JPS63301922A - 液晶光学素子及びその製造方法並びにそれを用いた調光体、物体展示体及び表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野］ 本発明は透過散乱型の液晶光学素子及びその製造方法並
びにその利用に関するものである。

［従来の技術］ 従来、光散乱を動作原理とする液晶光学素子には動的散
乱（Ｄ　Ｓ　）及び相転移（ＰＣ）の２つの千−ドが知
られている。ＤＳモードは水平もしくは垂直配向処理を
行なった透明電極付基板に、導電性物質を添加した誘電
異方性が負の液晶を封入したものであり、電圧を印加し
ない透過状態と、しきい（／ｉ雷電圧り高い電圧印加に
より動的散乱を生じさせ、透過率を低下させた状態との
二状態を制御するものである。またＰＣ干−トは、必要
に応じて配向処理した透明電極付基板にコレステリック
液晶封入し、電圧印加の有無によりホメオトロピック配
列のネマチック相（透過）とフ１−カルコニック配列も
しくはブレーナ配列のコレステリック相（散乱）の二状
態を制御するものである。ＤＳモード、Ｐ　Ｃモートの
いずれも偏光板を使用しないため、広い視角が得られる
利点はあるものの、Ｏ？■者は液晶中に導電性物質を添
加した電流効果型であるため、消費電力が大きくなる、
液晶の信頼性が低下するといった欠点を有している。

一方、後者においても動作電圧が、（電極間距離／液晶
のピッチ）に依存するため、大面積化しようとする場合
、高い精度で均一なギャップを必要とするといった困難
な問題を有している。

一方Ｈ，Ｇ、　ＣｒａｉｇｈｅａｄらがＡｐｐｌ、　Ｐ
ｈｙｓ、　Ｌｅｔｔ、　。

４０（１１２２（＋９８２１に開示した方法は、液晶が
屈折率異方性を有する特徴をいかしたものであり、具体
的には液晶を多孔体に含浸させ、電圧印加の有無により
液晶の屈折率を変化させ、多孔体との屈折率を調節する
ことにより、透過と散乱とを制御するものである。この
方法は偏光板を用いることなく原理的ＤＳモート、ＰＣ
モードがもつ欠点を克服することが可能であり有用な方
法である。同様の素子はＪ、　１．　トｅｒｇａｓｏｎ
らがポリビニルアルコールを使ってマイクロカプセル化
したネマヂック液晶により（公表昭５８＝５０１６３１
号）、またＨ、　Ｎ、　ｐｅａｒ　Ｉｍａｎらは種々の
ラテックス取り込み液晶により（特開昭６０＝２５２６
８７号）、またＪ、　Ｗ、　Ｄｏａｎｅらは、エポキシ
樹脂中に液晶を分散硬化させる方法　（公表昭６ｌ−５
（１２１２８号）で作成している。

［発明の解決しようとする問題点］ Ｉｔ、　Ｇ、　Ｃｒａ　ｉｇｈｅａｄらの方法は多孔体
への含浸といった手段をとっているため、使用する多孔
体の孔や溝のサイズにばらつきがある、液晶の含浸が難
しい、多孔体と液晶の量比に自由度がないといった問題
点から、透過率変化が十分とれない、素子作成が困難で
あるといった欠点を有していた。またＪ、　Ｌ、　Ｆｅ
ｒｇａｓｏｎら、Ｋ、　Ｎ、　Ｐｅａｒｌｍａｎらによ
る素子は、表示に必要な電極をバターニングしなくては
ならなかった。

この電極のバターニングには、電極上へのレジストの塗
布、露光、現像、エツチング等の工程が必要であった。

さらに、この表示としては、電極が対向している部分と
対向していない部分との透過−非透過（透過率の値が２
値）の２値表示しかできなかった。

また、丸や四角の枠の中に図形や文字を表示することは
できなかった。

また、電圧を印加した時のみ表示を行うものであった。

［問題点を解決するだめの手段］ 本発明は、前述の課題を解決すべくなされたものであり
、得られる硬化物の屈折率が、使用する液晶物質の常光
屈折率ｆｎｏ）、異常光屈折率ｆｎ、）または液晶物質
がランダムに配向するした場合の屈折率（ｎつ）のいず
れかと一致するように選ばれた光硬化性化合物及び液晶
物質の混合物を一対の電極付基板間に保持し、光露光に
より、光硬化性化合物を硬化させて液晶物質と硬化物と
の相分離を固定化した液晶光学素子において、光硬化性
化合物を硬化をさせる際に、その少なくとも一部の基板
間に電圧を印加して硬化させ、特定の配向を生じせしめ
たことを特徴とする液晶光学素子、特に、特定の配向を
形成した部分が、電圧の印加の右前によらずに常に光が
透過する液晶光学素子を提供するものである。

また、これらの液晶光学素子と、それに電圧を印加する
駆動手段とからなる調光体、または、液晶光学素子と、
それに電圧を印加する駆動手段と、物体を配置する配置
手段とからなる商品展示棚、ショーウィンドー等の物体
展示体、または、液晶光学素子を複数個組合せ、夫々を
個々に駆動可能な駆動手段を設けた表示装置を提供する
ものである。

また、一対の電極付基板間に得られる硬化物の屈折率が
、使用する液晶物質の常光屈折率（ｎｏ）、異常光屈折
率（ｎｅ）または液晶物質がランダムに配向した場合の
屈折率（ｎ、）のいずれかと一致するように選ばれた光
硬化性化合物及び液晶物質の混合物を供給し、光を照射
することによりこの混合物を硬化させる液晶光学素子の
製造方法において、少なくとも一部の基板間に電圧を印
加しつつ、光露光することにより、光硬化性化合物を硬
化させて、その部分にのみ特定の配向を生ぜしめること
を特徴とする液晶光学素子の製造方法を提供するもので
ある。

本発明の素子は、液晶と光硬化性化合物を用い、光硬化
過程を経ることにより、液晶と硬化物とを相分離により
固定化させ、硬化物のマトリックス中に液晶物質が散在
した構造となり、液晶と硬化物の分布が一様となり、外
観品位、生産性にすぐれた素子といえる。

本発明では、電圧を印加していない状態又は印加してい
る状態のいずれか一方で、光露光により硬化させられた
硬化物の屈折率が、使用する液晶物質の常光屈折率（ｎ
、）、異常光屈折率（ｎ、）または液晶物質がランダム
に配向した場合の屈折率（ｎ、）のいずれかと一致する
ようにされる。

これにより、得られた硬化物の屈折率と液晶物質の屈折
率とが一致した時に光が透過し、一致しない時に光が散
乱（白濁）することになる。

この特性を生かして、本発明の液晶光学素子は調光体に
使用するとその効果が大きい。

また、本発明の素子は、得られる硬化物の屈折率が、使
用する液晶物質の屈折率を１０またはｎ８と一致させて
おくことにより、電圧が印加されていない場合は、配列
していない液晶物質と、硬化物の屈折率の違いにより、
散乱状態（つまり白濁状態）を示し、また電圧を印加し
た場合は、液晶物質が配列し、液晶の屈折率（ｎｏある
いはｎ、ｌ　　と光硬化により得られた硬化物の屈折率
とが一致することにより透過状態を示すものであり、可
逆的な調光機能をもつすぐれた素子と言える。

この素子は、この硬化工程の際に特定の部分のみに電圧
を印加した状態で硬化させてやることにより、特定の配
向が形成される。通常、しきい値電圧以上の電圧を印加
した状態で硬化させてやることにより、その部分が常に
光透過状態となる。

もっとも、使用する光硬化性化合物と液晶物質との系に
より、この印加電圧に対する配向形成に差があるため、
しきい値電圧以上の電圧を印加しても、常に光透過状態
にならないこともあり、しきい値電圧よりも充分高い電
圧を印加したり、系の配合を適切に選択するようにする
。

この部分は、硬化後には電圧の印加に無関係に光がほぼ
透過する。これにより、電極のパターニングをすること
なしに、特定の文字や図形を表示可能となる。また、文
字、図形、グラフ等を連続した枠で囲むことも容易に可
能となり、表示のｒ目１１度、表示パターンの設計の容
易性が向上するという利点も有する。

その他の電圧を印加しない状態、低い電圧を印加した状
態で硬化させた部分は、電圧は印加したが短時間であっ
た部分は、ある程度光が透過して、かつ電圧の印加によ
り光の透過率が変化するようになる。

この場合、液晶物質が完全に配向しきらない程度の電圧
を印加しつつ、光露光した場合、または電圧を印加しで
ある程度硬化が進行する程度の短時間光露光した場合に
は、液晶分子は平均的に見て基板面にほぼある角度傾い
て配向することとなる。

これにより、電圧を印加しない状態での光の透過率が周
囲の白濁している部分よりは高くなり、中間調の表示が
可能となる。これにより、写真のような表示も可能とな
る。

写真のような中間調を表示したい場合には、高い電圧を
印加しつつ、写真のネガ又はポジを使用して光露光すれ
ば良い。これにより、光が強く当たったところは透過状
態になり、光が当たる量が少なくなればなるほど散乱状
態となる。これにより、光の透過量によって種々の中間
調を出すことができる。この散乱状態となった部分は電
圧の印加によって散乱と透過を制御することができる。

本発明の光が常に透過してくる部分を形成する目的のた
めには、特定の配向を形成するように電圧を印加しつつ
硬化して得られた部分の液晶光学素子の液晶のしきい値
電圧以下で測定した誘電率の値（ε）と、電圧を印加せ
ずに硬化された部分の液晶光学素子の２状態で測定した
誘電率、つまり （］）液晶が充分に基板に取直方向に配列できる電圧で
測定した誘電率（ε０Ｎ） （２）液晶のしきいイ１ｒｉ電圧以下で測定した誘電率
（８０１１１１） との関係式が次のようになることが好ましい。

特に電圧を印加した際の液晶の配向が、基板面に対し垂
直である方が透過率が」二Ｗするので、得られる硬化物
の屈折率が、使用する液晶のｎ。と一致するように選ば
れた光硬化性化合物と誘電異方性が正の液晶物質とを組
みあわせて使用した方が好ましい。

また、本発明の素子は、光露光により硬化させられた硬
化物の屈折率が、使用する液晶物質がランダムに配向し
た場合の屈折率（ｎ、）と一致するようにされることも
できる。ここでいうランダムに配向するとは、全ての液
晶分子が基板面に対して平行又は市直に配列しているの
でなく、硬化物のマトリックスを構成する網目もしくは
カプセルの影響により種々の方向を向いでいることを表
わす。この場合には、電圧が印加されていない場合は、
配列していない（ランダムに配向）液晶物質と、硬化物
の屈折率が一致しているため、透過状態を示す。逆に、
電圧を印加した場合には、液晶物質が配列し、液晶の屈
折率（ｎｏあるいはｎ。）と光硬化により得られた硬化
物の屈折率とが一致しなくなり、散乱状態（つまり白濁
状態）を示すこととなる。これにより電圧を印加しない
状態で透明の素子が得られるが、光硬化により得られた
硬化物が網目状もしくはカプセル状に存在し、液晶がこ
の硬化物の影響を受はランダムに配向しているのと同様
の状況にあるため、均一な状態とすることが難しいとい
う問題点がある。これは、前者のように垂直または水平
に配向させた場合には、均一に配向させやすいが、ラン
ダムに配向させるのは、マクロ的にみればランダムであ
っても、部分的にみれば配向状態が微妙に異なり、屈折
率の差を生じ、これがムラとなって見え易いためである
。

このタイプの素子は、この硬化工程の際に特定の部分の
みにしきい値電圧以」二の電圧を印加した状態で硬化さ
せてやることにより、その部分が常に散乱状態となる。

この部分は、硬化後には電圧の印加に無関係に光が散乱
する。これにより、電極のパターニングをすることなし
に、特定の文字や図形を表示可能となる。

また、この素子の場合にも液晶物質が完全に配向しきら
ない程度の電圧を印加しつつ光露光するか、または電圧
を印加しである程度硬化が進行する程度の短時間光露光
する等することにより、液晶分子を平均的に見て基板面
にほぼある角度傾いて配向させることができる。これに
より写真のような中間調を表示したり、低電圧駆動が可
能になる。

この場合も、使用する光硬化性化合物と液晶物質との系
により、印加電圧に対する配向形成に差があるため、形
成したい配向状態により、印加電圧は実験的に定めるこ
とが好ましい。

なお、本発明ではこの硬化物の屈折率と、使用する液晶
物質の屈折率（ｎｏ、ｎｏ−ｎｘのいずれか）とを一致
させるものであるが、この一致とは完全に一致させるこ
とが好ましいものであるが、透過状態に悪影響をｊｊえ
ない程度に、はぼ一致するようにしておけば良い。具体
的には、屈折率の差を０．１５程度以下にしておくこと
が好ましい。これは、液晶物質により硬化物が膨潤して
、硬化物が本来持っていた屈折率よりも液晶物質の屈折
率に近ずくため、この程度の差があっても、光はほぼ透
過するようになる。

本発明では光硬化性の化合物が使用される。

これにより、所望の部分に特定の配向を形成させて、固
定表示部分を形成することが容易にできる。即ち、基板
の表面に光を遮光するマスクを配置することにより、容
易に特定の部分のみを硬化させて、特定の配向を形成さ
せて、常に光が透過してくるか散乱している固定表示部
分を形成することができる。

１に の光硬化性とは、赤外線、可視光線、紫外線、電子線に
よって硬化する化合物であればよい。その光の作用も、
硬化を促進するものであれば何でもよく、光子、電子、
熱のいずれによってでもよい。

従って、光硬化性化合物は、ビニル重合、付加重合、縮
合重合、カチオン重合、アニオン重合、リビング重合等
何れであってもよいが、水分、腐食性物質等の液晶物質
を劣化させるおそれのある物質を発生する縮合重合は一
般的にみて好ましくない。

また、重合の系は、均一、不均一系を問わない。例えば
、光硬化性化合物と液晶との混合物であってもよいし、
光硬化性化合物と液晶をポリビニルアルコール等と混合
しマイクロカプセル化したものでもよい。

また、電圧を印加して光硬化した後に、全体を加熱して
熱重合を行なってもよい。

本発明で使用される、光硬化性化合物は、硬化速度を速
めたいなら、光硬化開始剤を加えるなどしてよく、ラジ
カル種により光硬化可能なものであれば、外観品位、信
頼性にすぐれた素子を作成することができる。この光硬
化ビニル系化合物は化合物自身が光反応性をもつもの、
光照射によって生成した物質により硬化が誘起されるも
のであってもよく、大別すると、光照射によって分解硬
化するものと、重合硬化するものに分類される。重合硬
化するものは、さらに光二量化するものと重合高分子化
するものに分けられる。前者はビニル基の中でも、シン
ナモイル基やシンナミリデン基をもつものが多く、たと
えばポリケイ皮酸ビニル、ポリシンナミリデン酢酸ビニ
ル、フェニレンジアクリル酸エステルなどが例示される
。後者は、千ツマ−やオリゴマーが光により活性化され
て、相互にあるいはイ也のポリマーやオリゴマー、千ツ
マ−と重合硬化するものであり、ビニル基の中でもアク
リロイル系、アリル系、スピラン系、ビニルヘンゼン系
の千ツマ−、オリゴマー、ポリマーなどがあげられる。

具体的には、千ノアクリレート、ジアクリレート、Ｎ−
置換アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、スヂレン
及びその誘導体、ポリオールアクリレート、ポリエステ
ルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアク
リレート、シリコーンアクリレート、フロロアルキルア
クリレート、ポリブタジェン骨格を有するポリアクリレ
ート、イソシアヌル酸骨格を有するポリアクリレート、
ヒダントイン骨格を有するアクリレート、不飽和シクロ
アセタールなどに代表される単官能及び多官能ビニル基
を有する化合物が例示される。

本発明では、これら種々の光硬化性ビニル系化合物の使
用が好ましい。中でも、アクリロイル系化合物を使用す
ることが、光露光後の液晶と硬化物の相分離状態及びそ
の均一性にすぐれていること、また光露光による硬化速
度が速く硬化物が安定であることから好ましい。尚ここ
でいうアクリロイル系化合物のアクリロイル基は、０位
、β位の水素がフェニル基、アルキル基、ハロゲン、シ
アノ等で置換されていてもよい。

本発明では、これらの光硬化性ビニル系化合物の内、光
照射によって重合硬化するもの、特に重合高分子化する
オリゴマーを含有するものが好ましい。

具体的には、光硬化性ビニル系化合物としてビニル基を
２個以上含有するアクリルオリゴマーを１５〜７０ｗｔ
％含有することが好ましく、光硬化後に硬化に伴う収縮
が少なく、液晶光学素子に微小なりラックが発生しに＜
＜、成形性が良好となる。この微小クラックが多くなれ
ば、光透過状態での光の透過率が低下する傾向となり、
素子の性能が低下する。このアクリルオリゴマーの粘度
は高すぎても低ずぎても成形性に悪影響を与えるので５
０℃で１５０〜５００００ｃｐｓ程度とすることが好ま
しい。

光硬化性ビニル系化合物の残りの部分は、ビニル系の千
ツマ−が使用できる。特に、アクリル系の千ツマ−がア
クリルオリゴマーと相性が良く好ましい。

本発明で使用することが好ましいアクリルオリゴマーと
しては、以下に示す一般式（１）の構造を有する。

このＸで表わされる部分は、ポリオール、ポリエステル
、エポキシ、ウレタン、ヒダントイン等の骨格から選ば
れれば良く、少なくとも両側にアクリル酸の構造（Ｃｌ
１□・Ｃｌ１−ＣＯＯ−）を持っていれば良い。具体的
には、以下のような構造がありうる。

（ＣＩ＋□Ｃ１１□０矢。、　　（Ｃ，ｌＩｌ、Ｏ）−
１等の−１−０）−１（Ｒはアルキレン基、Ｒ′は水素
またはアルキル基を表わし、フェニレンで置換もしくは
シクロヘキシレンで置換されていてもよい。また、同一
構造式中に複数のＲ，Ｒ’等がある場合には、全てが同
一の基でも良いし、夫々穴なっていてもよい。以下も同
じ。） （Ｔマ偽（シｃｆｃＩＩ＝−１２（５シ０（Ｒ−の。

尚、これらの骨格は単なる例示にすぎなく、素子の形状
、特性等を考慮して適宜選択すれば良い。

また、光硬化性化合物は、単独もしくは複数混合で用い
てもよく、素子作成に必要な改質剤、作成した素子の改
質剤などを含んでいてもよい。具体的には、架橋剤、界
面活性剤、希釈剤、増粘剤、消泡剤、接着性付与剤、安
定剤、吸収剤、色素、重合促進剤、連鎖移動剤、重合禁
止剤などを含んでいてよい。

本発明の素子で使用する光硬化性化合物は、前述の要件
を満たした種々の材料の中から、液晶の屈折率、液晶と
の溶解性を勘案して選択すればよい。

また、光硬化開始剤は、ベンゾインエーテル系、ベンゾ
フェノン系、アセトフェノン系、チオキサントン系など
が例示される。

本発明で使用される液晶物質は、ネマチック液晶物質、
スメクチック液晶物質等があり、単独で用いても組成物
を用いても良いが、動作温度範囲、動作電圧など種々の
要求性能を満たずには組成物を用いた方が有利といえる
。特に、ネマチック液晶の使用が好ましい。

また、使用される液晶物質は、光硬化性化合物に均一に
溶解することが好ましく、光露光後の硬化物とは、溶解
しない、もしくは困難なものが必要であり、組成物を用
いる場合は、個々の液晶物質の溶解度ができるだけ近い
ものが望ましい。

本発明の素子を製造する際、光硬化性化合物と液晶物質
とは５：９５〜４５：５５程度の混合物とすればよく、
液状なしは粘稠物として使用されればよい。

本発明の素子を製造する際、調製する光硬化性化合物と
液晶物質との混合物は液状であっても粘稠物であっても
均一に混合されていれば良く、素子の製造方法によって
最適なものを選べば良い。たとえば、ＩｎＪ３−３ｎＯ
ｇ、　５ｎｕ２等の透明電極付のガラス基板が、相対向
するように配して周辺をシールしたセルには、液状で注
入した方が一般に便利であり、透明電極付のプラスチッ
ク、ガラス等の基板に塗布し、対向する基板を重ね合わ
せようとする場合には、一般に粘稠状態の方が便利であ
る。

基板間ギャップは、５〜１００μｍにて動作することが
できるが、印加電圧、オン・オフ時のコントラストを配
慮すれば、７〜４０μｍに設定することが適当である。

このようにして、基板に保持した混合物を、光露光によ
り、液晶物質と硬化物との相分離状態で固定化する。硬
化物の屈折率を液晶物質のｎ。またはｎ。と一致させる
場合には、光露光前は、基板に保持された内容物は均一
に溶解していれば、無色透明であるが、光露光後は配列
していない液晶物質と硬化物による屈折率散乱のため白
濁状態となる。こうして作成した本発明の素子は、電圧
印加することにより、液晶物質が配列し、硬化物と屈折
率が一致するため透過状態となる。

本発明では、この際固定表示の特定の配向を生じせしめ
たい部分のみに電圧を印加しつつ、光露光硬化性化合物
の硬化を行なう。

この特定の配向を生じせしめるには、種々の方法がある
。

■特定の部分のパターンに対応する電極を配置し、その
間に電圧を印加しつつ、全体に光を当てて硬化させる。

■特定の部分を除く部分に遮光性のマスクを形成し、少
なくとも特定の部分に電圧を印加しつつ、全体に光を当
てて特定の部分のみを硬化させ、次いで、遮光性のマス
クを除去して残りの部分を硬化させる。

■レーザー等を走査しながら必要の部分には電圧を印加
して特定の部分にのみ特定の配向を形成させる。

また、これらの方法を絹み合わせたり、特定の部分と同
じ形状のマスクを使用する笠して特定の部分を除いた部
分を先に硬化させるように工程を逆転させてもよい。

特に、■とその逆工程のプロセスが駆動用の基板の電極
をそのままバターニング時の電圧印加にも使用できるた
め、付加する手段がマスクのみでよく、生産性も良い。

内面に電極を形成した通常の液晶光学素子のセルの構成
を採り、その電極を使用して特定のパターンを特定の配
向としてもよいし、外部に電極を配置し、それにより特
定のパターンを特定の配向としてもよい。これらにより
、例えば、ドツトマトリクス表示、セグメント表示、バ
ーグラフ表示に図形を絹み合わせたり、連続した枠を形
成したりすることもできる。

また、例えば、全面ＩＴＯ付き円盤状ガラス基板セルを
用い、中心で回転させなから■の方法を使用してレーザ
ー光等で書き込むことによりメモリー素子としても使用
できる。

さらに、前述のごとく、硬化させる際の電圧をしきい値
電圧付近で段階的に変化させたり、光の照射時間、硬化
温度等を制御してして白濁度が低いが電圧により透過率
が変化する中間調の透過部分を形成してもよい。

このようにして作成した本発明の素子は、特定の配向に
より常に光が透過してくる部分と、通常は白濁している
か透過状態であるが、電圧を印加することにより、液晶
が配列し、硬化物の屈折率と液晶の屈折率とが一致して
透過状態になるため透過率が変化する部分を有する。

また、硬化物の屈折率を液晶物質の屈折率ｆｎ、）と一
致させた場合には、光露光前は、基板に保持された内容
物は均一に溶解していれば、無色透明であり、光露光後
は配列していない液晶物質と硬化物による屈折率が一致
するため透過状態となる。こうして作成した本発明の素
子は、電圧印加することにより、液晶物質が配列し、硬
化物と屈折率がずれて散乱するため白濁状態となる。

この場合には、特定の配向を形成した部分では、常に光
が散乱されることとなる。もちろん、中間調部分を形成
することもできる。

基板間ギャップは、５〜１００μｍにて動作ず本発明で
は、この液晶中に２色性色素や単なる色素、顔料を添加
したり、硬化性化合物として着色したものを使用したり
、基板に着色基板を使用したり、カラーフィルターを積
層したりして特定の色を付けることもできる。

本発明では、液晶物質を溶媒として使用し、光露光によ
り光硬化性化合物を硬化させることにより、硬化時に不
要となる単なる溶媒や水を蒸発させる必要がない。この
ため、密閉系で硬化できるため、信頼性が高く、かつ、
光硬化性化合物で２枚の基板を接着する効果も有するた
め、シール剤を不要にすることもできる。

このため、一方の電極付基板上に光硬化性化合物及び液
晶物質の溶解物を供給し、さらにその」；に他方の電極
付基板を重ね合せ、その後、光を照射して硬化させると
いう生産性の良い製造方法が採用できる。

特に、電極付基板にプラスチック基板を使用することに
より、連続プラスチックフィルムを使用した長尺の液晶
光学素子が容易に製造できる。

このような液晶と硬化性化合物のマトリックスによる液
晶を使用することにより、大面積にしても、上下の透明
電極が短絡する危険性が低く、かつ、通常のツイストネ
マチック型の表示素子のように配向や基板間隙を厳密に
制御する必要もなく、大面積を有する液晶調光体を極め
て生産性良く製造できる。なお、光の透過状態のムラを
少なくするためには、基板間隙はある程度一定である方
が良い。このため、ガラス粒子、プラスチック粒子、セ
ラミック粒子等の間隙制御用のスペーサーを基板間隙に
配置する方が好ましい。具体的には、基板上に光硬化性
化合物及び液晶物質の混合物に基板間隙制御用のスペー
サーを含有させて供給するか、混合物を供給前または後
にスペーサーを供給して、他方の基板を重ね合わせるよ
うにすれば良い。この場合、重ね合わせた後に加圧し、
その後、硬化さ七ることにより、より均一な基板間隙に
なりやすい。

このような液晶光学素子は、表示素子としても使用可能
であるが、大面積化が容易であること及び後で切断して
所望のサイズにできること等から調光体として使用した
場合に好適である。調光体として使用される場合には、
通常は透過型であるため、電極は透明電極とされる。

もちろん、その一部に低抵抗化するだめの金属リード部
を併設したりしてもよい。また、調光鏡として使用する
場合には、一方の電極を反射電極としてもよい。

この液晶光学素子は、基板がプラスチックや薄いガラス
の場合にさらに保護のためにグラスチックやガラス等の
保護板を積層したり、基板を強化ガラス、合せガラス、
線入ガラス等にしてもよい等種々の応用が可能である。

特に、電極付基板としてプラスチック基板を使用して液
晶光学素子とし、電極取り出し線を付けて、これを液晶
光学素子よりもやや大きい２枚のガラス板間にポリビニ
ルブチラール等の接着性材料層を介して挟持して、加熱
又は光照射により、接着性材料層を硬化させて、液晶光
学素子とガラス板とを一体化し合せガラス状にして使用
することが好ましい。中でも接着性材料をポリビニルブ
チラールとすることにより、通常の合わせガラスと極め
て類似した構造とすることができる。

この液晶光学素子を製造するには、所望の形状の基板を
２枚準備して、これを組合せて液晶光学素子を製造して
もよいし、連続プラスチックフィルム基板を使用したり
、長尺ガラス基板を用いて製造して、後で切断する方式
で製造してもよい。

この液晶光学素子を用いた調光体の用途としては窓、天
窓、間仕切り、扉等の建築材料、窓、ムーンルーフ等の
車両用材料、各種電気製品用のケース、ドア、蓋等の材
料に使用可能である。

調光体として使用する場合には、この液晶光学素子に、
これを駆動するだめの駆動手段を付加すれば良い。この
駆動手段としては、後述するように通常数十Ｖ程度の交
流電圧を印加することができるものが使用される。

また、この液晶光学素子を種々の物体を配置する配置手
段と組み合せ、かつこれを駆動するだめの駆動手段を付
加することにより、各種商品を展示するショーウィンド
ウ、ショーケース等の物体展示体に使用することもでき
る。これには、ファイル棚に使用してファイルのタイト
ルは電圧を印加して透明にしないと見えないが、ファイ
ルの有無は常に透明の部分により確認できるというよう
な応用もある。

また、本発明の液晶光学素子を複数個組合せて、夫々を
個別に駆動可能にし、文字や図形を表示するという表示
装置にも使用できる。例えば、Ｉ　０ｃｍ角の液晶光学
素子を１６Ｘ　１６ドツトになるように配置し、漢字を
表示することにより、従来の液晶表示素子ではできなか
ったような１文字が１ｍ以」―の大型表示装置も可能と
なる。

本発明の液晶光学素子は、駆動のために電圧を印加する
時には、液晶の配列が変化するような交流電圧を印加す
ればよい。具体的には、　５〜１００Ｖで１０〜ｌ００
０１１ｚ程度の交流電圧を印加すればよい。

また、電圧を印加しない時には、電極間をオーブンにす
るか短絡すればよい。これらの内でも、電極間のインピ
ーダンス、即ち、電極のインピーダンス、端子部での接
続インピーダンス、回路インピーダンスの合計インピー
ダンスが、液晶物質と硬化物との層のインビータンスよ
りも低くなるようにすることにより、電圧を切った時の
液晶の応答が速い。

特に、電極間のインピーダンスが、液晶物質と硬化物と
の層のインピーダンスのＩ／Ｉｎ以Ｆになるようにする
ことが好ましい。このため、電極のインピーダンス及び
端子部での接続インピーダンスが高い場合には、回路の
インピーダンスを下げることが好ましい。

このように自己放電回路を形成することによリ、通常の
液晶表示素子に比して素子自体の有するキャパシタンス
が非常に大きいものであっても、電極間に蓄積された電
荷が速やかに放電され、液晶がランダムな配向に戻る運
動を］川害しなく、透過と散乱との間の変化が速くなる
。

本発明の素子は、表示用素子、とりわけ従来の液晶表示
素子が困難であった、大面積表示素子、湾曲状での表示
素子等に利用できるほか、大面積の調光素子、光シヤツ
ター等、数多くの利用が考えられる。

また、電球等の光源の前に設置して、例えばフォグラン
プと通常のランプの切替を電気的に行う用途にも使用で
きる。

また、本発明では一方の電極を鏡面反射電極として鏡と
して使用してもよく、この場合には裏側の基板は不透明
なガラス、プラスチック、セラミック、金属製とされて
もよい。

また、カラーフィルターを併用したり、液晶中に二色性
色素を混入したりしてカラー化したり、他のディスプレ
ーであるＴＮ液晶表示素子、エレクトロクロミック表示
素子、エレクトロルミネ・ンセンス表示素子等と積層し
て使用してもよく、種々の応用が可能である。

［実施例］ 以下、実施例により、本発明を具体的に説明する。

実施例１ ｎ−ブチルアクリレート１部及び２−ヒドロキシエチル
アクリレート５部に液晶（Ｂ　Ｄ　ｌ−１社製Ｅ−８）
を１８部、光硬化開始剤としてベンゾインイソプロピル
ニーデル０．１２部を均一に溶解し、２５μｍのセルギ
ャップをもったＩＴＯ付ガツガラス基板セル入した。注
入孔を封止した後、Ｔの字を切り抜いた黒色テープを遮
光用マスクとして張り付け、セル全体に５０１＋　７．
．６０Ｖの交流電圧を印加しながら紫外線照射装置（東
芝：トスキュア−４００）により、約３秒光露光した。

次いで、黒色テープを取り去り、電圧を印加せずに、紫
外線照射装置により、約６０秒光露光したところＴの字
型に透明な部分があり、他の部分は白濁した素子が得ら
れた。

この素子にＡＣ６０Ｖ　（５０１１ｚ）の交流電圧を印
加したところ、全面にわたって透明状態となった。

実施例２ ０一プチルアクリレート１部及び２−ヒドロキシエチル
アクリレート３部、アクリルオリゴマー（東亜合成化学
（株）製Ｍ　−１２００１４部、光硬化開始剤としてメ
ルク社製ダロキュア−１１１６を０．１６部、液晶Ｅ−
８を４部を均一に溶解した。

この溶解物を、２５μｍのセルギャップをもった５ｎ０
２電極付ガラス基板セルに注入した。

注入孔を封止した後、セル全体に５０　ｔｌ　ｚの交流
電圧を印加しながら紫外線照射装置により、約１５秒光
露光した。この際、印加電圧を種々変化させた。

次いで、電圧を印加せずに、紫外線照射装置により、約
６０秒光露光して硬化を完了させた。

このようにして製造した液晶光学素子の硬化時に印加し
た電圧による透過率の変化を第１表に示す。なお、オン
の透過率はＡＣ６０Ｖ　（５０１１ｚ）の交流電圧を印
加して行なった。

第　　１　　表 ０　　８．１　５４．６ ０．２５　８．４　５０．４ ０．３　　８．３　５０．５ ０．５　　９．２　５４．８ １．０　１５．８　５９．８ ＋、５　１８．５　６０．］ ３．０　２８．５　６７．６ ５．０　４４．４　７３．０ １０．０　５４．１　７５．６ ２０．０　６Ｊ、８　７５，４ ３０．０　６４．１　７５．０ ４０．０　６４．７　７５，０ ５０．０　６５．９　７５，０ ６０．０　　’６７．２　７５．８ 実施例３ 実施例１の混合物７部、ポリビニルアルコール３部を水
に分散後、ＩＴＯ付きポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上に流延し、水を揮発させたあと、ＩＴＯ付きポリ
エチレンテレフタレートフィルムを重ね合せた。そのセ
ルギャップは２０メＬｍであった。

実施例１と同様にして作成した素子に交流電圧（ＡＣ６
０Ｖ、５０１１７．１を印加したところ、全面にわたっ
て透明状態となり、電圧をきるとＴの字型に透明な部分
があり、他の部分は白濁した状態になった。

実施例４ Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）−アクリルアミド１部、ｎ
−ブチルアクリレート３部、光硬化開始剤（ダロキュア
Ｉ　＋　１６）を０．２部、液晶Ｒｏｃｈｅ社製Ｔ　Ｎ
　−６２３９，５部を均一に溶解した。セルギャップを
１０μｍにした以外は、実施例１と同様に素子を作成し
た。

この素子に交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、５０１１７．１を印
加したところ、全面にわたって透明状態となり、電圧を
きるとＴの字型に透明な部分があり、他の部分は白濁し
た状態になった。

実施例５ 実施例１と同様のセルを用い、黒色の遮光テープを四角
の枠状に切り抜いてセル表面に貼り、その内側に５つの
大きさの異なる円の形に切り抜いた黒色のテープを同心
円状に貼り付け、このセル全体に交流電圧（ＡＣ６０Ｖ
、５０Ｉ＋ｚ）を印加しながら紫外線照射装置により、
約３秒光露光した。

次いで、黒色テープを取り去り、電圧を印加せずに、紫
外線照射装置により、約６０秒光露光したしたところ、
枠と同心円の部分は白濁し、他の部分は透明な素子が得
られた。

この素子に交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、５０１１７．１を印
加したところ、枠と同心円の部分のみが応答し、全体が
透明となった。

また、黒色テープを貼る場所を代えることにより、上記
例でネガとポジを反転したものも製造できる。

実施例６ ｎ−ブチルアクリレート３部、アクリルオリゴマー（大
阪有機化学工業（株）製ビスコート＃８２３、粘度１９
０００ｃｐｓ／　５０℃）２部、液晶Ｅ−８を３部、光
硬化開始剤（ダロキュア−１１１６）を０．１部を均一
に混合し、ドクター・ブレードを使い、ＩＴＯ付ポリエ
ステルフィルム」二に塗布した。１０μｍのスペーサー
を散布した後、ＩＴＯ付ポリエステルフィルムを重ねあ
わせて、実施例１と同様条件で光露光し、素子を作成し
た。

この素子に交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、　５０１１ｚ）を印
加したところ、全面にわたって透明状態となり、電圧を
きると１゛の字型に透明な部分があり、他の部分は白濁
した状態になった。

実施例７ ｎ−ブチルアクリレート１部、２−ヒドロキシエチルア
クリレート５部、アクリルオリゴマ＝（東亜合成化学（
株）製Ｍ−６２００、粘度２４０ｃｐｓ／２５℃）３部
、光硬化開始剤としてメルク社製ダロキュア−１１７３
を０．２０部、液晶Ｅ−８を１８部を均一に溶解した。

使用したセルのガラス板厚を３、０ｍｍにし、光露光時
間を３分しにだ以外は、実施例１と同様にして素子を作
製した。

この素子に交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、５０Ｈ２）を印加し
たところ、全面にわたって透明状態となり、電圧をきる
とＴの字型に透明な部分があり、他の部分は白濁した状
態になった。

実施例８ ２−エチルへキシルアクリレート　７部、２−ヒドロキ
シエチルアクリレート１５部、アクリルオリゴマ＝（東
亜合成化学■製Ｍ１２００、粘度３０、０００ｃｐｓ／
　５０℃）２４部、光硬化開始剤（ダロキュア−１１１
６）を０．９部、液晶ト８を６４部均一に溶解した。１
４μｍスペーサーを加えてよく分散させた。その混合物
をＩＴＯ付きポリエステルフィルム上に供給し、ＩＴＯ
付きポリエステルフィルムを重ね合せ、紫外線照射装置
（三菱電機■製ネオルミスーパー（３０Ｗ）　）使用に
より夫々　５秒と約９０秒光露光して素子を作製した。

この素子に交流電圧ｒＡｃ６［）Ｖ、５０１１ｚ）を印
加したところ、全面にわたって透明状態となり、電圧を
きると′「の字型に透明な部分があり、他の部分は白濁
した状態になった。

さらに、これを２枚のガラス板の間に２枚のポリビニル
ブチラール膜を介して挟持し、オートクレーブ内で加熱
加圧して一体化させた。

このようにして・体化された素子は、外圧に対して安全
であり、信頼性も高いものであった。

実施例９ スペーサーを８μｍにした以外は実施例８と同様にして
素子を作製した。

この素子に交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、５０１１７．１を印
加したところ、全面にわたって透明状態となり、電圧を
きるとｌ゛の字型に透明な部分があり、他の部分は白濁
した状態になった。

背景部では実施例８に比して、セル間隙が小さいので、
電圧を印加しない場合でも、電圧を印加した場合にも、
同じ電圧印加においては透過小が高いものであった。

実施例１０ 実施例８の素子において、５０Ｖの電圧を印加した状態
から回路を開放した場合の透過率変化の応答時間は　１
．２秒であった。電圧を切った後で、素子の両電極を１
にΩの抵抗を介して短絡したところ、応答時間は０．０
２秒であった。

実施例１１ 着色硬化物として、ベストキュア１６１（東華色素化学
工業■）を１．５部加えて分散させた以外は、実施例８
と同様にして素子を作製した。

Ｔの字部分を除き、均一に着色した素子が得られた。

この素子に交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、５０１１ｚ）を印加
したところ、全面にわたって透明状態となり、電圧をき
るとＴの字型に透明な部分があり、他の部分は着色白濁
した状態になった。

実施例１２ ’　　　Ｎ−（ｎ−ブトキシメチル）−アクリルアミド
　１部、ｎ−ブチルアクリレート　３部、アクリルオリ
ゴマ−（ビスコート＃８２３）　　１部、光硬化開始剤
（グロキュアー１１１６）０．２部、液晶（Ｒｏｃｈｅ
社製ＴＮ−６２３）　　９．５部を均一に溶解した。実
施例４と同様にして素子を作成した。

この素子に交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、５０１１ｚｌを印加
したところ、全面にわたって透明状態となり、電圧をき
るとＦの字型に透明な部分があり、他の部分は白濁した
状態になった。

この素子は、原料にアクリルオリゴマーを使用しており
、実施例４の素子に比して、硬化後の微小クラックが少
なく、電圧印加による透過率の変化が大きいものであっ
た。

実施例１３ 実施例１２と同じ溶解物を使用し、実施例１２と同様に
して、電圧を印加しつつ写真のネガをマスクの代りに使
用して光露光を行い、次いで電圧を印加せずに光露光を
行なって素子を作成した。

この素ｒ−に交流電圧（八Ｃ６０Ｖ、５０１Ｉｚｌを印
加したところ、全面にわたって透明状態となり、電圧を
きると透明な部分から白濁したした部分までの中間調の
ある像が得られた。

実施例１４ マスクのパターンとしてスキーをしている人物像のパタ
ーンを使用し、実施例１２と同様にして素子を製造した
。

この素子をスキー用品を配置したショーウィンドウの前
に設けた。このショーウィンドウは電圧を印加しない状
態では、スキーをしている人物像のパターンが白濁して
表示されているが、交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、５０ｔ（ｚ
ｌを印加すると全面が透明となった。

実施例１５ マスクのパターンとして円状の孔を有するパターンを使
用し、実施例１２と同様にして素子を製造した。

この素子を調光体として使用し、ドアに使用した。この
ドアは電圧を印加しない状態では、丸い孔の部分のみか
ら中が見え、これに交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、　５０１１
ｚ）を印加すると全面が透明となった。これにより、ド
アの内部の部屋を使用中には中が丸い孔からしか見えな
く、未使用の時にはドアが完全に透明で−１１で分かる
。

実施例１５ マスクのパターンとして長方形状の孔の有するパターン
を使用し、実施例１２と同様にして素子を製造した。

この素子を調光体として使用し、ファイル棚のガラス戸
として使用した。このガラス戸は電圧を印加しない状態
では、長方形状の孔の部分のみからファイル棚の中が見
え、これに交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、５０１１７．）を印
加Ｊるとガラス戸全面が透明となった。

これにより、ファイル棚に置かれているファイルの他人
に見られてもよいファイル番号等は常に見えるが、ファ
イルのタイトルは電圧を印加した時のみ見えるというよ
うにすることができる。

実施例１７ マスクのパターンとして周囲を枠状にくりぬいた正方形
状のマスクを使用し、実施例１２と同様にして素子を製
造した。

この素子を８部８個で１文字を表示できるようにしてド
ツト表示型の表示装置を作成した。

この表示装置は、各ドツトの周囲の部分は常に透明であ
り、光が透過してくるが、交流電圧（ＡＣ６０Ｖ、５０
１１ｚｌを印加すると印加したドツトのみが全面透明と
なって、表示がなされた。

実施例１８ ０−プチルアクリレート　６部、２−ヒドロキシエチル
アクリレート１６部、アクリルオリゴマー（Ｍ−１２０
０１１１部、光硬化開始剤としてヘンシフエノン　１部
、液晶（Ｅ−８）６７部を均一に溶解した。

この溶解物を、２５μｍのセルギャップをもった１１”
Ｏ電極付ガラス基板セルに注入した。

注入孔を封止した後、セル全体にＡＣｌｏｏＶ　（５０
１１Ｚ）の交流電圧を印加しながら紫外線照射装置によ
り、約２０秒光露光した。

次いで、電圧を印加せずに、紫外線照射装置により、約
６０秒光露光して硬化を完了させた。

このようにして製造した液晶光学素子の誘電率（ＡＣｏ
、　７Ｖ　（ｌｋｌｌｚｌ印加時）εは、１７．３であ
り、光の透過率Ｔ　ｏｐｐ　（ｏｖ）は、７５．０％で
あり、ＴＯＮ（ＡＣｌｏｏＶ（５０Ｈｚｌ　）は８４．
０％テあり、電圧を印加しなくてもほぼ透明であった。

なお、電圧を印加せずに硬化させた場合の液晶光学素子
のＡＣｏ、　７Ｖ　（ｌ　ｋｌｌｚ）印加時のε（ε。

、Ｐに相当）は１０．１テあり、ＡＣ３０Ｖ　（ｌ　ｋ
ｌｌｚ）印加時のε（ε。８に相当）は１５．５であっ
た。また、光の透過率Ｔｏｐｐ（ＯＶＩ　は、１１．２
％であり、Ｔ、、（ＡＣｌ　００Ｖ　（５０ＩＩｚ）　
）は？４．３％Ｔあった。

［発明の効果］ 以」二の如く、本発明は、新規な液晶光学素子及びその
製造方法を提供するものであり、得られる硬化物の屈折
率が、使用する液晶物質の常光屈折率（ｎｏ）、異常光
屈折率（ｎ、）または液晶物質がランダムに配向した場
合の屈折率（ｎオ）のいずれかと一致するように選ばれ
た光硬化性化合物と液晶物質とを均一溶解状態で一対の
電極付基板間に保持し、光露光により、光硬化性化合物
を硬化させ、液晶物質と硬化物との相分離を固定化した
素子である。したがって本発明は偏光板を必要とせず、
外観品位、生産性にすぐれた素子であって、光硬化性化
合物を硬化させる際に、その少なくとも一部の基板間に
電圧を印加して特定の配向を生ぜしめた素子であり、表
示用、とりわけ大面積、湾曲状での表示に、また大面積
での調光、光シヤツター等に広（利用することができる
。

特に、一対の電極付基板間に保持し、光露光により、光
硬化性化合物を硬化させ、液晶物質と硬化物との相分離
を固定化することが一工程ででき、光硬化させているた
め、硬化時間も短く、極めて生産性が高い。

また、特定のパターンのマスクを用いてパターニングす
ることにより、この特定の部分の硬化と残りの部分の硬
化とを同じ装置で連続して行うことができるという利点
もある。

さらに、電極のバターニングをすることなしに、特定の
文字や図形が表示可能となる。また、文字、図形、グラ
フ等を連続した枠で囲むことも容易に可能となり、表示
の自由度、表示パターンの設計の容易性が向上するとい
う利点も有する。

また、しきい値電圧付近の電圧を印加しつつ光硬化させ
た場合、または電圧を印加しつつ短時間光を露光して硬
化させた場合には、完全に光が透過状態ではないが、周
囲のマスクした部分よりは光が透過してくるまたは白濁
している部分も形成できる。これにより、透過か白濁の
２値でない中間調の表示が可能になる。

本発明では光硬化性ビニル系化合物を使用することによ
り素子の信頼性が高く、合せガラス様の構造をイアして
おり、外圧による破損を生じにくく安全性が高い。

さらに、この基板の少なくとも一面に保護板を設けるこ
とにより、安全性が向−１ニし、特に、両面に保護板を
設けることにより破損を生じにくくなる。

特に、基板」二に液晶物質、光硬化性化合物、特に光硬
化性ビニル系化合物、さらに必要に応じて光硬化開始剤
との混合物を供給し、その上に他方の基板を載置するこ
とにより、大面積の素子を極めて生産性良く製造できる
。このため、ガラスの場合にもかなり長尺の基板が使用
できるし、プラスチックの基板では連続フィルムによる
連続プロセスも可能となる。

特に、基板にプラスチック基板を使用した場合には、生
産性は良い反面、強度が劣っているため、大面積化した
際に、破損し易くなったり、湾曲したりする。このため
、両面に保護板を設ける効果が大きい。中でも保護板と
してガラス板を使用し、接着性材料で接着することによ
り、合わせガラスと類似の構造となり、安全で信頼性が
高くなる。

又、本発明の液晶光学素子は、光硬化性ビニル系化合物
を使用することにより、液晶物質と硬化したビニル系化
合物とが細かな３次元網目状マトリックスを構成して、
液晶物質が分散していることとなるため、素子を製造後
所望の大きさに切断して使用することもできる。

この場合、マトリックス中に液晶の分散体が互いにつな
がっているため、電圧印加の際、液晶が均一に配列し易
いためマイクロカプセル状や独立した液晶粒から構成さ
れる素子と比べて、透明状態でのヘーズが小さく、駆動
電圧が低くてすむ。また、白濁状態の際、素子が赤っぽ
くなることを防ぐといった効果もある。

特に、光硬化性ビニル系化合物として、原料にアクリル
オリゴマーを使用することにより、硬化後の微小クラッ
クが少なく、電圧印加による透過率の変化が太きいもの
となる。

本発明は、この外、本発明の効果を損しない範囲内で種
々の応用が可能である。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. （１）得られる硬化物の屈折率が、使用する液晶物質の
   常光屈折率（ｎ＿ｏ）、異常光屈折率（ｎ＿ｅ）または
   液晶物質がランダムに配向するした場合の屈折率（ｎ＿
   ｘ）のいずれかと一致するように選ばれた光硬化性化合
   物及び液晶物質の混合物を一対の電極付基板間に保持し
   、光露光により、光硬化性化合物を硬化させて液晶物質
   と硬化物との相分離を固定化した液晶光学素子において
   、光硬化性化合物を硬化をさせる際に、その少なくとも
   一部の基板間に電圧を印加して硬化させ、特定の配向を
   生じせしめたことを特徴とする液晶光学素子。
2. （２）特定の配向を形成した部分が、電圧の印加の有無
   によらずに常に光が透過する請求項１記載の液晶光学素
   子。
3. （３）請求項１または２の液晶光学素子と、それに電圧
   を印加する駆動手段とからなる調光体。
4. （４）請求項１または２の液晶光学素子と、それに電圧
   を印加する駆動手段と、物体を配置する配置手段とから
   なる物体展示体。
5. （５）請求項１または２の液晶光学素子を複数個組合せ
   、夫々を個々に駆動可能な駆動手段を設けた表示装置。
6. （６）一対の電極付基板間に得られる硬化物の屈折率が
   、使用する液晶物質の常光屈折率（ｎ＿ｏ）、異常光屈
   折率（ｎ＿ｅ）または液晶物質がランダムに配向した場
   合の屈折率（ｎ＿ｘ）のいずれかと一致するように選ば
   れた光硬化性化合物及び液晶物質の混合物を供給し、光
   を照射することによりこの混合物を硬化させる液晶光学
   素子の製造方法において、少なくとも一部の基板間に電
   圧を印加しつつ、光露光することにより、光硬化性化合
   物を硬化させて、その部分にのみ特定の配向を生ぜしめ
   ることを特徴とする液晶光学素子の製造方法。
7. （７）少なくとも特定の配向状態に保ちたい部分の電極
   には電圧を印加しつつ、特定の配向状態に保ちたい部分
   以外の部分をマスクして光露光して硬化させ、次いでマ
   スクを取り去り電圧を印加せずに未硬化部分を硬化させ
   る特許請求の範囲第６項記載の液晶光学素子の製造方法
   。
8. （８）特定の配向状態に保ちたい部分をマスクしれ、光
   露光して特定の配向状態に保ちたい部分以外の部分を硬
   化させ、次いでマスクを取り去り、少なくとも特定の配
   向状態に保ちたい部分の電極には電圧を印加しつつ、未
   硬化部分を硬化させる特許請求の範囲第６項記載の液晶
   光学素子の製造方法。