、１０：二次電子線検出器、１２：陰極線管、
１３：制御装置、１５：偏向装置、１８：ライト
ペン、１９：演算・記憶装置。
Claims (1)
- １ 試料上を電子線により２次元走査し、該走査
に伴う検出信号に基づいて陰極線管に試料像を表
示すると共に、試料上のある微小領域に電子線ス
ポツトを照射し、該領域から発生する種々の信号
を検出して該領域を分析するようになした装置に
おいて、ライトペン及び該ライトペンを異なつた
時刻において前記陰極線管に表示された試料像の
同一位置に当てた時に該当てた時刻の差と該当て
た位置の座標差を表わす信号に基づいて試料のド
リフト速度を算出する手段とから成る前記試料の
ドリフト速度検出手段、該検出手段からの信号に
基づいて前記電子線スポツトを該ドリフトに追従
せしめる為の偏向を電子線に与える手段とを具備
したことを特徴とする分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3391179A JPS55126849A (en) | 1979-03-23 | 1979-03-23 | Analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3391179A JPS55126849A (en) | 1979-03-23 | 1979-03-23 | Analyzer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55126849A JPS55126849A (en) | 1980-10-01 |
| JPS633258B2 true JPS633258B2 (ja) | 1988-01-22 |
Family
ID=12399695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3391179A Granted JPS55126849A (en) | 1979-03-23 | 1979-03-23 | Analyzer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS55126849A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022138199A1 (ja) | 2020-12-21 | 2022-06-30 | 株式会社 ヂーマグ | 金属溶湯ポンプ |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02181640A (ja) * | 1989-01-06 | 1990-07-16 | Nec Corp | 高面分解能カソードルミネッセンス装置 |
| JPH0712755A (ja) * | 1993-06-23 | 1995-01-17 | Res Dev Corp Of Japan | 電子線装置の調整方法および装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51117569A (en) * | 1975-04-07 | 1976-10-15 | Hitachi Ltd | Sample drift correction device |
-
1979
- 1979-03-23 JP JP3391179A patent/JPS55126849A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51117569A (en) * | 1975-04-07 | 1976-10-15 | Hitachi Ltd | Sample drift correction device |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022138199A1 (ja) | 2020-12-21 | 2022-06-30 | 株式会社 ヂーマグ | 金属溶湯ポンプ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55126849A (en) | 1980-10-01 |
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