JPS6331464B2 - - Google Patents

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JPS6331464B2
JPS6331464B2 JP54017161A JP1716179A JPS6331464B2 JP S6331464 B2 JPS6331464 B2 JP S6331464B2 JP 54017161 A JP54017161 A JP 54017161A JP 1716179 A JP1716179 A JP 1716179A JP S6331464 B2 JPS6331464 B2 JP S6331464B2
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JP
Japan
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group
butoxy
carbon atoms
phenyl
yield
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Application number
JP54017161A
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English (en)
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JPS54132581A (en
Inventor
Muyuuraa Eruritsuhi
Nitsukuru Josefu
Rotsuho Yosefu
Naaru Berusoruto
Haaruman Barutaa
Makushimirian Biiganb Yohanesu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Boehringer Ingelheim Pharma GmbH and Co KG
Original Assignee
Dr Karl Thomae GmbH
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Publication date
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Priority claimed from DE19782853314 external-priority patent/DE2853314A1/de
Application filed by Dr Karl Thomae GmbH filed Critical Dr Karl Thomae GmbH
Publication of JPS54132581A publication Critical patent/JPS54132581A/ja
Publication of JPS6331464B2 publication Critical patent/JPS6331464B2/ja
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    • C07D215/227—Oxygen atoms attached in position 2 or 4 only one oxygen atom which is attached in position 2
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    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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    • A61P7/02—Antithrombotic agents; Anticoagulants; Platelet aggregation inhibitors
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    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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    • A61P9/04—Inotropic agents, i.e. stimulants of cardiac contraction; Drugs for heart failure
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P9/00—Drugs for disorders of the cardiovascular system
    • A61P9/10—Drugs for disorders of the cardiovascular system for treating ischaemic or atherosclerotic diseases, e.g. antianginal drugs, coronary vasodilators, drugs for myocardial infarction, retinopathy, cerebrovascula insufficiency, renal arteriosclerosis
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は一般式 で示される新規カルボスチリルおよびオキシンド
ール誘導体、これを含む薬剤およびその製造方法
に関する。 上記一般式の新規化合物は重要な薬理作用を
示し、陽性の筋変力作用とともに、特に抗血栓症
作用を有する。 上記一般式において Ｗは場合によりメチル基で置換されていてもよ
いビニレン基、メチレンもしくはエチレン基を表
わし、 ｍは０、１または２であり、 Ｄは２ないし６個の炭素原子を有する直鎖状ま
たは分枝状アルキレン基、３ないし６個の炭素原
子を有する直鎖状または分枝状ヒドロキシアルキ
レン基またはキシリレン基を表わし、 R1は水素原子または１ないし３個の炭素原子
を有するアルキル基を表わし、 R2はシクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、
ピリジル、ピリミジル、１，２，４−トリアゾリ
ル、ピリジル−オキシド、フルフリル、トリフエ
ニルメチル、キノリル、ベンズイミダゾリル、ベ
ンズチアゾリル、キナゾリン−４−オン−イル、
４，５−ビス−（ｐ−クロロフエニル）−オキサゾ
ール−２−イル、Ｎ−メチル−シクロヘキシルア
ミノカルボニルメチルもしくはアミノ−イミノメ
チル基を表わし、またはR2は場合によりカルボ
キシル、ヒドロキシ、メトキシ、アミノ、アセチ
ルアミノ、ニトロ、シクロヘキシルもしくはフエ
ニル基で置換されていてもよいフエニル基、ハロ
ゲン原子および（または）１〜４個の炭素原子を
有するアルキル基でモノもしくはジ置換されたフ
エニル基、２個のハロゲン原子もしくは１〜４個
の炭素原子を有する２個のアルキル基で置換され
たヒドロキシフエニル、ハロゲンフエニルまたは
アミノフエニル基を表わし、 R3は水素、塩素または臭素原子、メチル、ア
ミノ、アセチルアミノまたはニトロ基を表わし、 R4は水素を表わす。 R2、R3およびR4がハロゲン原子を表わす場合、
これらはたとえば弗素、塩素、臭素またはヨウ素
である。而して、Ｄ、R1、R2、R3およびR4が本
発明の化合物において上記意味を有する場合、Ｄ
はエチレン、ｎ−プロピレン、ｎ−ブチレン、ｎ
−ペンチレン、ｎ−ヘキシレン、１−メチルエチ
レン、２−メチルエチレン、１−メチル−ｎ−プ
ロピレン、２−メチル−ｎ−プロピレン、３−メ
チル−ｎ−プロピレン、１−メチル−ｎ−ブチレ
ン、２−メチル−ｎ−ブチレン、３−メチル−ｎ
−ブチレン、４−メチル−ｎ−ブチレン、１−メ
チル−ｎ−ペンチレン、２−メチル−ｎ−ペンチ
レン、３−メチル−ｎ−ペンチレン、４−メチル
−ｎ−ペンチレン、５−メチル−ｎ−ペンチレ
ン、１，１−ジメチル−エチレン、１，２−ジメ
チルエチレン、２，２−ジメチルエチレン、１，
１−ジメチル−ｎ−プロピレン、２，２−ジメチ
ル−ｎ−プロピレン、３，３−ジメチル−ｎ−プ
ロピレン、１，２−ジメチル−ｎ−プロピレン、
１，３−ジメチル−ｎ−プロピレン、１，１−ジ
メチル−ｎ−ブチレン、２，２−ジメチル−ｎ−
ブチレン、３，３−ジメチル−ｎ−ブチレン、
４，４−ジメチル−ｎ−ブチレン、１，２−ジメ
チル−ｎ−ブチレン、１，３−ジメチル−ｎ−ブ
チレン、１，４−ジメチル−ｎ−ブチレン、２，
３−ジメチル−ｎ−ブチレン、１−エチルエチレ
ン、２−エチルエチレン、１−エチル−ｎ−プロ
ピレン、２−エチル−ｎ−プロピレン、３−エチ
ル−ｎ−プロピレン、１−エチル−ｎ−ブチレ
ン、２−エチル−ｎ−ブチレン、３−エチル−ｎ
−ブチレン、４−エチル−ｎ−ブチレン、１−メ
チル−２−エチル−エチレン、１−メチル−２−
エチル−ｎ−プロピレン、１−メチル−３−エチ
ル−ｎ−プロピレン、１−メチル−２−プロピル
−エチレン、１−プロピルエチレン、１−ブチル
エチレン、１−プロピル−ｎ−プロピレン、２−
ヒドロキシ−ｎ−プロピレン、２−ヒドロキシ−
ｎ−ブチレン、３−ヒドロキシ−ｎ−ブチレン、
２−ヒドロキシ−ｎ−ペンチレン、３−ヒドロキ
シ−ｎ−ペンチレン、４−ヒドロキシ−ｎ−ペン
チレン、２−ヒドロキシ−ｎ−ヘキシレン、３−
ヒドロキシ−ｎ−ヘキシレン、１−メチル−２−
ヒドロキシ−ｎ−プロピレン、２−ヒドロキシ−
２−メチル−ｎ−プロピレン、ｐ−キシリレン、
ｏ−キシリレンまたはｍ−キシリレン基を表わ
し、 R1は水素原子、メチル、エチル、プロピルま
たはイソプロピル基を表わし、 R2はシクロヘキシル、フエニル、ベンジル、
フエニルエチル、ナフチル、ナフチルメチル、シ
クロヘキシルフエニル、ビフエニル、トリフエニ
ルメチル、Ｎ−メチルシクロヘキシルアミノカル
ボニルメチル、アミノイミノメチル、ピリジル、
ピリジルメチル、フルフリル、ベンズイミダゾリ
ル、ベンズチアゾリル、ピリミジル、１，２，４
−トリアゾリル、キノリル、キナゾリン−４−オ
ン−イル、４，５−ビス−（ｐ−クロロフエニル）
−オキサゾール−２−イル、ピリジル−オキシ
ド、メチルフエニル、ジメチルフエニル、tert−
ブチルフエニル、メチル−tert−ブチルフエニ
ル、メチルピリジル、メトキシフエニル、ジメト
キシフエニル、メトキシピリジル、ヒドロキシフ
エニル、ジヒドロキシフエニル、フルオロフエニ
ル、ジフルオロフエニル、トリフルオロフエニ
ル、フルオロピリジル、クロロフエニル、ジクロ
ロフエニル、トリクロロフエニル、クロロピリジ
ル、ブロモフエニル、ジブロモフエニル、アミノ
フエニル、アセチルアミノフエニル、アミノピリ
ジル、アセチルアミノピリジル、ニトロフエニ
ル、カルボキシフエニル、ヒドロキシジクロロフ
エニル、ヒドロキシジブロモフエニル、アミノ−
ジクロロフエニル、アミノ−ジブロモフエニル、
ヒドロキシ−ジ−tert−ブチルフエニル、メトキ
シ−フルオロフエニル、メトキシ−クロロフエニ
ル、メトキシ−ブロモフエニル、フルオロメチル
フエニル、クロロメチルフエニル、またはブロモ
メチルフエニル基を表わし、R3およびR4は同一
または異なり、水素、弗素、塩素、臭素またはヨ
ウ素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、tert−ブチル、ニトロアミノまた
はアセチルアミノ基を表わす。 上記一般式の望ましい化合物は次のごとき場
合の化合物である。 Ｗは場合によりメチル基により置換されたビニ
レン基またはエチレン基を表わし、 ｍは０、１または２を表わし、 Ｄは２〜５個の炭素原子を有するアルキレン基
または３〜５個の炭素原子を有するヒドロキシア
ルキレン基を表わし、 R1は水素原子を表わし、 R2はシクロヘキシル、フエニル、ベンジル、
ナフチル、ビフエニル、シクロヘキシルフエニ
ル、ピリジル、メチルフエニル、メトキシフエニ
ル、フルオロフエニル、クロロフエニル、ジクロ
ロフエニル、トリクロロフエニル、ブロモフエニ
ル、ジブロモフエニル、ブロモメチルフエニル、
アミノ−ジブロモフエニルまたはヒドロキシ−ジ
−tert−ブチルフエニル基を表わし、 R3およびR4はそれぞれ水素原子を表わす。 上記一般式の特に望ましい化合物は次のごと
き場合の化合物である。 Ｗはエチレン、ビニレンまたは２−メチルビニ
レン基を表わし、 ｍは０、１または２を表わし、 R1、R3およびR4はそれぞれ水素原子を表わし、 R2はシクロヘキシル、フエニル、ベンジル、
ナフチル−(2)、２−メトキシフエニル、４−クロ
ロフエニル、３，４−ジクロロフエニル、２，５
−ジクロロフエニル、４−ヒドロキシ−３，５−
ジ−tert−ブチルフエニル、４−アミノ−３，５
−ジブロモフエニルまたはピリジル−(2)基を表わ
し、かつＤはエチレン、ｎ−プロピレン、ｎ−ブ
チレンまたは２−ヒドロキシ−ｎ−プロピレン基
を表わす。 本発明によれば一般式の新規化合物は次の方
法により製造することができる。 (a) 一般式 （式中R1、R3、R4およびＷは上記のとおりで
ある）のヒドロキシ化合物または無機塩基もし
くは第３有機塩基とその塩を一般式 Ｚ−Ｄ−SOn−R2 （） （式中Ｄ、R2およびｍは上記のとおりであり、
かつＺはハロゲン原子またはスルホン酸エステ
ル基のような求核的に変換可能な基、たとえば
塩素、臭素、ヨウ素、ｐ−トルエンスルホニル
オキシまたはメタンスルホニルオキシ基を表わ
す）の化合物と反応させる。 この反応は、適当な溶媒、たとえばジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、クロロホルムまたは
トルエン中で行なうことが便宜であるが、望ま
しくは、水を含まない非プロトン性溶媒、たと
えばアセトン、ジメチルホルムアミドまたはジ
メチルスルホキシド中で場合によりアルカリ金
属塩基、たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ムまたは水酸化ナトリウムの存在下に０℃ない
し用いる溶媒の沸とう温度、たとえば０ないし
100℃、望ましくは10ないし50℃の温度で行な
う。しかし、この反応は溶媒なしで行うことも
できる。 (b) ｍが１または２である一般式の化合物を製
造するには、一般式 （式中R1ないしR4、ＤおよびＷは上記のとお
りであり、ｎは０または１である）の化合物を
酸化する。 この酸化は溶媒、たとえば水、水／ピリジ
ン、エタノール、メタノール、アセトン、ギ
酸、氷酢酸、希硫酸またはトリフルオロ酢酸中
で、用いる酸化剤により適当に−80ないし100
℃の温度で行なうことが望ましい。 ｍが１である一般式の化合物の製造には、
この酸化は、当量の酸化剤、たとえば０ないし
20゜で氷酢酸またはギ酸中または０ないし60℃
でアセトン中で過酸化水素により、０ないし50
℃で氷酢酸またはトリフルオロ酢酸中過ギ酸の
ような過酸により、15ないし25℃で水性メタノ
ールまたはエタノール中メタ過ヨウ素酸ナトリ
ウムにより、エタノール中Ｎ−ブロモ−スクシ
ンイミドにより、−80ないし−30℃でメタノー
ル中tert−ブチル−ヒポクロライトにより、０
ないし50℃で水性ピリジン中ヨウドベンゼンジ
クロリドにより、０ないし20℃で氷酢酸中硝酸
により、０ないし20℃で氷酢酸中またはアセト
ン中クロム酸により、および−70℃でメチレン
クロリド中スルフリルクロリドにより行なうこ
とが適当であり、得られたチオエーテル塩素複
合体は水性エタノールで加水分解するのが適当
である。 ｍが２である一般式の化合物の製造には、
この酸化は１もしくは２当量またはそれ以上の
酸化剤で、たとえば、20ないし100℃の氷酢酸
もしくはギ酸中または０ないし60℃でアセトン
中過酸化水素により、０ないし50℃で氷酢酸、
トリフルオロ酢酸またはクロロホルム中過ギ酸
またはｍ−クロル過安息香酸のような過酸によ
り、０ないし20℃で氷酢酸中硝酸により、０な
いし20℃でアセトン中または氷酢酸、水／硫酸
中クロム酸または過マンガン酸カリウムにより
行なうことが適当である。もしも一般式の化
合物においてｎが０であるならば、この反応は
２当量またはそれ以上の相当する酸化剤によ
り、そしてｎが１であれば少なくとも１当量を
用いて行なうことが望ましい。 (c) ｍが０を表わす一般式の化合物の製造に
は、一般式 （式中R1、R3、R4、ＤおよびＷは前記意味を
有する）で示される化合物を一般式 Ｙ−R2 （） （式中R2は前記のとおりであり、一般式お
よびの化合物中の基ＸまたはＹの一方はメル
カプト基を表わし、基ＸまたはＹの他方は求核
的に交換しうる基、たとえばハロゲン原子また
はスルホン酸エステル基、たとえば塩素、臭素
もしくはヨウ素原子、ｐ−トルエンスルホニル
オキシもしくはメタンスルホニルオキシ基を表
わすか、またはＸは基Ｄの隣接するヒドロキシ
基と一緒にエポキシド基を表わし、そしてＹは
メルカプト基を表わす）で示される化合物と反
応させる。 この反応は、適当な溶媒、たとえばジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、クロロホルムまたは
トルエン中で、望ましくは、水を含まない非プ
ロトン性溶媒、たとえばアセトン、ジメチルホ
ルムアミドまたはジメチルスルホキシド中で、
場合によりアルカリ金属塩基、たとえば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムまたは水酸化ナトリウ
ムの存在下に、０℃ないし使用溶媒の沸とう温
度で、たとえば０ないし100℃で、望ましくは
10ないし50℃で行なうことが適当である。しか
し、この反応はまた溶媒なしでも行なうことが
できる。 (d) R1が水素原子ではない一般式のカルボス
チリルの製造には、一般式 （式中R2ないしR4、Ｄ、Ｗおよびｍは上記の
とおりである）で示される化合物、またはその
アルカリ金属塩を一般式 Ｚ−R1 （） （式中R1は前記のとおりであり、Ｚは求核的
に変換可能な基、たとえばハロゲン原子または
スルホン酸エステル基、たとえば塩素、臭素も
しくはヨウ素原子、ｐ−トルエンスルホニルオ
キシもしくはメタンスルホニルオキシ基を表わ
す）で示される化合物と反応させる。 このアルキル化は、非プロトン性溶媒、たと
えばアセトン、ジメチルホルムアミドもしくは
ジメチルスルホキシド中で、無機塩基、たとえ
ば炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナ
トリウムまたは水酸化カリウムの存在下に、ま
たはアルコラートたとえばナトリウムメトキシ
ドの存在下に、０ないし50℃で、望ましくは10
ないし25℃で行なうことが適当である。 アルキル化剤としては特にハロゲン化アルキ
ル、たとえばヨウ化メチルまたはイソプロピル
ブロミド、あるいはジアルキルサルフエート、
たとえばジメチルサルフエートまたはジエチル
サルフエートがあげられる。 (e) Ｗがビニレン基を表わす一般式のカルボス
チリルの製造には、一般式 （式中R1ないしR4、Ｄおよびｍは上記のとお
りである）で示される３，４−ジヒドロ−カル
ボスチリルを脱水素する。 この脱水素は、脱水素剤、たとえば酸化剤た
とえば２，３−ジクロル−５，６−ジシアン−
ベンゾキノン、クロルアニルまたは貴金属触媒
たとえばパラジウム／木炭の存在下に、望まし
くは不活性溶媒たとえばジオキサンまたはメシ
チレン中で、高められた温度、たとえば100な
いし200℃、望ましくは使用溶媒の沸とう温度
で行なう。 (f) Ｗがエチレン基を表わし、ｍが０または２を
表わす一般式のカルボスチリルの製造には、
一般式 （式中R1ないしR4、Ｄおよびｍは上記のとお
りである）で示されるカルボスチリルを水素添
加する。 この水素添加は、適当な溶媒、たとえばエタ
ノール、酢酸エチル、氷酢酸またはジオキサン
中で触媒で活性化された水素、たとえば、パラ
ジウム／木炭、白金、ラニーニツケル、ラニー
コバルトまたはジレニウム−ヘプタスルフイド
のような水素添加触媒の存在下での水素によ
り、０ないし50℃、望ましくは室温で、かつ１
ないし5barの水素圧で行なう。 式ないしで示される出発物質として用いる
化合物は一部は文献既知であるか、またはこれら
は既知方法により得ることができる。たとえば、
一般式で示される６−、７−または８−ヒドロ
キシ−３，４−ジヒドロ−カルボスチリルは、フ
リーデル−クラフツによる記載の方法〔J.Chem.
Soc.1955年、743−744頁、Chem.Pharm.
Bull.1961年、970−975頁およびBer.dtsch.Chem.
Ges.60巻、858頁（1927年）参照〕により、相当
するアニリン誘導体を相当するβ−ハロゲン−カ
ルボン酸誘導体でアシル化し、続いて環化するこ
とにより得ることができる。 また、一般式の５−ヒドロキシ−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリルは、たとえば、Ｎ−ブロモ
−スクシンイミドにより相当する２−（β−シア
ンエチル）−シクロヘキサン１，３−ジオン誘導
体を環化し、続いて芳香族化することにより得る
ことができる（Chem.and Ind.1970年、1435頁参
照）。 一般式の相当するヒドロキシ−カルボスチリ
ルの製造は文献公知である〔たとえば、J.Amer.
Chem.Soc.72巻、346頁（1950年）および同誌、
76巻、2402頁（1954年）またはJ.Org.Chem.33
巻、1089頁（1968年）および同誌、36巻、3493頁
（1971年）参照〕。さらに、また、５−ヒドロキシ
インド−ル製造はJ.Chem.Soc.1961年、2723頁に
記載されている。 一般式、、、およびで示される出発
物質として用いる化合物は相当するヒドロキシ誘
導体をアルキル化し、場合により続いて酸化する
ことにより得ることができる。 すでに述べたごとく、本発明の一般式の化合
物は重要な薬理作用を有し、陽性筋変力作用とと
もに抗血栓症作用を示す。 たとえば、その生理活性について次の化合物の
試験を行なつた。 Ａ＝６−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｂ＝６−（４−フエニルスルフイニルブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｃ＝６−（４−フエニルスルホニルブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｄ＝６−〔４−（２−ピリジルメルカプト）−ブト
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｅ＝６−〔４−（２−ピリジルスルフイニル）−ブ
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｆ＝６−〔４−（２−ピリジルスルホニル）−ブト
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｇ＝６−（２−フエニルスルフイニル−エトキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｈ＝６−（４−ベンジルスルフイニル−ブトキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｉ＝６−〔４−（４−クロロフエニルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル Ｋ＝６−（４−シクロヘキシルスルフイニル−ブ
トキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｌ＝６−〔４−（２−ナフチルスルフイニル）−ブ
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル Ｍ＝６−〔４−（２−メトキシフエニルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル Ｎ＝６−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）
−カルボスチリル Ｏ＝６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−
tert−ブチル−フエニルスルフイニル）−ブト
キシ〕カルボスチリル Ｐ＝６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルスルフ
イニル）−ブトキシ〕カルボスチリル Ｑ＝４−メチル−６−（４−フエニルスルフイニ
ル−ブトキシ）−カルボスチリル Ｒ＝６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルスルホ
ニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル Ｓ＝６−〔４−（２，５−ジクロロフエニルスルフ
イニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル Ｔ＝６−〔４−（２−ピリジル−スルホニル）−ブ
トキシ〕カルボスチリル Ｕ＝６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルスルフ
イニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロ−カル
ボスチリル Ｖ＝６−〔４−（３，４−ジクロロ−フエニルスル
フイニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル Ｗ＝６−〔４−（２−ピリジルスルフイニル）−ブ
トキシ〕カルボスチリル Ｘ＝４−メチル−６−〔４−（２−ピリジル−スル
フイニル）−ブトキシ）カルボスチリル Ｙ＝６−〔４−（４−シクロヘキシル−フエニルス
ルフイニル）−ブトキシ〕カルボスチリル Ｚ＝６−〔４−（４−ビフエニルスルフイニル）−
ブトキシ〕カルボスチリル AA＝６−〔４−（２−キシリルスルフイニル）−
ブトキシ〕−カルボスチリル BB＝６−〔４−（４−tert.ブチル−フエニルスル
フイニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル CC＝６−〔４−（４−ビフエニリルスルフイニル）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル DD＝６−（２−ヒドロキシ−３−フエニルスル
ホニル−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル EE＝６−〔２−（フエニルスルフイニルメチル）−
ベンジルオキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル FF＝５−ニトロ−６−（４−フエニルスルフイニ
ル−ブトキシ）−カルボスチリル GG＝６−（６−フエニルスルフイニル−ヘキソ
キシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル HH＝６−（２−ヒドロキシ−３−フエニルスル
フイニル−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル II＝７−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 対照化合物 KK＝６−（３−エチルチオ−プロポキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル LL＝６−（３−エチルスルホニル−プロポキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル MM＝６−（３−エチルチオ−プロポキシ）−カル
ボスチリル NN＝６−（３−エチルスルホニルプロポキシ）−
カルボスチリル １ ボーンおよびクロス（Born and Cross）の
方法（J.Physiol.170巻、397頁（1964年））によ
る血小板凝集の測定 血小板凝集は健康な人の血小板の豊富な血し
ようにおいて測定した。光学濃度の減少をアデ
ノシン−ジホスフエートまたはコラーゲンを添
加した後分光光学的に測定し、記録した。この
濃度曲線の傾斜角から凝集速度を計算した
（Vmax）。光学濃度は最大量の光が透過するそ
の曲線上の点として示される（O.D.）。 表中のEC50の欄は光学濃度を示す。少量で
はあるが不可逆凝集を生ぜしめるのに十分なコ
ラーゲン量を選択する。最大の凝集を起させる
ため約0.01mlのコラーゲン溶液を１mlの血小板
の豊富な血しように加えた（Hormonchemie
社、ミユンヘン、の市販のコラーゲン）。アデ
ノシン−ジホスフエート（ADP）量はその
BORN曲線の第１相のみを生ずるように選択
した。ADPの必要量は約1.10-6mol／であつ
た。Boehringer Mannheim社の市販のADPを
用いた。 血小板凝集の50％阻止を惹起させる化合物の
量をグラフから測定した（EC50）
【表】
【表】 ２ 出血時間の延長の測定 緒言： 人および温血動作には傷害時に血液の損失を
防せぐための巧妙な仕組が存在する。この系は
血小板（thrombozytes）からなり、これがそ
の粘着性によつて管の傷害部分をすばやく塞い
でしまう（第１次止血）。この細胞止血機構の
他に身体には血液凝固系が存在する。この系で
は血しよう因子（タンパク）が有効な形に活性
化され、これは結局血しようフイブリノーゲン
をフイブリン凝塊に変換する。主として血小板
からなる第１次止血系と凝固系と相互に補足し
あつて身体からの血液の損失をふせぐ。 ある疾病では害はれていない血管においても
また凝固が起り、血小板が凝集するということ
が起る。この凝固系に対するクマリンまたはヘ
パリンの影響が知られており、これはこれらの
物質の影響下で延長される凝固のロスにより容
易に測定できる〔血しようカルシウム再添加時
間（Plasmarecalcif time）、迅速試験、スロ
ンビン時間等〕。 血小板の機能は出血時間を測ることにより測
定することができる。人の正常な出血時間は１
ないし３分の範囲にあり、十分な数の害はれて
いない血小板を必要とする。もしも血小板の数
が正常であつて出血時間が延長されるとすれ
ば、これはその血小板の機能が害はれているこ
とを示す。これは血小板機能の若干の生来の障
害に見出される（たとえばV.Willebrand病）。
一方、もしも抗血小板薬剤により血小板の自発
の凝集を妨またげ、動脈系における閉塞を防ぐ
ことが目的であれば、その結果当然出血時間は
延長されるであろう。それ故、抗血小板物質を
用いれば、出血時間の延長が期待される。もし
も血しよう凝固系がそのような薬剤により影響
を受けなければ、凝固試験は正常な結果を示す
であろう。 文献：W.D.Keidel：Kurzgefaβtes Lehrbuch
der Physiologie、Georg Thiem Verlag
Stuttgart 1967年、31頁：ヘモスターシスの
進行 出血時間を測定するため意識のあるマウスに
10mg／Kgの物質を経口投与した。１時間後にマ
ウスの尾のさきを0.5mm切りとり、血液の小滴
を30秒ごとに紙を用いて静かにとりのぞく。
血液の小滴の数は出血時間の尺度となる（５匹
の動物／実験）。数字は対照群と比較した延長
率（％）を示す。
【表】
【表】 ３ 陽性筋変力作用の測定 ラツトをエーテルで麻酔し、続いて首の後を
一撃して殺す。胸部を開き、心臓をとり出し、
両心耳を分ける。心耳を100mlの器官浴にいれ
る。この浴を30℃でチロード（tyrode）溶液で
みたす。このチロード溶液ににカルボーゲン
（carbogen）（95％のO2と５％のCO2）を注入
する。心耳の自発的な収縮が等大に記録され
る。心耳に１ｇを荷重する。当物質を１×10-5
ｇ／mlで各４心耳において試験する。収縮力の
変化が出発時の値をもとに％として記録され
る。次の表に得られた結果を示す。
【表】 ４ 急性毒性 被験物質の急性毒性は各10匹のマウスの群に
おいて一回投与量、1000mg／Kgの経口投与後に
測定した（観察時間：14日）。
【表】
【表】 これらの薬理作用に基ずき一般式の新規化合
物は血栓塞栓症、たとえば冠梗塞、脳梗塞、いわ
ゆる一時的虚血発作、一過性黒内障の予防、なら
びに動脈硬化症の予防に適しており、これは場合
により他の活性成分と組合せて、慣用の製剤、た
とえば被覆錠剤、錠剤、カプセル、坐剤または懸
濁液中に包含せしめることができる。一回量は50
ないし100mgを含み、１日２または３回で、一日
の投与量は100−300mgである。 次の例は本発明を例示するものである。 例 １ ６−〔４−（２−ピリジルメルカプト）−ブトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 14.4ｇ（0.13mol）の２−メルカプトピリジン
および17.9ｇ（0.13mol）の炭酸カリウムを360ml
のジメチルスルホキシド中で撹拌し、モレキユラ
ーシーブで乾燥し、この混合物に36ｇ
（0.12mol）の６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃、６−ヒドロキシ−カルボスチリルおよび１，
４−ジブロモブタンから製造）を加える。約25℃
で15時間撹拌後、この反応混合物を3.6の水中
に注ぎ、再び30分間撹拌する。沈殿した生成物を
吸引過し、よく水洗し、乾燥し、木炭を加えて
キシレンから再結晶する。m.p.123−124.5℃の黄
色結晶を得る。収量：32ｇ（理論値の81.2％）。 例 ２ ６−〔４−（２−ピリジルスルフイニル）−ブト
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 32.8ｇ（0.1mol）の６−〔４−（２−ピリジルメ
ルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルを330mlの氷酢酸に溶かし、10.2ｇ
（0.105mol）の35％過酸化水素を加える。この溶
液を約20℃で15時間撹拌する。氷酢酸を60℃で減
圧留去し、残留物をエーテルで洗浄し、得られた
粗生成物を木炭を加えてキシレンから２回再結晶
する。m.p.144.5−146℃の無色結晶を得る。収
量：27.5ｇ（理論量の79.8％）。 例 ３ ６−〔４−（２−ピリジルスルホニル）−ブトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル ５ｇ（0.015mol）の６−〔４−（２−ピリジル
メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルを50mlの氷酢酸に溶かし、4.5ｇ
（0.045mol）の35％過酸化水素を加える。約25℃
で40時間撹拌後、氷酢酸を60℃で減圧留去する。
固形残留物をエーテルで洗浄し、木炭を加えてキ
シレンから再結晶する。m.p.123.8−125℃の無色
の結晶を得る。収量：3.8ｇ（理論量の70.3％）。 例 ４ ６−（４−フエニルスルフイニルブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 32.6ｇ（0.2mol）の６−ヒドロキシ−３，４−
ジヒドロカルボスチリル〔F.F.Mayer他、Ber.
dtsch.chem.Ges.60巻、858頁（1927年）参照〕お
よび27.6ｇ（0.2mol）の炭酸カリウムを600mlの
ジメチルスルホキシド中で５分間撹拌し、モレキ
ユラーシーブで乾燥し、続いて52.2ｇ（0.2mol）
の４−フエニルスルフイニルブチル−ブロミド
（チオフエノールと１，４−ジブロモブタンとか
ら製造、例２にならい氷酢酸中過酸化水素で酸
化；油状物質、冷蔵庫中に放置すると固形化）を
加える。25℃で15時間撹拌後、この反応混合物を
６の水中に注ぐ。さらに30分間撹拌後、沈殿生
成物を吸引過し、よく水洗する。乾燥後、この
残留物を木炭を加えて約600mlのキシレンから再
結晶する。m.p.144.5−145.5℃の白色結晶を得る。
収量：49ｇ（理論量の71.3％）。 例 ５ ６−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロ−カルボスチリル 例４にならい６−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロ−カルボスチリルおよび４−（フエニルメルカ
プト）−ブチルブロミド（b.p.0.02：96−103℃、
チオフエノールと１，４−ジブロモブタンとから
つくる）から製造する。 m.p.：121.5−123℃ 収率：理論量の75.6％。 例 ６ ６−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例４にならい６−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロ−カルボスチリルおよび４−フエニル−スルホ
ニル−ブチルブロミド〔４−（フエニルメルカプ
ト）−ブチルブロミドから例３にならつて酸化す
ることにより製造〕から製造した。 m.p.：157.5−158℃ 収率：理論値の65.1％ 例 ７ ６−〔４−（４−フルオロフエニルメルカプト）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および４−フルオロ−チオフエノールから製
造した。 m.p.：139−140℃ 収率：理論量の93.1％ 例 ８ ６−〔４−（４−フルオロフエニルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例２にならい６−〔４−（４−フルオロフエニル
−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルから製造した。 m.p.：184.5−186℃ 収率：理論量の88％ 例 ９ ６−〔４−（４−メチルフエニル−メルカプト）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル 例１にならい６−（４−クロロブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.147−148℃）
および４−メチルチオフエノールから製造した。 m.p.：120−121℃ 収率：理論量の91％ 例 10 ６−〔４−（４−メチルフエニル−スルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例２にならい６−〔４−（４−メチルフエニル−
メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：149.5−150℃ 収率：理論値の97％ 例 11 ６−〔４−（３−メチルフエニルメルカプト）−
ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（４−クロロブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.147−148℃）
および３−メチルチオフエノールから製造した。 m.p.：95−96℃ 収率：理論値の91％ 例 12 ６−〔４−（３−メチルフエニルスルフイニル）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル 例２にならい６−〔４−（３−メチルフエニル−
メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルおよび過酸化水素から製造した。ワツ
クス様樹脂。 収率：理論量の95％ Rf値：0.48（シリカゲルでの薄層クロマトグラム、
溶離剤：ベンゼン／エタノール／濃アンモニア
＝75／25／１） 例 13 ６−〔４−（４−クロロフエニルメルカプト）−
ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（４−クロロブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.147−148℃）
および４−クロロチオフエノールから製造した。 m.p.：144−146℃ 収率：理論値の88％ 例 14 ６−〔４−（４−クロロフエニルスルフイニル）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル 例２にならい６−〔４−（４−クロロフエニル−
メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：148−149.5℃ 収率：理論量の70％ 例 15 ６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例１にならい６−（４−クロロブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.147−148℃）
および３，４−ジクロルチオフエノールから製造
した。 m.p.：116.5−118℃ 収率：理論量の87％ 例 16 ６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例２にならい６−〔４−（３，４−ジクロロフエ
ニル−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造し
た。 m.p.：106.5−108℃ 収率：理論量の74％ 例 17 ６−〔４−（２−メトキシフエニルメルカプト）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.142−147℃）
および２−メトキシチオフエノールから製造し
た。 m.p.：130.5−133℃ 収率：理論量の74％ 例 18 ６−〔４−（２−メトキシフエニルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例２にならい６−〔４−（２−メトキシフエニル
−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：162−163℃ 収率：理論量の62％ 例 19 ６−〔４−（３−メトキシフエニルメルカプト）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.142−147℃）
および３−メトキシ−チオフエノールから製造し
た。 m.p.：93.5−97℃ 収率：理論量の61％ 例 20 ６−〔４−（３−メトキシフエニルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例２にならい６−〔４−（３−メトキシフエニル
−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：147−148℃ 収率：理論量の49％ 例 21 ６−〔４−（４−メトキシフエニルメルカプト）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.142−147℃）
および４−メトキシ−チオフエノールから製造し
た。 m.p.：130.5−133℃ 収率：理論量の82％ 例 22 ６−〔４−（４−メトキシフエニルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例２にならい６−〔４−（４−メトキシフエニル
−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：132−133℃ 収率：理論量の71％ 例 23 ６−〔４−（３，４−ジメトキシフエニルメルカ
プト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例１にならい３，４−ジメトキシチオフエノー
ルおよび６−（４−クロロブトキシ）−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル〔６−ヒドロキシ−カルボ
スチリル（F.Mayer他、Ber.dtsch.chem.Ges.60
巻、858頁（1927年）および４−クロロブチルベ
ンゼンスルホネートから製造〕から製造した。 m.p.：117−119℃ 収率：理論量の73％ 例 24 ６−〔４−（３，４−ジメトキシフエニルスルフ
イニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル 例２にならい６−〔４−（３，４−ジメトキシ−
フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造し
た。 m.p.：145−147℃ 収率：理論量の79％ 例 25 ６−〔４−（３，４−ジメトキシフエニルスルホ
ニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロ−カルボ
スチリル 例３にならい６−〔４−（３，４−ジメトキシ−
フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造し
た。 m.p.：158−160℃ 収率：理論量の62％ 例 26 ６−〔４−（４−ビフエニリルメルカプト）−ブ
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい４−フエニルチオフエノールおよ
び６−（４−ブロモブトキシ）−３，４−ジヒドロ
カルボスチリルから製造した。 m.p.：179.5−181℃ 収率：理論値の74％ 例 27 ６−〔４−（４−ビフエニリルスルフイニル）−
ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−〔４−（４−ビフエニリルメル
カプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：192−192.5℃ 収率：理論量の86％ 例 28 ６−〔４−（２−ナフチルメルカプト）−ブトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい２−ナフチルメルカプタンおよび
６−（４−ブロモブトキシ）−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルから製造した。 m.p.：108.5−109.5℃ 収率：理論量の48％ 例 29 ６−〔４−（２−ナフチルスルフイニル）−ブト
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−〔４−（２−ナフチルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：147.5−148.5℃ 収率：理論量の57％ 例 30 ６−〔５−（２−ピリジルスルフイニル）−ペン
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−〔５−（２−ピリジルメルカプ
ト）−ペントキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：116−118℃ 収率：理論量の69％ 例 31（参考例） ６−（２−メチルスルフイニルエトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル 1.42ｇ（0.006mol）の６−（２−メチルメルカ
プトエトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルを12mlのメタノールに懸濁させ、８mlの水中の
1.71ｇ（0.008mol）のメタ過ヨウ素酸ナトリウム
の溶液を加える。この反応混合物を1.5時間撹拌
すると、初めに反応混合物の明白な加温がみられ
る。続いてこの混合物を少量の水で希釈し、クロ
ロホルムで十分抽出する。蒸発残留物を少量のエ
タノールを加えて酢酸エチルから再結晶する。 m.p.：129−131.5℃ 収率：理論量の70％ 例 32 ６−〔５−（２−ピリジルスルホニル）−ペント
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例３にならい６−〔５−（２−ピリジルメルカプ
ト）−ペントキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：113.5−115.0℃ 収率：理論量の71％ 例 33（参考例） ６−（４−メチルスルフイニルブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−（４−メチルメルカプト−ブ
トキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルおよ
び過酸化水素から製造した。 m.p.：128.5−130.5℃ 収率：理論量の58％ 例 34 ７−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 例３にならい７−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−カルボスチリルおよび過酸化水素か
ら製造した。 m.p.：199−201℃ 収率：理論値の85％ 例 35 ６−（４−シクロヘキシルメルカプトブトキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならいシクロヘキシルメルカプタンおよ
び６−（４−クロロブトキシ）−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル（m.p.：147−148℃）から製造し
た。 m.p.：114−115℃ 収率：理論値の80％ 例 36 ６−（４−シクロヘキシルスルフイニル−ブト
キシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−（４−シクロヘキシルメルカ
プト−ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：153−155.5℃ 収率：理論値の63％ 例 37 ６−（４−ベンジルメルカプト−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならいベンジルメルカプタンおよび６−
（４−クロロブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルから製造した。 m.p.：77.5−78.5℃ 収率：理論値の90％ 例 38 ６−（４−ベンジルスルフイニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−（４−ベンジルメルカプト−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび過酸化水素から製造した。 m.p.：141.5−142℃ 収率：理論値の95％ 例 39 ６−〔４−（２−フリルメチルメルカプト）−ブ
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい２−フリフリルメルカプタンおよ
び６−（４−ブロモブトキシ）−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル（m.p.：142−147℃）から製造し
た。 m.p.：79−80℃ 収率：理論値の64％ 例 40 ６−〔４−（２−フリルメチルスルフイニル）−
ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−〔４−（２−フリルメチルメル
カプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：135−136℃ 収率：理論値の60％ 例 41 ６−〔４−（Ｎ−オキシド−２−ピリジルメルカ
プト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルおよび２−メルカプ
トピリジン−Ｎ−オキシドから製造した。 m.p.：179.5−181℃ 収率：理論値の65％ 例 42 ６−〔４−（２−ピリミジル−メルカプト）−ブ
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（４−クロロブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：147−148
℃）および２−メルカプト−ピリミジンから製造
した。 m.p.：154−156℃ 収率：理論値の79％ 例 43 ６−〔４−（２−ピリミジルスルフイニル）−ブ
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−〔４−（２−ピリミジル−メル
カプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：154−156℃ 収率：理論値の36％ 例 44 ６−〔４−（４−ピリジルメルカプト）−ブトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 1.3ｇの４−メルカプトピリジン、2.3ｇの30％
ナトリウムメトキシド溶液および15mlのメタノー
ルの溶液に3.0ｇの６−（４−ブロモブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリルを加え、室温で
14時間撹拌する。続いてこの溶液を20mlの水で希
釈し、得られた沈殿をエタノールから再結晶す
る。 m.p.：128−129℃ 収量：1.6ｇ（理論値の49％） 例 45 ６−〔４−（２−ベンズイミダゾリルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例１にならい６−（４−クロロブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：147−148
℃）および２−メルカプト−ベンズイミダゾール
から製造した。 m.p.：100−103℃ 収率：理論値の45％ 例 46 ６−〔４−（２−ベンズイミダゾリルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例２にならい６−〔４−（２−ベンズイミダゾリ
ル−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロ
カルボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：180−182℃ 収率：理論値の36％ 例 47 ６−〔４−（２−ベンズチアゾリル−メルカプ
ト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例１にならい６−（４−クロロブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：147−148
℃）および２−メルカプト−ベンズチアゾールか
ら製造した。 m.p.：157−158℃ 収率：理論値の70％ 例 48 ６−〔４−（２−ベンズチアゾリルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例２にならい６−〔４−（２−ベンズチアゾリル
−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：183−184℃ 収率：理論値の69％ 例 49 ６−（２−フエニルメルカプト−エトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならいチオフエノールおよび６−（２−
クロロエトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル（m.p.：152.5−153.5℃）から製造した。 m.p.：132−133.5℃ 収率：理論値の91％ 例 50 ６−（２−フエニルスルフイニル−エトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−（２−フエニルメルカプト−
エトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび過酸化水素から製造した。 m.p.：171−172℃ 収率：理論値の84％ 例 51 ６−（２−フエニルスルホニル−エトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例３にならい６−（２−フエニルメルカプト−
エトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび過酸化水素から製造した。 m.p.：185−186℃ 収率：理論値の94％ 例 52 ６−（３−フエニルメルカプト−プロポキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（３−ブロモプロポキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：111−
118℃）およびチオフエノールから製造した。 m.p.：111−112℃ 収率：理論値の77％ 例 53 ６−（３−フエニルスルフイニル−プロポキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−〔３−（フエニルメルカプト）
−プロポキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：131.5−133.5℃ 収率：理論値の67％ 例 54 １−メチル−６−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル 16.2ｇの６−（４−フエニルメルカプト−ブト
キシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを100ml
のジメチルホルムアミドに溶かし、パラフイン油
中の50％水素化ナトリウム懸濁液4.8ｇをこの溶
液に加える。12.5mlのヨウ化メチルを加えた後、
この混合物を室温で３時間撹拌し、水で希釈し、
クロロホルムで抽出する。蒸発残留物に活性炭を
添加してメタノールから再結晶する。 m.p.：79.5−80.5℃ 収率：理論値の71％ 例 55 １−メチル−６−（４−フエニルスルフイニル
−ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル 例２にならい１−メチル−６−（４−フエニル
−メルカプト−ブトキシ）−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：82−82.5℃ 収率：理論値の60％ 例 56 １−メチル−６−（４−フエニルスルホニル−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例３にならい１−メチル−６−（４−フエニル
−メルカプト−ブトキシ）−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：108−109℃ 収率：理論値の49％ 例 57 ６−（６−フエニルメルカプト−ヘキソキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（６−ブロモヘキソキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：107.5
−108℃）およびチオフエノールから製造した。 m.p.：112.5−113℃ 収率：理論値の34％ 例 58 ６−（６−フエニルスルフイニル−ヘキソキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−（６−フエニルメルカプト−
ヘキソキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
および過酸化水素から製造した。 m.p.：119.5−121.5℃ 収率：理論値の35％ 例 59 ６−（２−ヒドロキシ−３−フエニルメルカプ
ト−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 4.11ｇ（0.04mol）のチオフエノールを40mlの
メタノール中の2.10ｇ（0.03mol）のカリウムメ
トキシドの懸濁液に加えて、清澄な溶液を得る。
次に、撹拌しながら4.38ｇの６−（２，３−エポ
キシプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル（m.p.：125−128℃）を加える。この場合自
己加温下に清澄な溶液を得る。５分後白色結晶ス
ラリーの分離が始まる。一夜放置後この結晶を吸
引過し、少量のメタノールから再結晶する。 m.p.：148−149℃の白色結晶を得る。 収率：理論値の73％ 例 60 ６−（２−ヒドロキシ−３−フエニルスルフイ
ニルプロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例２にならい６−（２−ヒドロキシ−３−フエ
ニル−メルカプトプロポキシ）−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造し
た。 m.p.：185−187℃ 収率：理論値の51％ 例 61 ６−（２−ヒドロキシ−３−フエニルスルホニ
ル−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例３にならい６−（２−ヒドロキシ−３−フエ
ニル−メルカプトプロポキシ）−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造し
た。 m.p.：170−172℃ 収率：理論値の54％ 例 62 ７−（４−フエニルメルカプトブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル 例４にならい７−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル（N.Shigematsu他、Chem.
Pharm.Bull.1961年、970−975頁）および４−フ
エニルメルカプト−ブチルブロミド（bp.0.02：
96−103℃）から製造した。 m.p.：121−123℃ 収率：理論値の72％ 例 63 ７−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例４にならい７−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル（N.Shigematsu他、Chem.
Pharm.Bull.1961年、970−975頁）および４−フ
エニルスルフイニルブチルブロミドから製造し
た。 m.p.：134−136℃ 収率：理論値の80％ 例 64 ７−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例４にならい７−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル（N.Shigematsu他、Chem.
Pharm.Bull.1961年、970−975頁）および４−フ
エニルスルホニルブチルブロミドから製造した。 m.p.：178.5−179.5℃ 収率：理論値の74％ 例 65 ８−（４−フエニルメルカプトブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル 例４にならい８−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル（J.D.Loudon他、J.Chem.
Soc.1955年、743−744頁）および４−フエニルメ
ルカプト−ブチルブロミド（bp.0.02：96−103
℃）から製造した。 m.p.：101−102℃ 収率：理論値の75％ 例 66 ８−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例４にならい８−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル（J.D.Loudon他、J.Chem.
Soc.1955年、743−744頁）およびフエニルスルフ
イニルブチルブロミドから製造した。無色樹脂状
物を得た。 収率：理論値の60％ Rf：0.6（シリカゲル薄層クロマトグラム、溶離
剤：ベンゼン／エタノール／濃アンモニア＝
75／25／１） 例 67 ８−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例３にならい８−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび過酸化水素から製造した。 m.p.：114.5−115℃ 収率：理論値の60％ 例 68 ６−〔４−（２−ベンズチアゾリル−スルホニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例２にならい６−〔４−（２−ベンズチアゾリル
−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：146−149℃ 収率：理論値の61％ 例 69 ６−〔４−（２−キノリルメルカプト）−ブトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（４−ブロムブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.142−147℃）
および２−メルカプト−キノリンから製造した。 m.p.：115℃ 収率：理論値の64％ 例 70 ６−〔４−（２−キナゾリン−４−オン−イル−
メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および２−メルカプトキナゾリン−４−オン
から製造した。 m.p.：184.5−188℃ 収率：理論値の63％ 例 71 ６−（４−トリフエニルメチルメルカプト−ブ
トキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）およびトリフエニル−メチルメルカプタンか
ら製造した。 m.p.：169−170℃ 収率：理論値の89％ 例 72 ６−〔２−（２−ナフチルメルカプト）−エトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（４−クロロブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：147−148
℃）および２−ナフチル−メルカプタンから製造
した。 m.p.：147.5−147.8℃ 収率：理論値の77％ 例 73 ６−〔２−（２−ナフチルスルフイニル）−エト
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−〔２−（２−ナフチルメルカプ
ト）−エトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：186.5−187.5℃ 収率：理論値の88％ 例 74 ６−〔２−（４−ビフエニリルメルカプト）−エ
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（２−クロロエトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：152.5−
153.5℃）および４−メルカプトビフエニルから
製造した。 m.p.：192−194℃ 収率：理論値の92％ 例 75 ６−〔２−（４−ビフエニリル−スルフイニル）
−エトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル 例２にならい６−〔２−（４−ビフエニリルメル
カプト）−エトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：195−196℃ 収率：理論値の66％ 例 76 ６−〔３−（２−ピリジルメルカプト）−プロポ
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（３−ブロモプロポキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリルおよび２−メル
カプトピリジンから製造した。 m.p.：108−108.5℃ 収率：理論値の42％ 例 77 ６−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 1.6ｇの６−（４−フエニルメルカプト−ブトキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを50mlの
メタノールに溶かし、0.9ｇのＮ−ブロモスクシ
ンイミドを加えた。室温で15時間撹拌後、この混
合物を500mlの水（80℃）で希釈し、最初の油状
の残留物から傾斜し、しばらくしてから結晶を得
る。キシレンから再結晶してm.p.144−145℃の白
色結晶を得る。 収量：1.2ｇ（理論値の66％） 例 78 ６−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 3.3ｇの６−（４−フエニルメルカプト−ブトキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを50mlの
メチレンクロリドに溶かし、−70℃まで冷却し、
５mlのメチレンクロリド中の1.5ｇのスルフリル
クロリドの溶液を滴下添加する。15時間後、20ml
の95％エタノールを添加し、冷却浴をとり除いて
この混合物を室温まで加熱し、炭酸ナトリウム水
溶液で中和し、メチレンクロリド層を硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を除く。残留物をトルエンか
ら再結晶する。 m.p.：143−145℃ 収量：2.8ｇ（理論値の81％） 例 79 ５−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例４にならい５−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルおよび４−フエニルメルカプト
ブチルブロミドから製造した。 m.p.：155−157℃ 収率：理論値の64％ 例 80 ５−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例４にならい５−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルおよび４−フエニルスルフイニ
ルブチルブロミドから製造した。 m.p.：136−138℃ 収率：理論値の64％ 例 81 ５−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例４にならい５−ヒドロキシ−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルおよび４−フエニルスルホニル
ブチルブロミドから製造した。 m.p.：187−189℃ 収率：理論値の73％ 例 82 ６−〔４−（２−ナフチルスルホニル）−ブトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例３にならい６−〔４−（２−ナフチルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：173−175℃ 収率：理論値の95％ 例 83 ６−〔４−（４−ビフエニリルスルホニル）−ブ
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例３にならい６−〔４−（４−ビフエニリル−メ
ルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：232−234.5℃ 収率：理論値の83％ 例 84 ６−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例３にならい６−（４−フエニルスルフイニル
−ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
および過酸化水素から製造した。 m.p.：157−158℃ 収率：理論値の88％ 例 85 ６−〔４−（２−ピリジルスルホニル）−ブトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例３にならい６−〔４−（２−ピリジルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造した。 m.p.：123.8−125℃ 収率：理論値の76％ 例 86 ５−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 1.87ｇの２，３−ジクロロ−５，６−ジシアン
ベンゾキノンを45mlのジオキサンに溶かした1.8
ｇの５−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリルに加える。この
溶液を油浴中で2.5時間加熱する。この反応混合
物を熱過し、この反応を通じて生成した不溶性
残留物を熱ジオキサンで洗浄する。合併した液
を100mlのクロロホルムで希釈し、全部で150mlの
2N水酸化ナトリウムで数回抽出する。このクロ
ロホルム抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥し、活性
炭の存在下に過し、残留物を蒸発させ、白色結
晶が沈殿するまで酢酸エチルを加える。 m.p.：182−183℃ 収率：850mg（理論値の47％） 例 87 ５−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 例86にならい５−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび２，３−ジクロロ−５，６−ジシアン−ベン
ゾキノンから製造した。 m.p.：185−187℃ 収率：理論値の40％ 例 88 ５−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
カルボスチリル 0.165mlの30％過酸化水素を８mlの氷酢酸に溶
かし、0.56ｇの５−（４−フエニル−メルカプト
−ブトキシ）−カルボスチリルに加える。この混
合物を水で希釈し、クロロホルムで２回抽出す
る。クロロホルム抽出液を希炭酸ナトリウム溶
液、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸
発させる。残留物を酢酸エチルと混合し、m.
p.155−157℃の無色の結晶を得る。 収量：389mg（理論値の65％） 例 89 ６−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 例86にならい６−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび２，３−ジクロロ−４，５−ジシアン−ベン
ゾキノンから製造した。 m.p.：162−164℃ 収率：理論値の35％ 例 90 ６−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
カルボスチリル 例86にならい６−（４−フエニルスルフイニル
−ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
および２，３−ジクロロ−５，６−ジシアン−ベ
ンゾキノンから製造した。精製するにはこの混合
物をベンゼン／エタノール／濃アンモニア＝75／
25／３の混合物を用いてシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーに付す。 m.p.：181−182.5℃ 収率：理論値の48％ カラムクロマトグラフイーの最初の分画から
m.p.162−164℃の６−（４−フエニルメルカプト
−ブトキシ）−カルボスチリルを理論値の15％の
収率で単離した。 例 91 ６−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 例86にならい６−（４−フエニルスルホニル−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび２，３−ジクロロ−５，６−ジシアン−ベン
ゾキノンから製造した。精製はクロロホルム／メ
タノール／酢酸エチル＝４／１／１を用いてシリ
カゲル（コーンサイズ：0.2−0.5mm）カラムクロ
マトグラフイーを行なう。 m.p.：212−213℃ 収率：理論値の54％ 例 92 ５−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 49ｇの４−フエニルメルカプトブチルブロミド
を32.3ｇの５−ヒドロキシカルボスチリル、30ｇ
の炭酸カリウムおよび650mlのジメチルスルホキ
シドの混合物に加え、モレキユラーシーブで乾燥
する。この混合物を25℃で20時間撹拌し、３の
水で希釈し、結晶化した反応生成物を吸引過す
る。 m.p.：185−187℃（トルエンから） 収率：45.0ｇ（理論値の70％） 例 93 ５−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 例88にならい５−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−カルボスチリルおよび４モルの過酸
化水素から反応温度60℃、反応時間14時間で製造
した。 m.p.：182−183℃ 収率：理論値の73％ 例 94 ６−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 例92にならい６−ヒドロキシカルボスチリルお
よび４−フエニルメルカプトブチルブロミドから
製造した。 m.p.：161−163℃ 収率：理論値の78％ 例 95 ６−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
カルボスチリル 例88にならい６−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−カルボスチリルおよび過酸化水素か
ら製造した。 m.p.：181−182℃ 収率：理論値の68％ 例 96 ６−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
カルボスチリル 例92にならい６−ヒドロキシカルボスチリルお
よび４−フエニルスルフイニルブチルブロミドか
ら製造した。 m.p.：181−182℃ 収率：理論値の71％ 例 97 ７−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
カルボスチリル 例86にならい７−（４−フエニルスルフイニル
−ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
から製造した。 m.p.：193−194℃ 収率：理論値の51％ 例 98 ８−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 例86にならい８−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび２，３−ジクロロ−５，６−ジシアン−ベン
ゾキノンから製造した。 m.p.：119−120℃ 収率：理論値の40％ 例 99 ８−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
カルボスチリル 例88にならい８−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−カルボスチリルから過酸化水素によ
る酸化により製造する。 m.p.：125.5−126.5℃ 収率：理論値の60％ 例 100 ５−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 100mgの５−（４−フエニルスルホニル−ブトキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを30mgの
パラジウム／木炭および１mlのメシチレンと還流
する。3.5時間後、さらに30mgのパラジウム／木
炭を加え、この混合物をさらに９時間加熱する。
続いて、この反応混合物を熱過し、液を蒸発
させ、残留物をベンゼン／エタノール／濃アンモ
ニア＝75／25／３の混合物を用いてシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーに付す。反応を通じて変
化しなかつた出発化合物の他に９mgの５−（４−
フエニルスルホニル−ブトキシ）−カルボスチリ
ルを得る。 m.p.：182−183℃ 例 101 ６−（４−アミノ−イミノメチルメルカプト−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル 18ｇの６−（４−ブロモブトキシ）−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル、５ｇのチオウレアおよび
250mlの水を溶液となるまで加熱沸とうさせる
（約４時間）。冷却後不純物をクロロホルムで抽出
し、残留物をアンモニアでアルカル性とする。沈
殿した結晶を吸引過し、乾燥する。 m.p.：140−141.8℃ 塩酸塩のm.p.：208−211℃ 収率：理論値の90％ 例 102 ６−（４−フエニルスルホニル）−ブトキシ−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 107mgの６−（４−フエニルスルホニル）−ブト
キシ−カルボスチリルを15mlのメタノールに懸濁
させ、40mgのパラシウム／木炭と混合し、50℃で
2.5barの水素圧で14時間水素添加する。触媒を
去し、清澄な溶液を蒸発させ、無色結晶の残留物
を得る。 m.p.：153−154℃ 収量：89mg（理論値の83％） 例 103 ６−（４−ベンジルメルカプト−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 25mlのジメチルスルホキシドに溶かした2.5ｇ
の６−（４−メルカプトブトキシ）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルを撹拌しながら1.4ｇの炭酸
カリウムと、続いて1.3mlのベンジルクロリドと
混合する。室温で15時間撹拌後、この反応混合物
を200mlの水で希釈し、沈殿した油状物質を分離
し、酢酸エチルで再結晶する。 m.p.：76−78℃ 収量：2.8ｇ（理論値の82％） 例 104 ６−（５−フエニルメルカプトペントキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（５−ブロモペントキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリルおよびチオフエ
ノールから製造した。 m.p.：117−119℃ 収率：理論値の71％ 例 105 ６−（５−フエニルスルフイニル−ペントキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例２にならい６−（５−フエニルメルカプトペ
ントキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび過酸化水素から製造した。 m.p.：104−109.5℃ 収率：理論値の66％ 例 106 ６−（５−フエニルスルフイニル−ペントキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例３にならい６−（５−フエニルメルカプト−
ペントキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：136.5−137.8℃ 収率：理論値の62％ 例 107 ６−〔５−（２−ピリジル−メルカプト）−ペン
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（５−ブロモペントキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリルおよび２−メル
カプトピリジンから製造した。 m.p.：113−114.8℃ 収率：理論値の76％ 例 108 ５−（２−ヒドロキシ−３−フエニルメルカプ
ト−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例59にならい５−（２，３−エポキシ−プロポ
キシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルおよび
チオフエノールから製造した。 m.p.：135−137℃ 収率：理論値の64％ 例 109 ５−（２−ヒドロキシ−３−フエニルスルフイ
ニル−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル 例２にならい５−（２−ヒドロキシ−３−フエ
ニル−メルカプト−プロポキシ）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：186−188℃ 収率：理論値の60％ 例 110 ５−（２−ヒドロキシ−３−フエニルスルホニ
ル−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例３にならい５−（２−ヒドロキシ−３−フエ
ニル−メルカプト−プロポキシ）−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：168−170℃ 収率：理論値の53％ 例 111 ６−〔４−（４−ヒドロキシフエニルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルおよび４−ヒドロキ
シチオフエノールから製造する。 m.p.：191.5−193.0℃ 収率：理論値の83％ 例 112 ６−〔４−（４−ヒドロキシフエニルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例２にならい６−〔４−（４−ヒドロキシフエニ
ル−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロ
カルボスチリルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：206−207.8℃ 収率：理論値の84％ 例 113 ６−〔４−（４−ヒドロキシフエニルスルホニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例３にならい６−〔４−（４−ヒドロキシフエニ
ル−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロ
カルボスチリルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：219−219.5℃ 収率：理論値の78％ 例 114 ６−〔４−（４−アセトアミノフエニルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルおよび４−アセトア
ミノチオフエノールから製造する。 m.p.：162.5−163.0℃ 収率：理論値の65％ 例 115 ６−〔４−（４−アセトアミノフエニルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例２にならい６−〔４−（４−アセトアミノフエ
ニル−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：202.0−203.8℃ 収率：理論値の55％ 例 116 ６−〔４−（４−アセトアミノフエニルスルホニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例３にならい６−〔４−（４−アセトアミノフエ
ニル−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒド
ロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：143.5−147.0℃ 収率：理論値の88％ 例 117 ６−〔４−（４，５−ジ−ｐ−クロロフエニル−
オキサゾール−２−イル−メルカプト）−ブト
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例１にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルおよび２−メルカプ
ト−４，５−ジ−ｐ−クロロフエニル−オキサゾ
ールから製造する。 m.p.：110−115℃ 収率：理論値の70％ 例 118 ６−〔４−（２−ピリジルスルフイニル）−ブト
キシ〕−カルボスチリル 例86にならい６−〔４−（２−ピリジルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルおよび２，３−ジクロロ−５，６−ジシアン
−ベンゾキノンから製造する。 m.p.：152−154℃ 収率：理論値の48％ 例 119 ６−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例102にならい６−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−カルボスチリルから触媒としてレニ
ウム−−スルフイドを用いた接触還元により製
造する。 m.p.：121−122℃ 収率：理論値の67％ 例 120 ８−（４−フエニルスルホニル−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 例86にならい８−（４−フエニルスルホニル−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび２，３−ジクロロ−５，６−ジシアン−ベン
ゾキノンから製造する。 m.p.：146−147℃ 収率：理論値の41％ 例 121 ７−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−カ
ルボスチリル 例86にならい７−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび２，３−ジクロロ−５，６−ジシアン−ベン
ゾキノンから製造する。 m.p.：157.5−158.5℃ 収率：理論値の54％ 例 122 ６−〔４−（２，５−ジクロロフエニルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 8.94ｇ（0.03mol）の６−（ブロモブトキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−
147℃）を2.21ｇ（0.0315mol）のカリウムメトキ
シド、5.76ｇ（0.0315mol）の98％２，５−ジク
ロロチオフエノールおよび54mlのメタノールの混
合物に加える。この反応混合物を還流すると、ま
ず清澄な溶液となる。５分後多量の結晶反応生成
物が沈殿し、反応混合物の撹拌はほとんどできな
くなる。１時間後この混合物を室温まで冷却し、
吸引過し、エタノールから再結晶する。m.
p.133−134℃の無色結晶を得る。収量：10.60ｇ
（理論値の89.1％） 例 123 ６−〔４−（２，５−ジクロロフエニルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 5.55ｇ（0.014mol）の６−〔４−（２，５−ジク
ロロフエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−
ジヒドロカルボスチリルを40mlの氷酢酸に懸濁さ
せ、1.5mlの氷酢酸に溶かした、過酸化水素の
40.06％水性溶液1.19ml（0.014mol）と混合し、
室温で撹拌する。この懸濁液は清澄になり、ほと
んど清澄な溶液を得る。70時間後白色結晶が沈殿
する。これを吸引過し、エタノールから再結晶
する。 m.p.：185−186℃ 収量：5.43ｇ（理論値の94.1％） 例 124 ６−〔４−（２，５−ジクロロフエニルスルホニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 2.97ｇ（0.0075mol）の６−〔４−（２，５−ジ
クロロフエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４
−ジヒドロカルボスチリルを15mlの氷冷ギ酸に加
え、1.49mlの40.08％過酸化水素（0.0175mol）と
混合する。2.5時間撹拌後この混合物を水で３回
希釈する。沈殿した結晶をエタノールから再結晶
する。 m.p.：174.5−175.5℃ 収量：1.99ｇ（理論値の61.9％） 例 125 ６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルスルホニ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例124にならい６−〔４−（３，４−ジクロロフ
エニル−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル（m.p.：116.5−118℃）およ
び過酸化水素から製造する。 m.p.：172−173℃ 収率：理論値の96％ 例 126 ６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert
−ブチル−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および４−ヒドロキシ３，５−ジ−tert−ブ
チルチオフエノールから製造する。 m.p.：146−147℃ 収率：理論値の68.8％ 例 127 ６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert
−ブチル−フエニルスルフイニル）−ブトキシ〕
−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，
５−ジ−tert−ブチル−フエニルメルカプト）−
ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび過酸化水素から製造する。 m.p.：170−171℃ 収率：理論値の80.7％ 例 128 ６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert
−ブチル−フエニルスルホニル）−ブトキシ〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例124にならい６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，
５−ジ−tert−ブチル−フエニルメルカプト）−
ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリルお
よび過酸化水素から製造する。 m.p.：165−167℃ 収率：理論値の97.6％ 例 129 ６−〔４−（２−カルボキシフエニルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルおよび２−チオ安息
香酸から製造する。 m.p.：176−179℃ 収率：理論値の57.5％ 例 130 ６−〔４−（２−カルボキシ−フエニルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例123にならい６−〔４−（２−カルボキシ−フ
エニル−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：194−196℃ 収率：理論値の77.2％ 例 131 ６−〔４−（４−ピリジルスルフイニル）−ブト
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例123にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリルと４−メルカプトピ
リジンを反応させ、得られた６−〔４−（４−ピリ
ジルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロ
カルボスチリル（m.p.：128−133℃）を例123に
ならい過酸化水素で酸化して製造する。 m.p.：154℃ 収率：理論値の57％ 例 132 ６−〔４−（４−ピリジルスルホニル）−ブトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例124にならい６−〔４−（４−ピリジルメルカ
プト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：179−183℃ 収率：理論値の35.9％ 例 133 ６−〔３−（３，４−ジクロロフエニルスルフイ
ニル）−２−ヒドロキシ−プロポキシ〕−３，４
−ジヒドロカルボスチリル 3.51ｇ（0.016mol）の６−（２，３−エポキシ
−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル（m.p.：125−128℃）を35mlのメタノールに溶
かし、4.29ｇの３，４−ジクロロチオフエノール
と混合する。この混合物を５時間加熱沸とうさせ
る。冷却後、結晶を得る。これを吸引過し、エ
タノールから再結晶する。 m.p.：175−176℃ 収量：2.48ｇ（理論値の38.9％） このようにして得た６−〔３−（３，４−ジクロ
ロフエニルメルカプト）−２−ヒドロキシ−プロ
ポキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリルを例
123にならい過酸化水素で酸化する。 m.p.：108−110℃ 収率：理論値の75％ 例 134 ６−（３−ベンジルメルカプト−プロポキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例122にならい６−（３−ブロモプロポキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−
147℃）およびベンジルメルカプタンから製造す
る。 m.p.：97.5−99.0℃ 収率：理論値の58％ 例 135 ６−（３−ベンジルスルフイニル−プロポキシ）
−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例123にならい６−（３−ベンジルメルカプト）
−３，４−ジヒドロカルボスチリルおよび過酸化
水素から製造した。 m.p.：144.5−147.0℃ 収率：理論値の51％ 例 136（参考例） ５−（３−tert−ブチルメルカプト−２−ヒド
ロキシ−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル 例133にならい５−（２，３−エポキシ−プロポ
キシ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル（m.
p.：171−173℃）およびtert−ブチル−メルカプ
タンから製造する。 m.p.：105−109℃ 収率：理論値の77.1％ 例 137（参考例） ５−（３−tert−ブチルスルフイニル−２−ヒ
ドロキシ−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリル 例123にならい６−（３−tert−ブチルメルカプ
ト−２−ヒドロキシ−プロポキシ）−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造
する。 m.p.：175−177℃ 収率：理論値の52.1％ 例 138（参考例） ５−（３−tert−ブチルスルホニル−２−ヒド
ロキシ−プロポキシ）−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル 例124にならい６−（３−tert−ブチルメルカプ
ト−２−ヒドロキシ−プロポキシ）−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造
する。 m.p.：210−212℃ 収率：理論値の37.1％ 例 139 ６−〔４−（２−ピリジル−スルホニル）−ブト
キシ〕−カルボスチリル 例124にならい６−〔４−（２−ピリジル−スル
フイニル）−ブトキシ〕−カルボスチリルおよび過
酸化水素から製造する。 m.p.：179−180℃ 収率：理論値の65.8％ 例 140 ４−メチル−６−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−カルボスチリル 5.25ｇ（0.03mol）の４−メチル−６−ヒドロ
カルボスチリル〔m.p.：326−330℃、R.R.
Holmes他、J.Amer.Chem.Soc.76巻、2404頁
（1954年）参照〕、8.09ｇ（0.033mol）の４−フエ
ニルメルカプトブチル−ブロミドおよび6.22ｇ
（0.045mol）の炭酸カリウムを70mlのジメチルス
ルホキシド中で16時間室温で撹拌する。続いて、
この混合物を水で希釈し、沈殿した結晶を乾燥後
トルエンから再結晶する。 m.p.：148−150℃ 収量：6.2ｇ（理論値の61.2％） 例 141 ４−メチル−６−（４−フエニルスルフイニル
−ブトキシ）−カルボスチリル 例140にならい４−メチル−６−ヒドロキシ−
カルボスチリル（m.p：326−330℃）および４−
フエニルスルフイニルブチルブロミドから製造す
る。 m.p.：167−168℃ 収率：理論値の47.3％ 例 142 ４−メチル−６−（４−フエニルスルホニル−
ブトキシ）−カルボスチリル 例140にならい４−メチル−６−ヒドロキシ−
カルボスチリル（m.p.：326−330℃）および４−
フエニルスルホニルブチルブロミドから製造す
る。 m.p.：217−219℃ 収率：理論値の66.6％ 例 143 ４−メチル−６−〔４−（２−ピリジルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−カルボスチリル 例122にならい４−メチル−６−（４−ブロモブ
トキシ）−カルボスチリル（m.p.：217−219℃）
および２−メルカプトピリジンから製造する。 m.p.：149−151℃ 収率：理論値の85.7％ 例 144 ４−メチル−６−〔４−（２−ピリジルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕−カルボスチリル 例123にならい４−メチル−６−〔４−（２−ピ
リジルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：167−169℃ 収率：理論値の61.8％ 例 145 ４−メチル−６−〔４−（２−ピリジルスルホニ
ル）−ブトキシ〕−カルボスチリル 例124にならい４−メチル−６−〔４−（２−ピ
リジルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：195−197℃ 収率：理論値の29.5％ 例 146 ４−メチル−６−〔４−（２−キノリルメルカプ
ト）−ブトキシ〕−カルボスチリル 例122にならい４−メチル−６−（４−ブロモブ
トキシ）−カルボスチリルおよび２−メルカプト
キノリンから製造する。 m.p.：162−163℃ 収率：理論値の81.9％ 例 147 ４−メチル−６−〔４−（２−キノリルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕−カルボスチリル 例123にならい４−メチル−６−〔４−（２−キ
ノリンメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：189−190℃ 収率：理論値の47.5％ 例 148 ４−メチル−６−〔４−（２−キノリルスルホニ
ル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例124にならい４−メチル−６−〔４−（２−キ
ノリルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：199−203℃ 収率：理論値の31.5％ 例 149 ４−メチル−６−〔４−（４−ビフエニリルスル
フイニル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい４−メチル−６−〔４−（４−ビ
フエニリルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチ
リル（m.p.：174−176℃）および過酸化水素から
製造する。 m.p.：161−162℃ 収率：理論値の59％ 例 150 ６−〔４−（４−クロロフエニルメルカプト）−
ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−クロロブトキシ）カル
ボスチリル（m.p.：206−208℃）および４−クロ
ロチオフエノールから製造する。 m.p.：168−170℃ 収率：理論値の85％ 例 151 ６−〔４−（４−クロロフエニルスルフイニル）
−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−クロロフエニル
メルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよび
過酸化水素から製造する。 m.p.：157−158℃ 収率：理論値の81％ 例 152 ６−〔４−（４−クロロフエニルスルホニル）−
ブトキシ〕カルボスチリル 例124にならい６−〔４−（４−クロロフエニル
メルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよび
過酸化水素から製造する。 m.p.：197−199℃ 収率：理論値の99％ 例 153 ６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルメルカプ
ト）−ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：198−199℃）および３，４
−ジクロロチオフエノールから製造する。 m.p.：149−152℃ 収率：理論値の60％ 例 154 ６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（３，４−ジクロロフ
エニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：191−196℃ 収率：理論値の87％ 例 155 ６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルスルホニ
ル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例124にならい６−〔４−（３，４−ジクロロフ
エニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：188−190℃ 収率：理論値の83％ 例 156 ６−〔４−（２，５−ジクロロフエニルメルカプ
ト）−ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリルおよび２，５−ジクロロチオフエノ
ールから製造する。 m.p.：175−176℃ 収率：理論値の85％ 例 157 ６−〔４−（２，５−ジクロロフエニルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（２，５−ジクロロフ
エニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：200−202℃ 収率：理論値の75％ 例 158 ６−〔４−（２，５−ジクロロフエニルスルホニ
ル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例124にならいギ酸中で６−〔４−（２，５−ジ
クロロフエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボ
スチリルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：203−205℃ 収率：理論値の79％ 例 159 ６−〔４−（４−フルオロフエニルメルカプト）
−ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリルおよび４−フルオロチオフエノール
から製造する。 m.p.：149−150℃ 収率：理論値の85％ 例 160 ６−〔４−（４−フルオロフエニルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−フルオロフエニ
ルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよ
び過酸化水素から製造する。 m.p.：164−165℃ 収率：理論値の50％ 例 161 ６−〔４−（４−フルオロフエニルスルホニル）
−ブトキシ〕カルボスチリル 例124にならいギ酸中で６−〔４−（４−フルオ
ロフエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：209−211℃ 収率：理論値の59％ 例 162 ６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert
−ブチル−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−
カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p：198−199℃）および４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジ−tert−ブチル−チオフエ
ノール（m.p.：84.5−86.0℃）から製造する。 m.p.：172−173℃ 収率：理論値の77％ 例 163 ６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert
−ブチルフエニルスルフイニル）−ブトキシ〕−
カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，
５−ジ−tert−ブチルフエニルメルカプト）−ブ
トキシ〕カルボスチリルおよび過酸化水素から製
造する。 m.p.：192−194℃ 収率：理論値の83％ 例 164 ６−〔４−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−tert
−ブチルフエニルスルホニル）−ブトキシ〕−カ
ルボスチリル 例124にならいギ酸中で６−〔４−（４−ヒドロ
キシ−３，５−ジ−tert−ブチルフエニルメルカ
プト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよび過酸化
水素から製造する。 m.p.：242−244℃ 収率：理論値の92％ 例 165 ６−〔４−（４−ビフエニリルメルカプト）−ブ
トキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：198−199℃）および４−ビ
フエニルメルカプタンから製造する。 m.p.：191−192℃ 収率：理論値の82％ 例 166 ６−〔４−（４−ビフエニリルスルフイニル）−
ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−ビフエニリルメ
ルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよび過
酸化水素から製造する。 m.p.：196−197℃ 収率：理論値の80％ 例 167 ６−〔４−（４−ビフエニリルスルホニル）−ブ
トキシ〕カルボスチリル 例124にならい６−〔４−（４−ビフエニリルメ
ルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよび過
酸化水素から製造する。 m.p.：213−215℃ 収率：理論値の73％ 例 168 ６−〔４−（４−ニトロ−フエニルメルカプト）
−ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：198−199℃）および４−ニ
トロチオフエノールから製造する。 m.p.：184−185℃ 収率：理論値の96％ 例 169 ６−〔４−（４−ニトロ−フエニルスルフイニ
ル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−ニトロ−フエニ
ルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよ
び過酸化水素から製造する。 m.p.：183−184℃ 収率：理論値の77％ 例 170 ６−〔４−（４−ニトロ−フエニルスルホニル）
−ブトキシ〕カルボスチリル 例124にならいギ酸中で６−〔４−（４−ニトロ
−フエニルスルフイニル）−ブトキシ〕カルボス
チリルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：230−232℃ 収率：理論値の70％ 例 171 ６−〔４−（２−キノリルメルカプト）−ブトキ
シ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：132℃）および２−メルカ
プトキノリンから製造する。 m.p.：132℃ 収率：理論値の99％ 例 172 ６−〔４−（２−キノリルスルフイニル）−ブト
キシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（２−キノリルメルカ
プト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよび過酸化
水素から製造する。 m.p.：161−162℃ 収率：理論値の66％ 例 173 ６−〔４−（２−キノリルスルホニル）−ブトキ
シ〕カルボスチリル 例124にならいギ酸中で６−〔４−（２−キノリ
ル−スルフイニル）−ブトキシ〕カルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：197−198℃ 収率：理論値の58％ 例 174 ５−（４−フエニルメルカプト−ブトキシ）−オ
キシンドール 例140にならい５−ヒドロキシオキシンドール
（J.Chem.Soc.1961、2723）および４−フエニル
メルカプトブチルブロミドから製造する。 m.p.：131−132℃ 収率：理論値の13％ 例 175 ５−（４−フエニルスルフイニル−ブトキシ）−
オキシンドール 例123にならい５−（４−フエニルメルカプト−
ブトキシ）−オキシンドールおよび過酸化水素か
ら製造する。 m.p.：114−116℃ 収率：理論値の61％ 例 176 ６−〔２−（フエニルスルフイニルメチル）−ベ
ンジルオキシ〕−３，４−ジヒドロ−カルボス
チリル 67.1ｇのフタリド、51.3mlのチオフエノール、
35.1ｇのカリウムメトキシドおよび250mlのメタ
ノールの混合物を還流する。続いて、得られた２
−フエニルメルカプトメチル安息香酸（収率：理
論値の78％、m.p.：108−110℃）を−40℃に放置
しながらメタノール／チオニルクロリドでエステ
ル化する。室温で一夜放置後メチル２−フエニル
メルカプトメチル−ベンゾエート（収率：理論値
の89％、b.p.0.07：145℃）を得、これをジエチル
エーテル中で水素化アルミニウムリチウムでの環
元により２−フエニルメルカプトメチル−フエニ
ルカルビノール（収率：理論値の97％、m.p.：64
−65℃）に変換する。この化合物をｐ−トルエン
スルホニルクロリドを加えて反応させ２−フエニ
ルメルカプトメチル−フエニル−メチル−ｐ−ト
ルエンスルホネートを得る（薄層クロマトグラ
ム：シリカゲル；溶離剤：クロロホルム／酢酸エ
チル＝１：１；Rf値＝0.8、収率：理論値の55
％）。このエステルを例140にならい６−ヒドロキ
シ−３，４−ジヒドロカルボスチリルと反応させ
て６−〔２−（フエニルメルカプトメチル）−ベン
ジルオキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル
を得る（薄層クロマトグラム：シリカゲル；溶離
剤：クロロホルム／酢酸エチル＝１：１；Rf値
＝0.35；収率：理論値の64％）。 この化合物を例123にならい過酸化で酸化して
６−〔２−（フエニルスルフイニルメチル）−ベン
ジルオキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル
を得る。 m.p.：133−135℃ 収率：理論値の64％ 例 177 ６−〔４−（フエニルメルカプトメチル）−ベン
ジルオキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル ｐ−キシリレンジクロリドをジメチルスルホキ
シド中で過剰の炭酸カリウムの存在下にモル比
１：１でチオフエノールと反応させる。得られた
４−フエニルメルカプトメチル−ベンジルクロリ
ド（コントロール：薄層クロマトグラム）を単離
することなくさらに例140にならい６−ヒドロキ
シ−３，４−ジヒドロカルボスチリルと反応させ
る。 m.p.：139−141℃ 収率：理論値の52％ 例 178 ６−〔４−（フエニルスルフイニルメチル）−ベ
ンジルオキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例123にならい６−〔４−（フエニルメルカプト
メチル）−ベンジルオキシ〕−３，４−ジヒドロカ
ルボスチリルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：179−181℃ 収率：理論値の61％ 例 179 ６−（４−シクロヘキシルメルカプト−ブトキ
シ）−カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：198−199℃）およびシクロ
ヘキシルメルカプタンから製造する。 m.p.：153−159℃ 収率：理論値の89％ 例 180 ６−（４−シクロヘキシルスルフイニル−ブト
キシ）−カルボスチリル 例123にならい６−（４−シクロヘキシル−メル
カプト−ブトキシ）−カルボスチリルおよび過酸
化水素から製造する。 m.p.：169−170℃ 収率：理論値の57％ 例 181 ６−〔４−（４−ブロモフエニルメルカプト）−
ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：198−199℃）および４−ブ
ロモチオフエノールから製造する。 m.p.：156−158℃ 収率：理論値の53％ 例 182 ６−〔４−（４−ブロモフエニルスルフイニル）
−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−ブロモフエニル
メルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよび
過酸化水素から製造する。 m.p.：168−170℃ 収率：理論値の65％ 例 183 ６−〔４−（３−メチル−４−ブロモ−フエニル
メルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：189−199℃）および３−メ
チル−４−ブロモ−チオ−フエノールから製造す
る。 m.p.：167−169℃ 収率：理論値の76％ 例 184 ６−〔４−（３−メチル−４−ブロモ−フエニル
スルフイニル）−ブトキシ〕−カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（３−メチル−４−ブ
ロモ−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボ
スチリルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：169−172℃ 収率：理論値の79％ 例 185 ６−〔４−（３−メチル−４−ブロモ−フエニル
スルホニル）−ブトキシ〕−カルボスチリル 例124にならい６−〔４−（３−メチル−４−ブ
ロモ−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボ
スチリルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：163−167℃ 収率：理論値の57％ 例 186 ６−〔４−（１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル−メルカプト）−ブトキシ〕−カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリルおよび３−メルカプト−１，２，４
−トリアゾールから製造する。 m.p.：203−206℃ 収率：理論値の82％ 例 187 ６−〔４−（２，４，５−トリクロロフエニルメ
ルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：198−199℃）および２，
４，５−トリクロロチオフエノールから製造す
る。 m.p.：177−178℃ 収率：理論値の83％ 例 188 ６−〔４−（２，４，５−トリクロロフエニルス
ルフイニル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（２，４，５−トリク
ロロフエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボス
チリルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：206−208℃ 収率：理論値の98％ 例 189 ６−〔４−（３，５−ジブロモ−４−アミノ−フ
エニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および３，５−ジブロモ−４−アミノ−チオ
フエノールから製造する。 m.p.：90−92℃ 収率：理論値の89％ 例 190 ６−〔４−（３，５−ジブロモ−４−アミノ−フ
エニル−スルフイニル）−ブトキシ〕−３，４−
ジヒドロカルボスチリル 例123にならい６−〔４−（３，５−ジブロモ−
４−アミノ−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリルおよび過酸化水
素から製造する。 m.p.：144−146℃ 収率：理論値の76％ 例 191 ６−〔４−（３，５−ジグロモ−４−アミノ−フ
エニルスルホニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル 例124にならい６−〔４−（３，５−ジブロモ−
４−アミノフエニルスルフイニル）−ブトキシ〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリルおよび過酸化水
素から製造する。 m.p.：157−159℃ 収率：理論値の87％ 例 192 ６−〔４−（３，５−ジブロモ−４−アミノ−フ
エニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリ
ル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：198−199℃）および３，５
−ジブロモ−４−アミノ−チオフエノールから製
造する。 m.p.：153−155℃ 収率：理論値の86％ 例 193 ６−〔４−（３，５−ジブロモ−４−アミノ−フ
エニルスルフイニル）−ブトキシ〕カルボスチ
リル 例123にならい６−〔４−（３，５−ジブロモ−
４−アミノ−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕
カルボスチリルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：205−207℃ 収率：理論値の79％ 例 194 ６−〔４−（３，５−ジブロモ−４−アミノ−フ
エニルスルホニル）−ブトキシ〕カルボスチリ
ル 例124にならいギ酸中で６−〔４−（３，５−ジ
ブロモ−４−アミノ−フエニルメルカプト）−ブ
トキシ〕カルボスチリルおよび過酸化水素から製
造する。 m.p.：238−241℃ 収率：理論値の87％ 例 195 ６−〔４−（４−ブロモ−３−メチル−フエニル
メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロ−
カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および４−ブロモ−３−メチル−チオフエノ
ールから製造する。 m.p.：104−109℃ 収率：理論値の81％ 例 196 ６−〔４−（４−ブロモ−３−メチル−フエニル
スルフイニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロ
−カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−ブロモ−３−メ
チル−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４
−ジヒドロカルボスチリルおよび過酸化水素から
製造する。 m.p.：129−130℃ 収率：理論値の75％ 例 197 ６−〔４−（２，５−ジブロモ−フエニルメルカ
プト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および２，５−ジブロモ−チオフエノールか
ら製造する。 m.p.：127−129℃ 収率：理論値の75％ 例 198 ６−〔４−（２，５−ジブロモ−フエニルスルフ
イニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル 例123にならい６−〔４−（２，５−ジブロモ−
フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：182−184℃ 収率：理論値の84％ 例 199 ６−〔４−（２，５−ジブロモ−フエニルメルカ
プト）−ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：198−199℃）および２，５
−ジブロモ−チオフエノールから製造する。 m.p.：178−185℃ 収率：理論値の67％ 例 200 ６−〔４−（２，５−ジブロモ−フエニルスルフ
イニル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（２，５−ジブロモ−
フエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリ
ルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：187−189℃ 収率：理論値の45％ 例 201 ６−〔３−（３，４−ジクロロ−フエニルメルカ
プト）−プロポキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル 例122にならい６−（３−ブロモプロポキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：111−
118℃）および３，４−ジクロロ−チオフエノー
ルから製造する。 m.p.：106−107℃ 収率：理論値の76％ 例 202 ６−〔３−（３，４−ジクロロ−フエニルスルフ
イニル）−プロポキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル 例123にならい６−〔３−（３，４−ジクロロ−
フエニルメルカプト）−プロポキシ〕−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造
する。 m.p.：170−172℃ 収率：理論値の84％ 例 203 ６−〔４−（４−シクロヘキシル−フエニルメル
カプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および４−シクロヘキシル−チオフエノール
から製造する。 m.p.：118−120℃ 収率：理論値の68％ 例 204 ６−〔４−（４−シクロヘキシル−フエニルスル
フイニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−シクロヘキシル
−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造
する。 m.p.：155−157℃ 収率：理論値の65％ 例 205 ６−〔４−（４−シクロヘキシル−フエニルスル
ホニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル 例124にならい６−〔４−（４−シクロヘキシル
−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造
する。 m.p.：172−174℃ 収率：理論値の52％ 例 206 ６−〔４−（４−シクロヘキシル−フエニルメル
カプト）−ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：188−189℃）および４−シ
クロヘキシルチオフエノールから製造する。 m.p.：165−167℃ 収率：理論値の64％ 例 207 ６−〔４−（４−シクロヘキシル−フエニルスル
フイニル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−シクロヘキシル
−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：188−190℃ 収率：理論値の64％ 例 208 ６−〔４−（４−シクロヘキシル−フエニルスル
ホニル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例124にならい６−〔４−（４−シクロヘキシル
−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：185−186℃ 収率：理論値の87％ 例 209 ６−〔４−（４−tert−ブチル−フエニルメルカ
プト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および４−tert−ブチル−チオフエノールか
ら製造する。 m.p.：126−127℃ 収率：理論値の86％ 例 210 ６−〔４−（４−tert−ブチル−フエニルスルフ
イニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル 例123にならい６−〔４−（４−tert−ブチル−
フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：121−123℃ 収率：理論値の67％ 例 211 ６−〔４−（４−tert−ブチル−フエニルスルホ
ニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例124にならい６−〔４−（４−tert−ブチル−
フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：198−200℃ 収率：理論値の83％ 例 212 ６−〔４−（４−tert−ブチル−フエニルメルカ
プト）−ブトキシ〕カルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−カ
ルボスチリル（m.p.：198−199℃）および４−
tert−ブチルチオフエノールから製造する。 m.p.：156−158℃ 収率：理論値の63％ 例 213 ６−〔４−（４−tert−ブチル−フエニルスルフ
イニル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例123にならい６−〔４−（４−tert−ブチル−
フエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリ
ルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：164−166℃ 収率：理論値の74％ 例 214 ６−〔４−（４−tert−ブチル−フエニルスルホ
ニル）−ブトキシ〕カルボスチリル 例124にならい６−〔４−（４−tert−ブチル−
フエニルメルカプト）−ブトキシ〕カルボスチリ
ルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：203−205℃ 収率：理論値の56％ 例 215 ６−〔４−（２−キノリルスルフイニル）−ブト
キシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例123にならい６−〔４−（２−キノリルメルカ
プト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造する。 m.p.：154−157℃ 収率：理論値の79％ 例 216 ６−〔４−（２−キノリルスルホニル）−ブトキ
シ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例124にならい６−〔４−（２−キノリルメルカ
プト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リルおよび過酸化水素から製造する。 Rf値：0.50（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
ベンゼン／エタノール／濃アンモニア＝75／
25／２） 収率：理論値の72％ 例 217 ６−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシル−
カルバミドメチルメルカプト）−エトキシ〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例122にならい６−（２−クロロエトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：152.5−
153.5℃）およびＮ−メチル−Ｎ−シクロヘキシ
ル−チオグリコール酸アミドから製造する。 Rf値：0.46（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） 収率：理論値の63％ 例 218 ６−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシル−
カルバミドメチルスルフイニル）−エトキシ〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例123にならい６−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−シ
クロヘキシルカルバミドメチルメルカプト）−エ
トキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリルおよ
び過酸化水素から製造する。 Rf値：0.34（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） m.p.：143−146℃ 収率：理論値の48％ 例 219 ６−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシル−
カルバミドメチルスルホニル）−エトキシ〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリル 例124にならいギ酸中で６−〔２−（Ｎ−メチル
−Ｎ−シクロヘキシルカルバミドメチルメルカプ
ト）−エトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルおよび過酸化水素から製造する。 Rf値：0.48（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） m.p.：110−111℃ 収率：理論値の45％ 例 220 ６−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシル−
カルバミドメチルメルカプト）−エトキシ〕−カ
ルボスチリル 例122にならい６−（２−クロロエトキシ）−カ
ルボスチリル〔Rf値：0.30（シリカゲル螢光プレ
ート；溶離剤：エチレンクロリド／メタノール＝
95／５）〕およびＮ−メチル−Ｎ−シクロヘキシ
ル−チオグリコール酸アミドから製造する。 Rf値：0.41（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） 収率：理論値の62％ 例 221 ６−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシル−
カルバミドメチルスルフイニル）−エトキシ〕−
カルボスチリル 例123にならい６−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−シ
クロヘキシル−カルバミドメルカプト）−エトキ
シ〕カルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 Rf値：0.027（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） m.p.：128−130℃ 収率：理論値の65％ 例 222 ６−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシル−
カルバミドメチルスルホニル）−エトキシ〕−カ
ルボスチリル 例124にならい６−〔２−（Ｎ−メチル−Ｎ−シ
クロヘキシル−カルバミドメルカプト）−エトキ
シ〕カルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 Rf値：0.39（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） 収率：理論値の67％ 例 223 ６−〔３−（３，４−ジクロロフエニルスルホニ
ル）−プロポキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例124にならい６−〔３−（３，４−ジクロロフ
エニルメルカプト）−プロポキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：187−188℃ 収率：理論値の87％ 例 224 ６−〔５−（３，４−ジクロロフエニルメルカプ
ト）−ペントキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例122にならい６−（５−ブロモペントキシ）−
３，４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：97−98
℃） および３，４−ジクロロチオフエノールから製
造する。 m.p.：101−104℃ 収率：理論値の69％ 例 225 ６−〔５−（３，４−ジクロロフエニルスルフイ
ニル）−ペントキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル 例123にならい６−〔５−（３，４−ジクロロ−
フエニルメルカプト）−ペントキシ〕−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造
する。 m.p.：165−166℃ 収率：理論値の74％ 例 226 ６−〔５−（３，４−ジクロロフエニルスルホニ
ル）−ペントキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル 例124にならい６−〔５−（３，４−ジクロロフ
エニルメルカプト）−ペントキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリルおよび過酸化水素から製造す
る。 m.p.：176−178℃ 収率：理論値の65％ 例 227 ６−〔４−（２−メチル−４−tert−ブチル−フ
エニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および２−メチル−４−tert−ブチルチオフ
エノールから製造する。 m.p.：81−85℃ 収率：理論値の91％ 例 228 ６−〔４−（２−メチル−４−tert−ブチル−フ
エニルスルフイニル）−ブトキシ〕−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル 例123にならい６−〔４−（２−メチル−４−
tert−ブチル−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕
−３，４−ジヒドロカルボスチリルおよび過酸化
水素から製造する。 樹脂状物質。 Rf値：0.54（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） 例 229 ６−〔４−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ
−フエニルメルカプト）−ブトキシ〕−３，４−
ジヒドロカルボスチリル 例122にならい保護気体として窒素中で６−（４
−ブロモブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボス
チリル（m.p.：142−147℃）および３，４−ジク
ロロ−４−ヒドロキシ−チオフエノールから製造
する。 m.p.：110−114℃ 収率：理論値の94％ 例 230 例 230 ５−ブロモ−６−（４−フエニルメルカプトブ
トキシ）−カルボスチリル 例122にならい５−ブロモ−６−（４−ブロモ−
ブトキシ）−カルボスチリル〔６−（４−ブロモ−
ブトキシ）−カルボスチリルを臭素化してつくる〕
およびチオフエノールから製造する。 m.p.：209−213℃ 収率：理論値の41％ 例 231 ５−ニトロ−６−（４−フエニル−メルカプト
ブトキシ）−カルボスチリル 例122にならい５−ニトロ−６−（４−ブロモ−
ブトキシ）−カルボスチリル〔m.p.：250℃、６−
（４−ブロモブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルをニトロ化してつくる〕およびチオフエ
ノールから製造する。 m.p.：228−230℃ 収率：理論値の71％ 例 232 ５−ニトロ−６−（４−フエニルスルフイニル
ブトキシ）−カルボスチリル 例123にならい５−ニトロ−６−（４−フエニル
−メルカプトブトキシ）−カルボスチリルおよび
過酸化水素から製造する。 m.p.：192−194℃ 収率：理論値の91％ 例 233 ５−アセトアミノ−６−（４−フエニルメルカ
プトブトキシ）−カルボスチリル 例122にならい５−アセトアミノ−６−（４−ブ
ロモ−ブトキシ）−カルボスチリル〔５−ニトロ
−６−（４−ブロモブトキシ）−カルボスチリルに
無水酢酸を添加して酢酸中亜鉛で還元してつく
る〕およびチオフエノールから製造する。 m.p.：238−240℃ 収率：理論値の80％ 例 234 ５−アセトアミノ−６−（４−フエニルスルフ
イニルブトキシ）−カルボスチリル 例123にならい５−アセトアミノ−６−（４−フ
エニルメルカプト−ブトキシ）−カルボスチリル
および過酸化水素から製造する。 m.p.：213−217℃ 収率：理論値の47％ 例 235 ５−ブロモ−６−（４−フエニルスルフイニル
ブトキシ）−カルボスチリル 例123にならい５−ブロモ−６−（４−フエニル
−メルカプトブトキシ）−カルボスチリルおよび
過酸化水素から製造する。 m.p.：190−191℃ 収率：理論値の82％ 例 236 ４−メチル−６−〔４−（２−ピリジルスルフイ
ニル）−ブトキシ〕カルボスチリル ５mlの氷酢酸に溶かした0.170ｇ（0.0005mol）
の４−メチル−６−〔４−（２−ピリジルメルカプ
ト）−ブトキシ〕カルボスチリルおよび６mlの水
に溶かした0.107ｇ（0.0005mol）のメタ過ヨウ素
酸ナトリウムを混合し、室温で22時間放置する。
続いてこの溶液を20mlの水で希釈し、反応生成物
をクロロホルムで抽出する。抽出液を炭酸水素ナ
トリウム溶液で一回振とうし、水を含まない硫酸
マグネシウムで乾燥する。有機層を蒸発後、得ら
れた残留物をトルエンから再結晶する。 m.p.：166−168℃ 収量：0.04ｇ（理論値の22.5％） 例 237 ６−（４−tert−ブチルスルフイニル−ブトキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリル 例123にならい６−（４−tert−ブチル−メルカ
プト−ブトキシ）−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル（m.p.：117−118℃）および過酸化水素から
製造する。 m.p.：126−128℃ 収率：理論値の62％ 例 238 ６−〔４−（３−ヒドロキシ−ピリジン−２−イ
ル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および３−ヒドロキシ−２−メルカプト−ピ
リジンから製造する。 m.p.：211−216℃ 収率：理論値の58％ 例 239 ６−〔４−（１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル−スルフイニル）−ブトキシ〕カルボスチリ
ル 例123にならい６−〔４−（１，２，４−トリア
ゾール−３−イル−メルカプト）−ブトキシ〕カ
ルボスチリルおよび過酸化水素から製造する。 Rf値：0.12（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） 例 240 ６−〔４−（１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル−メルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および３−メルカプト−１，２，４−トリア
ゾールから製造する。 m.p.：152−154℃ 収率：理論値の82％ 例 241 ６−〔４−（１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル−スルフイニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル 例123にならい６−〔４−（１，２，４−トリア
ゾール−３−イル−メルカプト）−ブトキシ〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリルおよび過酸化水
素から製造する。 Rf値：0.18（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） 例 242 ６−〔４−（１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル−スルホニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒド
ロカルボスチリル 例124にならい６−〔４−（１，２，４−トリア
ゾール−３−イル−メルカプト）−ブトキシ〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリルおよび過酸化水
素から製造する。 Rf値：0.22（シリカゲル螢光プレート；溶離剤：
エチレンクロリド／メタノール＝95／５） m.p.：217−224℃ 例 243 ６−〔４−（２，４，５−トリクロロフエニルメ
ルカプト）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカル
ボスチリル 例122にならい６−（４−ブロモブトキシ）−３，
４−ジヒドロカルボスチリル（m.p.：142−147
℃）および２，４，５−トリクロロ−チオフエノ
ールから製造する。 m.p.：144−145℃ 収率：理論値の87％ 例 Ａ 100mgの６−〔４−（２−ピリジルスルフイニル）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルを含有する錠剤 組成（１錠剤中）： 活性成分 100.0mg 乳 糖 80.0mg コーンスターチ 34.0mg ポリビニルピロリドン 4.0mg ステアリン酸マグネシウム 2.0mg 220.0mg 製剤方法： 活性成分を乳糖およびコーンスターチと混合
し、ポリビニルピロリドン水溶液で均一にしめら
す。この混合物を2.0mmメツシユのサイズのふる
いを通し、50℃で乾燥させ（すのこ中で）、再び
1.5mmメツシユサイズのふるいを通し、滑択剤を
加える。次にこの混合物を圧縮して錠剤とする。 錠剤の重量：220mg 直経：10mm、両面に刻面および一面にＶ字形の刻
み目を有する二層形（biplan） 例 Ｂ 50mgの６−（４−フエニルスルフイニルブトキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを含有
する被覆錠剤 １被覆錠剤含有： 活性成分 50.0mg 乳 糖 40.0mg コーンスターチ 17.0mg ポリビニルピロリドン 2.0mg ステアリン酸マグネシウム 1.0mg 110.0mg 製剤方法： 例Ａにならい顆粒をつくる。この混合物を圧縮
して被覆錠剤とする。 コアーの重量：110mg 直径：８mm、両凸状 コアーを分離し、続いて公知方法によりピロリ
ドンおよび本質的に糖からなる被覆剤で被覆容器
中で200mgまで被覆し、続いて210mgまで純すいな
糖シロツプで被覆する。 例 Ｃ 100mgの６−〔４−（２−ピリジルスルフイニル）
−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ルを含有する硬ゼラチンカプセル １カプセル含量： 活性成分 100.0mg コーンスターチ（乾燥） 約130.0mg 乳糖（粉状） 約87.0mg ステアリン酸マグネシウム 3.0mg 320.0mg 製剤方法： 活性成分と補助剤を混合し、0.75mmメツシユサ
イズのふるいを通し、適当な装置で均一に混合す
る。この混合物をサイズ１の硬ゼラチンカプセル
につめる。 カプセル内容物：約320mg カプセル：硬ゼラチン サイズ１ 例 Ｄ 150mgの６−（４−フエニルスルフイニルブトキ
シ）−３，４−ジヒドロカルボスチリルを含有
する坐剤 １坐剤含有率： 活性成分 150.0mg ポリエチレングリコール1500 550.0mg ポリエチレングリコール6000 460.0mg ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート
840.0mg 2000.0mg 製造方法： 坐剤用煉薬をとかし、この中へ活性成分を均一
に分散させ、この溶融物をあらかじめ冷やした型
に注ぐ。 例 Ｅ ５ml当り50mgの６−〔４−（２−ピリジルスルフ
イニル−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボ
スチリルを含有する懸濁液 100mlの懸濁液含有量： 活性成分 1.0ｇ カルボキシメチルセルロース−Na−塩 0.1ｇ メチル−ｐ−ヒドロキシベンゾエート 0.05ｇ プロピル−ｐ−ヒドロキシベンゾエート 0.01ｇ 甘蔗糖 10.0ｇ グリセリン 5.0ｇ ソルビツト溶液70％ 20.0ｇ 香 料 0.3ｇ 蒸留水を加えて 100mlとする 製剤方法： 蒸留水を70℃まで加熱する。撹拌しながらメチ
ル−ｐ−ヒドロキシベンゾエートおよびプロピル
−ｐ−ヒドロキシベンゾエートならびにグリセリ
ンおよびカルボキシメチルセルロースナトリウム
塩をこれに溶かす。この混合物を室温まで冷や
し、撹拌しながら活性成分を加え、全体を均一に
分散させる。糖、ソルビツト溶液および香料を加
えて、溶かした後、この懸濁液を撹拌しながら真
空排気して脱気する。５mlの懸濁液は50mgの活性
成分を含む。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、Ｗは場合によりメチル基で置換されてい
    てもよいビニレン基、メチレンまたはエチレン基
    を表わし、 ｍは０、１または２を表わし、 Ｄは２〜６個の炭素原子を有する直鎖状または
    分枝鎖状アルキレン基、３〜６個の炭素原子を有
    する直鎖状または分枝鎖状ヒドロキシアルキレン
    基またはキシリレン基を表わし、 R1は水素原子または１〜３個の炭素原子を有
    するアルキル基を表わし、 R2はシクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、
    ピリジル、ピリミジル、１，２，４−トリアゾリ
    ル、ピリジル−オキシド、フルフリル、トリフエ
    ニルメチル、キノリル、ベンズイミダゾリル、ベ
    ンズチアゾリル、キナゾリン−４−オン−イル、
    ４，５−ビス−（ｐ−クロロフエニル）−オキサゾ
    ール−２−イル、Ｎ−メチル−シクロヘキシルア
    ミノ−カルボニルメチルもしくはアミノ−イミノ
    メチル基を表わすか、またはR2は場合によりカ
    ルボキシル、ヒドロキシ、メトキシ、アミノ、ア
    セチルアミノ、ニトロ、シクロヘキシルもしくは
    フエニル基で置換されていてもよいフエニル基、
    ハロゲン原子および（または）１〜４個の炭素原
    子を有するアルキル基でモノもしくはジ置換され
    たフエニル基、２個のハロゲン原子もしくは１〜
    ４個の炭素原子を有する２個のアルキル基で置換
    されたヒドロキシフエニル、ハロゲンフエニルま
    たはアミノフエニル基を表わし、 R3は水素、塩素または臭素原子、メチル、ア
    ミノ、アセチルアミノまたはニトロ基を表わし、 R4は水素原子を表わす〕 で示される新規カルボスチリルおよびオキシンド
    ール誘導体。 ２ Ｗは場合によりメチル基で置換されていても
    よいビニレン基またはエチレン基を表わし、 ｍは０、１または２であり、 Ｄは２〜５個の炭素原子を有するアルキレン基
    または３〜５個の炭素原子を有するヒドロキシア
    ルキレン基を表わし、 R1は水素原子を表わし、 R2はシクロヘキシル、フエニル、ベンジル、
    ナフチル、ビフエニリル、シクロヘキシルフエニ
    ル、ピリジル、メチルフエニル、メトキシフエニ
    ル、フルオロフエニル、クロロフエニル、ジクロ
    ロフエニル、トリクロロフエニル、ブロモフエニ
    ル、ジブロモフエニル、ブロモメチルフエニル、
    アミノ−ジブロモフエニルまたはヒドロキシ−ジ
    −tert−ブチルフエニル基を表わし、 R3およびR4は各々水素原子を表わす化合物で
    ある、特許請求の範囲第１項の化合物。 ３ Ｗはエチレン、ビニレンまたは２−メチルビ
    ニレン基を表わし、 ｍは０、１または２であり、 R1、R3およびR4は各々水素原子であり、 R2はシクロヘキシル、フエニル、ベンジル、
    ナフチル−(2)、２−メトキシフエニル、４−クロ
    ロフエニル、３，４−ジクロロフエニル、２，５
    −ジクロロフエニル、４−アミノ−３，５−ジブ
    ロモフエニル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−
    tert−ブチルフエニルまたはピリジル−(2)基を表
    わし、 Ｄはエチレン、ｎ−プロピレン、ｎ−ブチレン
    または２−ヒドロキシ−ｎ−プロピレン基を表わ
    す化合物である、特許請求の範囲第１項の化合
    物。 ４ ６−（４−フエニルスルフイニルブトキシ）−
    ３，４−ジヒドロカルボスチリルである、特許請
    求の範囲第１項の化合物。 ５ ６−〔４−（３，４−ジクロロフエニルスルフ
    イニル）−ブトキシ〕−３，４−ジヒドロカルボス
    チリルである、特許請求の範囲第１項の化合物。 ６ ６−〔４−（２−ピリジルスルホニル）−ブト
    キシ〕カルボスチリルである、特許請求の範囲第
    １項の化合物。 ７ 一般式 〔式中Ｗはエチレン、ビニレンまたはメチル置換
    −ビニレン基を表わし、 ｍは０、１または２を表わし、 Ｄはｎ−ブチレン基を表わし、 R1、R3およびR4はそれぞれ水素原子を表わし、
    そして R2はシクロヘキシル、フエニル、ベンジル、
    ナフチル−(2)、２−メトキシ−フエニル、４−ク
    ロロ−フエニル、３，４−ジクロロ−フエニル、
    ２，５−ジクロロフエニル、４−ヒドロキシ−
    ３，５−ジ−tert.ブチル−フエニル、４−tert.ブ
    チル−フエニル、４−シクロヘキシル−フエニ
    ル、４−ビフエニリル、キノリル−(2)またはピリ
    ジル−(2)基を表わす〕 で示される化合物および１種または２種以上の不
    活性担体あるいは稀釈剤を含有する血小板凝集抑
    制用医薬組成物。 ８ 血栓塞栓症の患者または血栓塞栓症になりや
    すい患者に投与するための特許請求の範囲第７項
    に記載の組成物。 ９ 一般式 〔式中Ｗは場合によりメチル基で置換されていて
    もよいビニレン基、メチレンまたはエチレン基を
    表わし、 ｍは０、１または２を表わし、 Ｄは２〜６個の炭素原子を有する直鎖状または
    分枝鎖状アルキレン基、３〜６個の炭素原子を有
    する直鎖状または分枝鎖状ヒドロキシアルキレン
    基またはキシリレン基を表わし、 R1は水素原子または１〜３個の炭素原子を有
    するアルキル基を表わし、 R2はシクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、
    ピリジル、ピリミジル、１，２，４−トリアゾリ
    ル、ピリジル−オキシド、フルフリル、トリフエ
    ニルメチル、キノリル、ベンズイミダゾリル、ベ
    ンズチアゾリル、キナゾリン−４−オン−イル、
    ４，５−ビス−（ｐ−クロロフエニル）−オキサゾ
    ール−２−イル、Ｎ−メチル−シクロヘキシルア
    ミノカルボニルメチルもしくはアミノ−イミノメ
    チル基を表わすか、またはR2は場合によりカル
    ボキシル、ヒドロキシ、メトキシ、アミノ、アセ
    チルアミノ、ニトロ、シクロヘキシルもしくはフ
    エニル基で置換されていてもよいフエニル基、ハ
    ロゲン原子および（または）１〜４個の炭素原子
    を有するアルキル基でモノもしくはジ置換された
    フエニル基、２個のハロゲン原子もしくは１〜４
    個の炭素原子を有する２個のアルキル基で置換さ
    れたヒドロキシフエニル、ハロゲンフエニルまた
    はアミノフエニル基を表わし、 R3は水素、塩素または臭素原子、メチル、ア
    ミノ、アセチルアミノまたはニトロ基を表わし、 R4は水素を表わす〕 で示される新規カルボスチリルおよびオキシンド
    ール誘導体の製造方法であつて、一般式 （式中R1、R3、R4およびＷは上記のとおりであ
    る）で示されるヒドロキシ化合物またはその無機
    塩基もしくは第三有機塩基との塩を一般式 Ｚ−Ｄ−SOn−R2 （） （式中、Ｄ、R2およびｍは上記のとおりであり、
    Ｚは求核的に変換しうる基を表わす） で示される化合物と反応させることを特徴とする
    製造方法。 １０ 反応を溶媒中で０℃ないし使用溶媒の沸と
    う温度、たとえば０〜100℃の温度、望ましくは
    10〜50℃の温度で行う特許請求の範囲第９項の方
    法。 １１ 反応をアルカリ金属塩基の存在下に行う特
    許請求の範囲第９項または第１０項のいずれか一
    項の方法。 １２ 一般式 〔式中、Ｗは場合によりメチル基で置換されてい
    てもよいビニレン基、メチレンまたはエチレン基
    を表わし、 ｍは１または２を表わし、 Ｄは２〜６個の炭素原子を有する直鎖状または
    分枝鎖状アルキレン基、３〜６個の炭素原子を有
    する直鎖状または分枝鎖状ヒドロキシアルキレン
    基またはキシリレン基を表わし、 R1は水素原子または１〜３個の炭素原子を有
    するアルキル基を表わし、 R2はシクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、
    ピリジル、ピリミジル、１，２，４−トリアゾリ
    ル、ピリジル−オキシド、フルフリル、トリフエ
    ニルメチル、キノリル、ベンズイミダゾリル、ベ
    ンズチアゾリル、キナゾリン−４−オン−イル、
    ４，５−ビス−（ｐ−クロロフエニル）−オキサゾ
    ール−２−イル、Ｎ−メチル−シクロヘキシルア
    ミノカルボニルメチルもしくはアミノ−イミノメ
    チル基を表わすか、またはR2は場合によりカル
    ボキシル、ヒドロキシ、メトキシ、アミノ、アセ
    チルアミノ、ニトロ、シクロヘキシルもしくはフ
    エニル基で置換されていてもよいフエニル基、ハ
    ロゲン原子および（または）１〜４個の炭素原子
    を有するアルキル基でモノもしくはジ置換された
    フエニル基、２個のハロゲン原子もしくは１〜４
    個の炭素原子を有する２個のアルキル基で置換さ
    れたヒドロキシフエニル、ハロゲンフエニルまた
    はアミノフエニル基を表わし、 R3は水素、塩素または臭素原子、メチル、ア
    ミノ、アセチルアミノまたはニトロ基を表わし、 R4は水素を表わす〕 で示される新規カルボスチリルおよびオキシンド
    ール誘導体の製造方法であつて、一般式 （式中、R1〜R4、ＤおよびＷは上記のとおりで
    あり、ｎは０または１を表わす）で示される化合
    物を酸化することを特徴とする製造方法。 １３ 反応を溶媒中で−80℃〜100℃の温度で行
    う特許請求の範囲第１２項の方法。 １４ ｍが１を表わす一般式の化合物の製造に
    おいて、酸化を相当する酸化剤を当量で用いて、
    望ましくは−80〜60℃の温度で行う特許請求の範
    囲第１２項または第１３項のいずれか一項の方
    法。 １５ ｍが２を表わす一般式の化合物の製造に
    おいて、酸化を１または２あるいは３以上の当量
    の相当する酸化剤を用いて、望ましくは−80〜
    100℃の温度で行う特許請求の範囲第１２項また
    は第１３項のいずれか一項の方法。 １６ 一般式 〔式中、Ｗは場合によりメチル基で置換されてい
    てもよいビニレン基、メチレンまたはエチレン基
    を表わし、 ｍは０を表わし、 Ｄは２〜６個の炭素原子を有する直鎖状または
    分枝鎖状アルキレン基、３〜６個の炭素原子を有
    する直鎖状または分枝鎖状ヒドロキシアルキレン
    基またはキシリレン基を表わし、 R1は水素原子または１〜３個の炭素原子を有
    するアルキル基を表わし、 R2はシクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、
    ピリジル、ピリミジル、１，２，４−トリアゾリ
    ル、ピリジル−オキシド、フルフリル、トリフエ
    ニルメチル、キノリル、ベンズイミダゾリル、ベ
    ンズチアゾリル、キナゾリン−４−オン−イル、
    ４，５−ビス−（ｐ−クロロフエニル）−オキサゾ
    ール−２−イル、Ｎ−メチル−シクロヘキシルア
    ミノカルボニルメチルもしくはアミノ−イミノメ
    チル基を表わすか、またはR2は場合によりカル
    ボキシル、ヒドロキシ、メトキシ、アミノ、アセ
    チルアミノ、ニトロ、シクロヘキシルもしくはフ
    エニル基で置換されていてもよいフエニル基、ハ
    ロゲン原子および（または）１〜４個の炭素原子
    を有するアルキル基でモノもしくはジ置換された
    フエニル基、２個のハロゲン原子もしくは１〜４
    個の炭素原子を有する２個のアルキル基で置換さ
    れたヒドロキシフエニル、ハロゲンフエニルまた
    はアミノフエニル基を表わし、 R3は水素、塩素または臭素原子、メチル、ア
    ミノ、アセチルアミノまたはニトロ基を表わし、 R4は水素を表わす〕 で示される新規カルボスチリルおよびオキシンド
    ール誘導体の製造方法であつて、一般式 （式中R1、R3、R4、ＤおよびＷは上記のとおり
    である）で示される化合物を一般式 Ｙ−R2 （） （式中R2は上記のとおりであり、一般式およ
    びの化合物中の基ＸまたはＹの一方はメルカプ
    ト基を表わし、基ＸまたはＹの他方は求核的に交
    換しうる基を表わすか、またはＸは基Ｄの隣接す
    るヒドロキシ基と一緒にエポキシド基を表わし、
    そしてＹはメルカプト基を表わす）で示される化
    合物と反応させることを特徴とする製造方法。 １７ 反応を溶媒中で０℃〜使用溶媒の沸とう温
    度、たとえば０〜100℃、望ましくは10〜50℃で
    行う特許請求の範囲第１６項の方法。 １８ 反応をアルカリ金属塩基の存在下に行う特
    許請求の範囲第１６項または第１７項のいずれか
    一項の方法。 １９ 一般式 〔式中、Ｗは場合によりメチル基で置換されてい
    てもよいビニレン基、メチレンまたはエチレン基
    を表わし、 ｍは０、１または２を表わし、 Ｄは２〜６個の炭素原子を有する直鎖状または
    分枝鎖状アルキレン基、３〜６個の炭素原子を有
    する直鎖状または分枝鎖状ヒドロキシアルキレン
    基またはキシリレン基を表わし、 R1は１〜３個の炭素原子を有するアルキル基
    を表わし、 R2はシクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、
    ピリジル、ピリミジル、１，２，４−トリアゾリ
    ル、ピリジル−オキシド、フルフリル、トリフエ
    ニルメチル、キノリル、ベンズイミダゾリル、ベ
    ンズチアゾリル、キナゾリン−４−オン−イル、
    ４，５−ビス−（ｐ−クロロフエニル）−オキサゾ
    ール−２−イル、Ｎ−メチル−シクロヘキシルア
    ミノカルボニルメチルもしくはアミノ−イミノメ
    チル基を表わすか、またはR2は場合によりカル
    ボキシル、ヒドロキシ、メトキシ、アミノ、アセ
    チルアミノ、ニトロ、シクロヘキシルもしくはフ
    エニル基で置換されていてもよいフエニル基、ハ
    ロゲン原子および（または）１〜４個の炭素原子
    を有するアルキル基でモノもしくはジ置換された
    フエニル基、２個のハロゲン原子もしくは１〜４
    個の炭素原子を有する２個のアルキル基で置換さ
    れたヒドロキシフエニル、ハロゲンフエニルまた
    はアミノフエニル基を表わし、 R3は水素、塩素または臭素原子、メチル、ア
    ミノ、アセチルアミノまたはニトロ基を表わし、 R4は水素を表わす〕 で示される新規カルボスチリルおよびオキシンド
    ール誘導体の製造方法であつて、一般式 （式中R2、R3、R4、Ｄ、Ｗおよびｍは上記のと
    おりである）で示される化合物、またはそのアル
    カリ金属塩を一般式 Ｚ−R1 （） （式中R1は前記のとおりであり、Ｚは求核的に
    変換可能な基を表わす）で示される化合物と反応
    させることを特徴とする製造方法。 ２０ 反応を溶媒中で０〜50℃、望ましくは10〜
    25℃で行う特許請求の範囲第１９項の方法。 ２１ アルキル化をアルカリ金属塩基、アルカリ
    金属水素化物またはアルカリアルコラートの存在
    下に、アルキルハロゲナイドまたはジアルキルサ
    ルフエートを用いて行う特許請求の範囲第１９項
    または第２０項のいずれか一項の方法。 ２２ 一般式 〔式中、Ｗはビニレン基を表わし、 ｍは０、１または２を表わし、 Ｄは２〜６個の炭素原子を有する直鎖状または
    分枝鎖状アルキレン基、３〜６個の炭素原子を有
    する直鎖状または分枝鎖状ヒドロキシアルキレン
    基またはキシリレン基を表わし、 R1は水素原子または１〜３個の炭素原子を有
    するアルキル基を表わし、 R2はシクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、
    ピリジル、ピリミジル、１，２，４−トリアゾリ
    ル、ピリジル−オキシド、フルフリル、トリフエ
    ニルメチル、キノリル、ベンズイミダゾリル、ベ
    ンズチアゾリル、キナゾリン−４−オン−イル、
    ４，５−ビス−（ｐ−クロロフエニル）−オキサゾ
    ール−２−イル、Ｎ−メチル−シクロヘキシルア
    ミノカルボニルメチルもしくはアミノ−イミノメ
    チル基を表わすか、またはR2は場合によりカル
    ボキシル、ヒドロキシ、メトキシ、アミノ、アセ
    チルアミノ、ニトロ、シクロヘキシルもしくはフ
    エニル基で置換されていてもよいフエニル基、ハ
    ロゲン原子および（または）１〜４個の炭素原子
    を有するアルキル基でモノもしくはジ置換された
    フエニル基、２個のハロゲン原子もしくは１〜４
    個の炭素原子を有する２個のアルキル基で置換さ
    れたヒドロキシフエニル、ハロゲンフエニルまた
    はアミノフエニル基を表わし、 R3は水素、塩素または臭素原子、メチル、ア
    ミノ、アセチルアミノまたはニトロ基を表わし、 R4は水素を表わす〕 で示される新規カルボスチリルおよびオキシンド
    ール誘導体の製造方法であつて、一般式 （式中R1〜R4、Ｄおよびｍは上記のとおりであ
    る）で示される３，４−ジヒドロ−カルボスチリ
    ルを脱水素することを特徴とする製造方法。 ２３ 脱水素を溶媒中で高められた温度、たとえ
    ば100〜200℃、望ましくは使用溶媒の沸とう温度
    で行う特許請求の範囲第２２項の方法。 ２４ 脱水素を酸化剤または貴金属触媒の存在下
    に行う特許請求の範囲第２２項または第２３項に
    いずれか一項の方法。 ２５ 一般式 〔式中、Ｗはエチレン基を表わし、 ｍは０または２を表わし、 Ｄは２〜６個の炭素原子を有する直鎖状または
    分枝鎖状アルキレン基、３〜６個の炭素原子を有
    する直鎖状または分枝鎖状ヒドロキシアルキレン
    基またはキシリレン基を表わし、 R1は水素原子または１〜３個の炭素原子を有
    するアルキル基を表わし、 R2はシクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、
    ピリジル、ピリミジル、１，２，４−トリアゾリ
    ル、ピリジル−オキシド、フルフリル、トリフエ
    ニルメチル、キノリル、ベンズイミダゾリル、ベ
    ンズチアゾリル、キナゾリン−４−オン−イル、
    ４，５−ビス−（ｐ−クロロフエニル）−オキサゾ
    ール−２−イル、Ｎ−メチル−シクロヘキシルア
    ミノカルボニルメチルもしくはアミノ−イミノメ
    チル基を表わすか、またはR2は場合によりカル
    ボキシル、ヒドロキシ、メトキシ、アミノ、アセ
    チルアミノ、ニトロ、シクロヘキシルもしくはフ
    エニル基で置換されていてもよいフエニル基、ハ
    ロゲン原子および（または）１〜４個の炭素原子
    を有するアルキル基でモノもしくはジ置換された
    フエニル基、２個のハロゲン原子もしくは１〜４
    個の炭素原子を有する２個のアルキル基で置換さ
    れたヒドロキシフエニル、ハロゲンフエニルまた
    はアミノフエニル基を表わし、 R3は水素、塩素または臭素原子、メチル、ア
    ミノ、アセチルアミノまたはニトロ基を表わし、 R4は水素を表わす〕 で示される新規カルボスチリルおよびオキシンド
    ール誘導体の製造方法であつて、一般式 （式中R1ないしR4、Ｄおよびｍは上記のとおり
    である）で示されるカルボスチリルを水素添加す
    ることを特徴とする製造方法。 ２６ 脱水素を溶媒中で水素添加触媒の存在下に
    ０〜50℃で、望ましくは室温で、１〜5barの水
    素圧下に行う特許請求の範囲第２５項の方法。
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