JPH11135052A - 走査電子顕微鏡 - Google Patents
走査電子顕微鏡Info
- Publication number
- JPH11135052A JPH11135052A JP29834197A JP29834197A JPH11135052A JP H11135052 A JPH11135052 A JP H11135052A JP 29834197 A JP29834197 A JP 29834197A JP 29834197 A JP29834197 A JP 29834197A JP H11135052 A JPH11135052 A JP H11135052A
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- JP
- Japan
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- sample
- objective lens
- electron beam
- ray analysis
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高分解能観察を行った後、目的の視野を見失
うことなくＸ線分析を行う。 【解決手段】 試料像観察時は対物レンズ７にて一次電
子線４を試料８にフォーカスし、Ｘ線分析時は対物レン
ズの励磁をＯＦＦし、収束レンズ６にて一次電子線４を
試料にフォーカスする。
うことなくＸ線分析を行う。 【解決手段】 試料像観察時は対物レンズ７にて一次電
子線４を試料８にフォーカスし、Ｘ線分析時は対物レン
ズの励磁をＯＦＦし、収束レンズ６にて一次電子線４を
試料にフォーカスする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線の照射によ
って試料から発生される二次電子を検出して試料の走査
像を形成する走査電子顕微鏡に関する。
って試料から発生される二次電子を検出して試料の走査
像を形成する走査電子顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】走査電子顕微鏡は、電子源から発生さ
れ、収束レンズ及び対物レンズにより細く絞られた電子
線を偏向器を用いて試料上で走査し、電子線照射によっ
て試料から発生する二次電子を二次電子検出器により検
出し、その検出信号を電子線の走査と同期して処理する
ことで試料像を形成する装置である。
れ、収束レンズ及び対物レンズにより細く絞られた電子
線を偏向器を用いて試料上で走査し、電子線照射によっ
て試料から発生する二次電子を二次電子検出器により検
出し、その検出信号を電子線の走査と同期して処理する
ことで試料像を形成する装置である。
【０００３】この走査電子顕微鏡において、試料像の分
解能向上のための手段の一つとして試料を対物レンズに
近づけて対物レンズの主面との距離を短くすることが行
われている。しかしながら、対物レンズの主面と試料と
の距離が短い場合、Ｘ線分析を行うときなどの様に高い
加速電圧とすると、対物レンズ磁路の飽和ためにフォー
カスに必要な磁界強度が得られなくなり、試料と対物レ
ンズとの距離を長くしなければならなかった。
解能向上のための手段の一つとして試料を対物レンズに
近づけて対物レンズの主面との距離を短くすることが行
われている。しかしながら、対物レンズの主面と試料と
の距離が短い場合、Ｘ線分析を行うときなどの様に高い
加速電圧とすると、対物レンズ磁路の飽和ためにフォー
カスに必要な磁界強度が得られなくなり、試料と対物レ
ンズとの距離を長くしなければならなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記のように従来の走
査電子顕微鏡では、低加速電圧による高分解能観察と、
高加速電圧によるＸ線分析とで、対物レンズと試料の間
の距離を変えなければならない。従って、低加速電圧に
よる高分解能観察を行った後、Ｘ線分析を行うためには
試料を電子線の照射方向、すなわちｚ軸方向に動かさな
ければならず、電子線加速電圧の変更に伴う観察条件の
変化とｚ軸方向への試料の移動の２つの変動要因のため
に目的の視野を見失うなどの問題があった。
査電子顕微鏡では、低加速電圧による高分解能観察と、
高加速電圧によるＸ線分析とで、対物レンズと試料の間
の距離を変えなければならない。従って、低加速電圧に
よる高分解能観察を行った後、Ｘ線分析を行うためには
試料を電子線の照射方向、すなわちｚ軸方向に動かさな
ければならず、電子線加速電圧の変更に伴う観察条件の
変化とｚ軸方向への試料の移動の２つの変動要因のため
に目的の視野を見失うなどの問題があった。
【０００５】本発明は、このような従来技術の問題点を
鑑みてなされたもので、試料を移動することなく高分解
能観察とＸ線分析とを行うことのできる走査電子顕微鏡
を提供することを目的とする。
鑑みてなされたもので、試料を移動することなく高分解
能観察とＸ線分析とを行うことのできる走査電子顕微鏡
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明では、Ｘ線分析時は試料像観察用の対物レンズ
の励磁をＯＦＦ又は高分解能観察時よりも弱励磁状態と
し、より長焦点距離でフォーカス可能な位置に配置され
た収束レンズ又はＸ線分析専用の対物レンズにて電子線
を試料にフォーカスすることで、目的の視野を見失うこ
となくＸ線分析を行うことができるようにする。
に本発明では、Ｘ線分析時は試料像観察用の対物レンズ
の励磁をＯＦＦ又は高分解能観察時よりも弱励磁状態と
し、より長焦点距離でフォーカス可能な位置に配置され
た収束レンズ又はＸ線分析専用の対物レンズにて電子線
を試料にフォーカスすることで、目的の視野を見失うこ
となくＸ線分析を行うことができるようにする。
【０００７】すなわち、本発明は、電子線を発生する電
子源と、電子線を収束するための収束レンズと、電子線
を細く絞って試料上に照射させるための対物レンズと、
電子線を試料上で二次元的に走査するための偏向器と、
試料から電子線の照射により発生した二次信号を検出す
るための二次信号検出器とを具備した走査電子顕微鏡に
おいて、二次信号検出器として試料像観察用の検出器と
Ｘ線分析用の検出器とを備え、試料像観察時は対物レン
ズにより電子線を試料にフォーカスさせ、Ｘ線分析時に
は対物レンズの励磁をＯＦＦ又は試料像観察時よりも弱
励磁状態とし収束レンズにより電子線を試料にフォーカ
スさせることを特徴とする。
子源と、電子線を収束するための収束レンズと、電子線
を細く絞って試料上に照射させるための対物レンズと、
電子線を試料上で二次元的に走査するための偏向器と、
試料から電子線の照射により発生した二次信号を検出す
るための二次信号検出器とを具備した走査電子顕微鏡に
おいて、二次信号検出器として試料像観察用の検出器と
Ｘ線分析用の検出器とを備え、試料像観察時は対物レン
ズにより電子線を試料にフォーカスさせ、Ｘ線分析時に
は対物レンズの励磁をＯＦＦ又は試料像観察時よりも弱
励磁状態とし収束レンズにより電子線を試料にフォーカ
スさせることを特徴とする。
【０００８】また、本発明は、電子線を発生する電子源
と、電子線を収束するための収束レンズと、電子線を細
く絞って試料上に照射させるための対物レンズと、電子
線を試料上で二次元的に走査するための偏向器と、試料
から電子線の照射により発生した二次信号を検出するた
めの二次信号検出器とを具備した走査電子顕微鏡におい
て、二次信号検出器として試料像観察用の検出器とＸ線
分析用の検出器とを備え、対物レンズとは独立に制御可
能なＸ線分析専用対物レンズを対物レンズと同軸上に設
け、試料像観察時にはＸ線専用対物レンズの励磁をＯＦ
Ｆとし対物レンズにて電子線を試料にフォーカスさせ、
Ｘ線分析時には対物レンズの励磁をＯＦＦとしＸ線分析
専用対物レンズにて電子線を試料にフォーカスさせるこ
とを特徴とする。
と、電子線を収束するための収束レンズと、電子線を細
く絞って試料上に照射させるための対物レンズと、電子
線を試料上で二次元的に走査するための偏向器と、試料
から電子線の照射により発生した二次信号を検出するた
めの二次信号検出器とを具備した走査電子顕微鏡におい
て、二次信号検出器として試料像観察用の検出器とＸ線
分析用の検出器とを備え、対物レンズとは独立に制御可
能なＸ線分析専用対物レンズを対物レンズと同軸上に設
け、試料像観察時にはＸ線専用対物レンズの励磁をＯＦ
Ｆとし対物レンズにて電子線を試料にフォーカスさせ、
Ｘ線分析時には対物レンズの励磁をＯＦＦとしＸ線分析
専用対物レンズにて電子線を試料にフォーカスさせるこ
とを特徴とする。
【０００９】偏向器は上下２段のコイルを有し、試料像
観察時とＸ線分析時とで偏向器の２段のコイルの電流比
又は巻線比を切り替えるのが好ましい。また、電子線の
光軸に垂直な方向に磁場を発生させるアライメントコイ
ルと、アライメントコイルの電流を制御する手段を具備
し、試料像観察とＸ線分析の切り替えによる視野移動を
補正するのが好ましい。
観察時とＸ線分析時とで偏向器の２段のコイルの電流比
又は巻線比を切り替えるのが好ましい。また、電子線の
光軸に垂直な方向に磁場を発生させるアライメントコイ
ルと、アライメントコイルの電流を制御する手段を具備
し、試料像観察とＸ線分析の切り替えによる視野移動を
補正するのが好ましい。
【００１０】本発明の走査電子顕微鏡によると、試料を
動かすことなく高分解能像観察からＸ線分析に瞬時に移
行することができる。また、Ｘ線分析時でも高分解能の
試料像を得ることができる。さらに、試料像観察時とＸ
線分析時とで偏向コイルの上下２段に流す電流比又は巻
線比を切り替えることにより、試料像観察とＸ線分析と
を切り替えたときの画像の歪みを最小にするとともに、
高精度に倍率を制御することができる。
動かすことなく高分解能像観察からＸ線分析に瞬時に移
行することができる。また、Ｘ線分析時でも高分解能の
試料像を得ることができる。さらに、試料像観察時とＸ
線分析時とで偏向コイルの上下２段に流す電流比又は巻
線比を切り替えることにより、試料像観察とＸ線分析と
を切り替えたときの画像の歪みを最小にするとともに、
高精度に倍率を制御することができる。
【００１１】また、アライメントコイルを設け、試料像
観察とＸ線分析の切り替え時にアライメントコイルに予
め決められた電流を流すことより、試料像観察とＸ線分
析の切り替えによる視野移動を補正することができる。
観察とＸ線分析の切り替え時にアライメントコイルに予
め決められた電流を流すことより、試料像観察とＸ線分
析の切り替えによる視野移動を補正することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１及び図２は、本発明による走
査電子顕微鏡の一例の概略断面図である。図１は試料像
観察時の状態を示し、図２はＸ線分析時の状態を示す。
陰極１と第一陽極２の間には、マイクロプロセッサ（Ｃ
ＰＵ）３０で制御される高電圧制御電源２０により電圧
が印加され、所定のエミッション電流が陰極１から引き
出される。陰極１と第二陽極３の間にはＣＰＵ３０で制
御される高電圧制御電源２０により加速電圧が印加され
るため、陰極１から放出された一次電子線４は加速され
て後段のレンズ系に進行する。一次電子線４は、レンズ
制御電源２１で制御されたビーム電流調整用の収束レン
ズ５で収束され、絞り板９で一次電子線４の不要な領域
が除去される。
施の形態を説明する。図１及び図２は、本発明による走
査電子顕微鏡の一例の概略断面図である。図１は試料像
観察時の状態を示し、図２はＸ線分析時の状態を示す。
陰極１と第一陽極２の間には、マイクロプロセッサ（Ｃ
ＰＵ）３０で制御される高電圧制御電源２０により電圧
が印加され、所定のエミッション電流が陰極１から引き
出される。陰極１と第二陽極３の間にはＣＰＵ３０で制
御される高電圧制御電源２０により加速電圧が印加され
るため、陰極１から放出された一次電子線４は加速され
て後段のレンズ系に進行する。一次電子線４は、レンズ
制御電源２１で制御されたビーム電流調整用の収束レン
ズ５で収束され、絞り板９で一次電子線４の不要な領域
が除去される。
【００１３】その後、レンズ制御電源２２で制御された
縮小率調整用の収束レンズ６、及び対物レンズ制御電源
２３で制御された対物レンズ７により試料８に微小スポ
ットとして収束され、偏向コイル１５で試料上を二次元
的に走査される。偏向コイル１５の走査信号は、観察倍
率に応じて偏向コイル制御電源２４により制御される。
一次電子線のビーム開き角は絞り板９の絞り穴径と、縮
小率調整用の収束レンズ６の焦点位置で、最適値に決め
られる。
縮小率調整用の収束レンズ６、及び対物レンズ制御電源
２３で制御された対物レンズ７により試料８に微小スポ
ットとして収束され、偏向コイル１５で試料上を二次元
的に走査される。偏向コイル１５の走査信号は、観察倍
率に応じて偏向コイル制御電源２４により制御される。
一次電子線のビーム開き角は絞り板９の絞り穴径と、縮
小率調整用の収束レンズ６の焦点位置で、最適値に決め
られる。
【００１４】一次電子線４の照射によって試料８から発
生した二次電子１４は二次電子検出器１２により検出さ
れ、その検出信号を一次電子線４の走査と同期してＣＰ
Ｕ３０にて処理し、像表示装置１３に試料像として表示
する。また、一次電子線４の照射によって試料８から発
生したＸ線１０はＸ線検出器１１によって検出され、電
気的信号に変換される。Ｘ線検出器１１から出力された
信号は、Ｘ線分析装置２７内で信号処理を行い、Ｘ線分
析装置２７のディスプレイにＸ線強度分布として表示さ
れる。
生した二次電子１４は二次電子検出器１２により検出さ
れ、その検出信号を一次電子線４の走査と同期してＣＰ
Ｕ３０にて処理し、像表示装置１３に試料像として表示
する。また、一次電子線４の照射によって試料８から発
生したＸ線１０はＸ線検出器１１によって検出され、電
気的信号に変換される。Ｘ線検出器１１から出力された
信号は、Ｘ線分析装置２７内で信号処理を行い、Ｘ線分
析装置２７のディスプレイにＸ線強度分布として表示さ
れる。
【００１５】試料像観察時は、図１に示すように、一次
電子線４は対物レンズ７により試料８にフォーカスされ
る。一方、Ｘ線分析時は、図２に示すように、対物レン
ズ制御電源２３により対物レンズ７の励磁はＯＦＦ又は
試料像観察時よりも弱励磁状態にされ、一次電子線４は
縮小率調整用の収束レンズ６により試料８にフォーカス
される。
電子線４は対物レンズ７により試料８にフォーカスされ
る。一方、Ｘ線分析時は、図２に示すように、対物レン
ズ制御電源２３により対物レンズ７の励磁はＯＦＦ又は
試料像観察時よりも弱励磁状態にされ、一次電子線４は
縮小率調整用の収束レンズ６により試料８にフォーカス
される。
【００１６】このように切り替えを行うことにより、試
料８を可能な限り対物レンズ７に近づけて低加速電圧に
より高分解能像観察を行って視野探しを行い、視野が見
つかったあとＸ線分析に切り替えた場合、試料８をｚ軸
方向（電子線の照射方向）に移動しなくてよいため、目
的の視野を見失うことなくＸ線分析を行うことができ
る。
料８を可能な限り対物レンズ７に近づけて低加速電圧に
より高分解能像観察を行って視野探しを行い、視野が見
つかったあとＸ線分析に切り替えた場合、試料８をｚ軸
方向（電子線の照射方向）に移動しなくてよいため、目
的の視野を見失うことなくＸ線分析を行うことができ
る。
【００１７】また、偏向コイル１５は上下２段のコイル
により構成されており、それらのコイルに流れる電流の
電流比は偏向コイル制御電源２４により制御され、試料
像観察時とＸ線分析時とで切り替えられる。偏向コイル
１５の上下２段のコイルに、試料像観察時とＸ線分析時
の各々の巻線比の違ったコイルを備え、それらのコイル
を試料像観察時とＸ線分析時とで切り替えて使用するよ
うにしてもよい。
により構成されており、それらのコイルに流れる電流の
電流比は偏向コイル制御電源２４により制御され、試料
像観察時とＸ線分析時とで切り替えられる。偏向コイル
１５の上下２段のコイルに、試料像観察時とＸ線分析時
の各々の巻線比の違ったコイルを備え、それらのコイル
を試料像観察時とＸ線分析時とで切り替えて使用するよ
うにしてもよい。
【００１８】試料像観察時には、像の歪みをなくするた
めに、一次電子線４が常に対物レンズ７の主面の中心を
通るようにして偏向する必要がある。そのため上下２段
の偏向コイルによる偏向が必須である。しかし、Ｘ線分
析時には、対物レンズ７の励磁はＯＦＦ又は試料像観察
時よりも弱励磁状態にされるため、一次電子線４を対物
レンズ７の主面の中心に通す必要がない。従って、Ｘ線
分析時の偏向コイル１５の制御に当たっては、一次電子
線を対物レンズ７の主面の中心を通すために必要であっ
た条件、すなわち２段の偏向コイルの電流比や巻線比に
対する条件を解除して、試料像観察時とは異なった条件
で偏向制御することにより偏向の自由度を増して広い視
野観察を可能とすることができる。例えば、Ｘ線分析時
には、偏向コイル１５を１段の偏向コイルとして使用し
てもよい。
めに、一次電子線４が常に対物レンズ７の主面の中心を
通るようにして偏向する必要がある。そのため上下２段
の偏向コイルによる偏向が必須である。しかし、Ｘ線分
析時には、対物レンズ７の励磁はＯＦＦ又は試料像観察
時よりも弱励磁状態にされるため、一次電子線４を対物
レンズ７の主面の中心に通す必要がない。従って、Ｘ線
分析時の偏向コイル１５の制御に当たっては、一次電子
線を対物レンズ７の主面の中心を通すために必要であっ
た条件、すなわち２段の偏向コイルの電流比や巻線比に
対する条件を解除して、試料像観察時とは異なった条件
で偏向制御することにより偏向の自由度を増して広い視
野観察を可能とすることができる。例えば、Ｘ線分析時
には、偏向コイル１５を１段の偏向コイルとして使用し
てもよい。
【００１９】さらに、上記のように試料像観察時とＸ線
分析時とを切り替えた場合の視野合せのために、アライ
メントコイル制御電源２５により制御されたアライメン
トコイル１６が設けられている。予め試料像観察とＸ線
分析とを切り替えた場合の視野移動、及びその視野移動
を補正するためにアライメントコイル１６に流すべき電
流値を一次電子線の加速電圧などをパラメータとして実
験等によって求めてテーブルなどの形で記憶しておく。
そして、試料像観察とＸ線分析とを切り替えたとき、前
記テーブルを参照してアライメントコイル制御電源２５
によりアライメントコイル１６に流す電流を設定するこ
とにより、モード切り替えによる視野ずれを補正するこ
とができる。
分析時とを切り替えた場合の視野合せのために、アライ
メントコイル制御電源２５により制御されたアライメン
トコイル１６が設けられている。予め試料像観察とＸ線
分析とを切り替えた場合の視野移動、及びその視野移動
を補正するためにアライメントコイル１６に流すべき電
流値を一次電子線の加速電圧などをパラメータとして実
験等によって求めてテーブルなどの形で記憶しておく。
そして、試料像観察とＸ線分析とを切り替えたとき、前
記テーブルを参照してアライメントコイル制御電源２５
によりアライメントコイル１６に流す電流を設定するこ
とにより、モード切り替えによる視野ずれを補正するこ
とができる。
【００２０】図３及び図４は、本発明による走査電子顕
微鏡の他の例の概略断面図である。図３は試料像観察時
の状態を示し、図４はＸ線分析時の状態を示す。説明を
簡単にするため、図３及び図４において図１及び図２と
同じ機能部分には図１及び図２と同一の符号を付し、そ
の詳細な説明を省略する。この走査型電子顕微鏡は対物
レンズ７とは別にＸ線専用対物レンズ制御電源２６によ
り制御されたＸ線専用対物レンズ１７が配置されてい
る。Ｘ線専用対物レンズ１７には、高励磁条件でも飽和
することのない磁路材が使用されている。
微鏡の他の例の概略断面図である。図３は試料像観察時
の状態を示し、図４はＸ線分析時の状態を示す。説明を
簡単にするため、図３及び図４において図１及び図２と
同じ機能部分には図１及び図２と同一の符号を付し、そ
の詳細な説明を省略する。この走査型電子顕微鏡は対物
レンズ７とは別にＸ線専用対物レンズ制御電源２６によ
り制御されたＸ線専用対物レンズ１７が配置されてい
る。Ｘ線専用対物レンズ１７には、高励磁条件でも飽和
することのない磁路材が使用されている。
【００２１】試料像観察時は、図３に示すように、一次
電子線４は対物レンズ７により試料８にフォーカスされ
る。一方、Ｘ線分析時は、図４に示すように、対物レン
ズ制御電源２３により対物レンズ７の励磁はＯＦＦさ
れ、一次電子線４はＸ線専用対物レンズ制御電源２６に
より制御されたＸ線分析用の対物レンズ１７により試料
８にフォーカスされる。高分解能を実現するためには、
Ｘ線専用対物レンズ１７は試料８に近い位置、すなわち
対物レンズ７の近くに設置するのが好ましい。
電子線４は対物レンズ７により試料８にフォーカスされ
る。一方、Ｘ線分析時は、図４に示すように、対物レン
ズ制御電源２３により対物レンズ７の励磁はＯＦＦさ
れ、一次電子線４はＸ線専用対物レンズ制御電源２６に
より制御されたＸ線分析用の対物レンズ１７により試料
８にフォーカスされる。高分解能を実現するためには、
Ｘ線専用対物レンズ１７は試料８に近い位置、すなわち
対物レンズ７の近くに設置するのが好ましい。
【００２２】なお、図５の概略断面図に示すように、１
つの磁路材３５に対物レンズ用コイル３６とＸ線専用対
物レンズ用コイル３７を巻回して、２つのレンズを一体
化した構造とすることもできる。図５に示したレンズを
対物レンズとして使用するときはコイル３６にのみ励磁
電流を流し、Ｘ線専用対物レンズとして使用するときは
コイル３７にのみ励磁電流を流す。
つの磁路材３５に対物レンズ用コイル３６とＸ線専用対
物レンズ用コイル３７を巻回して、２つのレンズを一体
化した構造とすることもできる。図５に示したレンズを
対物レンズとして使用するときはコイル３６にのみ励磁
電流を流し、Ｘ線専用対物レンズとして使用するときは
コイル３７にのみ励磁電流を流す。
【００２３】
【発明の効果】本発明によると、試料を移動させること
なく高分解能像観察とＸ線分析を行うことができ、目的
の視野を見失うことなくＸ線分析を行うことができる。
なく高分解能像観察とＸ線分析を行うことができ、目的
の視野を見失うことなくＸ線分析を行うことができる。
【図１】本発明による走査電子顕微鏡の一例の概略断面
図であり、試料像観察時の状態を示す図。
図であり、試料像観察時の状態を示す図。
【図２】本発明による走査電子顕微鏡の一例の概略断面
図であり、Ｘ線分析時の状態を示す図。
図であり、Ｘ線分析時の状態を示す図。
【図３】本発明による走査電子顕微鏡の他の例の概略断
面図であり、試料像観察時の状態を示す図。
面図であり、試料像観察時の状態を示す図。
【図４】本発明による走査電子顕微鏡の他の例の概略断
面図であり、Ｘ線分析時の状態を示す図。
面図であり、Ｘ線分析時の状態を示す図。
【図５】対物レンズとＸ線専用対物レンズを一体化した
レンズの概略断面図。
レンズの概略断面図。
１…陰極、２…第一陽極、３…第二陽極、４…一次電子
線、５…ビーム電流調節用収束レンズ、６…縮小率調整
用収束レンズ、７…対物レンズ、８…試料、９…絞り
板、１０…Ｘ線、１１…Ｘ線検出器、１２…二次電子検
出器、１３…像表示装置、１４…二次電子、１５…偏向
コイル、１６…アライメントコイル、１７…Ｘ線専用対
物レンズ、２０…高電圧制御電源、２１…ビーム電流調
節用収束レンズ制御電源、２２…縮小率調整用収束レン
ズ制御電源、２３…対物レンズ制御電源、２４…走査コ
イル制御電源、２５…アライメントコイル制御電源、２
６…Ｘ線専用対物レンズ制御電源、２７…Ｘ線分析装
置、３０…制御ＣＰＵ、３５…磁路材、３６…対物レン
ズ用コイル、３７…Ｘ線専用対物レンズ用コイル
線、５…ビーム電流調節用収束レンズ、６…縮小率調整
用収束レンズ、７…対物レンズ、８…試料、９…絞り
板、１０…Ｘ線、１１…Ｘ線検出器、１２…二次電子検
出器、１３…像表示装置、１４…二次電子、１５…偏向
コイル、１６…アライメントコイル、１７…Ｘ線専用対
物レンズ、２０…高電圧制御電源、２１…ビーム電流調
節用収束レンズ制御電源、２２…縮小率調整用収束レン
ズ制御電源、２３…対物レンズ制御電源、２４…走査コ
イル制御電源、２５…アライメントコイル制御電源、２
６…Ｘ線専用対物レンズ制御電源、２７…Ｘ線分析装
置、３０…制御ＣＰＵ、３５…磁路材、３６…対物レン
ズ用コイル、３７…Ｘ線専用対物レンズ用コイル
Claims (4)
- 【請求項１】 電子線を発生する電子源と、前記電子線
を収束するための収束レンズと、前記電子線を細く絞っ
て試料上に照射させるための対物レンズと、前記電子線
を前記試料上で二次元的に走査するための偏向器と、前
記試料から前記電子線の照射により発生した二次信号を
検出するための二次信号検出器とを具備した走査電子顕
微鏡において、 前記二次信号検出器として試料像観察用の検出器とＸ線
分析用の検出器とを備え、試料像観察時は前記対物レン
ズにより前記電子線を試料にフォーカスさせ、Ｘ線分析
時には前記対物レンズの励磁をＯＦＦ又は試料像観察時
よりも弱励磁状態とし前記収束レンズにより前記電子線
を試料にフォーカスさせることを特徴とする走査電子顕
微鏡。 - 【請求項２】 電子線を発生する電子源と、前記電子線
を収束するための収束レンズと、前記電子線を細く絞っ
て試料上に照射させるための対物レンズと、前記電子線
を前記試料上で二次元的に走査するための偏向器と、前
記試料から前記電子線の照射により発生した二次信号を
検出するための二次信号検出器とを具備した走査電子顕
微鏡において、 前記二次信号検出器として試料像観察用の検出器とＸ線
分析用の検出器とを備え、前記対物レンズとは独立に制
御可能なＸ線分析専用対物レンズを前記対物レンズと同
軸上に設け、試料像観察時には前記Ｘ線専用対物レンズ
の励磁をＯＦＦとし前記対物レンズにて前記電子線を試
料にフォーカスさせ、Ｘ線分析時には前記対物レンズの
励磁をＯＦＦとし前記Ｘ線分析専用対物レンズにて前記
電子線を試料にフォーカスさせることを特徴とする走査
電子顕微鏡。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の走査電子顕微鏡に
おいて、前記偏向器は上下２段のコイルを有し、試料像
観察時とＸ線分析時とで前記偏向器の２段のコイルの電
流比又は巻線比を切り替えることを特徴とする走査電子
顕微鏡。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか１項記載の走査
電子顕微鏡において、前記電子線の光軸に垂直な方向に
磁場を発生させるアライメントコイルと、前記アライメ
ントコイルの電流を制御する手段を具備し、試料像観察
とＸ線分析の切り替えによる視野移動を補正することを
特徴とする走査電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29834197A JP3429988B2 (ja) | 1997-10-30 | 1997-10-30 | 走査電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29834197A JP3429988B2 (ja) | 1997-10-30 | 1997-10-30 | 走査電子顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11135052A true JPH11135052A (ja) | 1999-05-21 |
| JP3429988B2 JP3429988B2 (ja) | 2003-07-28 |
Family
ID=17858426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29834197A Expired - Lifetime JP3429988B2 (ja) | 1997-10-30 | 1997-10-30 | 走査電子顕微鏡 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3429988B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1997
- 1997-10-30 JP JP29834197A patent/JP3429988B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US9644955B2 (en) | 2011-12-13 | 2017-05-09 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron beam device with focus adjustment based on acceleration voltage and dimension measurement method using same |
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| JPWO2016121471A1 (ja) * | 2015-01-30 | 2017-11-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 二次粒子像から分析画像を擬似的に作成する荷電粒子線装置 |
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| Publication number | Publication date |
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