JPS6327448A - 高純度ビスフエノ−ルアルカリ金属二塩の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の属する分野） 本発明は、実質上無水で高純度のピアフェノールのアル
カリ金属二塩の均一溶液の製造方法に関する。更に詳し
くは、ビスフェノールのアルカリ金属−塊の存在量がα
２七〃％以下であるビスフェノールの７μカリ金属二塩
の無水均一溶液の製造方法に関する。

（従来技術とその問題点） ビスフェノールのアルカリ金属二塩ハ、ポリエステル、
ポリカーボネート、ポリスμホン、ポリエーテル、エポ
キシ樹脂等の製造原料として広く利用されている。ビス
フェノールのアルカリ金属二塩が重縮合系ポリマー原料
として用いられる場合には、ビスフェノールのアルカリ
金属二塩の純度は、出来る限り高いことが望ましい。特
に和尚するビスフェ。

ノールのアルカリ金属−塩は、分子量低下の原因となる
為、存在しないことが望ましい。

又、実質上無水状態でのビスフェノールのアルカリ金属
二塩の純度については、その分析が困難で、仕込みモル
比で代用している場合が多い。

（発明の目的） 本発明の目的は、実質上無水状態で、ビスフェノールの
アルカリ金属−塩の含量が極めて少ない高純度のビスフ
ェノールのアルカリ金属二塩を製造することである。

本発明者らは、かかる問題点を解決するべく、鋭意検討
したところ、驚くべきことに、ビスフェノールのアルカ
リ金属塩形成剤をビスフェノ−〃の水酸基に対して０．
１〜α８モル％過剰に用いることにより、実質上無水状
態で極度にビスフェノールのアルカリ金属−塊の少ない
、ビスフェノールのアルカリ金属二塩が得られることを
見い出し、本発明を完成するに至った。

（発明の概要） 即ち、本発明は、一般式（１） 式中、ｘバーｓｏ、−１−〇〇−１−０−１−Ｓ−１又
は炭素数Ｏ〜６のアルキレン基もしくはアルキリデン基
、あるいは炭素数５〜 １５のシクロアルキレン基又はシクロアルキリデン基の
いずれかの基を表わす。

Ｒ’、Ｒ’は、炭素数１〜３のアルキル基もしくはアル
コキシ基、又はＦ、ＣＩ、Ｂｒ　のハロゲン原子の中か
ら選ばれ、Ｒ“とＲ′は同一でも異なっていてもよい。

ｍとｎはＯ〜４の整数を表わす。

で表わされるビスフェノールトビスフエノールのアルカ
リ金属塩形成剤とを不活性有機極性溶剤中で反応させた
のち、系内の水を留去して、実質上無水の均一なビスフ
ェノールのアルカリ金属二塩溶液を製造する方法におい
て、ビスフェノールの水酸基に対して０．１〜α８モ）
ｖ％好ましくはα３〜α６モル％過剰のアルカリ金属塩
形成剤を使用し、ビスフェノールのアルカリ金属−塩が
α２モル％以下であることを特徴とするビスフェノール
のアルカリ金属二塩の製造方法である。

本発明において、用いられるビスフェノールとは、一般
式（Ｉ）で表わされる化合物なら特に制限はなく、例え
ば ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタンビス（３，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニ／Ｌ／）メタン ビス（３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシフェニル）
メタン ビス（ａ、Ｓ−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）メ
タン ２．４′−ジヒドロキシジフェニルメタンλ２−ビス（
４−ヒドロキシフェニ／Ｌ／　）プロパン ２．２−ビニｙ、　（ａ、　５−ジメチンｖ−４−ヒド
ロキシフェニ／Ｌ／）プロパン ２．２−ビス（３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン ２．２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン ４．４′−ジヒドロキシジフェニルスルホン４、４′−
ジヒドロキシベンゾフェノン４、４’−−ジヒドロキシ
ビフェニル ４、４′−ジヒドロキシジフェニルエーテルなどが掲げ
られる。

本発明において用いられる、ビスフェノールのアルカリ
金属塩形成剤とは、具体的には、リチウム、ナトリウム
、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランシウムの水
酸化物、マたはモノ硫化物もしくはジ硫化物、または次
酸塩でありこの内特に水−化カリウムが好ましい。

使用に際°しては、これらのビスフェノールのアルカリ
金属塩形成剤は、そのまま固体状態で用いても、水に溶
解させて水溶液として部用いても良い。

本発明において用いられる不活性有機画性溶剤は、原料
であるビスフェノール及びビスフェノールのアルカリ金
属塩形成剤そして生成するビスフェノールのアルカリ金
属二塩に対する溶解性が高く、更にこれらの化合物に対
して不活性であれば良い。たとえば、Ｎ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルヌルホキシト、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、Ｎ１Ｎ−ジメチルアセトアミド、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン、テトラメチレンス
ルホン、ピリジン、ピコリン類、ルチジン類などが掲げ
られる。この内も３ジメチ／ｌ／−２−イミダゾリジノ
ンが好ましい。

本発明で言うところの実質上無水状態とは、系中の水分
がα１９６未満好ましくは０．０５％未満でおることを
示す。この実質上無水状態の達成には、通常の脱水方法
が使用できる。

例えば、使用溶剤と水との沸点差を利用して、そのまま
蒸留によって水だけを除去してもよいし、水と共沸する
共沸溶剤、たとえばベンゼン、トルエン、キシレンなど
、を加ｔて共沸脱水したあと、共沸溶剤を留去してもよ
い。

本発明によって得られる実質上無水状態でのビスフェノ
ールのアルカリ金属二塩の均−溶Ｚ夜は、そのままポリ
エステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエー
テル、エポキシ樹脂等の製造原料として使用可能であシ
、また、相当するビスフェノール誘導体の製造原料とし
ても利用できる。

以下、本発明を実施例にて詳細に説明するが、これをも
って本発明を制限するものではない。

比較例　１ 窒素雰囲気下で、１ｅのＳＵＳのフラスコ中に、３０重
量％の水酸化カリウム水溶液７　４．　８　１　９　（
水酸化カリウムα４０００モノ’）ト４．４’ージヒド
ロキシジフェニルスルホン５　０．　０　６　９　（　
Ｑ．　２　０　Ｑ　Ｏモル）及び１、３−ジメチ）ｖ−
２−イミダゾリジノン３７α０９を入れ、室温で均一に
なるまで攪拌する。次に、２００℃まで昇温し、２０分
間攪拌する。この間に理論値の約９０％の水分が留出す
る。次に、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンが
留出するまで加温し、ｔ３−ジメチ／ｌ／−２−イミダ
ゾリジノン９０−を留出させる。これにより理論値の約
９８％以上の水分が留出され、実質上無水状態となる。

この反応液を１６０℃に冷却し、ＣＨ，Ｃｅガスを残存
アルカリがなくなるまで吹き込４、４’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンのモノメチルエーテル化物とジメチ
ルホルムｔｖ　化物．！：を分離し、モノメチルエーテ
ル（ヒ物の含量を調べた。その結果０．２２モル％のモ
ノメチルエーテル化物が存在していた。

ｉ１１チ、４．４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン
の−カリウム塩がα２２モル％存在していたことになる
。

実施例　１〜７ ３０重量％の水酸化カリウム水溶液の量を７４．８９　
ｇ、７４．９６９，７５．０４９．７５、１１９．７５
．１９９．７５．２６　ｇ、７５．４１　ｇ、（それぞ
れ、水酸化カリウム、０、　４　０　０　４　−Ｅ：　
　ｌ　　、　　０．　４　０　０　８　　モ　ｙし　、
　　α　４　。

１２モル、０，４０１６モ／Ｌ’、０．４０２０　モ）
ｖ　　、　　０．　４　０　２　４　　モ　／Ｌ／　　
、　　α　４　０　３　２　　モ　）ｖ　　、　　即ち
理論値に対して、０．１％、０．２％、α３％、０．４
％、ｏ、　ｓ％、α６％、０．８％、過剰となる。）に
変えた以外は、すべて比較例１と同様の条件にして行な
った。

第１表に実施例１〜７において存在した４、４’　−！
／ヒドロキシジフェニルネルホンと水酸化カリウムの仕
込量及び生成し７’（４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンの−カリウム塩の量を示した。

この結果よシ、４．４／−ジヒドロキシシフエニー　）
Ｌ／　７．　／Ｌ／　ホン（Ｄ　水酸基に対して０．１
モル％以上過剰の水酸化カリウムを用いれば、。

４．４７−シヒドロキシジ７−エニルヌｐホンの１カリ
ウム塩を０．２モル％以下にすることができるのがわか
る。

アルカリ金属−塊が、α２モル％以下である高純度のビ
スフェノールのアルカリ金属二塩を合成することができ
る。

比較例　２ ３０重量％の水酸化カリウム水溶液の量を７５．５６９
　（水酸化カリウム０．４０４０モル即ち理論値に対し
て１０％過剰となる）に変えた他はすべて比較例１と同
様の条件にて行なった。この場合反応器の冷却トラップ
にメタノールが検出されたため、この系では未反応の水
酸化カリウムが残存していたことになる。

従って水酸化カリウムの過剰量をα１〜（Ｌ８モｌＬ／
％にすることでビスフェノールのアルカリ金属−塊がα
２モル％以下である高純度ビスフェノールアルカリ金属
二塩を合成することが出来る。

（効　果） 本発明から得られる実質上無水状態でビスフェノールの
アルカリ金属−塩の含量が極めて少ない高純度のビスフ
ェノールのアルカリ金属二塩は、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、エポキシ樹
脂等の製造原料主に重縮合系ポリマー原料具体的にはポ
リスルホンの分子量の向上に特に有用である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｘは−ＳＯ＿２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、
   又は炭素数１〜６のアルキレンもしくはアルキリデン基
   、あるいは炭素数５〜１５のシクロアルキレン基又はシ
   クロアルキリデン基のいずれかの基を表わす。 ２、Ｒ＾１、Ｒ＾２は炭素数１〜３のアルキル基もしく
   はアルコキシ基、又はＦ、Ｃｌ、Ｂｒのハロゲン原子の
   中から選ばれ、Ｒ＾１とＲ＾２は同一でも異なっていて
   もよい。 ３、ｍとｎは０〜４の整数を表わす。 で表わされるビスフェノールと当該ビスフェノールのア
   ルカリ金属塩形成剤とを不活性有機極性溶剤中で反応さ
   せたのち、系内の水を留去して、実質上無水の均一なビ
   スフェノールのアルカリ金属二塩溶液を製造する方法に
   おいて、ビスフェノールの水酸基に対して ０．１〜０．８モル％過剰のアルカリ金属塩形成剤を使
   用し、ビスフェノールのアルカリ金属一塩が０．２モル
   ％以下であることを特徴とするビスフェノールのアルカ
   リ金属二塩の製造方法。 ４、Ｘが−ＳＯ＿２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−であ
   る特許請求の範囲第１項記載の製造方法。 ５、Ｒ＾１、Ｒ＾２が炭素数１〜３のアルキル基もしく
   はアルコキシ基である特許請求の範囲第１項記載の製造
   方法。 ６、ビスフェノールのアルカリ金属塩形成剤が水酸化カ
   リウムである特許請求の範囲第１項記載の製造方法。 ７、不活性有機極性溶剤が１、３−ジメチル−２−イミ
   ダゾリジノンである特許請求の範囲第１項記載の製造方
   法。 ８、ビスフェノールのアルカリ金属塩形成剤のビスフェ
   ノールの水酸基に対する過剰量が０．３〜０．６モル％
   である特許請求の範囲第１項記載の製造方法。