JPS63307255A - 有機機能性材料薄膜の製造方法及びその製造装置 - Google Patents

有機機能性材料薄膜の製造方法及びその製造装置

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JPS63307255A
JPS63307255A JP14133987A JP14133987A JPS63307255A JP S63307255 A JPS63307255 A JP S63307255A JP 14133987 A JP14133987 A JP 14133987A JP 14133987 A JP14133987 A JP 14133987A JP S63307255 A JPS63307255 A JP S63307255A
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organic functional
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Masakazu Kato
雅一 加藤
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12Organic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は光学素子、分子電子素子等に用いられるフタ
ロシアニン等の有機機能性材料薄膜の製造方法及びその
製造装置に関するものである。
(従来の技術) 従来、有機機能性材料薄膜を用いた素子の代表的なもの
として、光導電機能を有する材料を使用した電子写真感
光体がある。有機材料を用いた電子写真感光体は、第2
図に示すように、導電性基材21上に、有機光導電材料
の0.01〜1.0μmの薄膜から成る電荷発生層22
を形成し、この上に電荷輸送材料の5〜50μmの電荷
輸送層23を積層した構造の機能分離型のものが、特性
が優れておシ、材料の選択範囲も広いので主流となって
いる。第2図に示した電子写真感光体は、電荷発生層2
2上に電荷輸送層23が積層されているが、電荷輸送層
上に電荷発生層が積層されているものもある。
この構造の機能分離型電子写真感光体の、電荷発生層の
形成方法には、特開昭60−61756号公報に記載の
如く光導電材料の微細粉末と少量のバインダポリマーを
有機溶媒に分散し、これを基材上にコーティングする分
散型コーティング法と光導電材料を真空蒸着装置の真空
容器中に設置したボートまたはるつぼ中に入れ、真空度
1o−4〜1o−7Torrで、材料を加熱し蒸発させ
この蒸発源に対向して置いた基材上に堆積させる抵抗加
熱蒸着法があった。
第3図に、抵抗加熱真空蓋着装1置による機能性有機材
料薄膜の形成法の例を示す。油拡散ポンプ32とロータ
リーポンプ31とを用いて真空容器33内を10〜10
  Torr Kまで排気する。ポート34の中に入れ
た材料を加熱する。材料の蒸発が始まったらシャッター
37を開ける。材料のガス分子は、真空容器33内を材
料ガス分子の平均自由行程内の距離を飛翔する。基材(
感光体ドラム)35に到達したガス分子は、付着し薄膜
となる。コールドトラップ36は、蒸発した残シの材料
ガスを補獲することと油拡散ポンプ32からの逆流する
油を補獲する役目をしている。基材35が、第3図のよ
うに円筒状である場合は、自転させ、この基材が多数本
ある時は、自転している基材を更に公転させ、薄膜を形
成させる。
(発明が解決しようとする問題点) t に 1 しかしながらまず、分散型コーティング方法は、コーテ
ィング溶液中の微粉末材料が沈殿しないように、絶えず
カクハンするなどの特殊な工夫をした。大がかシな装置
が必要である。また、この分散型コーティングは、微粉
末材料を用いなければならず、膜厚の制御が難しく、ま
た01μm以下の厚さの膜を形成することは難しかった
。抵抗加熱真空蒸着法は、容易に任意の厚さに均一にコ
ーティングできる優れた方法であるが、蒸着前に蒸着が
可能表真空度である1O−4〜10−6Torrに真空
容器内を排気する時間が必要であシ、高真空度で用いる
ため、高価で精密な真空装置が必要であった。
この発明の目的は、以上述べた、分散型コーティング方
法の膜厚制御の難しさと蒸着形成方法の高真空度が必要
と言う問題点を除去し、任意の厚さに均一に蒸着できる
有機機能性材料薄膜の製造方法と、その低価格で簡易な
製造装置とを提供することにある。
(問題点を解決するための手段) この発明は以上の問題点を解決するために、ガス排気手
段により反応容器内を低真空に保持し、加熱手段により
この反応容器内の有機機能性材料を加熱し蒸発させ、こ
の蒸発した有機機能性材料ガスをキャリヤガスと共にこ
の反応容器内の基材上に輸送してこの基材上に前記有機
機能性材料の薄膜を堆積させるものであシ、またその薄
膜の製造装置を、 反応容器と、この反応容器の一端に設けられたガス排気
手段と、この反応容器の他端に設けられたキャリヤガス
導入手段と、この反応容器内の前記ガス排気手段側に設
けられた基材支持手段と、この反応容器内または外の前
記キャリヤガス導入手段側に設けられた加熱手段と、こ
の反応容器内の前記キャリヤガス導入手段側に設けられ
た有機機能性材料支持手段とで構成したものである。
(作用) 以上説明したように、本発明によれば低真空中で有機機
能性材料を加熱し蒸発させ、この有機機能性材料ガスと
反応しないキャリヤガスと共に基材上に輸送してこの基
材上に有機機能性材料薄膜を堆積させているので、短時
間で所定膜厚の有機機能性材料薄膜を得ることができる
。また、本発明の装置は低真空にできるガス排気手段を
用いることができるので、従来の抵抗加熱真空蒸着装置
に比べ低価格となる。
(実施例) 第1図はこの発明の詳細な説明するだめの有機機能性材
料薄膜の製造装置の概略断面図であシ、以下図面を用い
て説明する。
第1図において、1はキャリヤガスボンベ、2は炉、3
はボート、4は真空容器、5は基材、6はコールドトラ
ップ、7は真空ポンプ、8は基材支持治具、9は有機機
能性材料(以下材料という)、10はガスバルブ、11
はメインバルブ、12はバイパスバルブ、13はメイン
ぐスであシ、この装置を用いて1O−2〜10−3To
rrの真空度に、真空容器4内を排気する。この時メイ
ンバルブ11は閉、バイパスバルブ12u#ガスバルブ
10は閉にしておく。次に炉2を加熱し、ボート3上の
有機機能性材料9を加熱し蒸発させる。この加熱と同時
にキャリヤガス1のガスをガスバルブ10を開け、蒸発
した材料ガスをパイノRス13を通して外部に排出する
。この初期の不純物を含む材料ガスの排出が終了してか
ら、バイパスバルブ12を閉じメインバルブ11を開け
て、有機機能性材料ガスをキャリヤガスを用いて、真空
容器4内に送り込む。この送り込まれた材料ガスとキャ
リヤガスとの混合ガスは、真空容器4内に置かれた基材
5上に付着する。この付着する速度は、材料9の蒸発速
度とキャリヤガスを導入している時の真空容器4内の真
空度、この真空度は、キャリヤガスの導入量と排気量で
決まる真空度に関係している。この真空度は10−3T
orr 〜10 Torrが良く0、05 Torrか
らI Torrが望ましい。真空容器4を出た排出ガス
は、コールドラッグ6を通り、付着しなかった残シの材
料ガスを捕獲し、真空ポンプ7へ入シ込まないようにす
る。コールドトラップは、液体窒素等の冷媒又は、フレ
オン等を用いた冷凍装置で冷却する。
この発明は、このように、材料9が蒸発して生成したガ
スをキャリヤガスを用いて送シ出し、基材5上に、均一
に材料9の薄膜を形成するものである。
この発明の真空容器は、キャリヤガスと材料ガスとの混
合ガスが層流となって流れる形状であることが望ましい
また、基材を混合ガス流れに対して直角方向に置いても
よく、基材が円筒状の時は自転、公転させてもよい。
(実施例1) 第1図の本発明による有機機能性材料薄膜の製造装置に
おいて、キャリヤガス1が窒素ガス、材料9がクロロイ
ンジウムフタロシアニン(特開昭59−44、054 
)、基材5は、φ60Wmのアルミノやイブ、コールド
トラップ6の冷媒には液体窒素を用いた。真空ポンプ、
ロータリーポンプは、排気量1001/minのものを
用いた。真空度は、真空容器4内の値を図示しないビラ
ニー真空計(岡野製作所・PG−I S型)で測定し、
基材への付着膜厚は図示しない水晶発振式膜厚計(イン
フィコン社XTM型)でモニターした。
まず、始めに真空容器4内を5 X 10−” Tor
rに排気した。次に真空計の指示を見ながら、ガスバル
ブ10(ニードルバルブ)を開け、真空度が0、5 T
orrになるよう、このバルブ1oを調節し、キャリヤ
ガスボンベ1よシ真空容器4内にキャリヤガスを導入す
ると共に、真空ポンプ7により排気することにより真空
容器4内の真空度を0.5Torrに保持した。
次にポート3に入れたクロロインジウムフタロシアニン
0.5.9の炉2により加熱を開始した。蒸発が始まる
まで、メインバルブ11は閉、バイパスバルブ12は開
にしておく。材料温度が約400℃になると蒸発が開始
するので蒸発が開始したらメインバルブ11を開け、バ
イパスバルブ12を閉じ、材料ガスとキャリヤガスの混
合ガスを真空容器4内に送シ込み、基材5上に材料の薄
膜を形成させる。この状態で、材料ガスとキャリヤガス
の混合ガスを送シ込み続けながら、膜厚モニターの指示
が0.1μmになった時、メインバルブ11を閉じ、バ
イパスバルブ12を開け、加熱とキャリヤガスの導入を
停止した。この時の薄膜の平均付着速度は、6X/秒で
あった。
この実施例における真空度と付着速度の関係を第4図に
示した。0.05 TorrからI Torrの範囲で
付着速度が最大になることを示している。また、キャリ
ヤガスは、ここでは、安価な窒素ガスを用いたが、液体
窒素を用いたコールドトラップでも液化しないヘリウム
ガスを用いることもでき、また、アルゴンガスも使用で
きる。
このようにして0.1μm厚さのクロロインジウムフタ
ロシアニンの薄膜を形成した。実際に、基材上に薄膜を
形成するのに要した時間は、真空排気時間が3分、加熱
し、定常的に蒸発するまでの時間は4分、更にキャリヤ
ガスを導入し6X/SeCの付着速度で0.1μmの薄
膜を形成するのに約3分必要であった。このように、合
計10分間で薄膜を形成することができた。
このようにして形成した電荷発住層上に、次の一般式(
1) で示す構造のヒドラゾン誘導体と、次の一般式(2)で
示す構造のビスフェノール2型ポリカーボネート樹脂(
三菱ガス化学製)の1:1の混合溶液(溶媒はジクロル
メタン)をコーティングし乾燥膜厚20μmの電荷輸送
層を有する機能分離型電子写真感光体を作製した。この
感光体の特性を測定した結果を第1表に示す。第1表に
おいて、半減露光量の測定は、光源に790nmのレー
ザダイオードを用い初期電位V。は800■である。暗
減衰率は初期電位■。=soovが10秒後に減衰した
時の電位■、。との比を表わしている。
第1表 電子写真感光体の特性 (比較例1) 第2図に示した抵抗加熱蒸着装置を用いて、ロータリー
ポンプ31と油拡散ポンプ32を用いて真空容器33を
2 X 10−5Torrに排気し、ポート34中の0
.5Fのクロロインジウムフタロシアニンを400℃に
加熱し、蒸発速度IX/SeCで、基材(アルミパイプ
)35を回転させながら、アルミパイプ35上に0.1
μm厚の膜を形成した。
実際に、第2図の装置を用いて薄膜を形成するのに要し
た時間は、まず、2 X 10  Torrの真空度に
排気するのに30分間、クロロインジウムフr14) タロシアニンの0.1μmの蒸着膜を形成するのに約2
0分間、蒸着後、&−ト34の温度が低下するのを待つ
時間が10分間で、合計約60分間を要した。
この方法で形成した電荷発生層上に、実施例と同じく前
記一般式(1)に示す構造のヒドラゾン誘導体と前記一
般式(2)のビスフェノールZ型ポリカーボネートとか
ら成る電荷輸送層を持つ第1図の電子写真用感光体を作
製した。この感光体の特性を測定した結果を第1表に示
した。
本発明による実施例と従来の方法による比較例とを比べ
ると、 (1CS (実施例2) 実施例1と同じ方法により、有機機能性材料9として銅
フタロシアニン(東京化成M)を用いて0.1μmの薄
膜を形成し、更に電荷輸送層を積層し、感光体を作製し
た。
(実施例3) 実施例1と同一の方法で有機機能性材料9として無金属
フタロシアニン(東京化成製)を用いて(1b) 感光体を作製し喪。
(実施例4) 実施例1と同一の方法で有機機能性材料9として鉛フタ
ロシアニン(東京化成製)を用いて感光体を作製した。
(実施例5) 実施例1と同一の方法で、有機機能性材料9としてガリ
ウム7タロシアニンを用いて感光体を作製した。
(実施例6) 実施例1と同一の方法で有機機能性材料9として亜鉛フ
タロシアニン(イーストマンコダック製)を用いて感光
体を作製した。
(実施例7) O−フタロジニトリル   12.01/ (94mm
ol )TiCt43.8 g (20mmol )α
−クロロナフタレン   100−       を3
00−フラスコ中に入れ加熱を開始し250℃還流加熱
1.5時間行いチタニルフタロシアニンを合成した。こ
のあと放冷し、析出した沈殿を口別し、アセトン、 T
HFで洗浄した。
これを濃硫酸に溶解し、純水中に展開し再結晶・精製(
アシッド・ペースチング法)し、真空乾燥機中で乾燥し
た。
有機機能性材料9としてこのチタニルフタロシアニンを
用いて実施例1と同一の方法で感光体を作製した。
(実施例8) 実施例1と同一の方法でバナジルフタロシアニン(イー
ストマンコダック製)を用いて感光体を作製した。
実施例2〜8のそれぞれのフタロシアニンを用いて、比
較例1と同様にして、従来の抵抗加熱蒸着法を用いて感
光体を作製した。これらの比較例をそれぞれ比較例2〜
8とする。
実施例2〜8と比較例2〜8との感光体の特性比較を第
2表に示す。測定条件は、第1表と同じである。
第2表 種々のフタロシアニン膜を用いた電子写真感光
体の特性以上のようにいずれも、製膜方法による特性の
差はなく、本発明による製膜方法が特性を悪化させるこ
となく簡単な設備で短時間に、容易に薄膜を形成するこ
とができる。
尚、本発明の実施例では、有機機能性材料としてフタロ
シアニン系の材料を用いたが、本発明の製造方法を用い
れば、フタロシアニンを始めとし、メロシアニン、スク
アリリウム色素、ペリレン。
クリスタルバイオレット、フクシン、ローダミン。
などの蒸着可能な有機機能性材料の薄膜を低真空度中で
簡易な装置を用いて、短時間で製造することができる。
また、有機機能薄膜素子としては、本発明において実施
例とした電子写真感光体だけでなく、太陽電池2表示素
子、記録媒体、半導体素子、蓄電池、電磁シールド膜、
配線、非線形光学素子などの光学素子、更には、分子電
子素子などの製造にも適用可能である。
(発明の効果) 以上詳細に説明したように本発明によれば、低真空(1
0−3〜10 Torr )に保持された容器内で、有
機機能性材料を加熱蒸発させ、キャリヤガスにより基材
上に輸送し堆積させているので、有機機能性材料薄膜を
、簡易で低価格の蒸着装置により、薄膜特性を悪化させ
ることなく短時間で容易に形成することができる。
また本発明の製造方法及び製造装置は、光学素子及び分
子電子素子等の有機機能性材料薄膜の製造にも広く利用
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の詳細な説明するための有機機能性材料
薄膜の製造装置の概略断面図、第2図は有機機能性材料
薄膜を用いた機能分離型電子写真感光体の断面図、第3
図は従来の抵抗加熱蒸着装置の説明図、第4図は実施例
における付着速度と真空度の関係を示す図である。 1・・・キャリヤガスデンベ、2・・・炉、3・・・ポ
ート。 4・・・真空容器、5・・・基材、6・・・コールドト
ラップ。 7・・・真空ポンプ、8・・・基材支持治具、9・・・
有機機能性材料、10・・・ガスバルブ、11・・・メ
インバルブ、12・・・バイパスバルブ、13・・・バ
イハス。 楔能会難型電4刃真枢光体 第2図 37: シイ・ツク− 担板7JTI例真空詭港技l 第3図 1o−310−20,1110 真空X(Torr) 実勘勃1べ古する付番速度と月生息の藺奇、第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)ガス排気手段により反応容器内を低真空に保持し、 加熱手段により該反応容器内の有機機能性材料を加熱し
    蒸発させ、 この蒸発した有機機能性材料ガスをキャリヤガスと共に
    該反応容器内の基材上に輸送し、該基材上に前記有機機
    能性材料の薄膜を堆積させることを特徴とする有機機能
    性材料薄膜の製造方法。 2)前記有機機能性材料がフタロシアニン系の材料であ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の有機機
    能性材料薄膜の製造方法。 3)前記反応容器内を10^−^3〜10Torrの低
    真空に保持することを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の有機機能性材料薄膜の製造方法。 4)前記キャリヤガスがヘリウムまたはアルゴンまたは
    窒素またはそれらの混合物であることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の有機機能性材料薄膜の製造方法
    。 5)反応容器と、 該反応容器の一端に設けられたガス排気手段と、 該反応容器の他端に設けられたキャリヤガス導入手段と
    、 該反応容器内の前記ガス排気手段側に設けられた基材支
    持手段と、 該反応容器内または外の前記キャリヤガス導入手段側に
    設けられた加熱手段と、 該反応容器内の前記キャリヤガス導入手段側に設けられ
    た有機機能性材料支持手段とを備え、前記ガス排気手段
    により該反応容器内を低真空に保持すると共に、 前記有機機能性材料支持手段により支持された有機機能
    性材料を前記加熱手段により加熱し蒸発させ、 この蒸発した有機機能性材料ガスを前記キャリヤガス導
    入手段により導入したキャリヤガスと共に前記基材支持
    手段により支持された基材上に輸送し、 該基材上に有機機能性材料の薄膜が堆積されるように構
    成したことを特徴とする有機機能性材料薄膜の製造装置
    。 6)前記基材支持手段と前記有機機能性材料支持手段と
    の間にバルブを設けてなることを特徴とする特許請求の
    範囲第5項記載の有機機能性材料薄膜の製造装置。 7)前記反応容器の前記有機機能性材料支持手段と前記
    バルブとの間に排気手段を設けてなることを特徴とする
    特許請求の範囲第6項記載の有機機能性材料薄膜の製造
    装置。
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