JPS6330433A - 新規二環式芳香族誘導体、それらの製造法及びそれらの医薬、獣医薬及び化粧料としての使用 - Google Patents

新規二環式芳香族誘導体、それらの製造法及びそれらの医薬、獣医薬及び化粧料としての使用

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JPS6330433A
JPS6330433A JP62177350A JP17735087A JPS6330433A JP S6330433 A JPS6330433 A JP S6330433A JP 62177350 A JP62177350 A JP 62177350A JP 17735087 A JP17735087 A JP 17735087A JP S6330433 A JPS6330433 A JP S6330433A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規二環式芳香族話導体、それらの製造法及び
それらの医薬、獣医薬及び化粧料としての使用に関する
。
本発明による化合物は角質化（分化−増殖）障害に関連
する皮膚科疾患及び炎症性及び／又は免疫アレルギー性
成分による皮膚科（又はその他の）疾患の局所的又は全
身的処置においてまた結ざらに、これらの化合物は皮膚
系又は呼吸器系アトピー性疾患又はリューマチ様乾癖の
処置にも使用できる。
これらの化合物はまた座渣に含まれている細菌に対して
も良好な活性を示す。
最後に、本発明の化合物は眼科部門、特に角膜症の処置
に適用し得る。
本発明による二環式芳香族化合物は、一般式：（式中、
ｎは０又は１であり；Ｒ′は水素原子、ヒドロキシル基
、炭素数１〜４個のアルコキシ基又は炭素数１〜４個の
アシルオキシ基を表わし：Ｒ″は水素原子又は炭素数１
〜４個のアルコキシ基を表わし；あるいはＲ′及びＲ″
は一緒にオキソ基（＝Ｏ）、メタン基（−Ｃ１１２）又
はヒドロキシイミノ基（＝　Ｎ−０１１）を形成し；Ｒ
は−［：　１１　、０１１基又は−ＣＯＲ，基を表わし
；Ｒ７は水素原子、−ＯＲ♂基素数１〜２０個のアルキ
ル基、モノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシアル
キル基、ｆｆｌ基を有していてもよいアリールもしくは
アラルキルｐは１．２又は３であり、ｒ′及びｒ″は水
素原子、低級アルキル基、異種原子によって中断されて
いてもよいモノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシ
アルキル基、置換基を有していてもよいアリール又はベ
ンジル基、アミノ酸残基又はアミノ糖残基を表わし；あ
るいはｒ′及びｒ′は一緒にそれらが結合している窒素
原子とともに複素環を形成し；Ａは非置換又は低級アル
キル置換メチレン又はジメチレン基を表わし；Ｒ１，Ｒ
，。
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ水素原子又は低級アルキル基を
表わし；Ｒ１及びＲ３は、Ａがジメチレン基を表わす場
合には、−緒にメチレン又はジメチレン基を形成し得る
ものとし；そしてＲ，及びＲ６は水素原子又はメチル基
を表わす〕によって表わされる化合物及び該化合物の塩
ならびにそれらの光学異性体及び幾何異性体である。
低級アルキル基とは炭素数１〜６個をもつアルキル基を
意味するものとする。
低級のアルキル基及び炭素数２０個までのアルキル基の
代表的具体例としては、メチル、エチル、イソプロピル
、ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、イソオク
チル、ドデシル、ヘキサデシル及びオクタデシル基をあ
げることができる。
モノヒドロキシアルキル基とは炭素数２〜６個の基、特
に２−ヒドロキシ壬チル、２−ヒドロキシプロピル又は
２−ヒドロキシエトキシエチル基などを表わすものとす
る。
ポリヒドロキシアルキル基とは炭素数３〜６個でかつヒ
ドロキシル基数２〜５個の基、特に２．３−ジヒドロキ
シプロピル、ｌ、３−ジヒドロキシ−２−プロピル又は
ペンタエリトリット残基などを意味するものとする。
炭素数１〜４個のアルコキシ基としてはメトキシ、イソ
プロポキシ、ブトキシ又はｔ−ブトキシ基をあげること
ができる。
アリール基とは非置換の又は少なくとも１個のハロゲン
原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、低級アルキル基、ト
リフルオルメチル基又はカルボン酸官能基により置換さ
れたフェニル基を意味するものとする。
望ましいアラルキル基としてはベンジル基及びフェネチ
ル基をあげることができる。
糖残基とは、たとえばグルコース、マンノース、エリト
ロース又はガラクトースから認導される残基を意味する
ものとする。
アミノ糖残基の例としてはグルコサミン、ガラクトサミ
ン、マレノサミン又はメグルミンをあげることができる
。
ｒ′及びｒ′基が一緒にそれらが結合している窒素原子
とともに複素環を形成する場合、その環基はピペリジノ
、ピペラジノ、そりホリン、ピロリジノ又は４−（２−
ヒドロキシエチル）ピペラジノ基であることが好ましい
。
本発明による化合物が塩の形をとる場合、それらが少な
くとも１個の遊離の酸官能基を含んでいるときはアルカ
リ金属又はアルカリ土類金属あるいは亜鉛塩又は有機ア
ミンの塩であることができ、一方それらが少なくとも１
個のアミン官能基を含んでいるときは無機又は有機酸の
塩、特に塩酸塩、臭化水素酸塩又はクエン酸塩であるこ
とができる。
上記の式（Ｉ）に関連し−て、本発明の化合物は式（Ｉ
Ｉ）の二環式安息香酸話導体あるいは式（ＩＩＩ　、）
の二環式桂皮酸屈導体であることができる。
（式中、Ａ、Ｒ，Ｒ，ないしＲ４，Ｒ’及びＲ″は式＜
１）について定義したと同じ意義を有する。） （式中、Ａ、Ｒ，Ｒ，ないしＲａ、Ｒ’及びＲ″は式（
１）について定義したと同じ意義を有する。） 本発明に従う特に望ましい式（１１）及び（ＩＩ＋　）
の化合物として式（ＩＶ）及び（Ｖ）に相当する化合物
をあげることができる： わし；Ｒ′はヒドロキシル基を、Ｒ″は水素原子を表わ
すか又はＲ″及びＲ”は−緒にオキソ（＝Ｏ）基を形成
し；Ｒ′、は水素原子、水素原子又は低級アルキル基を
表わし；ｒ′は水素原子を、ｒ″は低級アルキル基又は
置換フェニル基を表わすか又はｒ′及びｒ″は一緒に４
−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ基を表わす、〕 わし；Ｒ′はヒドロキシル基を、Ｒ″は水素原子を表わ
すか又はＲ′及びＲ″は一緒にオキソ（＝０）基を形成
し；Ｒｏは水素原子又はメチル表わし、：Ｒ′６は水素
原子又は低級アルキル基を表わし；ｒ′は水素原子を、
ｒ″は低級アルキル基を表わす。） 本発明に従う式（Ｉ）の化合物の代表的な例をつぎに示
す。
（１）　　４−　（５，５，８，８−テトラメチル−５
，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル−安息香酸メチル； （２）　　４−　（５，５，８，８−テトラメチル−５
，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル−安息香酸： （３）　　４−　（５，８−メタノ−５，６，７，８−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベンズアル
デヒド； （４）　４−　（５，５，８，４１−テトラメチル−５
，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル−ベンズアルデヒド； （５）　４−　（１，１，２，３，３−ペンタメチル−
５−インダニル）カルボニル−安息香酸メチル：（８）
　　４−　（１，１，２，３，３−ペンタメチル−５−
インダニル）カルボニル−安息香酸： （７）　　４−　（１，１，２，３，３−ペンタメチル
−５−インダニル）カルボニル−ベンズアルデヒド＝（
８）　　１−　（１，１，２，３，３−ペンタメチル−
５−インダニル）−１−（４−ヒドロキシメチルフェニ
ル）−メタノール； （９）　　４−　（５，５，８，８−テトラメチル−５
，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキ
シメチル−安息香酸； （１０）　４−　（１，１，２，３，３−ペンタメチル
−５−インダニル）ヒドロキシメチル−安息香酸；（１
１）　４−　（１，１，２，３，３−ペンタメチル−５
−インダニル）ヒドロキシメチル−安息香酸メチル；（
１２）Ｎ−エチル−４−（５，５，８，８−テトラメチ
ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
ルボニル−ベンズアミド； （１３）Ｎ−エチル−４−（１，１，２，３，３−ペン
タメチル−５−インダニル）カルボニル−ベンズアミド
； （１０トランス−４−（５，８−メタノ−５，６，７，
８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−桂皮酸
エチル： （８）　）−ランス−４−（５，８−メタノ−５，６，
７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−桂
皮酸； （１６）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
ルボニル−桂皮酸エチル； （１７）　）ランス−４−（５，５，８，８−テトラメ
チル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）
カルボニル−桂皮酸； （１６）　トランス−４−（５，５，８，８−テトラメ
チル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）
カルボニル−α−メチル桂皮酸エチル； （１９）　トランス−４−（５，５，８，８−テトラメ
チル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）
カルボニル−α−メチル桂皮酸： （２０）　トランス−４−（１，１，２，３，３−ペン
タメチル−５−インダニル）カルボニル−α−メチル桂
皮酸エチル； （２１）トランス−４−（１，１，２，３，３−ペンタ
メチル−５−インダニル）カルボニル−α−メチル桂皮
酸； （２２）　）−ランス−４−（５，５，８，８−テトラ
メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル
）ヒドロキシメチル−α−メチル桂皮酸エチル；（２３
）　トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチル−
５，Ｉｆ、７．８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒド
ロキシメチル−α−メチル桂皮酸； （２４）Ｎ−エチル−トランス−４−（５，５，８，８
−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−
ナフチル）ヒドロキシメチル−α−メチル桂皮酸アミド
： （２５）Ｎ−エチル−トランス−４−（５，５，８，８
−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−
ナフチル）カルボニル−α−メチル桂皮酸アミド；（２
６）Ｎ−エチル−トランス−４−（１，１，２，３，３
−ペンタメチル−５−インダニル）カルボニル−α−メ
チル桂皮酸アミド； （２７）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒ
ドロキシメチル−桂皮酸エチル； （２８）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒ
ドロキシメチル−桂皮酸； （２９）４’　−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ
−４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７，
８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベンズ
アミド； （３０）Ｎ−（３，５−ジトリフルオルメチル−１−フ
ェニル）　４−　（５，５，８，８−テトラメチル−５
，６゜７．８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル−ベンズアミド。
本発明はまた式（Ｉ）の化合物の製造法を提供するもの
である。
これらの化合物は、それらの構造に応じて種々の方法に
従って製造することができる。式（ＩＩ）の化合物はた
とえば下記の反応フローシートに従って有利に製造でき
る： Ｓ・　　　　Ｓ・　　　　　′″　坦 ト１　　　　　、− ４−アルコキシカルボニル安息香酸クロリド（１）はＰ
−ホルミル安息香酸アルキルから出発し、これをジョー
ンズ（ｊｏｎｅｓ）の反応剤により酸化し、ついで慣用
の酸クロリドの製造法に従って塩化チオニルを反応させ
ることにより酸クロリドに転化せしめる方法によって製
造することができる。
式（２）の原料化合物のうちテトラリン及びインダンは
市販製品である。　５，５．８．８−テトラメチル−５
，８，７，８−テトラヒドロ−ナフタリン（すなわち５
．５，８．８−テトラメチルテトラリン）はＨ，Ｑ。
ＢＲＵＳＯＮ及びＪ、Ｗ、ＫＲＯＧＥＲ，Ｊ、Ａｍ、Ｃ
ｈｅｍ、５ｚｏｃ、、６２．３８−４４　（１９４０）
に記載される方法に従って製造される。
５．８−メタノ−５，６，７，８−テトラヒドロナフタ
リンはＪ、Ｏｒｇ、Ｃｈｅｍ、　、３２，８９３−９０
１　（１９６７）記載の方法に従って製造される。　ｉ
、ｌ、２，３．３−ペンタメチルインダン及び１，１，
３．３−テトラメチルインダンはフランス特許第１３９
２８０４号明細書記載の方法に従って製造される。
４−アルコキシカルボニル安息香酸クロリド（１）　と
二環式芳香族化合物（２）との縮合反応は通常のフリー
デル・クラフツ反応の条件において、すなわち無水塩化
アルミニウム又は塩化錫の存在下、ジクロルエタン中で
、温度０°〜２５℃において攪拌下に行なわれる。
ケトエステル（３）は同じく４−アルコキシカルボニル
安息香酸クロリド（１）と芳香族ハロゲン誘導体マグネ
シウム化合物（２′）との縮合反応によって製造され、
後者はＴＨＦ中で還流冷却条件下で製造され、縮合は同
じ溶媒中で温度約０℃において行なわれる。
ケトエステル（３）から鹸化により対応のケト酸（４）
を形成し、これを引続いてＮ、Ｎ　’　−カルボニルジ
イミダゾール（ＣＤＩ）の存在において式る）のアミン
を作用せしめることにより式（５）のアミドに転化する
ことができる。
Ｒ６がモノヒドロキシ又はポリヒドロキシアルキル基を
表わす場合にはメチルエステル（３）（Ｒａ−−Ｃ１１
３）から出発してケト酸（４）を製造し、引続いてかく
得られるケト酸を遭定された一価又は多価アルコールで
公知の方法に従ってエステル化してケトエステルとする
ことが望ましい。
ケト酸（４）から有機溶媒、たとえばＴＨＦ中で硼水素
化ナトリウムにより還元することによって第二アルコー
ル（６）　を製造することができ、ケト酸（４）を水素
化リチウムアルミニウムで還元すればジオール（７）を
製造することができる。
ピリジニウムクロルクロメ−）　（ＦＣＣ）によりジオ
ール（７）　を酸化すればケトアルデヒド（８）が得ら
れる。
ケトアルデヒド（８）もまた式（ＩＩＩ　）の化合物の
製造のための中間体であり、下記の反応フローシートに
従って製造することもできる： この方法はアルデヒド官能基を予めジメチルヒドラゾン
の形成によって保護した酸クロリド（９）と二速式芳香
族化合物（１）との縮合反応を、酸クロリド（２）の縮
合について上記した方法と同じ条件下で行なうことから
なる。
得うれるベンゾフェノン（ｌＯ）のアルデヒド官能基は
引続いてグリオキサールとの交換により遊離され、良好
な収率でケトアルデヒド（８）　に導くことがで籾る。
ケトアルデヒド（＋１）は下記の反応フローシートに従
う式（ＩＩＩ）の化合物の合成のための特に好ましい原
料である： ケトアルデヒド（８）　と非置換又は置換ホスボッ酢酸
とのウィッチヒ・ホルナー反応は有機溶媒、たとえばＴ
ＨＦ中で水素化ナトリウムの存在において行なわれる。
得られる不飽和ケトエステル（１１）は引続き前記と同
様に対応１°る酸の代りに式 ％式％ 式（６）のヒドロキシ酸と式（ＩＩＩ　）の化合物のヒ
ドロキシエステル（６′）　は臭素化誘導体（１２）か
ら調製した有機マグネシウム化合物を下記の反応フロー
シートに従って４−ホルミル桂皮酸アルキル（１コ）と
反応させることによって製造することができる： ホルミル桂皮酸アルキル（！３）は一方のアルデヒド官
能基がジメチルヒドラゾンの形で保護された市販のテレ
フタルアルデヒド（１４）から製造される。
Ｒ′及びＲ″がともに水素原子を表わす場合の本発明の
化合物はケトン屈導体を酢酸中で塩酸の存在下に亜鉛を
用いて還元することにより製造することができる。
カルボニルの還元反応はもちろんＲ基のｆ！１１類と両
立可能でな（てはならない、場合によっては保護を確実
にするのが望ましいことがあるが、Ｒが−Ｃｏ２８であ
る場合には何ら困難を生じない。
式（りの化合物のアシルオキシ銹導体（Ｒ’は０１〜Ｃ
４アシルオキシ基、Ｒ″は水素原子）は酸無水物又は酸
クロリドのような活性化された形の酸をＲ′がＯＨ基Ｒ
″がＨである本発明の化合物と反応させて製造すること
ができる。
式（Ｉ）の化合物のアルコキシ誘導体（Ｒ’　はＣ１〜
Ｃ４アルコキシ基、Ｒ＃は水素原子）は同様にＲ′がＯ
Ｈ基Ｒ″がＨである式（１）の化合物から公知の方法に
従って製造される。
アシルオキシ及びアルコキシ誘導体の調製のためにはＲ
基がエステル、酸又はアミド官能基であることが望まし
い。
Ｒ′及びＲ“がメタノ（”　Ｃ）＋２）基を形成する式
（Ｉ）の化合物は下記の反応フローシートに従ってウィ
ッチヒ反応により製造することができる。
Ｒｄ　ＣｌＯ Ｒ′及びＲ″がヒドロキシイミノ（＝　Ｎ−０１１）基
を形成している式（りの化合物は反応するカルボニルヒ
ドロキシルアミンを作用させて製造することがで跨る。
本発明はまた式（Ｉ）の化合物を有効成分とする医薬の
発明を包含する。
これらの化合物は無毛のラットにおいて゛″テープ剥取
“　（ｔａｐｅ　ｓｔｒｉｐｐｉｎｇ）　により話発さ
せた後のオルニチン・デカルボキシラーゼ阻害試験にお
いて活性である（Ｍ、ＢｏｕｃｌｉｅｒほかＤｅｒｍａ
ｔｏｌｏｇｉ−ｃａ　１６９　Ｎｏ、４　（１９８４）
）　、この試験は抗増殖作用の尺度として容認されてい
る。
これらの化合物は特に角質化（分化−増殖）障害に関連
した皮膚科疾患ならびに炎症性及び／又は免疫アレルギ
ー性成分による皮膚科（又はその他の）疾患、特に、 一尋常性、面飽性又は多形性座疹、老人性、日光性座疹
及び薬物性又は職業性座渣、 −持続的な及び／又は重症的状態の乾田、その他の角質
化障害、及び特に魚鱗癖及び魚鱗廁様症状−ダリニル氏
病 一掌・蹟、部内化症 一白色角化斑及び白色角化斑様症状、面苔田−良性又は
悪性の、重症又は持続的なあらゆる皮膚増殖性疾患 の処置用に通している。
同様に、腫瘍、リューマチ様乾癖、皮膚系又は呼吸器系
アトピーならびに角膜症関連のある種の眼科疾患の処置
においても活性である。
これらの化合物は座渣中に含まれている細菌にも良好な
活性を示す。
たとえば、本発明による化合物はＩｎｔｅｒｎａｔｉｏ
ｎ−ａｌ　Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｏｓｍｅｔｉｃ　
５ｃｉｅｎｃｅ　１，、２３−２８（１９８１）にＢｏ
ｎｎｅらによって記載されたリン（Ｒｈｉｎｏ）ＩＩマ
ウスについての試験において良好な抗面飽活性を示す。
この実験は１９７２年にＶａｎ　５ｃｏｔｔにより抗面
飽剤選別モデルとして勧奨された無毛リノ種マウスの皮
膚上で行なわれる。
したがって、本発明はさらに、上記に定義したとおりの
式（１）の化合物又はそれらの塩又はそれらの光学又は
幾何異性体の少なくとも１種を含有してなる医薬組成物
を提供するものである。
特に本発明は、許容し得る担体中に少なくとも１種の式
（１）の化合物及び／又はそれらの塩及び／又はそれら
の光学又は幾何異性体を含有してなる前記諸疾患の処置
に適する新規医薬組成物を提供する。
本発明による化合物は、一般に１日当り、体重ＩＫｇあ
たり約２μｇ〜２ｍｇの用量で医薬として投与される。
医薬組成物用の担体としては任意慣用の医薬用担体が使
用でき、活性化合物をその中に溶解又は分散させた状態
で使用できる。
投薬は腸管・腸管外・局所又は眼を経由して実施できる
。腸管経由用医薬は錠剤、カプセル、糖衣錠、シロップ
、懸濁液、溶液、粉末、顆粒、乳濁液等の剤型とするこ
とができる。腸管外軽重用組成物は潅注用又は注入用の
溶液又は懸濁液の剤型とすることができる。
局所経由用に適する本発明の医薬組成物は軟膏、チンキ
、クリーム、ポマード、粉末、貼布剤、浸漬綿栓、溶液
、ローション、ゲル、スプレー又は懸濁液の剤型とする
ことができる。
これら局所経由用組成物は臨床症状に応じて無水の形又
は水性の形とすることができる。
眠経由用医薬は特に点眼薬である。
局所又は眼経由用組成物は上記に定義したとおりの式（
１）の化合物の少なくとも１種を組成物の全重量に対し
て望ましくはＱ、０００５〜約５重量％含有する。
本発明による式（りの化合物はまた、化粧料分野におい
ても、特に身体及び毛髪の衛生に、とりわけ座疹の傾向
のある皮膚の処置、毛髪の再生、脱毛防止、皮膚又は毛
髪の脂ぎった外観の処置、太陽の有害な効果の防止又は
処置又は生理学的に乾燥した皮膚の処置において使用さ
れる。
したがって本発明はさらに、許容し得る化粧料用担体中
に式（ｊ　）の化合物又はそれらの塩及び／又はそれら
の異性体の少なくとも１種を含有してなる化粧料組成物
を提供するものである。これらの組成物は特にローショ
ン、ゲル、クリーム、石鹸又はシャンプーの形態で使用
される。
化粧料組成物中の式（１）の化合物の濃度はｏ、ｏｏｏ
ｓ〜２重量％、望ましくは０．０１〜１重量％である。
本発明による医薬及び化粧料組成物は不活性添加剤又は
薬理学的に又は美容上活性の添加剤、特にチアモルホリ
ノン及びその誘導体又は尿素のような湿潤剤；抗脂漏剤
又は抗座疹剤、たとえばＳ−カルボキシメチルシスティ
ン、Ｓ−ベンジルシステアミン、それらの塩及びそれら
の誘導体、チオキソロン又はベンゾイルペルオキシドな
ど：抗生物買、たとえばエリスロマイシン及びそのエス
テル、ネオマイシン、テトラサイクリン及び４．５−ポ
リメチレン−３−イソチアゾロンなど；毛髪再生促進剤
、たとえばミノキシジル″Ｍｉｎｏｘ−１ｄｉｌ’″　
（２，４−ジアミノ−６−ビペリジノピリミジンー３−
オキシド）及びその誘導体、ジアゾキシド（Ｄｉａｚｏ
ｘｉｄｅ）　（７−クロル−３−メチル−１，２，４−
ベンゾチアジアジン−１，１−ジオキシド）及びフェニ
トイン（Ｐｈｅｎｙｔｏｉｎ）　（５，５−ジフェニル
イミダゾリジン−２，４−ジオン）など；ステロイド系
及び非ステロイド系抗炎症剤；カロチノイド、特にβ−
カロチノイド；抗乾癖剤、たとえばアントラリン及びそ
の誘導体及び５．１８、１１．１４−エイコサテトラエ
ン酸及び５，８，８−エイコサトリエン酸ならびにそれ
らのエステル及びアミドなど；風味剤、防腐剤、安定剤
、調湿剤、ｐＨ調整剤、滲透圧改変剤、乳化剤、紫外線
Ａ及びＢフィルター、酸化防止剤、たとえばα−トコフ
エロール、ブチルヒドロキシアニソール又はブチルヒド
ロキシトルエンなど、を含有し得る。
以下例証のため、たｘし何ら限定的な性格なしに、本発
明による式（１）の化合物の製造例及びそれらを含有す
る組成物例を示す。
＾五〇飢上 １亜 （Ａが−（Ｃ１ｈｈ−１Ｒ１及びＲ４がオキソ及びＲ″
アが一０ＣＲ２である式■の化合物）ａ）　　４−メト
キシカルボニル安息香酸の調製アセトン１５０ｒ：ｒｔ
中の４−ホルミル安息香酸メチル２０ｇの溶液に、重ク
ロム酸カリウム３０ｇを含有する水１５０は及び濃硫酸
２７ばの溶液を滴加する。常温において２時間攪拌を続
ける。減圧下でアセトンを蒸発させた後、反応混合物を
酢酸エチルで抽出する。
有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、次に濃縮する
。粗４−メトキシカルボニル安息香酸ｔｔｇが得られ、
こけを酢酸エチルから再結晶させる。結晶を濾別しかつ
乾燥する。融点：２２２℃、’　ＨＮＭＲスペクトルは
予測された構造に一致する。
ｂ）　　４−メトキシカルボニル　１、香　クロリドの
調製 上記ａ）において得られた酸５ｇのチオニルクロリド５
０ｏｆ中の懸濁物を４０℃に３時間加熱する。反応の終
りには媒体は均質であり、その溶液を減圧下で濃縮する
。所望の酸クロリドは赤色の薄片状に結晶化する。この
酸クロリドの収率は定量的であり、ただちに次の工程に
使用できる。
ｃ）　　４−（５，５，８，８，−テトラメチル−５，
６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル
−安息香酸メチルの調製 無水１．２−ジクロルエタン２５０ば中の５．５，８゜
８−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−ナ
フタリン４．８５ｇ　（０，０２５８モル）と上記ｂ）
で得られた酸クロリド５．４　ｇ　（０，０２７２モル
）との溶液を温度５℃において攪拌しつつ、これに塩化
アルミニウム５．４ｇを少量ずつ添加する。添加終了後
３０分間攪拌を続け、引続いて反応媒体を常温において
一夜間放置する。氷上へ注いだ後に有機相を傾瀉し、水
相をジクロルエタンで抽出する。
有機相を集め、次に塩化アンモニウム飽和溶液で洗滌し
、硫酸マグネシウム上で乾燥する。
これらの溶液を濃縮し、ついでシーリカゲルクロマトグ
ラフィーカラムに移す、所望の生成物をヘキチンー酢酸
エチル（９：１）混合物で溶出する。
溶出相の蒸発後に白色生成物３ｇが得られ、ヘキサンか
ら再結晶させる。結晶を濾別し、乾燥させる。　４−（
５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７，８，−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−安息香酸メチ
ルは融点１３６℃である。
元素分析：　ＣｚｓＨｚａＯ５１／４　　Ｒ２０計算値
：　Ｃ７７，８２Ｒ７，３８０１４，６５％実測値：　
　７７．５３　　７．４２　　１４．７８％賑 （Ａが−（［：Ｒ２）　２−　、　Ｒ’及びＲ″がオキ
ソ、Ｒ’？がＯＨである式■の化合物） エタノール１００Ｃ１ｆ及び６Ｎ水酸化カリウム１００
Ｃ１１ｒ中の実施例Ｉにおいて得られるエステル１．５
　ｇの混合物を攪拌しながら５０℃に２時間加熱する。
続いてエタノールを真空下で蒸発させて除く、得られた
水相を次に濃塩酸の添加により酸性化する。沈澱した所
望の酸を濾別し、ついで乾燥させ、トルエン−ヘキサン
混合物から再結晶させる。かくして４−（５，５，８８
−テトラメチル−５゜８、Ｌ、８−テトラヒドロ−２−
ナフチル）カルボニル−安息香酸０．８１ｇが単離され
る。融点１９３℃。
”　ＨＮＭＲスペクトル（２５０ＭＨｚ）は予定の構造
に一致する。
元素分析’　Ｃ２ｚｈ４０ｓ 計算値：　Ｃ７８，５４Ｒ７，１９０１４，２７％実測
値：　　７８．５０　７．２３　１４．２０％艶 （Ａが−（ＣＨ２ｈ−１ＲｔびＲＳとが−ＣＨ，−。
Ｒ，、Ｒ４はともにＨ，Ｒ’及びＲ“′がオキソ、Ｒが
一〇）１０である式ＩＩの化合物）ａ）　アルデヒド官
能基がジメチルヒドラゾンの形で保護されたｐ−ホルミ
ル安息香酸クロリドの調製 １）４−ホルミル安息香酸−Ｎ、Ｎ−ジメチルヒドラゾ
ンの調製 無水ＴＨＦ２００ｏｆ中の４−ホルミル安息香酸メチル
４９．２５　ｇ　（０，３０モル）の溶液を温度３０℃
において攪拌しつつ、これにＮ、Ｎ−ジメチルヒドラジ
ン２２．８−を滴加する。添加終了後も攪拌を１時閘統
け、溶媒を減圧下で溜去する。
黄色の結晶生成物６１．１５　ｇが得られ、その’　Ｈ
ＮＭＲスペクトルは予定の構造に一致する。
その固体をエタノール２００ばと６Ｎ水酸化カリウム溶
液２００ｃｎｒどの混合物に溶解し、６０℃とする。
この温度において１時間半攪拌してエタノールを蒸発さ
せる。水相を水１ｆｔで希釈し、得られた溶液を酢酸の
添加により酸性化すると４−ホルミル安息香酸−Ｎ、Ｎ
−ジメチルヒドラゾンが沈澱する。これを濾別、乾燥さ
せて黄色の結晶４４．１８ｇを得る。融点６１℃、　’
ＨＮＭＲスペクトルは予定の構造に一致する。
１ｉ）酸クロリドの調製 ジエチルオキシド３０Ｏａｆ中の上記で得られる酸２０
　ｇ　（０，１０モル）の懸濁液を攪拌しつつ、これに
ジシクロヘキシルアミン２４．８５　ａｆを添加する。
１時間後、ジシクロヘキシルアミンの塩を濾別し、つい
で乾燥させる。かくしてクリーム色の塩４４．７ｇが得
られる。融点１６４℃、　（０，０３０８モル）の１．
２−ジクロルエタン２５０は中のこの塩１１．５ｇの懸
濁液にチオニルクロリド６ばを滴加する。引続いて攪拌
を１時間維持し、ついでジシクロヘキシルアンモニウム
クロリドの沈澱を濾別する。濾液を減圧下で蒸発すると
褐色粉末５．８ｇが得られ、その’　ＨＮＭＲスペクト
ルは予定の構造に一致する。４−ｐ−ホルミル安息香酸
−Ｎ、Ｎ−ジメチルヒドラゾンクロリドはさらに精製す
ることなしに次の合成に用いられる。
ｂ”）　　４−（５，８−メタノ−５，６，７，８−テ
トラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベンズアルヒ
ト−Ｎ、Ｎ−ジメチルヒドラゾンの調製 無水１．２−ジクロルエタン１００　ＣＩｆ中のベンゾ
ノルボルネン３．１　ｇの混合物を５℃より低い温度で
攪拌しつつ、これに上記で得られる酸クロリド４．３ｇ
　（０，０２０モル）を添加し、ついで塩化アルミニウ
ム４．３ｇを少量ずつ添加する。添加終了後、さらに２
時間の間混合物を攪拌し、ついで氷水に注ぐ、ジクロル
エタン相を傾瀉し、硫酸マグネシウム上で乾燥させかつ
減圧下で蒸発させる。得られる生成物を酢酸エチルで抽
出し、ついで有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液で及び
ついで水で洗滌する。
硫酸マグネシウム上で乾燥させた後、酢酸エチル溶液を
濃縮し、ついでシリカゲルクロマトグラフィーカラムに
移し、所望の生成物をヘキサン−酢酸エチル（８：　２
）混合物で溶出する。溶出相の濃縮後に４−　（５，８
−メタノ−５，６’、７．８−テトラヒドロ−２−ナフ
チル）、・カルボニル−ベンズアルデヒド−Ｎ、Ｎ−ジ
メチルヒドラゾン２．６ｇが得られる。融点：１２２℃
。
’　ＨＮＭＲスペクトルは予定の構造に一致する。
Ｃ）　　４−（５，８−メタノ−５，６，７，ＩＩ−ナ
トヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベンズアルデヒ
ドの調製 トルエン１００【は中の上記ｂ）で得られるヒドラゾン
１．８５ｇ、　６．２　Ｍグリオキサール水溶液２．８
Ｃゴ及び濃塩酸５滴の混合物を攪拌し温度を６０℃とす
る。ヒドラゾンの転化後薄層クロマトグラフィーにかけ
る。原料が完全に転化された後、反応媒体を水で洗い、
トルエン相を硫酸マグネシウム上で乾燥させる。減圧下
でトルエンを蒸発させた後に４−（５，８−メタノ−５
，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル−ベンズアルデヒド１．２６ｇが粘稠液体の形で得ら
れ、その’　）ＩＮＭＲスペクトルはの予定の構造に一
致する。
デヒドの調製 （Ａが−（ｃＨｚＬ　−、Ｒ’及びＲ″がオキソ。
Ｒ’ｙが水素原子である式■の化合物）無水１．２−ジ
クロルエタン５００Ｃゴ中の５．５，１１゜８−テトラ
メチル−５，８，７，８−テトラヒドロ−ナフタリン１
４．ｙｇ　（０，０７８モル）と実施例１１１ａ）にお
いて得られる酸クロリド１８．３ｇ　（０，０７７モル
）との混合物に、攪拌下５℃より低い温度において塩化
アルミニウム１５．６ｇ　（０，１１７モル）を少量ず
つ添加する。
攪拌は５℃において３０分間、ついで常温において２時
間継続し、この時点で反応は完結している。ついで濃赤
色の反応混合物を氷上に注ぎ、有機相を傾瀉し、ついで
硫酸マグネシウム上で乾燥させる。１．２−ジクロルエ
タンを減圧下で蒸発した後に得られる生成物を酢酸エチ
ルで抽出する。有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液で、
ついで水で洗滌し、続いて硫酸マグネシウム上で乾燥さ
せる。
減圧下で酢酸エチルを蒸発させた後、シリカゲルクロマ
トグラフィーにより精製して結晶状の４−　（ｓ、ｓ、
ａ、ａ−テトラメチル−５，８，７，８−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニルーヘンズアルデヒドーＮ、
Ｎ−ジメチルヒドラゾン９．２５ｇが得られる。融点：
１１９℃。
得られたヒドラゾン６．８ｇのトルエン２５０ｒ：ｒｔ
中の溶液に６．２Ｍグリオキサール水溶液１３．５ｃｒ
ｔ及び濃塩酸２【ゴを添加する。ついで混合物を４時間
６０℃に加熱し、ついで常温に戻し、水２００ｏｆで洗
滌する。トルエン相を傾瀉し、硫酸マグネシウム上で乾
燥させ、ついで減圧下で濃縮させる。
黄色粉末の形の４−　（５，５，Ｌ８−テトラメチル−
５，８，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボ
ニル−ベンズアルデヒド５．５ｇが得られる。融点：１
２７−１３０℃。
’　ＨＮＭＲスペクトルは予定の構造に一致する。
ル）カルボニル−１、香　メチルの合成Ｒ″フが一〇Ｃ
Ｈ３である式■の化合物）無水１．２−ジクロルエタン
１００ゴ中の１．１，２，３゜３、−ペンタメチル−イ
ンダン５　ｇ　（０，０２７モル）及び４−メトキシカ
ルボニル安息香酸クロリド５ｇ（０，０２５モル）の懸
濁液を常温で攪拌しつつこれに粉末の塩化アルミニウム
６ｇを温度を３５℃未満に保つように少量ずつ添加する
。
攪拌は原料が完全に消失するまで１時間ｗＩ続し、つい
で反応媒体を氷水１５０ｏｆに注ぎ、ジクロルメタンで
抽出する。
有機相を炭酸水素ナトリウム水溶液で、ついで水で洗滌
し、硫酸マグネシウム上で乾燥しかつ減圧下で濃縮する
。
シリカゲルクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢
酸エチル９：１）により精製して４−（１，１，２，３
，３，−ペンタメチル−５−インダニル）カルボニル−
安息香酸メチル６．５ｇが得られる。
融点：１４６−１４７℃（ヘキサンから再結晶後）。
元素分析：　ｈｓＨｚｓｏｓ 計算値：　Ｃ７８，８２Ｎ７．４８　０１３．７０％実
測値：　　７８．７４　７．５２　１３．８０％Ｒ′フ
が−ＯＨである式■の化合物） エチルアルコール２００は及び６Ｎ水酸化カリウム水溶
液７５ｃｎｉ”中の実施例Ｖにおいて得られる４　−（
１，１，２，３，３，−ペンタメチル−５−インダニル
）カルボニル安息香酸メチル４．９ｇの懸濁液を、原料
が完全に消失するまで約３時間４０ｔに加熱する。減圧
下でアルコールを蒸発させた後に水相を水５００ばで希
釈し、濃塩酸で酸性化する。得られた沈澱を濾別し、乾
燥しそしてトルエン−ヘキサン混合物から再結晶させる
。かくして白色粉末３．９ｇが回収される。融点：１６
４−１６５℃。
’　ＨＮＭＲスペクトル（８０ＭＨｚ）は４−　（１，
１，２，３゜３、−ペンタメチル−５−インダニル）カ
ルボニル安息香酸の構造と一致する。
元素分析：　ｈ２Ｈｚ４０ｓ 計算値：　Ｃ７８，５４Ｎ７．１９　０１４．２７％実
測値７　７８．４０　７．２３　　１４．２１％実測値
■ −５−インダニル　カルボニルベンズアミドの台底 Ｒ１７が−Ｎ）ｌｃ、Ｈ，である式■の化合物）無水ジ
クロルメタン１００ハ中の実施例■において得られる４
−（１，１，２，３，３，−ペンタメチル−５−インダ
ニル）カルボニル安息香酸２．５　ｇの溶液にＮ、Ｎ’
−カルボニルジイミダゾール２．５ｇを添加する。添加
後攪拌を３時間続け、ついで反応媒体を０℃に冷却し、
無水エチルアミン２．５ゴを添加する。常温において攪
拌を２時間続け、ついで溶液を水２００は中に注ぐ、水
相をジクロルメタンデ抽出し、有機相を集め、洗滌し、
硫酸マグネシウム上で乾燥しかつ減圧下で濃縮する。
かくして得られる油状物をジイソプロピルエーテルから
結晶させて、Ｎ−エチル−４−（１，１，２゜３．３．
−ペンタメチル−５−インダニル）カルボニル−ベンズ
アミド１．９　ｇを得る。融点：１３２−１３３℃。
元素分析：　Ｃ＊４Ｈ２＊ＮＯｔ 計算値：　Ｃ７９，３０）１８．０４　　Ｎ３４５　０
８．８０％実測値：　　７９．０８　８．０６　３．９
２　　８．７４％がそれぞれ−ＣＨ３、Ｒ’が一〇Ｈ％
Ｒ′がＨ％Ｒが−ＣＨ２０Ｈである式（！Ｉ）の化合物
）０℃に保持された無水テトラヒドロフラン２００ｏｆ
中の水素化リチウムアルミニウム３．３ｇの懸濁液にテ
トラヒドロフラン１００は中の実施例Ｖにおいて得られ
る４　−（１，１，２，３，３，−ペンタメチル−５−
インダニル）カルボニル−安息香酸メチル１０ｇの溶液
を滴加する。添加終了後、反応媒体の攪拌を常温におい
て約３時間、原料及び反応中間体が完全に消失するまで
、続ける。酢酸エチル５０−を添加して過剰の水素化物
を分解させた後溶液を水２０００１ｆに注ぎ、３Ｎ塩酸
で酸性化し、酢酸エチルで抽出する。有機相を洗滌し、
硫酸マグネシウム上で乾燥しかつ減圧下で濃縮する１　
−（１，１，２，３，３，−ペンタメチル−５−インダ
ニル）−１−（４−ヒドロキシメチルフェニル）メタノ
ール４．１　ｇが回収され、ヘキサンから結晶化後に白
色粉末の形となる。融点：１０７−１０８℃。
その’　）ＩＮＭＲスペクトル（８０ＭＨｚ）は予定の
構造に一致する。
東ｍｆｆ１旦 ４−　（１，１，２，３，３，−ペンタメチル−５−イ
ンダＲ′７がＨである式■の化合物） 無水ジクロルメタンｉｏｏｃｍ’中の実施例■において
得られる１　−（１，１，２，３，３，−ペンタメチル
−５−インダニル）−１−（４−ヒドロキシメチルフェ
ニル）メタノール２　ｇ　（０，００６２モル）の溶液
にニクムクロルクロメート３．４ｇを添加する。
攪拌は原料が完全に消失するまで約３時間続け、ついで
ジクロルメタン２００ｍ及びシリカ約２０ｇの添加後、
溶液を濾過し、塩化アンモニウム溶液及び水で洗滌し、
ついで硫酸マグネシウム上で乾燥しかつ減圧下で濃縮す
る。ヘキサン／ジイソプロピルエーテル混合物から結晶
化後に白色粉末１．２ｇが得られる。融点：１１４−１
１５℃。その’　ＨＮＭＲスペクトル（８０ＭＨ２）は
予定の構造に一致する。
元素分析：　Ｃ２２Ｈｔ４（ｈ 計算値：　Ｃ８２，４６８７，５５０９，９９％実測値
：　　８２．３１　７．５８　　１０．０２％Ｈ，Ｒ’
　、が−０ＣＨ３である式■の化合物）メタノール１０
０Ｃゴ中の実施例■において得られる４　−（１，１，
２，３，３，−ペンタメチル−５−インダニル）カルボ
ニル安息香酸メチル２ｇの懸濁液に硼水素化ナトリウム
０．７ｇを温度を３０℃未満に保ちながら少量ずつ添加
する。攪拌は常温で原料が完全に消失するまで約３時間
続ける０反応混合物を水１０ｏ【ゴで加水分解し、３Ｎ
塩酸溶液で酸性化する。減圧下でメタノールを蒸発後、
所望の生成物を酢酸エチルで抽出する。有機相を洗滌し
、乾燥しそして減圧下で濃縮する。白色粉末１．７ｇが
回収され、その’　ＨＮＭＲスペクトル（８０ＭＨｚ）
は４−　（１，１，２，３，３，−ペンタメチル−５−
インダニル）ヒドロキシメチル−安息香酸メチルの構造
に合致する。試料をヘキサンから再結晶させて白色薄片
が得られ、融点は１２６−１２７℃である。
元素分析：　ＣｚｓＨｚａＯｓ 計算値：　Ｃ７８，３７）１８．００　０！３．８２％
実測値：　　７８．３３　７．９３　　１３．７１％Ｒ
′、が−ＯＨである式■の化合物） エチルアルコール１００［ゴ及び６Ｎ水酸化カリウム３
０ｃゴの混合物中の実施例Ｘにおいて得られる４−＜　
１．１，２，３，３．−ペンタメチル−５−インダニル
）ヒドロキシメチル−安息香酸メチル１ｇの懸濁液を原
料が完全に消失するまで約１時間４０℃に加熱する。ア
ルコールを減圧下で蒸発させ、ついで水相を水３００ｃ
ｎｆで希釈する。０℃に冷却し、３Ｎ塩酸により酸性化
した後、沈澱を濾別別し、乾燥し、トルエン／ヘキサン
混合物から再結晶させる。白色粉末６００ＩＩＩｇが得
られ、融点１８７−１８８℃である。
”ＨＮＭＲスヘクトル（８０ＭＨｚ）は４−　（１，１
，２，３゜３、−ペンタメチル−５−インダニル）ヒド
ロキシメチル−安息香酸の構造に一致する。
元素分析：　Ｃ２Ｊ＊ａＯ３ 計算値：　Ｃ７８，０７８７，７４０１４，１８％実測
値：　　７７．８７　　７．８７　１４．３１％ゑ２ｉ
１（Ｗｌｍ （Ａが−（Ｃ）ｌ＊）　２−１Ｒ′が一〇Ｈ％Ｒ′がＨ
１Ｒ１７が−ＯＨである式■の化合物） メタノール５０ｃゴ中の実施例１１において得られる４
−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７，８−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル安息香酸０．
５ｇの溶液を常温において攪拌しつつ、これに硼水素化
ナトリウム０．２５　ｇを少量ずつ添加する。
攪拌は原料が完全に消失するまで約１時間続ける。つい
で反応媒体を水１００ばで加水分解し、ついで濃塩酸で
酸性化する。
減圧下でメタノールを蒸発した後、水相を水５０【ゴで
希釈し、酢酸エチルで抽出する。有機相を洗滌し、硫酸
マグネシウム上で乾燥しかつ減圧下で濃縮する。トルエ
ン／ヘキサン混合物から再結晶させて白色粉末２００ｍ
ｇを回収する。融点１７７−１７８℃、またその’ＨＮ
ＭＲスペクトル（８０ＭＨｚ）は４−　（５，５，８，
８−テトラメチル−５，８，７，８−テトラヒドロ−２
−ナフチル）ヒドロキシメチル安息香酸の構造に一致す
る。
元素分析：Ｃ２□Ｈ２６０３ 計算値：　Ｃ７８，０７Ｈ７，７４０１４，１８％実測
値：　　７８．００　７．７８　１４．２３％エチルの
調製 （Ａが−（ＣＨ２）２−１Ｒ１及びＲ３が−ＣＨ，−１
Ｒ２、Ｒ４、Ｒｓ、ＲｅがそれぞれＨ％Ｒ’及びＲ“が
オキソ、Ｒが−ＣＯ２Ｃ２Ｈｓである式（ＩＩＩ　）の
化合物） 無水ＴＨＦ７５ｃ＋ｆ中のトリエチルホスホノアセテー
ト１．８３ｏｆ（９ミリモル）の溶液を常温において攪
拌しつつ、これに水素化ナトリウム０．４５ｇを少量ず
つ添加する。引続いて光を遮断してＴＨＦｌｏは中の実
施例■のおいて得られる４−（５，８−メタノ−５，８
，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−
ベンズアルデヒド１．７ｇ（６ミリモル）の溶液を添加
する０反応の進行を薄層クロマトグラフィーによって追
跡する０反応終了時に混合物を氷に注ぎ、ついで酢酸エ
チル１００ｃｒｔで３回抽出する。有機相を集め、飽和
塩化アンモニウム溶液で、ついで水で洗滌し、最後に硫
酸マグネシウム上で乾燥させる、酢酸エチルを減圧下で
溜去し、所望の生成物をヘキサン中で攪拌することによ
り結晶化させる。
かくして白色結晶状のトランス４−（５，８−メタノ−
５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボ
ニル−桂皮酸エチルが得られる。融点：９２℃ ’ＨＮＭＲスペクトルは予定の構造に一致する。
実施例　項 の調製 （Ａが−（ＣＨ２）　２−１Ｒ１及びＲ５が−ＣＨ２−
１Ｒ２、Ｒ４、Ｒｓ、ＲａがそれぞれＨ，Ｒ’及びＲ”
がオキソ、Ｒが一〇〇２Ｈである式（ＩＩＩ）の化合物
） 光を遮断して、エタノール５０ｏｆ及び６Ｎ水酸化カリ
ウム水溶液５０は中の実施例■において得られるトラン
ス−４−（５，８−メタノ−５，６，７，８−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル−桂皮酸エチル１．３
ｇの懸濁液を攪拌しながら約１時間５０℃の温度に加熱
する。減圧下で、エタノールを蒸発後、水相を常温で攪
拌しながら塩酸の添加により酸性化する。生じた沈澱を
濾別し、乾燥しかつトルエン／ヘキサン混合物から再結
晶させる。白色結晶状のトランス−４−（５，８−メタ
ノ−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
ルボニル−桂皮酸０．７５０　ｇが得られる。融点；１
８９℃。
’ＨＮＭＲスペクトルは予定の構造に一致する。
元素分析：　Ｃｚ＋Ｈ＋ａＯｓ 計算値：　Ｃ７９，２２Ｈ５，７００１５，０８％実測
値：　　７９．２０　５．７５　１５，８％夫直五−Ｆ トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチル−５゜
（Ａが−（Ｃ）１２）２−１Ｒ６がＨ，Ｒ’及びＲ＃が
オキソ、Ｒ’　？が一０Ｃ２）１ｓである式Ｖの化合物
）無水ＴＨＦ１５０ｃゴ中のトリエチルホスホノアセテ
ート４．８　ｃｎｆ　（２４，３ミリモル）の溶液に水
素化ナトリウム１．１７ｇ　（２４ミリモル）を少量ず
つ添加する。常温において光を遮断して攪拌しつつ、こ
の混合物に無水ＴＨＦ５０ｃゴ中の実施例■において得
られる４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６゜
７．８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベ
ンズアルデヒド５．２　ｇ　（１６，２ミリモル）の溶
液を滴加する。攪拌は光を遮断して原料が完全に転化さ
れるまで続ける。引続いて反応媒体を塩化アンモニウム
水溶液に注ぎ、その混合物を酢酸エチルで抽出する。有
機相を傾瀉し水で洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
、減圧下で濃縮する。
ついでトルエン／ヘキサン混合物から再結晶させると白
色結晶状のトランス−４−（５，５，８，８−テトラメ
チル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）
カルボニル−桂皮酸エチル３ｇが得られる。融点＝９７
℃、濾液をシ濾液ゲル　クロマトグラフィーカラムに通
し、所望の生成物をヘキサン／酢酸エチル混合物で溶出
すると別置の純粋な生成物１ｇが得られる。
元素分析：　ｈ６８３゜０゜ 計算値：　Ｃ７９，９６Ｎ　５．７４０１２．２９％実
測値：　　８０．０１　７．７７　１２．２０％（Ａが
−（ｃＨｚＬ−１Ｒ０がＨ，Ｒ’及びＲ″がオキソ、Ｒ
′、が−ＯＨである式Ｖの化合物）エタノール１００は
及び６Ｎ水酸化カリウム水溶液１００ばの混合物中の実
施例Ｗにおいて得られるトランス−４−（５，５，、Ｉ
ｌ、８−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ
−２−ナフチル）カルボニル−桂皮酸エチル３ｇの懸濁
液を、５０℃において光を遮断して２時間攪拌する。引
続いてエタノールを真空下で蒸発させて除去し、残りの
水相を濃塩酸を添加して酸性化する。３０分間攪拌後、
生じた沈澱を濾別し、乾燥し、ついで最少量のメチレン
クロリドに溶解し、シリカゲル−クロマトグラフィーカ
ラムへ８し、所望の生成物をヘキサン／ジクロルメタン
（１：１）混合物で溶出する。
溶離剤の蒸発後、白色結晶状のトランス−４−（５，５
，８，８−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル−桂皮酸が得られる。融
点：２３２℃。
元素分析：　Ｃ２ａＨ２ｓＯｓ 計算値：　Ｃ７９，５３Ｈ７，３０１３，２４％実測値
：　　７９．２９　７．２１　１３．０５％実施例　Ｘ
ＶＩＩ （Ａが−（ＣＨ２）　２−１Ｒ６が−Ｃ’Ａｓ、Ｒ’及
びＲ″がオキソ、Ｒ’　？が一〇Ｃ，）Ｉ、である式■
の化合物） 無水ＴＨＦ１００Ｃ＆中の２−トリエチルホスホノプロ
ピオネート１．９５ｇ　（８，２ミリモル）の溶液を攪
拌しつつ、これに水素化ナトリウム０．４４ｇ（９ミリ
モル）を少量ずつ添加する。３０分後、光を遮断してＴ
ＨＦ２０ｃゴ中の実施例■において得られる４　−（５
，５，８，８−テトラメチル−５，６，７゜８−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベンズアルデヒド
１．７５ｇ　（５，５ミリモル）の溶液を添加する。
３時間攪拌後、反応混合物を氷水に注ぎ、得られる溶液
を酢酸エチル５０Ｃｎｆで３回抽出する。有機相を集め
、水１００【ばで洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
かつ減圧下でＩＡ縮する。所望の生成物をシリカゲルカ
ラムに移し、ヘキサン／酢酸エチル（９５：５）混合物
により溶出して精製する。減圧下での溶離剤の蒸発後に
白色結晶状のトランス−４−（５，５，８，８−テトラ
メチル−５，６，７゜８−テトラヒドロ−２−ナフチル
）カルボニル−α−メチル桂皮酸エチルが得られる。融
点：１０６℃。
元素分析：　Ｃ２ｔＨｓｘＯｓ 計算値：　Ｃ８０，１６Ｈ７，９７０８８７％実測値７
　８０．２４　７．９８　１１．６８％（Ａが−（ＣＨ
２）　ｚ−１Ｒ６が−ＣＨｓ、Ｒ’及びＲ″がオキソ、
Ｒ１，が−ＯＨである式Ｖの化合物） エタノール１００ば及び６Ｎ水酸化カリウム水溶液２５
ｃゴの混合物中の実施例ＸＶＩＩにおいて得られるトラ
ンス−４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，８，
７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−α
−メチル桂皮酸エチル２．７５ｇの懸濁液を約４０℃に
おいて２時間攪拌する。減圧下でのエタノールの蒸発後
の残渣を水２００ｃｎ？中に採取し、濃塩酸で酸性化す
る。所望の酸を濾別し、洗滌し、乾燥する。トルエン／
ヘキサン混合物から再結晶するとトランス−４−（５，
５，８，８−テトラメチル−５，８，７，８−テトラヒ
ドロ−２−ナフチル）カルボニル−α−メチル桂皮酸１
．９ｇが回収される。融点：　２０５−２０６℃。
元素分析：　ｈｓ８２ａｏｓ 計算値：Ｃ７９，７５８７，５００１２，７５％実測値
：　　７９．２５　７．５２　１２．３９％ニル　カル
ボニル−α−メチル桂皮酸エチルの調製 Ｒ″がオキソ、ＲＪ７が一〇Ｃ，Ｈ５である式Ｖの化合
物） 無水ＴＨＦ１００ｃｎｒ中の２−トリエチルホスホノプ
ロピオネート１，５ｃＴｔの溶液に水素化ナトリウム０
゜４ｇを少量ずつ添加する。攪拌を約１時間続け、つい
で光を遮断して数滴のクラウンエーテル及び無水テトラ
ヒドロフラン２５は中の実施例■において得られる４−
（１，１，２，３，３−ペンタメチル−５−インダニル
）カルボニル−ベンズアルデヒド１゜４ｇの溶液を添加
する。添加終了後も２時間攪拌を続け、次に反応媒体を
塩化アンモニウム飽和溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出す
る。
有機相を洗滌し、乾燥しかつ減圧下で濃縮する。ヘキサ
ンから結晶させると白色粉末状の４−（１，１，２，３
，３−ペンタメチル−５−インダニル）カルボニル−α
−メチル桂皮酸エチル１．１　ｇが回収される。融点：
８９−９０℃。’ＨＮＭＲスペクトル（８０ＭＨ２）は
予定の構造に一致する。
元素分析：　Ｃ２？Ｈ３２０３ 計算値：　Ｃ８０，１６Ｈ７，９７０８８７％実測値：
　　７９．７０　８．０Ｂ　　１１．７５％Δ！ｌ がオキソ、ＲＪ、が−ＯＨである式■の化合物）エタノ
ール１００ｃｎｆ及び６Ｎ水酸化カリウム水溶液３０【
ゴの混合物中の実施例ＸＩＸにおいて得られる４−（１
，１，２，３，３−ペンタメチル−５−インダニル）カ
ルボニル−α−メチル桂皮酸エチル０．９ｇの懸濁液を
４°〜５０℃の温度において約１時間攪拌する。減圧下
でのエタノールの蒸発後に残漬を水５００ｃゴ中に採取
し、３Ｎ塩酸で酸性化する。生じた酸は沈澱する。これ
を濾別し、洗滌し、乾燥させる。
トルエン／ヘキサン混合物から再結晶させると白色粉末
６００ｍｇが回収される。融点１７１−１７２℃。その
’ＨＮＭＲスペクトル（８０ＭＨｚ）はトランス−４−
（１，１，２，３，３−テトラメチル−５−インダニル
）カルボニル−α−メチル桂皮酸の構造に一致する。
元素分析：　Ｃ２５Ｈ２５１０３ 計算値：　Ｃ７９，７５Ｈ７，５００１２，７５％実測
値：　　７９．１０　７．５４　　’１２．６０％（Ａ
　カ（ＣＬ）　２−１Ｒ６がＨ，Ｒ’がＯＨＲ″が）（
、Ｒ’）が−０Ｃ２Ｈｓである式■の化合物）無水ＴＨ
Ｆ８００ｍ中のテレフタルアルデヒド７５ｇの溶液にＴ
ＨＦ５０ば中のＮ、Ｎ−ジメチルヒドラジン４２Ｃ＃の
溶液を反応媒体の温度を３０℃より砥く保ちつつ滴加す
る。添加終了後も原料のテレフタルアルデヒドが完全に
消失するまで２時間攪拌を続ける。ＴＨＦを蒸発させか
っ、生成物をヘプタンから結晶化後にごく少量のジーＮ
、Ｎ−ジメチルヒドラジノ−テレフタルアルデヒドを含
有するモノーＮ、Ｎ−ジメチルヒドラジノ−テレフタル
アルデヒド９３ｇが回収される。かく得られる生成物を
そのままつぎの反応に用いる。
ＴＨＦ４００ｃｎ中のトリエチルホスホノアセテート２
３ｃゴの溶液に水素化ナトリウム６ｇを少量ずつ添加す
る。
添加終了後、さらに２時間攪拌を続け、ついで光を遮断
してＴＨＦ１００Ｃゴ中の上記で得られたモノーＮ、Ｎ
−ジメチルヒドラジノ−テレフタルアルデヒド１０ｇの
溶液を温度を３０℃より低く保ちつつ添加する。添加終
了後も原料のアルデヒドが完全に消失するまで約１時間
攪拌を続ける。ついで反応媒体を塩化アンモニウム溶液
に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機相を洗滌し、硫酸
マグネシウム上で乾燥しかつ減圧下で濃縮する。油状物
１０ｇが回収され、その’ＨＮＭＲスペクトル（８０Ｍ
Ｈｚ）は予定の構造に一致し、粗製の形で直接つぎの反
応に用いられる。
（Ｃ）４−ホルミル−桂　　エチル トルエン１５０Ｃゴ中の上記で得られる４−Ｎ、Ｎ−ジ
メチルヒドラジノ−ホルミル桂皮酸エチル１０ｇの溶液
にグリオキサール水溶液（６，２Ｍ）２８ゴ及び濃塩酸
約１ｃゴを添加する。この溶液を原料が消失するまで約
２時間７０℃に加熱する。
有機相を傾瀉し、水で洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾
燥しかつ減圧下で濃縮する。
シリカゲルクロマトグラフィー（溶離剤；ヘキサン／酢
酸エチル（８：　２）　）による精製後、油状物の形の
４−ホルミル−桂皮酸エチル４ｇが回収され、その’Ｈ
ＮＭＲスペクトル（８０ＭＨｚ）は予定の構造と一会す
る。
無水ＴＨＦ５０は中の５．５，８．ｆｌ−テトラメチル
−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ブロム　ナフタ
リン５．２　ｇ　（０，０１９５モル）の溶液をマグネ
シウム５５０ｍｇに、マグネシウムが消失するまで還流
冷却を行ないながら、添加する。つぎに反応媒体を０℃
に冷却し、ＴＨＦ２０ｃｍ’中の上記で得られた４−ホ
ルミル桂皮酸エチル１．９　ｇの溶液を滴加する。添加
終了後、さらに反応混合物を常温において１時間半攪拌
する。ついで反応混合物を塩化アンモニウム溶液２００
ｃゴに注ぎ、ついで、エーテルで抽出する。有機相を水
で洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥しかつ減圧下で濃
縮する。所望の生成物をシリカゲルクロマトグラフィー
（溶離剤：ヘプタン／酢酸エチル（９：１））により精
製し、油状物１．１ｇが回収され、その’ＨＮＭＲスペ
クトル（８０ＭＨｚ）はトランス−４−（５，５，８，
８−テトラメチル−５，８，７，８−テトラヒドロ−２
−ナフチル）ヒドロキシメチル−桂皮酸エチルの構造に
一致する。
（Ａが−（ＣＨｚ）　２−１Ｒ８がＨ，Ｒ’が一〇Ｈ。
Ｒ′がＨ，Ｒ’フが一〇Ｈである式■の化合物）エタノ
ール　１００Ｃゴ及び６Ｎ水酸化カリウム水溶液７５ｃ
ｎｆの混合物中の実施例ＸＸＩにおいて得られるトラン
ス−４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７
，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル
−桂皮酸エチル１．１　ｇの溶液を原料が消失するまで
４０℃に加熱する。エタノールを減圧下で蒸発させ、残
漬を水３００ｃゴ中に採取する。混合物を０℃に冷却し
、３Ｎ塩酸溶液で酸性化する。所望の生成物を濾別し、
洗滌しかつ乾燥させる。
トルエン／ヘキサン混合物から再結晶させて、トランス
−４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６゜７．
８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチル−
桂皮酸８００＋ｇが回収される。融点＝１９９−２００
℃ 元素分析：　Ｃ２４ＨｚａＯｓ 計算値：Ｃ７９，０９Ｈ７，７４０１３，１７％実測値
：　　７９．０９　７．６７　１２．９８％４−　５．
５，８．８−テトラメチル−５，６，７，８，−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル　カルボニル−ベンズアミドの調
製 （Ａが−（Ｃ）１２）２−１Ｒ′及びＲ″がオキソ、合
物） 無水ジクロルメタン１５０ｃｕｆ中の実施例１１におい
て得られる４　−（５，５，８，８−テトラメチル−５
゜６．７．８−テトラヒドロ−２−ナフチル）力、ルボ
ニルー安息香酸３ｇの溶液に、Ｎ、Ｎ　’　−カルボニ
ルジイミダゾール２．９ｇを添加する。添加後、攪拌を
さらに３時間続け、ついで２−ヒドロキシエチルピペラ
ジン１．７５ｇを滴加し、さらに攪拌を、薄層クロマト
グラフィーにおいて原料の酸の消失が確認されるまで、
２時間続ける０反応混合物を水２００−に注ぎ、ジクロ
ルメタン１００Ｃｒｆｌ’ずつを用いて３回抽出する。
有機相を集め、洗滌し硫酸マグネシウム上で乾燥しかつ
減圧下で濃縮する。
シリカゲル（溶離剤：酢酸エチル／メタノール（８：　
２）　）１精製して４’　−（２−ヒドロキシエチル）
ピペリジノ−４−（５，５，８，８−テトラメチル−５
，６，７，８，−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボ
ニル−ベンズアミド２．２ｇが回収され、これをトルエ
ン／ヘキサン混合物から結晶させると融点＝１１８℃で
ある。
元素分析：　ＣｚａＨｓ、Ｏｓ 計算値：　Ｃ７４，９６Ｈ８０９Ｎ　６．２５０１０．
７０％実測値：　　７４．４７　８．１？　　６．２１
　１１．０７％（Ａが−（ＣＨ２）２−１Ｒ′及びＲ”
がオキソ、物） 無水ジエチルオキシド７５ば中の実施例１１の４−　（
５，５，８，ＩＩ−テトラメチル−５，６，７，８，−
テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−安息香酸１
ｇの懸濁液にジエチルすキシド１０ｃｒｒｆに溶解した
ジシクロヘキシルアミン０．８　ｃａｒの溶液を滴加す
る。攪拌を２時間続け、ついで生じた沈澱を濾別する。
白色粉末１．５ｇが回収され、これを無水１．２−ジク
ロルエタン７５ばに溶解する。１．２−ジクロルエタン
１０ｃｎｆ中の塩化チオニル０．３　ｃｆの溶液を滴加
し、添加終了後常温において一晩攪拌を続ける。反応混
合物を濾過し、減圧下で濃縮する。黄色油状物的１ｇが
回収され、４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，
６，７，８，−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニ
ル−安息香酸クロリドに相当する。
先に得られた酸クロリド１ｇを１．２−ジクロルエタン
７５ばに溶解した溶液にジクロルメタン１０は中の３．
５−ビス−トリフルオルメチル−アニリン０．７ｇの溶
液を滴加する。添加終了後、反応媒体をさらに２時間攪
拌し、ついで水２００ｃゴに注ぎ、ジクロルメタンで抽
出する。有機相を炭酸水素ナトリウム溶液で、ついで水
で洗滌し、硫酸マグネシウム上で乾燥しかつ減圧下で濃
縮する。残漬をヘキサン中に採取して濾過する。Ｎ−（
３，５−ジ−トリフルオルメチル−１−フェニル）　−
４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７，８
−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベンズア
ミド１．２ｇが回収され、その’ＨＮＭＲスペクトル（
８０ＭＨｚ）は予定の構造に一致し、融点は２１５−２
１６℃である。
元素分析：０３゜８２７Ｆ８ＮＯ２ 計算値：　Ｃ８５，８０Ｈ４，９７Ｆ　２０．８２　Ｎ
　２．５８％実測値：　　６６．０２　４．９３　２０
．８５　２．４８％（Ａが−（ＣＨ２）２−１Ｒ６が−
（ＣＨ，）　、Ｒ’及びＲ″がオキソ、Ｒ′７がＮＨＣ
Ｊｓである式■の化合物） 無水ジメチルホルムアミド１００ば中の実施例ＸＶＩＩ
Ｉにおいて得られるトランス−４−（５，５，８，８−
テトラメチル−５，６，７，８，−テトラヒドロ−２−
ナフチル）カルボニル−α−メチル桂皮酸３ｇの溶液を
常温において攪拌しながら、これにＮ、Ｎ−カルボニル
　ジイミダゾール２．８ｇを添加する。
ついで、混合物を約５０℃の温度において３時間攪拌し
、ざらに０℃に冷却し、その温度で無水エチルアミン４
．５Ｃゴをゆっくり添加する。反応媒体を１時間攪拌し
た後に常温で一晩放置する。これを水２００ｃゴに注ぎ
、酢酸エチル１００ばで３回抽出する。
酢酸エチル相を集め、塩化アンモニウム溶液で、ついで
水で洗滌し、最後に硫酸マグネシウム上で乾燥させる。
酢酸エチル蒸発後に得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ム上に移し、メチレンクロリド／酢酸エチル（９：１）
混合物で溶出する。
減圧下での溶離剤の溜去及びヘキサンからの結晶化の後
にＮ−エチル−トランス−４−５，５，８，８−テトラ
メチル−５，６，７，８，−テトラヒドロ−２−ナフチ
ル）カルボニル−α−メチル桂皮酸アミド１．９　ｇが
黄色粉末の形で得られる。融点：１２１元素分析：　（
：２？Ｈ３３ＮＯ□ 計算値：　Ｃ８０，３Ｂ　＃８．２４　Ｎ　３．４７０
７．９３％実測値：　　８０．２７　８．３３　３．４
０　８．０８％医２１ｆｌｌ　　ＸＸ■ （Ａが−（ＣＨ２）　２−１Ｒ，％Ｒ２、Ｒ１、Ｒ４が
それぞれ一〇ＨＯ，、Ｒ′及びＲ″がオキソ、Ｒが−Ｃ
ＯＮＨＥｔである式１１の化合物） 第１段隋においてＮ−エチル−４−カルバモイル安息香
酸クロリドを調製し、そのためこの酸２ｇをチオニルク
ロリド５０ｃばに溶解した溶液を４時間煮沸する。
ついでチオニルクロリドを真空下で蒸発除去する。
粗製酸クロリド２．２ｇをこれに無水１．２−ジクロル
エタン４０仁ばで希釈した。５，５，８．８−テトラメ
チル−５，８，７，８，−テトラヒドロ−ナフタリン１
．７６ｇを添加して直接転化させる。
不活性雰囲気中、０℃において混合物を攪拌しつつ、こ
れに三塩化アルミニウム１．９ｇを加える。攪拌をこの
温度で３時間、常温で５時間続ける。
ついで反応混合物を氷水２００［ゴに注ぎ、これをジク
ロルエタン１００ｃゴで３回抽出する。有機相を集め、
塩化アンモニウム溶液で、ついで水で洗滌し、最後に硫
酸マグネシウム上で乾燥させる。溶媒蒸発後に粗生成物
３．６ｇが得られる。所望の生成物をシリカゲルクロマ
トグラフィーにより精製する。トルエン／メチレンクロ
リド／酢酸エチル（４：　４　：　２）混合物により溶
出し、ついでヘキサン／イソプロピルエーテル混合物か
ら再結晶させる。白色結晶状のＮ−エチル−４−（５，
５，８，８−テトラメチル−５，６，７，８，−テトラ
ヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベンズアミドｏ、
ｓｏｏ　ｇが得られる。融点：１０２℃。
元素分析：　Ｃ２ａＨ４＊ＮＯ２ 計算値：　Ｃ７９，３０Ｈ８，０４Ｎ　３．８５０８．
８１％実測値：　　７９．７４７．９４　３．６７８．
７７％徂１」１２堡 Ａ、１０没与用医薬 皿上−ＬＬ１互１ ４−（５，５，８，８−テトラメチル−０，０１０ｇ５
．６，７．８−テトラヒドロ−２− ナフチル）カルボニル−安息香酸 澱粉　　　　　　　０，８５ｇ燐 酸二カルシウム　　　　　　　　　　０．０２０ｇシリ
カ　　　　　　　　　　　　　　０．０２０ｇ乳糖　　
　　　　　０．０３０ｇタ ルク　　　　　　　　　　　　　　　０．０１０ｇステ
アリン酸マグネシウム　　　　　　０．００５　ｇこの
例において活性化合物は同量の下記化合物のうちの一つ
によって代替できるニド ランス−４−（５，５，８，１３−テトラメチル−５゜
６．７．８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル
−桂皮酸 トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチル−５゜
６．７．８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル
−α−メチル桂皮酸 ｇ２５叔アンプル入り飲用懸濁ｔ ４−　（１，１，２，３，３−ペンタメチル−０，０１
０ｇ５−インダニル）カルボニル− 安息香酸 グリセリン　　　　　　　　　　　０．５００ｇフＯ％
ソルビトール　　　　　　　　　０．５００ｇサッカリ
ン酸ナトリウム　　　　　　　Ｑ、ＯｌＯｇｐ−ヒドロ
キレ安息香酸メチル　　　０．０４０ｇ香　料　　　　
　　　　　　　　　　　所要量精製水を加えて　　　　
　　　　　　　５．０００ｇこの例において活性化合物
は同量のトランス−４−（１，１，２，３，３−ペンタ
メチル−５−インダニル）カルボニル−α−メチル桂皮
酸により代替できる。
４−　（１，１，２，３，３−ペンタメチル　　０．０
１０ｇ−５−インダニル）カルボニル 一α−メチル桂皮酸エチル 液体ワセリン油　　　　　　　　　　９．１００ｇデグ
サ（Ｄｅｇｕｓｓａ）社から“エーロシル９．１００ｇ
（Ａｅｒｏｓｉｌ）　”　２００の名称で市販のシリカ ミリスチン酸イソプロピル　　　　　１００．０００ｇ
を加えて この例において活性化合物は同量の４−（５，５゜８．
８−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２
−ナフチル）カルボニル−安息香酸により代替できる。
例４−アニオン水中油型クリーム Ｎ−エチル−４−（１，１，２，３，３０，１００ｇ−
ペンタメチル−５−インダニル） カルボニル−ベンズアミド ドデシル硫酸ナトリウム　　　　　　　ｏ、ａｏｏｇグ
リセリン　　　　　　　　　　　２．０００ｇステアリ
ルアルコール　　　　　　　２０．０００ｇダイナミツ
ト・ノーベル（Ｄｙ、ｎａｍｉｔ　Ｎｏｂｅｌ）社から
“ミグリオール（Ｍｉｇｌｙｏｌ）８１２の名称で市販
のカプリン酸／ カプリル酸混合トリグセリド　　　２０．０００ｇ防腐
剤　　　　　　　　　　　　　　　所要量脱塩水　　　
　を加えて　　　　　　１００．０００ｇこの例におい
て活性化合物は同量の下記化合物により代替できるニ ドランス−４−（５，５，ａ、８−テトラメチル−５゜
６．７．８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル
−桂皮酸 匡５ｆｆλ Ｎ−エチル−４−（１，１，２，３，３０，５００ｇ−
ペンタメチルー５−インダニル） カルボニル−ベンズアミド バーキュレス（）Ｉｅｒｃｕｌｅｓ）社から“クルーセ
ル（Ｋｌｕｃｅｌ）”　ＨＦ　（Ｄ名称で市販のヒドロ
キシ プロピルセルロース　　　　　　　　２．０００ｇ水／
エタノール（５０：　５０）　　　　　　１００．００
０ｇを加えて この例において活性化合物はトランス−４−（５，５，
［１，８−テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒド
ロー２−ナフチル）ヒドロキシメチル−桂皮酸０．０５
　ｇによりあるいはまたＮ−エチル−トランス−４−（
５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７，８−テト
ラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−α−メチル桂皮
酸アミド０．１ｇにより代替できる。
例６　抗脂漏性クリーム アトラス（Ａｔｌａｓ）社から“ミリ（Ｍｙｒｊ）”５
２の名称で市販の ポリオキシエチレンステアレー）−４，０００ｇ（エチ
レンオキシド４０モル） アトラス社から“トウイーン（Ｔ＊ｅｅｎ）　’２０の
名称で市販のエチレンオキシド ２０モルでポリオキシエチレン化した ソルビトール及びソルビタンの 混合ラウリン酸エステル　　　　　　１．８００ｇガッ
トフｔ　’／ス（Ｇａｔｔｅｆｏｓｓｅ）社から“ジェ
レオール（Ｇｅｌｅｏｌ）”の名称で市販のモノ−及び ジステアリン酸混合グリセロール　４．２ｏｏｇプロピ
レングリコール　　　　　　　１０．０００ｇブチルヒ
ドロキシアニソール　　　　０．０１０ｇブチルヒドロ
キシトルエン　　　　　　０．０２０ｇケトステアリル
アルコール　　　　　６．２００ｇ防腐剤　　　　　　
　　　　　　　　　所要量ベルヒドロスクワレン　　　
　　　　１８．０００ｇダイナミツ・ノーペル社から “ミグリオール（Ｍｉｇｌｙｏｌ）“８１２の名称で市
販の カプリル酸／カプリン酸混合　　　４．０００ｇトリグ
リセリド Ｓ−カルボキシメチルシスティン　　　３．０００ｇト
リエタノールアミン９９％　　　　　２．５００ｇ４−
　（１，１，２，３，３−ペンタメチル　　０．１００
ｇ−５−インダニル）ヒドロキシ メチル−安息香酸 水　　を加えて　　　　　　　　　　１００．ｏｏｏｇ
伊７　　脂漏性クリーム アトラス社からミリ５２の名称で市販 のポリオキシ エチレンステアレー）、　　　　　　　　４．ＯＯＯｇ
（エチレンオキシド４０モル） アトラス社からトゥイーン２０の名称で市販のエチレン
オキシド ２０モルでポリオキシエチレン化　１．８００ｇしたソ
ルビトール及びソルビタン の混合ラウリン酸エステル ガットフォッス社からジェレオール の名称で市販のモノ−及び ジステアリン酸混合グリセロール　４．２００ｇプロピ
レングリコール　　　　　　　１０．０００ｇブチルヒ
ドロキシアニソール　　　　　０．０１０ｇブチルヒド
ロキシトルエン　　　　　　０．０２０ｇケトステアリ
ルアルコール　　　　　６．２００ｇ防腐剤　　　　　
　　　　　　　　　　所要量ベルヒドロスクワレン　　
　　　　　１８．０００ｇダイナミツト・ノーペル社か
らミグリオール８１２の名称で市販の カプリル酸／カプリン酸混合　　　４．０００ｇトリグ
リセリド ５−アミノ−５−カルボキシ−３− チアペンタン酸　２−ベンジルチオ エチルアンモニウム　　　　　　　　３．０００ｇ４−
　（５，５，８．８−テトラメチル−５，６，７，８−
テトラヒドロ−２−ナフチル） ヒドロキシメチル− 安息香酸　　　　　　　　　　　　　０．５００ｇ水　
　　を加えて　　　　　　　　　１００．０００ｇ例８
　毛髪用ローション プロピレングリコール　　　　　　　２０．０００ｇエ
タノール　　　　　　　　　　　　　３４．８７０　ｇ
分子量４００のポリエチレングリコール４０．０００ｇ
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
４．０００ｇブチルヒドロキシアニソール　　　　　０
．０１０ｇブチルヒドロキシトルエン　　　　　　０．
０２０ｇ４−（５，５，８．８−テトラメチル−５，６
，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル） ヒドロキシメチル− 安息香酸　　　　　　　　　　　　　０．１００ｇミノ
キシジル　　　　　　　　　　　　１．０００ｇこの例
において活性化合物は下記化合物いずれか０．０５ｇに
より代替できる。
Ｎ−エチル−トランス−４−（５，５，８，８−テトラ
メチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル
） カルボニル−α−メチル桂皮酸アミド トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，
８，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシ
メチル−桂皮酸 例９　抗座壜ゲル ４−　（１，１，２，３，３−ペンタメチル−５−イン
ダニル）カルボニル− 安息香酸　　　　　　　　　　　　　０．１００ｇイソ
プロピルアルコール　　　　　　４０．０００ｇグツド
リッチ・ケミカル （Ｇｏｏｄｒｉｃｈ　［ｔ＋ｅｍｉｃａｌ）社から“カ
ルボボール（Ｃａｒｂｏｐｏｌ）　９４０の名称で市販
の アクリル酸ポリマー　　　　　　　　１．０００ｇトリ
エタノールアミン９９％　　　　　ｏ、ｅｏｏｇブチル
ヒドロキシアニソール　　　　０．０１０ｇブチルヒド
ロキシトルエン　　　　　　０．０２０ｇチオキソロン
　　　　　　　　　　　　０．５００ｇプロピレングリ
コール　　　　　　　　８．０００ｇ精製氷　　　を加
えて　　　　　　　１００．０００ｇこの例において活
性化合物は同量のＮ−エチル−トランス−４−（５，５
，８，８−テトラメチル−５，８，７，８−テトラヒド
ロ−２−ナフチル）カルボニル−α−メチル桂皮酸アミ
ドにより又はトランス−４−（５，５，８，８−テトラ
メチル−５，８，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル
）カルボニル−桂皮酸０．０ｉ　ｇにより代替できる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、ｎは０又は１であり；Ｒ′は水素原子、ヒドロ
    キシル基、炭素数１〜４個のアルコキシ基又は炭素数１
    〜４個のアシルオキシ基を表わし；Ｒ″は水素原子又は
    炭素数１〜４個のアルコキシ基を表わし；あるいはＲ′
    及びＲ″は一緒にオキソ基（＝Ｏ）、メタノ基（＝ＣＨ
    ＿２）又はヒドロキシイミノ基（＝Ｎ−ＯＨ）を形成し
    ；Ｒは−ＣＨ＿２ＯＨ基又は−ＣＯＲ＿７基を表わし；
    Ｒ＿７は水素原子、−ＯＲ＿６基は▲数式、化学式、表
    等があります▼基を表わし；Ｒ＿８は水素原子、炭素数
    １〜２０個のアルキル基、モノヒドロキシアルキル基、
    ポリヒドロキシアルキル基、置換基を有していてもよい
    アリールもしくはアラルキル基、糖残基又は▲数式、化
    学式、表等があります▼基を表わし、ｐ は１、２又は３であり、ｒ′及びｒ″は水素原子、低級
    アルキル基、異種原子によって中断されていてもよいモ
    ノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシアルキル基、
    置換基を有していてもよいアリール又はベンジル基、ア
    ミノ酸残基又はアミノ糖残基を表わし；あるいはｒ′及
    びｒ″は一緒にそれらが結合している窒素原子とともに
    複素環を形成し；Ａは非置換又は低級アルキル置換メチ
    レン又はジメチレン基を表わし；Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿
    ３及びＲ＿４はそれぞれ水素原子又は低級アルキル基を
    表わし；Ｒ＿１及びＲ＿３は、Ａがジメチレン基を表わ
    す場合には、一緒にメチレン又はジメチレン基を形成し
    得るものとし；そしてＲ＿５及びＲ＿６は水素原子又は
    メチル基を表わす）によって表わされる二環式芳香族化
    合物及び該化合物の塩ならびにそれらの光学異性体及び
    幾何異性体。 ２、低級アルキル基及び炭素数２０個までのアルキル基
    はメチル、エチル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル
    、２−エチルヘキシル、イソオクチル、ドデシル、ヘキ
    サデシル及びオクタデシル基からなる群から選ばれる特
    許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３、モノヒドロキシアルキル基は２−ヒドロキシエチル
    、２−ヒドロキシプロピル又は２−ヒドロキシエトキシ
    エチル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ４、ポリヒドロキシアルキル基は２，３−ジヒドロキシ
    プロピル、１，３−ジヒドロキシ−２−プロピル又はペ
    ンタエリトリット残基である特許請求の範囲第１項記載
    の化合物。 ５、アルコキシ基はメトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
    シ又はｔ−ブトキシ基である特許請求の範囲第１項記載
    の化合物。 ６、アリール基はハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニト
    ロ基、低級アルキル基、トリフルオルメチル基又はカル
    ボン酸官能基によって置換されていてもよいフェニル基
    である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ７、アラルキル基はベンジル又はフェネチル基である特
    許請求の範囲第１項記載の化合物。 ８、糖残基はグルコース、マンノース、エリトロース又
    はガラクトースから誘導されたものである特許請求の範
    囲第１項記載の化合物。 ９、アミノ糖残基はグルコサミン、ガラクトサミン、マ
    ンノサミン又はメグルミンから誘導されたものである特
    許請求の範囲第１項記載の化合物。 １０、基ｒ′及びｒ″は一緒にそれらが結合している窒
    素原子とともにピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノ、
    ピロリジノ又は４−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジ
    ノ基を形成する特許請求の範囲第１項記載の化合物。 １１、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ａ、Ｒ、Ｒ＿１ないしＲ＿４、Ｒ′及びＲ″は
    前記の意義を有する）で表わされる化合物である特許請
    求の範囲第１項ないし第９項のいずれかに記載の化合物
    。 １２、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ａ、Ｒ、Ｒ＿１ないしＲ＿６、Ｒ′及びＲ″は
    前記の意義を有する）で表わされる化合物である特許請
    求の範囲第１項ないし第９項のいずれかに記載の化合物
    。 １３、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 〔式中、Ａは▲数式、化学式、表等があります▼基又は
    ジメチレン基を表わし；Ｒ′はヒドロキシル基を表わし
    ；Ｒ″は水素原子を表わし；あるいはＲ′及びＲ″は一
    緒にオキソ（＝Ｏ）基を表わし；Ｒ′＿７は水素原子、
    −ＯＲ′＿８基又は▲数式、化学式、表等があります▼
    基を表わし；Ｒ′＿８は水素原子又は低級アルキル基を
    表わし；ｒ′は水素原子を表わし；ｒ″は低級アルキル
    基又は置換フェニル基を表わし；あるいはｒ′及びｒ″
    は一緒にそれらが結合している窒素原子とともに４−（
    ２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ基を形成する〕によ
    って表わされる化合物である特許請求の範囲第１項ない
    し第１０項のいずれかに記載の化合物。 １４、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ａは▲数式、化学式、表等があります▼基又は
    ジメチレン基を表わし；Ｒ′はヒドロキシル基を表わし
    ；Ｒ″は水素原子を表わし；あるいはＲ′及びＲ″は一
    緒に、オキソ（＝Ｏ）基を形成し；Ｒ＿６は水素原子又
    はメチル基を表わし；Ｒ′＿７は−ＯＲ′＿８基又は▲
    数式、化学式、表等があります▼基を表わし；Ｒ′＿８
    は水素原子又は低級アルキル基を表わし；ｒ′は水素原
    子を表わし；ｒ″は低級アルキル基を表わす）によって
    表わされる化合物である特許請求の範囲第１項ないし第
    ９項及び第１１項のいずれかに記載の化合物。 １５、つぎの化合物： （１）４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，
    ７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニルホ−
    安息香酸メチル； （２）４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，
    ７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−安
    息香酸； （３）４−（５，８−メタノ−５，６，７，８−テトラ
    ヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベンズアルデヒド
    ； （４）４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，
    ７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボル−ベン
    ズアルデヒド； （５）４−（１，１，２，３，３−ペンタメチル−５−
    インダニル）カルボニル−安息香酸メチル；（６）４−
    （１，１，２，３，３−ペンタメチル−５−インダニル
    ）カルボニル−安息香酸； （７）４−（１，１，２，３，３−ペンタメチル−５−
    インダニル）カルボニル−ベンズアルデヒド；（８）１
    −（１，１，２，３，３−ペンタメチル−５−インダニ
    ル）−１−（４−ヒドロキシメチルフェニル）−メタノ
    ール； （９）４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，
    ７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒドロキシメチ
    ル−安息香酸； （１０）４−（１，１，２，３，３−ペンタメチル−５
    −インダニル）ヒドロキシメチル−安息香酸；（１１）
    ４−（１，１，２，３，３−ペンタメチル−５−インダ
    ニル）ヒドロキシメチル−安息香酸メチル； （１２）Ｈ−エチル−４−（５，５，８，８−テトラメ
    チル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）
    カルボニル−ベンズアミド； （１３）Ｎ−エチル−４−（１，１，２，３，３−ペン
    タメチル−５−インダニル）カルボニル−ベンズアミド
    ； （１４）トランス−４−（５，８−メタノ−５，６，７
    ，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−桂皮
    酸エチル； （１５）トランス−４−（５，８−メタノ−５，６，７
    ，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−桂皮
    酸； （１６）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
    ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
    ルボニル−桂皮酸エチル； （１７）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
    ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
    ルボニル−桂皮酸； （１８）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
    ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
    ルボニル−α−メチル桂皮酸エチル； （１９）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
    ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カ
    ルボニル−α−メチル桂皮酸； （２０）トランス−４−（１，１，２，３，３−ペンタ
    メチル−５−インダニル）カルボニル−α−メチル桂皮
    酸エチル； （２１）トランス−４−（１，１，２，３，３−ペンタ
    メチル−５−インダニル）カルボニル−α−メチル桂皮
    酸； （２２）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
    ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒ
    ドロキシメチル−α−メチル桂皮酸エチル； （２３）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
    ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒ
    ドロキシメチル−α−メチル桂皮酸； （２４）Ｎ−エチル−トランス−４−（５，５，８，８
    −テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−
    ナフチル）ヒドロキシメチル−α−メチル桂皮酸アミド
    ； （２５）Ｎ−エチル−トランス−４−（５，５，８，８
    −テトラメチル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−
    ナフチル）カルボニル−α−メチル桂皮酸アミド； （２８）Ｎ−エチル−トランス−４−（１，１，２，３
    ，３−ペンタメチル−５−インダニル）カルボニル−α
    −メチル桂皮酸アミド； （２７）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
    ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒ
    ドロキシメチル−桂皮酸エチル； （２８）トランス−４−（５，５，８，８−テトラメチ
    ル−５，６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）ヒ
    ドロキシメチル−桂皮酸； （２９）４′−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジノ−
    ４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，６，７，８
    −テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル−ベンズア
    ミド； （３０）Ｎ−（３，５−ジトリフルオルメチル−１−フ
    ェニル）−４−（５，５，８，８−テトラメチル−５，
    ６，７，８−テトラヒドロ−２−ナフチル）カルボニル
    −ベンズアミド； から選んだ化合物である特許請求の範囲第１項ないし第
    １３項のいずれかに記載の化合物。 １６、有機溶剤中で、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（１） に相当する酸クロリドで代表される酸ハライドを、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（２） ▲数式、化学式、表等があります▼（２′） （式中、Ａ、Ｒ＿１ないしＲ＿４は後記の意義を有し、
    Ｒ＿８は炭素数１〜２０個のアルキル基であり、ＸはＢ
    ｒ又はＣｌである）のいずれか一方に相当する芳香族化
    合物と反応させ、そして所要ならば、得られたケトエス
    テルを鹸化せしめて対応するケト酸とし、ついで該ケト
    酸を式▲数式、化学式、表等があります▼（式中、ｒ′
    及びｒ″は後記の意義を有する）のアミンと反応させて
    対応するアミドに転化し、あるいは該ケト酸を対応する
    ヒドロキシ酸又はジオールに転化しかつ場合によっては
    該ジオールを対応するケトアルデヒドに酸化せしめるこ
    とからなる式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、ｎは０又は１であり；Ｒ′は水素原子、ヒドロ
    キシル基、炭素数１〜４個のアルコキシ基又は炭素数１
    〜４個のアシルオキシ基を表わし；Ｒ″は水素原子又は
    炭素数１〜４個のアルコキシ基を表わし；あるいはＲ′
    及びＲ″は一緒にオキソ基（＝Ｏ）、メタノ基（＝ＣＨ
    ＿２）又はヒドロキシイミノ基（＝Ｎ−ＯＨ）を形成し
    ；Ｒは−ＣＨ＿２ＯＨ基又は−ＣＯＲ＿７基を表わし；
    Ｒ＿７は水素原子、−ＯＲ＿８基又は▲数式、化学式、
    表等があります▼基を表わし；Ｒ＿８は水素原子、炭素
    数１〜２０個のアルキル基、モノヒドロキシアルキル基
    、ポリヒドロキシアルキル基、置換基を有していてもよ
    いアリールもしくはアラルキル基、糖残基又は▲数式、
    化学式、表等があります▼基を表わし、ｐ は１，２又は３であり、ｒ′及びｒ″は水素原子、低級
    アルキル基、異種原子によって中断されていてもよいモ
    ノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシアルキル基、
    置換基を有していてもよいアリール又はベンジル基、ア
    ミノ酸残基又はアミノ糖残基を表わし；あるいはｒ′及
    びｒ″は一緒にそれらが結合している窒素原子とともに
    複素環を形成し；Ａは非置換又は低級アルキル置換メチ
    レン又はジメチレン基を表わし；Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿
    ３及びＲ＿４はそれぞれ水素原子又は低級アルキル基を
    表わし；Ｒ＿１及びＲ＿３は、Ａがジメチレン基を表わ
    す場合には、一緒にメチレン又はジメチレン基を形成し
    得るものとし；そしてＲ＿５及びＲ＿６は水素原子又は
    メチル基を表わす）によって表わされる二環式芳香族化
    合物及び該化合物の塩ならびにそれらの光学異性体及び
    幾何異性体の製造法。 １７、芳香族化合物（２）との縮合反応は１，２−ジク
    ロルエタン中で、無水塩化アルミニウムの存在下におい
    て０°〜２５℃の温度で攪拌下に行なう特許請求の範囲
    第１６項記載の製造法。 １８、酸クロリドと有機マグネシウム化合物（２′）と
    の縮合はテトラヒドロフラン中で約０℃の温度で行なう
    特許請求の範囲第１６項記載の製造法。 １９、アミドの形成はＮ，Ｎ′−カルボニルジイミダゾ
    ールの存在下で行なう特許請求の範囲第１６項記載の製
    造法。 ２０、ケト酸の対応するヒドロキシ酸への還元はテトラ
    ヒドロフラン中で硼水素化ナトリウムの存在下で行なう
    特許請求の範囲第１６項記載の製造法。 ２１、ケトアルデヒドはジオールをピリジニウムクロル
    クロメートの存在下に酸化することにより製造し、対応
    するジオールは水素化リチウムアルミニウムの存在下に
    おけるケト酸の還元反応により製造する特許請求の範囲
    第１６項記載の製造法。 ２２、有機溶剤中、フリーデル・クラフツ反応の条件に
    おいて、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ の酸クロリドを式： ▲数式、化学式、表等があります▼ の芳香族化合物と反応させ、続いてグリオキサールとの
    交換によりアルデヒド官能基を遊離させて所期のケトア
    ルデヒドへ誘導することからなる式（ I ）においてｎ
    が０でかつＲがＣＨＯである化合物を製造する方法。 ２３、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ａ及びＲ＿１ないしＲ＿４は前記の意義を有す
    る）のケトアルデヒドと式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿５及びＲ＿６は前記の意義を有し、ＡＬＫ
    Ｏはアルコキシ基を表わす）のホスホノ酢酸アルキルと
    をテトラヒドロフラン中、水素化ナトリウムの存在にお
    いて反応させることによって不飽和ケトエステルを形成
    させる特許請求の範囲第１６項又は第２２項記載の製造
    法。 ２４、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、ｎは０又は１であり；Ｒ′は水素原子、ヒドロ
    キシル基、炭素数１〜４個のアルコキシ基又は炭素数１
    〜４個のアシルオキシ基を表わし；Ｒ″は水素原子又は
    炭素数１〜４個のアルコキシ基を表わし；あるいはＲ′
    及びＲ″は一緒にオキソ基（＝Ｏ）、メタノ基（＝ＣＨ
    ＿２）又はヒドロキシイミノ基（＝Ｎ−ＯＨ）を形成し
    ；Ｒは−ＣＨ＿２ＯＨ基又は−ＣＯＲ＿７基を表わし；
    Ｒ＿７は水素原子、−ＯＲ＿８基又は▲数式、化学式、
    表等があります▼基を表わし；Ｒ＿８は水素原子、炭素
    数１〜２０個のアルキル基、モノヒドロキシアルキル基
    、ポリヒドロキシアルキル基、置換基を有していてもよ
    いアリールもしくはアラルキル基、糖残基又は▲数式、
    化学式、表等があります▼基を表わし、ｐは １，２又は３であり、ｒ′及びｒ″は水素原子、低級ア
    ルキル基、異種原子によって中断されていてもよいモノ
    ヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシアルキル基、置
    換基を有していてもよいアリール又はベンジル基、アミ
    ノ酸残基又はアミノ糖残基を表わし；あるいはｒ′及び
    ｒ″は一緒にそれらが結合している窒素原子とともに複
    素環を形成し；Ａは非置換又は低級アルキル置換メチレ
    ン又はジメチレン基を表わし；Ｒ＿１、Ｒ＿２、Ｒ＿３
    及びＲ＿４はそれぞれ水素原子又は低級アルキル基を表
    わし；Ｒ＿１及びＲ＿３は、Ａがジメチレン基を表わす
    場合には、一緒にメチレン又はジメチレン基を形成し得
    るものとし；そしてＲ＿５及びＲ＿６は水素原子又はメ
    チル基を表わす）によって表わされる二環式芳香族化合
    物、該化合物の塩又はそれらの光学異性体又は幾何異性
    体の少なくとも一種を有効成分とする医薬又は獣医薬。 ２５、約２μｇ〜２ｍｇ／Ｋｇ／日の用量で投与される
    特許請求の範囲第２４項記載の医薬又は獣医薬。 ２６、少なくとも一種の式（ I ）の化合物を適当な担
    体中に含有してなる腸管、腸管外、局所又は眼経由で投
    与するための特許請求の範囲第２４項又は第２５項記載
    の医薬又は獣医薬。 ２７、局所又は眼に適用するのに適当な剤型でかつ式（
    I ）の化合物を０．０００５〜約５重量％含有する特
    許請求の範囲第２６項記載の医薬又は獣医薬。 ２８、皮膚科、呼吸器科又は眼科の諸疾患の処置用に供
    される特許請求の範囲第２４項ないし第２７項のいずれ
    かに記載の医薬又は獣医薬。 ２９、式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、ｎは０又は１であり；Ｒ′は水素原子、ヒドロ
    キシル基、炭素数１〜４個のアルコキシ基又は炭素数１
    〜４個のアシルオキシ基を表わし；Ｒ″は水素原子又は
    炭素数１〜４個のアルコキシ基を表わし；あるいはＲ′
    及びＲ″は一緒にオキソ基（＝Ｏ）、メタノ基（＝ＣＨ
    ＿２）又はヒドロキシイミノ基（＝Ｎ−ＯＨ）を形成し
    ；Ｒは−ＣＨ＿２ＯＨ基又は−ＣＯＲ＿７基を表わし；
    Ｒ＿７は水素原子、−ＯＲ＿８基又は▲数式、化学式、
    表等があります▼基を表わし；Ｒ＿８は水素原子、炭素
    数１〜２０個のアルキル基、モノヒドロキシアルキル基
    、ポリヒドロキシアルキル基、置換基を有していてもよ
    いアリールもしくはアラルキル基、糖残基又は▲数式、
    化学式、表等があります▼基を 表わし、ｐは１、２又は３であり、ｒ′及びｒ″は水素
    原子、低級アルキル基、異種原子によって中断されてい
    てもよいモノヒドロキシアルキル基、ポリヒドロキシア
    ルキル基、置換基を有していてもよいアリール又はベン
    ジル基、アミノ酸残基又はアミノ糖残基を表わし；ある
    いはｒ′及びｒ″は一緒に、それらが結合している窒素
    原子とともに複素環を形成し；Ａは非置換又は低級アル
    キル置換メチレン又はジメチレン基を表わし；Ｒ＿１、
    Ｒ＿２、Ｒ＿３及びＲ＿４はそれぞれ水素原子又は低級
    アルキル基を表わし；Ｒ＿１及びＲ＿３は、Ａがジメチ
    レン基を表わす場合には、一緒にメチレン又はジメチレ
    ン基を形成し得るものとし；そしてＲ＿５及びＲ＿６は
    水素原子又はメチル基を表わす〕によって表わされる二
    環式芳香族化合物、該化合物の塩又はそれらの光学異性
    体又は幾何異性体の少なくとも一種を化粧料用担体中に
    含有してなる身体及び毛髪の衛生用の化粧料組成物。 ３０、式（ I ）の化合物を０．０００５〜２重量％、
    好ましくは０．０１〜１重量％の濃度で含有する特許請
    求の範囲第２９項記載の化粧料組成物。 ３１、さらに不活性添加剤又は薬理学的に又は美容上活
    性の添加剤、湿潤剤・抗脂漏剤・抗座瘡剤・抗生物質・
    発毛促進剤・抗炎症剤・カロチノイド・抗乾癬剤・風味
    剤・防腐剤・安定剤・調湿剤・ｐＨ調整剤・浸透圧改変
    剤・乳化剤・紫外線Ａ又はＢ用フィルター又は酸化防止
    剤の少なくとも１種を含有する特許請求の範囲第２６項
    又は第２９項記載の組成物。
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