JPS63264440A - 2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸及びその製造法 - Google Patents
2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸及びその製造法Info
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- JPS63264440A JPS63264440A JP30331287A JP30331287A JPS63264440A JP S63264440 A JPS63264440 A JP S63264440A JP 30331287 A JP30331287 A JP 30331287A JP 30331287 A JP30331287 A JP 30331287A JP S63264440 A JPS63264440 A JP S63264440A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、新規物質2,4.5−トリフルオロ−3−ヒ
ドロキシ安息香酸及びその製造法に関し、更に詳しくは
、キノロンカルボン酸系抗菌剤の合成中間体として有用
な2 、4 、5−1−リフルオロ−3−ヒドロキシ安
、C1香酸及びその製造法に関するものである。
ドロキシ安息香酸及びその製造法に関し、更に詳しくは
、キノロンカルボン酸系抗菌剤の合成中間体として有用
な2 、4 、5−1−リフルオロ−3−ヒドロキシ安
、C1香酸及びその製造法に関するものである。
(従来の技術及びその問題点)
従来、合成抗菌剤としては、
次式:
で示されるナリジクス酸、
次式:
で示されるピペミド酩。
次式:
で示されるピロミド酸及び
次式:
で示されるノルフロキサシン等が開発され、各種感染症
の治療に供されている。
の治療に供されている。
更に、前記抗菌剤の種々の特性を改良するものとして、
8位に酸素原子を有するキノロンカルボン酸系抗、菌剤
が開発されている(例えば、特公昭61−11955号
)。
8位に酸素原子を有するキノロンカルボン酸系抗、菌剤
が開発されている(例えば、特公昭61−11955号
)。
しかしながら、8位に酸素原子を有するキノロンカルボ
ン酸誘導体の合成には、多工程を要し、製造工程の短縮
が望まれている。
ン酸誘導体の合成には、多工程を要し、製造工程の短縮
が望まれている。
次式(I):
OH
で示される2、4.5−)リフルオロ−3−ヒドロキシ
安息香酸は、前記キノロンカルボン酸誘導体の合成中間
体として有用と考えられる。
安息香酸は、前記キノロンカルボン酸誘導体の合成中間
体として有用と考えられる。
しかしながら、2,3,4.5−テトテフルオロ安息香
酸にRO’″又はOH−等の求核試剤を反応させても、
カルボキシル基のメタ位への求核反応は起こらず、すべ
てパラ位又はオルト位に選択的に反応し、2,4.5−
)リフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸を得ることはで
きない、また、他の方法によっても、2,4.5−)リ
フルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸は得られていない。
酸にRO’″又はOH−等の求核試剤を反応させても、
カルボキシル基のメタ位への求核反応は起こらず、すべ
てパラ位又はオルト位に選択的に反応し、2,4.5−
)リフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸を得ることはで
きない、また、他の方法によっても、2,4.5−)リ
フルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸は得られていない。
[発明の構成]
(問題点を解決するための手段及び作用)本発明は、新
規化合物2,4.5−)リフルオロ−3−ヒドロキシ安
息香酸及びその塩並びにそれらの製造法に関するもので
ある。
規化合物2,4.5−)リフルオロ−3−ヒドロキシ安
息香酸及びその塩並びにそれらの製造法に関するもので
ある。
本発明の化合物は1例えば、次のようにして製造するこ
とができる。
とができる。
即ち1次式(It):
OOH
R
(式中、Rは水素原子又は加水分解により水酸基を形成
しうる有機基を表す、) で示される化合物を水又は水性溶媒中において、80〜
230℃で自然発生圧力下に処理することにより目的化
合物を得ることができる。
しうる有機基を表す、) で示される化合物を水又は水性溶媒中において、80〜
230℃で自然発生圧力下に処理することにより目的化
合物を得ることができる。
前記反応において、原料化合物(II )のRが有機基
である場合、本反応は3,5.6−)リフルオロ−4−
ヒドロキシフタル酸を経由し、その後、水酸基のパラ位
のカルボキシル基のみが選択的に脱炭酸し、目的化合物
(I)を与える。従って、前記式(H)におけるRとし
ての有機基は、加水分解により水酸基を形成するもので
あれば如何なるものでもよいが、特に、炭素数1〜6の
アルキル基、炭素数7〜lOのアラルキル基、炭素数5
〜10のシクロアルキル基又は炭素数1〜10のアシル
基であることが好まLい。
である場合、本反応は3,5.6−)リフルオロ−4−
ヒドロキシフタル酸を経由し、その後、水酸基のパラ位
のカルボキシル基のみが選択的に脱炭酸し、目的化合物
(I)を与える。従って、前記式(H)におけるRとし
ての有機基は、加水分解により水酸基を形成するもので
あれば如何なるものでもよいが、特に、炭素数1〜6の
アルキル基、炭素数7〜lOのアラルキル基、炭素数5
〜10のシクロアルキル基又は炭素数1〜10のアシル
基であることが好まLい。
前記炭素数1〜6のアルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、 5ee−ブチル基、tert−ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、 5ee−ブチル基、tert−ブ
チル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。
前記炭素数7〜10のアラルキル基としては、例えば、
ベンジル基、p−クロロフェニルメチル基等が挙げられ
る。
ベンジル基、p−クロロフェニルメチル基等が挙げられ
る。
前記炭素数5〜10のシクロアルキル基としては1例え
ば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ
る。
ば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられ
る。
前記炭素数1−10のアシル基としては、ホルミル基、
アセチル基、ベンゾイル基、プロピオニル基、ブチニル
基等が挙げられる。
アセチル基、ベンゾイル基、プロピオニル基、ブチニル
基等が挙げられる。
原料化合物(II )の具体例としては、例えば、3.
5.6−1リフルオロ−4−ヒドロキシフタル酸、3,
5.6−1リフルオロ−4−エトキシフタル酸、3,5
.6−1リフルオロ−4−エトキシフタル酸、3,5.
6−1リフルオロ−4−プロポキシフタル酸、3,5.
6−)リフルオロ−4−ブトキシフタル酸、3,5.6
−1リフルオロ−4−ベンジルオキシフタル酸、3,5
.ロートリフルオロ−4−アセトキシフタル酸、3゜5
.6−ドリフルオロー4−ベンゾイルオキシフタル酸等
が挙げられる。
5.6−1リフルオロ−4−ヒドロキシフタル酸、3,
5.6−1リフルオロ−4−エトキシフタル酸、3,5
.6−1リフルオロ−4−エトキシフタル酸、3,5.
6−1リフルオロ−4−プロポキシフタル酸、3,5.
6−)リフルオロ−4−ブトキシフタル酸、3,5.6
−1リフルオロ−4−ベンジルオキシフタル酸、3,5
.ロートリフルオロ−4−アセトキシフタル酸、3゜5
.6−ドリフルオロー4−ベンゾイルオキシフタル酸等
が挙げられる。
かかる原料化合物(rI)の合成法は、例えば、石川能
9日本化学会誌200頁(1976年)に記載されてい
る。
9日本化学会誌200頁(1976年)に記載されてい
る。
本発明の製造法において、溶媒の量は、原料化合物(I
I )に対して3〜lOO重量倍の範囲内であることが
好ましい。水性溶媒としては水及び水と任意の割合で溶
解し、酸性条件下において反応しない溶媒との混合物が
使用できる。水性溶媒の具体例としてはメタノール、エ
タノール等のアルコール類、ジオキサン等のエーテル類
と水との混合物が挙げられる。水の含有量は10%以上
が好ましい0反応は80〜230℃の範囲内で自然発生
圧力下に行うが、反応温度が100〜190 ’C!の
範囲内であることが更に好ましい。反応時間は反応温度
に依存するが、通常、0.5〜20時間で完結する。本
反応は、不活性ガス、例えば、窒素、アルゴンの存在下
で行ってもよい。
I )に対して3〜lOO重量倍の範囲内であることが
好ましい。水性溶媒としては水及び水と任意の割合で溶
解し、酸性条件下において反応しない溶媒との混合物が
使用できる。水性溶媒の具体例としてはメタノール、エ
タノール等のアルコール類、ジオキサン等のエーテル類
と水との混合物が挙げられる。水の含有量は10%以上
が好ましい0反応は80〜230℃の範囲内で自然発生
圧力下に行うが、反応温度が100〜190 ’C!の
範囲内であることが更に好ましい。反応時間は反応温度
に依存するが、通常、0.5〜20時間で完結する。本
反応は、不活性ガス、例えば、窒素、アルゴンの存在下
で行ってもよい。
反応生成物は、冷却後、反応混合物を’aEiすると結
晶又は粉末として析出するので、濾過等通常の方法で単
離可能である。
晶又は粉末として析出するので、濾過等通常の方法で単
離可能である。
(実施例)
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが本発明
はこれらに限定されるものではない。
はこれらに限定されるものではない。
実施例1
3.5.6−)リフルオロ−4−ヒドロキシフタル酸
0.47g及び水10−を封管中にいれ、窒素置換して
140℃で3時間加熱した。
0.47g及び水10−を封管中にいれ、窒素置換して
140℃で3時間加熱した。
反応終了後、室温まで冷却し、濃縮すると結晶が析出し
た。その結晶をろ過し、洗浄(クロロホルム5−)後、
乾燥した。無色の結晶として2.4.5−)リフルオロ
−3−ヒドロキシ安息香酸0.35gを得た。収率90
%。融点144〜146℃。プロトンNMRスペクトル
(inCD30D) δppm 7.25 (m、
IH,3JHF10 、74Hz、 ’JHF 8
、30Hz、 ’JHF5.86Hz)芳香族プロトン
、4.94(bs。
た。その結晶をろ過し、洗浄(クロロホルム5−)後、
乾燥した。無色の結晶として2.4.5−)リフルオロ
−3−ヒドロキシ安息香酸0.35gを得た。収率90
%。融点144〜146℃。プロトンNMRスペクトル
(inCD30D) δppm 7.25 (m、
IH,3JHF10 、74Hz、 ’JHF 8
、30Hz、 ’JHF5.86Hz)芳香族プロトン
、4.94(bs。
IH) ヒドロキシプロトン。質量分析 M十192゜
実施例2
3.5.6−1リフルオロ−4−メトキシフタルM
O,84g及び水Low/を封管中にいれ、窒素置換し
て190℃で8時間加熱した。反応終了後、室温まで冷
却し、濃縮すると結晶が析出した。その結晶をろ過し、
洗浄(クロロホルム5−)後、乾燥した。無色の結晶と
して2゜4.5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香
酸 0.48gを得た。収率74%。融点144〜14
6℃。プロトンNMRスペクトル(inCD30D)δ
ppm 7.25 (m、 LH,3JHF10 、7
4Hz、 ’JHF 8 、30Hz、 ’JH
F5.86Hz)芳香族プロトン、4.94(bs。
O,84g及び水Low/を封管中にいれ、窒素置換し
て190℃で8時間加熱した。反応終了後、室温まで冷
却し、濃縮すると結晶が析出した。その結晶をろ過し、
洗浄(クロロホルム5−)後、乾燥した。無色の結晶と
して2゜4.5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香
酸 0.48gを得た。収率74%。融点144〜14
6℃。プロトンNMRスペクトル(inCD30D)δ
ppm 7.25 (m、 LH,3JHF10 、7
4Hz、 ’JHF 8 、30Hz、 ’JH
F5.86Hz)芳香族プロトン、4.94(bs。
LH)ヒドロキシプロトン。質−)分析 M+192゜
参考例
2.4.5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸(
I)を出発原料として、抗菌剤オフロキサシン(m)(
9−フルオロ−3−メチル−10−(4−メチル−1−
ピペラジニル)−7−オキソ−2,3−ジピドロー7H
−ピリド[1゜2.3−del [1,4]ベンゾオ
キサジン−ローカルポン酸)を合成する際の重要な中間
体である9、10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1゜2.3−d
el [1,4]ベンゾオキサジン−ローカルポン酸
エチル(n7)を下記の反応式に従って合成した。
I)を出発原料として、抗菌剤オフロキサシン(m)(
9−フルオロ−3−メチル−10−(4−メチル−1−
ピペラジニル)−7−オキソ−2,3−ジピドロー7H
−ピリド[1゜2.3−del [1,4]ベンゾオ
キサジン−ローカルポン酸)を合成する際の重要な中間
体である9、10−ジフルオロ−3−メチル−7−オキ
ソ−2,3−ジヒドロ−7H−ピリド[1゜2.3−d
el [1,4]ベンゾオキサジン−ローカルポン酸
エチル(n7)を下記の反応式に従って合成した。
〇−
工程1
2,4.5−)リフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸(
I)12.6g (0,066モル)に無水酢酸40d
を添加し、155時間加熱還流た。
I)12.6g (0,066モル)に無水酢酸40d
を添加し、155時間加熱還流た。
反応混合物を氷水中に注加後、クロロホルムで抽出し、
クロロホルム層を水洗し、乾燥した後、減圧濃縮し、残
渣をn−ヘキサンで洗浄することにより、3−アセトキ
シ−2,、4、5−)リフルオロ安息香酸(V)6.1
0gを無色粉末として得た。
クロロホルム層を水洗し、乾燥した後、減圧濃縮し、残
渣をn−ヘキサンで洗浄することにより、3−アセトキ
シ−2,、4、5−)リフルオロ安息香酸(V)6.1
0gを無色粉末として得た。
質量分析(CI): m/e 235 (M÷+1)
。
。
2 1 7 (M” −0H) 。
175 (M”−CH3COO)
工程2〜6
3−アセトキシ−2,4,5−)リフルオロ安息香酸(
V)6 、Log (0,026モル)をベンゼン20
0−に溶解し、塩化チオニル15−を加えて4時間加熱
還流した。反応後、ベンゼン及び過剰の塩化チオニルを
完全に減圧留去し、3−アセドキシー2,4.5−1リ
フルオロ安息香酸クロリド(VI)を得た。
V)6 、Log (0,026モル)をベンゼン20
0−に溶解し、塩化チオニル15−を加えて4時間加熱
還流した。反応後、ベンゼン及び過剰の塩化チオニルを
完全に減圧留去し、3−アセドキシー2,4.5−1リ
フルオロ安息香酸クロリド(VI)を得た。
一方、マグネシウムエトキシI”3.17g(0,02
8モル)及びマロン酸ジエチル4.30g (0,02
7モル)を無水ジエチルエーテル100−中で3時間加
熱還流することによって、エトキシマグネシウムマロン
酸ジエチルのジエチルエーテル懸濁液を得た。これに、
攪拌下室温で前記酸クロリドの無水ジエチルエーテル5
〇−溶液を滴下し、滴下終了後、更に室温で1時間攪拌
した。反応終了後、IN塩酸を加えて酸性として酢酸エ
チルで抽出し、有機層を水洗し、乾燥した後、溶媒を減
圧留去し、3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロ
ベンゾイルマロン酸ジエチル(■)10.39gを黄色
油状物として得た。
8モル)及びマロン酸ジエチル4.30g (0,02
7モル)を無水ジエチルエーテル100−中で3時間加
熱還流することによって、エトキシマグネシウムマロン
酸ジエチルのジエチルエーテル懸濁液を得た。これに、
攪拌下室温で前記酸クロリドの無水ジエチルエーテル5
〇−溶液を滴下し、滴下終了後、更に室温で1時間攪拌
した。反応終了後、IN塩酸を加えて酸性として酢酸エ
チルで抽出し、有機層を水洗し、乾燥した後、溶媒を減
圧留去し、3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロ
ベンゾイルマロン酸ジエチル(■)10.39gを黄色
油状物として得た。
次いで、この黄色油状物をジオキサン120./に溶解
し、p−トルエンスルホン酸・−水和物4.90g(0
,026モル)を添加し、15時間加熱還流した0反応
終了後、ジオキサンを減圧留去し、残渣に水100−及
び炭酸水素ナトリウム2.15g (0,026モル)
を加え、この混合物をクロロホルムで抽出した。クロロ
ホルム層を水洗し、乾燥した後、減圧留去し、3−アセ
トキシ−2,4,5−1リフルオロベンゾイル酢酸エチ
ル(■)7.64gを赤色油状物として得た。
し、p−トルエンスルホン酸・−水和物4.90g(0
,026モル)を添加し、15時間加熱還流した0反応
終了後、ジオキサンを減圧留去し、残渣に水100−及
び炭酸水素ナトリウム2.15g (0,026モル)
を加え、この混合物をクロロホルムで抽出した。クロロ
ホルム層を水洗し、乾燥した後、減圧留去し、3−アセ
トキシ−2,4,5−1リフルオロベンゾイル酢酸エチ
ル(■)7.64gを赤色油状物として得た。
このようにして得た3−7セトキシー2,4゜5−トリ
フルオロベンゾイル酢酸エチル(■)7.64g (0
,025モル)に無水酢酸20+、J及びオルトギ酸エ
チル6−を添加し、2時間加熱還流後、減圧濃縮した。
フルオロベンゾイル酢酸エチル(■)7.64g (0
,025モル)に無水酢酸20+、J及びオルトギ酸エ
チル6−を添加し、2時間加熱還流後、減圧濃縮した。
残渣をジクロロメタン50−に溶解し、DL−2−アミ
ノプロパツール1.91g (0,026モル)を添加
して室温で一夜放置した。ジクロロメタンを減圧留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:
トルエンー酢酸エチルの1 : tc合液)に付し、2
−(3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロヘンジ
イル)−3−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)ア
ミンアクリル酸エチル(X)4.37gを微黄色油状物
として得た。
ノプロパツール1.91g (0,026モル)を添加
して室温で一夜放置した。ジクロロメタンを減圧留去し
、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶媒:
トルエンー酢酸エチルの1 : tc合液)に付し、2
−(3−アセトキシ−2,4,5−トリフルオロヘンジ
イル)−3−(2−ヒドロキシ−1−メチルエチル)ア
ミンアクリル酸エチル(X)4.37gを微黄色油状物
として得た。
質量分析:m/e 389 (M”)。
358 (M” −CH20H) 。
43 (+COCH3)
工程7
前述のようにして得た2−(3−アセトキシ−2,4,
5−1リフルオロベンゾイル)−3−(2−ヒドロキシ
−1−メチルエチル)アミンアクリル酸エチル(X)4
.30g (0,011モル)をジメチルホルムアミド
30.、/に溶解し、フッ化カリウム1.92g (0
,033モル)を添加し、140−150’0で2時間
攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣に水を
加えてジクロロメタンで抽出し、有機層を水洗し、乾(
:ψした後、減圧濃縮した。
5−1リフルオロベンゾイル)−3−(2−ヒドロキシ
−1−メチルエチル)アミンアクリル酸エチル(X)4
.30g (0,011モル)をジメチルホルムアミド
30.、/に溶解し、フッ化カリウム1.92g (0
,033モル)を添加し、140−150’0で2時間
攪拌した。反応終了後、溶媒を減圧留去し、残渣に水を
加えてジクロロメタンで抽出し、有機層を水洗し、乾(
:ψした後、減圧濃縮した。
次いで、残留物をエタノールで洗浄し、得られた粗結晶
をアセトンから再結晶して9.10−ジフルオロ−3−
メチル−7−オキソ−2,3−ジヒド0−7H−ピリド
[1、2、3−de][1、4]ベンツ゛オキサジン−
6−カルボン酸エチル(rV)1.40gを微褐色微1
@針状結晶として得た。
をアセトンから再結晶して9.10−ジフルオロ−3−
メチル−7−オキソ−2,3−ジヒド0−7H−ピリド
[1、2、3−de][1、4]ベンツ゛オキサジン−
6−カルボン酸エチル(rV)1.40gを微褐色微1
@針状結晶として得た。
融点=255〜256℃
元素分析値(%):CtsH13F2 NOaとしてC
HN 理論値 58.25 4.24 4.53測定値
58.09 4.14 4.24[発明の効果] 本発明によれば、抗菌剤として有用なキノロンカルボン
酸誘導体の合成中間体として有用な新規化合物2.4.
5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸を提供でき
、該化合物を用いることにより、前記キノロンカルボン
酸誘導体の製造工程を大幅に短縮できる。
HN 理論値 58.25 4.24 4.53測定値
58.09 4.14 4.24[発明の効果] 本発明によれば、抗菌剤として有用なキノロンカルボン
酸誘導体の合成中間体として有用な新規化合物2.4.
5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸を提供でき
、該化合物を用いることにより、前記キノロンカルボン
酸誘導体の製造工程を大幅に短縮できる。
Claims (3)
- (1)次式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示される2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ
安息香酸及びその塩。 - (2)次式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、Rは水素原子又は加水分解により水酸基を形成
しうる有機基を表す。) で示される化合物を水又は水性溶媒中において、80〜
230℃で自然発生圧力下に処理することを特徴とする
次式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示される2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ
安息香酸又はその塩の製造法。 - (3)前記式(II)において、Rによって表される加水
分解により水酸基を形成しうる有機基が炭素数1〜6の
アルキル基、炭素数7〜10のアラルキル基、炭素数5
〜10のシクロアルキル基又は炭素数1〜10のアシル
基である特許請求の範囲第2項記載の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62303312A JPH0778033B2 (ja) | 1986-12-04 | 1987-12-02 | 2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61-287763 | 1986-12-04 | ||
JP28776386 | 1986-12-04 | ||
JP62303312A JPH0778033B2 (ja) | 1986-12-04 | 1987-12-02 | 2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63264440A true JPS63264440A (ja) | 1988-11-01 |
JPH0778033B2 JPH0778033B2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=26556868
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62303312A Expired - Lifetime JPH0778033B2 (ja) | 1986-12-04 | 1987-12-02 | 2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0778033B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS646235A (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-10 | Nippon Catalytic Chem Ind | 3-hydroxy-2,4,5-trifluorobenzoic acid |
JPH03279348A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-10 | Kyorin Pharmaceut Co Ltd | 2,4,5―トリフルオロ―3―アルコキシ安息香酸の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6185349A (ja) * | 1984-10-04 | 1986-04-30 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 2,3,4,5−テトラフルオロ安息香酸の製法 |
JPS62175485A (ja) * | 1985-12-23 | 1987-08-01 | アボツト ラボラトリ−ズ | イソキサゾロ−ピリド−ベンゾキサジンおよびイソチアゾロ−ピリド−ベンゾキサジン誘導体 |
JPS62252772A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-11-04 | Kyorin Pharmaceut Co Ltd | 選択毒性に優れた8−アルコキシキノロンカルボン酸およびその塩並びにその製造方法 |
-
1987
- 1987-12-02 JP JP62303312A patent/JPH0778033B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6185349A (ja) * | 1984-10-04 | 1986-04-30 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | 2,3,4,5−テトラフルオロ安息香酸の製法 |
JPS62175485A (ja) * | 1985-12-23 | 1987-08-01 | アボツト ラボラトリ−ズ | イソキサゾロ−ピリド−ベンゾキサジンおよびイソチアゾロ−ピリド−ベンゾキサジン誘導体 |
JPS62252772A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-11-04 | Kyorin Pharmaceut Co Ltd | 選択毒性に優れた8−アルコキシキノロンカルボン酸およびその塩並びにその製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS646235A (en) * | 1987-06-29 | 1989-01-10 | Nippon Catalytic Chem Ind | 3-hydroxy-2,4,5-trifluorobenzoic acid |
JPH03279348A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-10 | Kyorin Pharmaceut Co Ltd | 2,4,5―トリフルオロ―3―アルコキシ安息香酸の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0778033B2 (ja) | 1995-08-23 |
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