JPS63274652A - セラミツクス超電導体の高純化方法 - Google Patents
セラミツクス超電導体の高純化方法Info
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- JPS63274652A JPS63274652A JP62107747A JP10774787A JPS63274652A JP S63274652 A JPS63274652 A JP S63274652A JP 62107747 A JP62107747 A JP 62107747A JP 10774787 A JP10774787 A JP 10774787A JP S63274652 A JPS63274652 A JP S63274652A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、セラミックス超電導体の高純化方法に関する
ものである。
ものである。
従来、セラミックス超電導体の製造方法は、例えばYt
02 、B a COl、Cu OをY:Ba:Cuが
モル比で17’2:3になるように配合し、これを圧縮
などにより所望の形状に成形したあと900〜1000
℃の温度で数時間乃至数十時間大気中または酸素富化中
で焼結したのち徐冷する方法がとられている。
02 、B a COl、Cu OをY:Ba:Cuが
モル比で17’2:3になるように配合し、これを圧縮
などにより所望の形状に成形したあと900〜1000
℃の温度で数時間乃至数十時間大気中または酸素富化中
で焼結したのち徐冷する方法がとられている。
上記において焼結したのち徐冷する理由は、Ua族の元
素、IIIa族の元素、銅および酸素からなるセラミッ
クス超電導体は、温度によって斜方品と正方晶の2つの
結晶構造をとり、このうち低温で安定な結晶構造のもの
が一般に超電導体となるので、冷却過程において徐冷し
て変態をより完全に行わせるためである。
素、IIIa族の元素、銅および酸素からなるセラミッ
クス超電導体は、温度によって斜方品と正方晶の2つの
結晶構造をとり、このうち低温で安定な結晶構造のもの
が一般に超電導体となるので、冷却過程において徐冷し
て変態をより完全に行わせるためである。
しかし冷却速度があまり遅いと生産性が低下するので、
通常1〜2℃/sinの冷却速度がとられており、この
ため超電導体となる結晶構造のものはせいぜい50〜7
0%程度にしかならず、また焼結温度が900〜100
0℃と高く、更に長時間かけて冷却するために結晶粒が
粗大化しており、このようなことから従来のセラミック
ス超電導体の臨界電流密度は、100A/cd (at
77 k )と低く、NbT iやNb、Snなどと較
べて1/100〜I/1000程度のため実用上重大な
障害となっていた。
通常1〜2℃/sinの冷却速度がとられており、この
ため超電導体となる結晶構造のものはせいぜい50〜7
0%程度にしかならず、また焼結温度が900〜100
0℃と高く、更に長時間かけて冷却するために結晶粒が
粗大化しており、このようなことから従来のセラミック
ス超電導体の臨界電流密度は、100A/cd (at
77 k )と低く、NbT iやNb、Snなどと較
べて1/100〜I/1000程度のため実用上重大な
障害となっていた。
本発明はかかる状況に鑑みなされたものでその要旨とす
るところは、IIa族の元素、lla族の元素、銅およ
び酸素からなるセラミックス超電導体に、上記超電導体
の正方晶と斜方晶の変態温度の上下200℃の温度範囲
で、正方晶から斜方晶へ変態する際は、上記超電導体に
応力を負荷し且つ雰囲気の酸素を富化する操作(以下負
荷操作と略記)を施し、また斜方晶から正方晶へ変態す
る際は、上記超電導体の応力を緩和し且つ雰囲気の酸素
を低減する操作(以下緩和操作と略記)を施すことを特
徴とするセラミックス超T!l導体の高純化方法である
。
るところは、IIa族の元素、lla族の元素、銅およ
び酸素からなるセラミックス超電導体に、上記超電導体
の正方晶と斜方晶の変態温度の上下200℃の温度範囲
で、正方晶から斜方晶へ変態する際は、上記超電導体に
応力を負荷し且つ雰囲気の酸素を富化する操作(以下負
荷操作と略記)を施し、また斜方晶から正方晶へ変態す
る際は、上記超電導体の応力を緩和し且つ雰囲気の酸素
を低減する操作(以下緩和操作と略記)を施すことを特
徴とするセラミックス超T!l導体の高純化方法である
。
本発明においてセラミックス超電導体に上述の如き負荷
操作と緩和操作を変態温度を通過させつつ交互に繰り返
し行うことにより当該セラミックス超電導体は超電導体
となる結晶構造への変態が、結晶粒を粗大化させること
なく、促進され、一段と高純化される。
操作と緩和操作を変態温度を通過させつつ交互に繰り返
し行うことにより当該セラミックス超電導体は超電導体
となる結晶構造への変態が、結晶粒を粗大化させること
なく、促進され、一段と高純化される。
尚応力を負荷する方法としては、プレスなどにより一方
向の圧縮力を加えてもよく、また雰囲気の圧力を高めて
静水圧を与えてもよく更に熱分布をかえるなどして熱歪
を付与してもよい、また応力緩和の方法としては、雰囲
気を減圧する方法などが適用される。
向の圧縮力を加えてもよく、また雰囲気の圧力を高めて
静水圧を与えてもよく更に熱分布をかえるなどして熱歪
を付与してもよい、また応力緩和の方法としては、雰囲
気を減圧する方法などが適用される。
セラミックス超電導体の高純化のための負荷操作または
緩和操作を行う温度を、変態温度の上下200℃の温度
範囲に限定した理由は、上限を超えると結晶粒の粗大化
がおこり、下限を下層ると超電導となる結晶構造への変
態がほとんどおこらなくなり、高純化が達成できないた
めである。上記の温度範囲は好ましくは、変態温度の上
下50℃である。
緩和操作を行う温度を、変態温度の上下200℃の温度
範囲に限定した理由は、上限を超えると結晶粒の粗大化
がおこり、下限を下層ると超電導となる結晶構造への変
態がほとんどおこらなくなり、高純化が達成できないた
めである。上記の温度範囲は好ましくは、変態温度の上
下50℃である。
■a族の元素、[Ia族の元素、銅および酸素からなる
セラミックス超電導体は、温度によって正方晶と斜方晶
の2つの結晶構造をとり、どちらが低温で安定かは素材
の系によって相違する。
セラミックス超電導体は、温度によって正方晶と斜方晶
の2つの結晶構造をとり、どちらが低温で安定かは素材
の系によって相違する。
すなわち、(RE)BazCu= o?−? (RE
:希土類元素)の−際式であられされる系のもの、例え
ばYBatCu、O,□は、高温で正方晶、低温で斜方
晶が安定であり、超電導体となるのは後者の斜方晶であ
る。
:希土類元素)の−際式であられされる系のもの、例え
ばYBatCu、O,□は、高温で正方晶、低温で斜方
晶が安定であり、超電導体となるのは後者の斜方晶であ
る。
ここで正方晶から斜方晶への変態は、変態温度を冷却通
過する際に前述の如き負荷操作を施すことにより促進さ
れ、高純化される。この操作をくり返すために再び昇温
させるときは、緩和操作を施すことによって結晶粒の粗
大化が阻止される。
過する際に前述の如き負荷操作を施すことにより促進さ
れ、高純化される。この操作をくり返すために再び昇温
させるときは、緩和操作を施すことによって結晶粒の粗
大化が阻止される。
一方La+−,MX! Cu0a−y (M: Ba
。
。
Sr、Ca、χζ0.1)の一般式であられされる系の
もの、例えば(La@4 Bas、+)z CuOm−
yは、高温で斜方晶、低温で正方晶が安定であり、超電
導体となるのは復音の正方晶である。この場合は斜方晶
から正方晶への変態は、変態温度を冷却通過する際に前
述の如き緩和操作を施すことにより促進され、高純化さ
れる。この操作をくり返すために再び昇温させるときは
、負荷操作を施すことによって結晶粒の粗大化が阻止さ
れる。
もの、例えば(La@4 Bas、+)z CuOm−
yは、高温で斜方晶、低温で正方晶が安定であり、超電
導体となるのは復音の正方晶である。この場合は斜方晶
から正方晶への変態は、変態温度を冷却通過する際に前
述の如き緩和操作を施すことにより促進され、高純化さ
れる。この操作をくり返すために再び昇温させるときは
、負荷操作を施すことによって結晶粒の粗大化が阻止さ
れる。
負荷操作と緩和操作が変態を促進しまたは結晶粒の粗大
化を抑止する理由は、上述の操作により酸素が結晶に出
入して結晶の軸比、結晶粒界の移動、双晶などの新しい
界面の形成などに作用を及ぼすためと考えられている。
化を抑止する理由は、上述の操作により酸素が結晶に出
入して結晶の軸比、結晶粒界の移動、双晶などの新しい
界面の形成などに作用を及ぼすためと考えられている。
以下に本発明を実施例により詳細に説明する。
実施例−1
YxOi 、B a C03、Cu OをY:Ba:C
uがに2:3になるように配合し、これをIX 3 X
15uの角棒に圧縮形成した。この角棒を3本、950
℃1(i時間大気中で加熱してのち、それぞれ1本づつ
を次の3通りの条件により室温まで冷却した。
uがに2:3になるように配合し、これをIX 3 X
15uの角棒に圧縮形成した。この角棒を3本、950
℃1(i時間大気中で加熱してのち、それぞれ1本づつ
を次の3通りの条件により室温まで冷却した。
イ 950’Cから730℃まで大気中で冷却し、73
0℃から酸素富化中でホットプレスにより約5%の圧縮
を加えながら600℃まで冷却し、600℃から室温ま
で大気中で冷却した。こ間の冷却速度は1”C/−in
とした。
0℃から酸素富化中でホットプレスにより約5%の圧縮
を加えながら600℃まで冷却し、600℃から室温ま
で大気中で冷却した。こ間の冷却速度は1”C/−in
とした。
ロ イと同様の条件で600℃まで冷却し、600℃か
ら700℃までロータリ一式真空ポンプで減圧しながら
加熱し、700’Cから酸素富化中で600℃まで冷却
し、600℃から室温まで大気中で冷却した。この間の
冷却速度または加熱速度は1℃/sinとした。
ら700℃までロータリ一式真空ポンプで減圧しながら
加熱し、700’Cから酸素富化中で600℃まで冷却
し、600℃から室温まで大気中で冷却した。この間の
冷却速度または加熱速度は1℃/sinとした。
ハ 比較のため、950℃から室温まで大気中で1’C
/麟inの速度で冷却した。
/麟inの速度で冷却した。
これらのサンプルについて4端子法により臨界電流密度
(Jc)と臨界温度(Tc)を測定した。
(Jc)と臨界温度(Tc)を測定した。
また室温での結晶構造をX線で測定し、更に結晶粒径を
顕微鏡により観察した。結果は第1表に示した。
顕微鏡により観察した。結果は第1表に示した。
第1表より明らかなように本発明品(イ、口)は比較品
(ハ)に較べて、超電導体となる斜方晶の占める割合が
高く、また結晶粒径も小さくなっており、この結果Jc
およびTcが高い値を示している。
(ハ)に較べて、超電導体となる斜方晶の占める割合が
高く、また結晶粒径も小さくなっており、この結果Jc
およびTcが高い値を示している。
実施例−2
LagOz 、BaCot 、CuOをLa:Ba:C
uが1.8:0.2 : 1になるように配合し、こ
れをI X 3 X15mの角棒に圧縮成形した。この
角棒を3本、1000℃3時間大気中で加熱してのち、
それぞれ1本づつを次の3通りの条件により室温まで冷
却した。
uが1.8:0.2 : 1になるように配合し、こ
れをI X 3 X15mの角棒に圧縮成形した。この
角棒を3本、1000℃3時間大気中で加熱してのち、
それぞれ1本づつを次の3通りの条件により室温まで冷
却した。
二 1000℃から610℃まで大気中で2℃/sin
の速度で冷却し、610“Cからロータリ一式真空ポン
プで減圧しながら500℃まで100″(/sinの速
度で冷却し、500℃から室温まで大気中で2℃/wi
nの速度で冷却した。
の速度で冷却し、610“Cからロータリ一式真空ポン
プで減圧しながら500℃まで100″(/sinの速
度で冷却し、500℃から室温まで大気中で2℃/wi
nの速度で冷却した。
ホ ニと同様の条件で500℃まで冷却したのち、so
o’cから610℃まで酸素富化中で2℃/sinの速
度で加熱し、610℃からロータリ一式真空ポンプで減
圧しなから500℃まで1℃/winの速度で冷却し、
500゛こから室温まで大気中で1’C/sinの速度
で冷却した。
o’cから610℃まで酸素富化中で2℃/sinの速
度で加熱し、610℃からロータリ一式真空ポンプで減
圧しなから500℃まで1℃/winの速度で冷却し、
500゛こから室温まで大気中で1’C/sinの速度
で冷却した。
へ 比較のため、1000℃から室温まで大気中で2℃
/ff1inの速度で冷却した。
/ff1inの速度で冷却した。
これらのサンプルについて実施例=1と同じ調査を行っ
た。結果は第2表に示した。
た。結果は第2表に示した。
第2表より明らかなように、本発明品(二、ホ)は比較
品(へ)にくらべて、正方晶の占める割合が高く、結晶
粒径が小さく、その結果J(Tcとも優れた特性を示し
ている。
品(へ)にくらべて、正方晶の占める割合が高く、結晶
粒径が小さく、その結果J(Tcとも優れた特性を示し
ている。
実施例−3
従来の方法で製造された超電導体に次の条件で高純化処
理を施した。
理を施した。
ト 実施例−1のハの条件で処理したサンプルについて
、これを950℃に加熱したあと130’Cまで大気中
で冷却し、730℃から酸素富化中でホットプレスによ
り約5%の圧縮を加えなから600”Cまで冷却し、6
00℃から室温まで大気中で冷却した。
、これを950℃に加熱したあと130’Cまで大気中
で冷却し、730℃から酸素富化中でホットプレスによ
り約5%の圧縮を加えなから600”Cまで冷却し、6
00℃から室温まで大気中で冷却した。
この間の冷却速度は1℃/sinとした。
チ 実施例−2のへの条件で処理したサンプルについて
、これを1000℃に加熱したあと610’Cまで大気
中で2℃/sinの速度で冷却し、610℃からロータ
リ一式真空ポンプで減圧しながら500“Cまで100
″C/sinの速度で冷却し、500℃から室温まで大
気中で2℃/鱈inの速度で冷却した。
、これを1000℃に加熱したあと610’Cまで大気
中で2℃/sinの速度で冷却し、610℃からロータ
リ一式真空ポンプで減圧しながら500“Cまで100
″C/sinの速度で冷却し、500℃から室温まで大
気中で2℃/鱈inの速度で冷却した。
これらのサンプルについて実施例−1と同じ調kを行っ
た。結果は第3表に示した。
た。結果は第3表に示した。
第3表から明らかなように、本発明品(ト、チ)は、比
較品(ハ、へ)に較べて超電導体となる結晶構造の占め
る割合が高く、その結果Jc、Tcとも優れた特性を示
している。
較品(ハ、へ)に較べて超電導体となる結晶構造の占め
る割合が高く、その結果Jc、Tcとも優れた特性を示
している。
口発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、超電導体となる結晶
構造の占める割合の高い高純度品が得られ且つ結晶粒の
粗大化が阻止されるので、臨界電流密度ならびにロー界
温度に優れたセラミックス超電導成形体が得られるもの
であり、工業上顕著な効果を奏する。
構造の占める割合の高い高純度品が得られ且つ結晶粒の
粗大化が阻止されるので、臨界電流密度ならびにロー界
温度に優れたセラミックス超電導成形体が得られるもの
であり、工業上顕著な効果を奏する。
Claims (4)
- (1)IIa族の元素、IIIa族の元素、銅および酸素か
らなるセラミックス超電導体に、該超電導体の正方晶と
斜方晶の変態温度の上下200℃の温度範囲で、正方晶
から斜方晶へ変態する際は、該超電導体に応力を負荷し
且つ雰囲気の酸素を富化する操作を施し、また斜方晶か
ら正方晶へ変態する際は、該超電導体の応力を緩和し且
つ雰囲気の酸素を低減する操作を施すことを特徴とする
セラミックス超電導体の高純化方法。 - (2)超電導体に応力を負荷し且つ雰囲気の酸素を富化
する操作と超電導体の応力を緩和し且つ雰囲気の酸素を
低減する操作を交互にくり返し施すことを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載のセラミックス超電導体の高純
化方法。 - (3)超電導体への応力負荷を一方向圧縮、静水圧また
は熱歪のうちの少なくとも1種により施すことを特徴と
する特許請求の範囲第1、2項のいずれかに記載のセラ
ミックス超電導体の高純化方法。 - (4)超電導体の応力緩和を減圧により施すことを特徴
とする特許請求の範囲第1、2項のいずれかに記載のセ
ラミックス超電導体の高純化方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62107747A JPS63274652A (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | セラミツクス超電導体の高純化方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62107747A JPS63274652A (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | セラミツクス超電導体の高純化方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63274652A true JPS63274652A (ja) | 1988-11-11 |
Family
ID=14466942
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62107747A Pending JPS63274652A (ja) | 1987-04-30 | 1987-04-30 | セラミツクス超電導体の高純化方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63274652A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6414148A (en) * | 1987-07-06 | 1989-01-18 | Fujikura Ltd | Production of oxide superconductor |
JPH01119579A (ja) * | 1987-10-30 | 1989-05-11 | Kobe Steel Ltd | 複合酸化物系超電導セラミックスの熱処理方法 |
US5747425A (en) * | 1993-08-03 | 1998-05-05 | Midwest Superconductivity Inc. | High Tc superconductor magnetic shields and method of making same |
EP1465264A1 (en) * | 2003-04-04 | 2004-10-06 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Manufacture of high critical temperature superconducting part using uniaxial pressure during oxygenation step |
-
1987
- 1987-04-30 JP JP62107747A patent/JPS63274652A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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