JPH0240066B2 - - Google Patents
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- Quinoline Compounds (AREA)
Description
本発明はキノリン―3―カルボン酸誘導体の製
造法に関する。更に詳しくは、本発明は式 (式中、R1は低級アルキル基を、X1及びX2は同
じ又は異なるハロゲン原子を意味する。)で表わ
される化合物を式 (式中、R2は水素原子又は低級アルキル基を意
味する。)で表わされる化合物と反応させて式 (式中、R1,R2及びX1は前記に同じである。)で
表わされる化合物を製する方法に関する。 化合物()は医療上有用な抗菌物質として知
られており(特開昭53−141286号及び特開昭54−
138582号公報参照)、その製造法としては前記公
報及び特開昭57−62259号公報に記載されている
製造法がある。 しかし、これらの製造法を用いた場合、ピペラ
ジン類()がキノリン誘導体の6位に置換した
式 (式中、R1,R2及びX2は前記に同じであり、R3
は水素原子又は低級アルキル基を意味する。)で
表わされる化合物が少なからず副生するという欠
点がある。 前記特開昭57−62259号公報には化合物()
のような副生物は全く見られないとの記載がある
が、本発明者らが本公報記載の製造法を追試した
ところ、得られた生成物中には約25%の副生物
()が存在することが判明した。 本発明者らは従来法のかかる欠点を克服すべく
鋭意検討した結果、本発明を完成した。 即ち、本発明は化合物()をピペラジン類
()と反応させることからなる化合物()の
製造法である。 原料として用いられる化合物()は次の方法
により製造される。 (式中、X1,X2及びX1は前記に同じであり、R4
は水素原子又は低級アルキル基を意味する。) 即ち、化合物()に三フツ化ホウ素、三フツ
化ホウ素錯体又はホウフツ化水素酸を反応させる
ことにより原料化合物()を得ることができ
る。 三フツ化ホウ素錯体としては各種のものが使用
可能であるが、三フツ化ホウ素のテトラヒドロフ
ラン錯体及びジエチルエーテル錯体などが具体例
としてあげられる。またホウフツ化水素酸は通常
水溶液として使用される。 三フツ化ホウ素、三フツ化ホウ素錯体又はホウ
フツ化水素酸の使用量は化合物()1モルに対
し11モル以上存在すれば良いが通常1〜50モルの
範囲が使用される。 溶媒としてはアセトンなどのケトン系のもの、
ジエチルエーテルなどのエーテル系のもの、ベン
ゼン又はトルエン等各種のものが使用でき、また
三フツ化ホウ素錯体もしくはホウフツ化水素酸を
溶媒と兼ねさせても良い。溶媒の使用量は通常化
合物()1部に対し2〜50部の範囲が好適であ
る。 反応温度は室温でもよいが、反応時間の短縮と
いうことから更に高温でもよく、通常室温〜150
℃の温度範囲が好適である。 生成した化合物()は反応液を冷却すれば結
晶として析出するので、これを濾取することによ
り容易に得ることができる。 このようにして得られた原料化合物()を用
いて本発明方法を行うには、化合物()に対し
一乃至数倍モルの化合物()を無溶媒で又は溶
媒中、脱酸剤の存在下反応させればよい。 脱酸剤は、副生するハロゲン水素及びBF2―キ
レート分解物の除去に使用され、その具体例とし
てはトリエチルアミン、トリブチルアミンもしく
はピリジンの如き有機三級アミン又は炭酸カリウ
ムの如き無機塩基があげられるが、過剰の化合物
()が脱酸剤として働くこともある。脱酸剤の
使用量は化合物()1モルに対し通常1〜3モ
ルが好ましい。 また、この反応ではBF2―キレート部分がカル
ボキシル基となるためにブロトンが必要とされる
が、これは過剰の原料又は混在する微量の水分等
により供給されることが考えられる。 溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミドもしくはジメチルアセトアミド等
の非プロトン性極性溶媒、アセトンもしくはメチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジエチルエー
テルもしくはジオキサン等のエーテル系溶媒、酢
酸エチル等のエステル系溶媒又はメタノールもし
くはエタノール等のアルコール系溶媒等が使用で
きる。溶媒の使用量は化合物()1部に対し2
〜30部(重量比)の範囲で使用される。 反応は室温〜200℃の範囲で2〜10時間行なえ
ばよい。 尚、該反応においては溶媒の種類を選択し、脱
酸剤の使用量、反応温度及び反応時間等を調節す
ることにより、ピペラジン類()の置換反応の
段階で反応を止め、式 (式中、R1,R2及びX1は前記に同じである。)で
表わされる中間体を得ることも可能である。例え
ば、ジメチルスルホキシド中室温で反応を行なつ
た場合、中間体()が収率よく得られる。 中間体()は、反応液を冷却するか、反応液
に水等の難溶性の溶媒を加えることにより析出す
るので、これを濾取することにより容易に単離で
きる。 中間体()は単離してもよいが、単離せずに
次のキレート分解反応を行なつても良い。 中間体()より目的化合物()を得るに
は、中間体()を脱酸剤の存在下無溶媒もしく
は溶媒中プロトン性の化合物と処理すればよい。 プロトン性化合物としては水、アルコール類、
チオール類、一級アミン類、二級アミン類又は無
機水酸化物等が使用される。 脱酸剤としては水酸化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウムもしくは炭酸水素ナトリウム等の無機塩基又
は一級アミン、二級アミンもしくは三級アミン等
の有機塩基があげられ、中間体()に対し等モ
ル以上使用される。 溶媒としては非プロトン性極性溶媒、ケトン系
溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒又はエ
ーテル系溶媒等があげられるが特にアルコール系
溶媒、エステル系溶媒又はエーテル系溶媒が好ま
しい。 反応は、室温〜150℃までの範囲で行なえばよ
い。 生成した化合物()は、反応液を中和するか
又は冷却すれば結晶として析出するので、これを
濾取することにより容易に得ることができる。 以上のように本発明方法により選択的、高収
率、高純度及び能率よく、医療上有用な抗菌剤で
ある化合物()を得ることができ、本発明は工
業的に有利な製造法である。 次に参考例及び実施例を説明する。 参考例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸エチルエステル2.93g及びホウフツ化水素酸
42%水溶液15mlの混液を80〜90℃で3時間加熱す
る。冷後析出晶を濾取し、水及びメタノールで洗
浄し、7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―
4―オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カ
ルボン酸―BF2―キレート3.10g(収率99%)を
えた。融点300℃以上。 元素分析値 C12H8NO3BClF3として 計算値 C 45.40,H 2.54,N 4.41 実測値 C 45.21,H 2.61,N 4.42 1H―NMR(DMSO―d6,IS:TMS)δ(ppm) 1.49(3H,t,―CH3―) 4.95(2H,q,―CH2―) 8.53(1H,d,J―10Hz,5位=CH―) 8.88(1H,d,J=6Hz,8位=CH―) 9.64(1H,s,2位=CH―) Mas:317(M+) 参考例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸エチルエステル5.35g、三フツ化ホウ素テト
ラヒドロフラン錯体12.7g及びダウサム21mlの混
液を120〜130℃で2時間加熱する。冷後、析出晶
を濾取し、クロロホルム及びメタノールで洗浄
し、7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4
―オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カル
ボン酸―BF2―キレート4.67g(収率82%)をえ
た。融点300℃以上。 参考例 3 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸4.30g及びホウフツ化水素酸42%水溶液21ml
の混液を80〜90℃で2時間加熱する。冷後、析出
晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄し、7―ク
ロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オキソ―
1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸―
BF2―キレート5.10g(収率100%)をえた。融
点300℃以上。 参考例 4 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸1.66g及び三フツ化ホウ素テトラヒドロフラ
ン錯体17mlの混液を80〜90℃で8時間加熱する。
冷後、析出晶を濾取し、クロロホルムで洗浄し、
7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オ
キソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン
酸―BF2―キレート1.68g(収率86%)をえた。
融点300℃以上。 実施例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート1.000g、無水ピペラジン
0.814g及びジメチルスルホキシド5mlの混液を
室温下6時間撹拌する。反応液はいつたん溶液と
なるが1時間程経過すると結晶が析出する。反応
後、冷水5mlを加え結晶を濾取し、水洗し、90℃
で5時間減圧乾燥し、1―エチル―6―フルオロ
―4―オキソ―7―(1―ピペラジニル)―1,
4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸―BF2―
キレート1.113g(収率96%)をえた。融点253〜
255℃。 元素分析値 C16H17N3O3BF3として 計算値 C 52.34,H 4.67,N 11.45 実測値 C 52.46,H 4.56,N 11.32 1H―NMR(DMSO―d6,IS:TMS)δ
(ppm): 1.49(3H,t,―CH3) 3.3〜3.4(8H,m,
造法に関する。更に詳しくは、本発明は式 (式中、R1は低級アルキル基を、X1及びX2は同
じ又は異なるハロゲン原子を意味する。)で表わ
される化合物を式 (式中、R2は水素原子又は低級アルキル基を意
味する。)で表わされる化合物と反応させて式 (式中、R1,R2及びX1は前記に同じである。)で
表わされる化合物を製する方法に関する。 化合物()は医療上有用な抗菌物質として知
られており(特開昭53−141286号及び特開昭54−
138582号公報参照)、その製造法としては前記公
報及び特開昭57−62259号公報に記載されている
製造法がある。 しかし、これらの製造法を用いた場合、ピペラ
ジン類()がキノリン誘導体の6位に置換した
式 (式中、R1,R2及びX2は前記に同じであり、R3
は水素原子又は低級アルキル基を意味する。)で
表わされる化合物が少なからず副生するという欠
点がある。 前記特開昭57−62259号公報には化合物()
のような副生物は全く見られないとの記載がある
が、本発明者らが本公報記載の製造法を追試した
ところ、得られた生成物中には約25%の副生物
()が存在することが判明した。 本発明者らは従来法のかかる欠点を克服すべく
鋭意検討した結果、本発明を完成した。 即ち、本発明は化合物()をピペラジン類
()と反応させることからなる化合物()の
製造法である。 原料として用いられる化合物()は次の方法
により製造される。 (式中、X1,X2及びX1は前記に同じであり、R4
は水素原子又は低級アルキル基を意味する。) 即ち、化合物()に三フツ化ホウ素、三フツ
化ホウ素錯体又はホウフツ化水素酸を反応させる
ことにより原料化合物()を得ることができ
る。 三フツ化ホウ素錯体としては各種のものが使用
可能であるが、三フツ化ホウ素のテトラヒドロフ
ラン錯体及びジエチルエーテル錯体などが具体例
としてあげられる。またホウフツ化水素酸は通常
水溶液として使用される。 三フツ化ホウ素、三フツ化ホウ素錯体又はホウ
フツ化水素酸の使用量は化合物()1モルに対
し11モル以上存在すれば良いが通常1〜50モルの
範囲が使用される。 溶媒としてはアセトンなどのケトン系のもの、
ジエチルエーテルなどのエーテル系のもの、ベン
ゼン又はトルエン等各種のものが使用でき、また
三フツ化ホウ素錯体もしくはホウフツ化水素酸を
溶媒と兼ねさせても良い。溶媒の使用量は通常化
合物()1部に対し2〜50部の範囲が好適であ
る。 反応温度は室温でもよいが、反応時間の短縮と
いうことから更に高温でもよく、通常室温〜150
℃の温度範囲が好適である。 生成した化合物()は反応液を冷却すれば結
晶として析出するので、これを濾取することによ
り容易に得ることができる。 このようにして得られた原料化合物()を用
いて本発明方法を行うには、化合物()に対し
一乃至数倍モルの化合物()を無溶媒で又は溶
媒中、脱酸剤の存在下反応させればよい。 脱酸剤は、副生するハロゲン水素及びBF2―キ
レート分解物の除去に使用され、その具体例とし
てはトリエチルアミン、トリブチルアミンもしく
はピリジンの如き有機三級アミン又は炭酸カリウ
ムの如き無機塩基があげられるが、過剰の化合物
()が脱酸剤として働くこともある。脱酸剤の
使用量は化合物()1モルに対し通常1〜3モ
ルが好ましい。 また、この反応ではBF2―キレート部分がカル
ボキシル基となるためにブロトンが必要とされる
が、これは過剰の原料又は混在する微量の水分等
により供給されることが考えられる。 溶媒としては、ジメチルスルホキシド、ジメチ
ルホルムアミドもしくはジメチルアセトアミド等
の非プロトン性極性溶媒、アセトンもしくはメチ
ルエチルケトン等のケトン系溶媒、ジエチルエー
テルもしくはジオキサン等のエーテル系溶媒、酢
酸エチル等のエステル系溶媒又はメタノールもし
くはエタノール等のアルコール系溶媒等が使用で
きる。溶媒の使用量は化合物()1部に対し2
〜30部(重量比)の範囲で使用される。 反応は室温〜200℃の範囲で2〜10時間行なえ
ばよい。 尚、該反応においては溶媒の種類を選択し、脱
酸剤の使用量、反応温度及び反応時間等を調節す
ることにより、ピペラジン類()の置換反応の
段階で反応を止め、式 (式中、R1,R2及びX1は前記に同じである。)で
表わされる中間体を得ることも可能である。例え
ば、ジメチルスルホキシド中室温で反応を行なつ
た場合、中間体()が収率よく得られる。 中間体()は、反応液を冷却するか、反応液
に水等の難溶性の溶媒を加えることにより析出す
るので、これを濾取することにより容易に単離で
きる。 中間体()は単離してもよいが、単離せずに
次のキレート分解反応を行なつても良い。 中間体()より目的化合物()を得るに
は、中間体()を脱酸剤の存在下無溶媒もしく
は溶媒中プロトン性の化合物と処理すればよい。 プロトン性化合物としては水、アルコール類、
チオール類、一級アミン類、二級アミン類又は無
機水酸化物等が使用される。 脱酸剤としては水酸化ナトリウム、炭酸ナトリ
ウムもしくは炭酸水素ナトリウム等の無機塩基又
は一級アミン、二級アミンもしくは三級アミン等
の有機塩基があげられ、中間体()に対し等モ
ル以上使用される。 溶媒としては非プロトン性極性溶媒、ケトン系
溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒又はエ
ーテル系溶媒等があげられるが特にアルコール系
溶媒、エステル系溶媒又はエーテル系溶媒が好ま
しい。 反応は、室温〜150℃までの範囲で行なえばよ
い。 生成した化合物()は、反応液を中和するか
又は冷却すれば結晶として析出するので、これを
濾取することにより容易に得ることができる。 以上のように本発明方法により選択的、高収
率、高純度及び能率よく、医療上有用な抗菌剤で
ある化合物()を得ることができ、本発明は工
業的に有利な製造法である。 次に参考例及び実施例を説明する。 参考例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸エチルエステル2.93g及びホウフツ化水素酸
42%水溶液15mlの混液を80〜90℃で3時間加熱す
る。冷後析出晶を濾取し、水及びメタノールで洗
浄し、7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―
4―オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カ
ルボン酸―BF2―キレート3.10g(収率99%)を
えた。融点300℃以上。 元素分析値 C12H8NO3BClF3として 計算値 C 45.40,H 2.54,N 4.41 実測値 C 45.21,H 2.61,N 4.42 1H―NMR(DMSO―d6,IS:TMS)δ(ppm) 1.49(3H,t,―CH3―) 4.95(2H,q,―CH2―) 8.53(1H,d,J―10Hz,5位=CH―) 8.88(1H,d,J=6Hz,8位=CH―) 9.64(1H,s,2位=CH―) Mas:317(M+) 参考例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸エチルエステル5.35g、三フツ化ホウ素テト
ラヒドロフラン錯体12.7g及びダウサム21mlの混
液を120〜130℃で2時間加熱する。冷後、析出晶
を濾取し、クロロホルム及びメタノールで洗浄
し、7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4
―オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カル
ボン酸―BF2―キレート4.67g(収率82%)をえ
た。融点300℃以上。 参考例 3 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸4.30g及びホウフツ化水素酸42%水溶液21ml
の混液を80〜90℃で2時間加熱する。冷後、析出
晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄し、7―ク
ロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オキソ―
1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸―
BF2―キレート5.10g(収率100%)をえた。融
点300℃以上。 参考例 4 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸1.66g及び三フツ化ホウ素テトラヒドロフラ
ン錯体17mlの混液を80〜90℃で8時間加熱する。
冷後、析出晶を濾取し、クロロホルムで洗浄し、
7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―オ
キソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン
酸―BF2―キレート1.68g(収率86%)をえた。
融点300℃以上。 実施例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート1.000g、無水ピペラジン
0.814g及びジメチルスルホキシド5mlの混液を
室温下6時間撹拌する。反応液はいつたん溶液と
なるが1時間程経過すると結晶が析出する。反応
後、冷水5mlを加え結晶を濾取し、水洗し、90℃
で5時間減圧乾燥し、1―エチル―6―フルオロ
―4―オキソ―7―(1―ピペラジニル)―1,
4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸―BF2―
キレート1.113g(収率96%)をえた。融点253〜
255℃。 元素分析値 C16H17N3O3BF3として 計算値 C 52.34,H 4.67,N 11.45 実測値 C 52.46,H 4.56,N 11.32 1H―NMR(DMSO―d6,IS:TMS)δ
(ppm): 1.49(3H,t,―CH3) 3.3〜3.4(8H,m,
【式】)
4.87(2H,q,―CH 2―CH3)
7.35(1H,d,J=8Hz,8位=CH―)
8.09(1H,d,J=14Hz,5位=CH―)
9.04(1H,s,2位=CH―)
Mass:367(M+)
上記化合物1.113g及び6%水酸化ナトリウム
水溶液8.9mlの混液を1時間還流した。反応液を
酢酸で中和して、PH7〜7.5に調整する。冷後、
析出する結晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄
する。これをクロロホルムとエタノールの混合溶
液から再結晶し、90℃で5時間減圧乾燥し、1―
エチル―6―フルオロ―4―オキソ―7―(1―
ピペラジニル)―1,4―ジヒドロキノリン―3
―カルボン酸0.904g(収率93%)をえた。融点
221〜222℃。 元素分析値 C16H13O3N3F3として 計算値 C 60.18,H 5.68,N 13.16 実測値 C 60.15,H 5.74,N 13.27 本品は前記公報(特開昭53−141286号)の方法
に従つて合成した標品と混融しても融点降下を示
さず、赤外線吸収スペクトルも完全に一致した。 実施例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート1.000g、無水ピペラジン
0.814g及びジメチルホキシド5mlの混液を100℃
で3時間加熱する。次いで6%水酸化ナトリウム
水溶液8mlを加え、120℃で2時間加熱した。反
応液に酢酸を加え、PH7〜7.5に調整し、析出す
る結晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄する。
クロロホルムとエタノールの混合溶液で再結し、
90℃で5時間減圧乾燥し、1―エチル―6―フル
オロ―4―オキソ―7―(1―ピペラジニル)―
1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸
0.861g(収率86%)をえた。融点220〜221℃。 実施例 3 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート567mg、無水ピペラジン630
mg及びジメチルスルホキシド2.8mlの混液を110℃
で3時間加熱した。反応液に水10mlを加え、さら
に酢酸を加え、PH7.5に調整する。冷後、析出晶
を濾取し水洗する。これをクロロホルムとエタノ
ールの混合溶液で再結晶し、90℃で5時間減圧乾
燥し、1―エチル―6―フルオロ―4―オキソ―
7―(1―ピペラジニル)―1,4―ジヒドロキ
ノリン―3―カルボン酸419mg(収率73%)をえ
た。融点220〜221℃。 実施例 4 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート726mg、4―メチルピペラ
ジン687mg及びジメチルスルホキシド3.6mlの混液
を110℃で3時間加熱した。反応液に6%水酸化
ナトリウム水溶液5.8mlを加え、110℃で2時間加
熱した。反応終了後、酢酸を反応液に加え、PH7
〜7.5に調整する。冷後、析出する結晶を濾取す
る。メタノールで洗浄し、90℃で5時間減圧乾燥
し、1―エチル―6―フルオロ―7―(4―メチ
ル―1―ピペラジニル)―4―オキソ―1,4―
ジヒドロキノリン―3―カルボン酸653mg(収率
86%)をえた。融点268〜270℃。 元素分析値 C17H20N3O3Fとして 計算値 C 61.25,H 6.05,N 12.60 実測値 C 61.10,H 5.91,N 12.27 実施例 5 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート0.511g、無水ピペラジン
0.56g及びピリジン0.77mlの混液を6時間加熱還
流した。冷後、反応液に希塩酸を加えて酸性とな
し、不溶物を濾去し、水洗した。濾液及び洗液を
合し、80℃で減圧濃縮した。残渣を希水酸化ナト
リウムに溶かし、酢酸でPH7〜7.5に調整し、ジ
クロロメタンで抽出し、抽出液から溶媒を減圧下
留去して固形物を得た。 この固形物をNMR(溶媒:CF3COOH)測定し
て2位プロトンの比較を行つた。すなわち、Ha
とHbの各ピークの積分値(面積)の比が7位置
換体と6位置換体の比を意味する。 7位置換体 Ha=9.42ppm 6位置換体 Hb=9.50ppm その結果、上記固形物は全て7位置換体であ
り、6位置換体は全く認められなかつた。 比較例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―オキ
ソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸
エチルエステル0.741g、無水ピペラジン0.86g
及びピリジン1.5mlの混液を5時間加熱還流した。
反応液を80℃で減圧下に濃縮乾固した。残渣をク
ロロホルムに溶解し、3回水洗し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去した。残渣
に6%水酸化ナトリウム水溶液を加え、80〜90℃
に10分間加熱した。冷後、希塩酸で酸性とし、不
溶物を濾去した。濾液と洗液を合し、70℃で減圧
下に濃縮乾固し、更にシリカゲル上で減圧乾燥し
た。残渣を希アンモニヤ水に溶解し、酢酸で注意
深くPH7.5に調整し、クロロホルムで抽出し、抽
出液から減圧下溶媒を留去して固形物を得た。 この固形物をNMR(溶媒:CF3COOH)測定し
て、2位プロトンの比較を行つた結果、7位置換
体と6位置換体が70:30の混合物であつた。 比較例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―オキ
ソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸
0.281g、ピペラジン0.362g及びピリジン0.56ml
の混液を6時間加熱還流した。反応液を80℃で減
圧乾固し、残渣に水を加え、酢酸でPH77〜7.5に
調整し、ジクロロメタンで抽出した。抽出液から
減圧下に溶媒を留去し、固形物を得た。 この固形物をNMR(溶媒:CF3COOH)測定し
て、2位プロトンの比較を行つた結果、7位置換
体と6位置体が75:25の混合物であつた。
水溶液8.9mlの混液を1時間還流した。反応液を
酢酸で中和して、PH7〜7.5に調整する。冷後、
析出する結晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄
する。これをクロロホルムとエタノールの混合溶
液から再結晶し、90℃で5時間減圧乾燥し、1―
エチル―6―フルオロ―4―オキソ―7―(1―
ピペラジニル)―1,4―ジヒドロキノリン―3
―カルボン酸0.904g(収率93%)をえた。融点
221〜222℃。 元素分析値 C16H13O3N3F3として 計算値 C 60.18,H 5.68,N 13.16 実測値 C 60.15,H 5.74,N 13.27 本品は前記公報(特開昭53−141286号)の方法
に従つて合成した標品と混融しても融点降下を示
さず、赤外線吸収スペクトルも完全に一致した。 実施例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート1.000g、無水ピペラジン
0.814g及びジメチルホキシド5mlの混液を100℃
で3時間加熱する。次いで6%水酸化ナトリウム
水溶液8mlを加え、120℃で2時間加熱した。反
応液に酢酸を加え、PH7〜7.5に調整し、析出す
る結晶を濾取し、水及びメタノールで洗浄する。
クロロホルムとエタノールの混合溶液で再結し、
90℃で5時間減圧乾燥し、1―エチル―6―フル
オロ―4―オキソ―7―(1―ピペラジニル)―
1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸
0.861g(収率86%)をえた。融点220〜221℃。 実施例 3 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート567mg、無水ピペラジン630
mg及びジメチルスルホキシド2.8mlの混液を110℃
で3時間加熱した。反応液に水10mlを加え、さら
に酢酸を加え、PH7.5に調整する。冷後、析出晶
を濾取し水洗する。これをクロロホルムとエタノ
ールの混合溶液で再結晶し、90℃で5時間減圧乾
燥し、1―エチル―6―フルオロ―4―オキソ―
7―(1―ピペラジニル)―1,4―ジヒドロキ
ノリン―3―カルボン酸419mg(収率73%)をえ
た。融点220〜221℃。 実施例 4 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート726mg、4―メチルピペラ
ジン687mg及びジメチルスルホキシド3.6mlの混液
を110℃で3時間加熱した。反応液に6%水酸化
ナトリウム水溶液5.8mlを加え、110℃で2時間加
熱した。反応終了後、酢酸を反応液に加え、PH7
〜7.5に調整する。冷後、析出する結晶を濾取す
る。メタノールで洗浄し、90℃で5時間減圧乾燥
し、1―エチル―6―フルオロ―7―(4―メチ
ル―1―ピペラジニル)―4―オキソ―1,4―
ジヒドロキノリン―3―カルボン酸653mg(収率
86%)をえた。融点268〜270℃。 元素分析値 C17H20N3O3Fとして 計算値 C 61.25,H 6.05,N 12.60 実測値 C 61.10,H 5.91,N 12.27 実施例 5 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―4―
オキソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボ
ン酸―BF2―キレート0.511g、無水ピペラジン
0.56g及びピリジン0.77mlの混液を6時間加熱還
流した。冷後、反応液に希塩酸を加えて酸性とな
し、不溶物を濾去し、水洗した。濾液及び洗液を
合し、80℃で減圧濃縮した。残渣を希水酸化ナト
リウムに溶かし、酢酸でPH7〜7.5に調整し、ジ
クロロメタンで抽出し、抽出液から溶媒を減圧下
留去して固形物を得た。 この固形物をNMR(溶媒:CF3COOH)測定し
て2位プロトンの比較を行つた。すなわち、Ha
とHbの各ピークの積分値(面積)の比が7位置
換体と6位置換体の比を意味する。 7位置換体 Ha=9.42ppm 6位置換体 Hb=9.50ppm その結果、上記固形物は全て7位置換体であ
り、6位置換体は全く認められなかつた。 比較例 1 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―オキ
ソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸
エチルエステル0.741g、無水ピペラジン0.86g
及びピリジン1.5mlの混液を5時間加熱還流した。
反応液を80℃で減圧下に濃縮乾固した。残渣をク
ロロホルムに溶解し、3回水洗し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去した。残渣
に6%水酸化ナトリウム水溶液を加え、80〜90℃
に10分間加熱した。冷後、希塩酸で酸性とし、不
溶物を濾去した。濾液と洗液を合し、70℃で減圧
下に濃縮乾固し、更にシリカゲル上で減圧乾燥し
た。残渣を希アンモニヤ水に溶解し、酢酸で注意
深くPH7.5に調整し、クロロホルムで抽出し、抽
出液から減圧下溶媒を留去して固形物を得た。 この固形物をNMR(溶媒:CF3COOH)測定し
て、2位プロトンの比較を行つた結果、7位置換
体と6位置換体が70:30の混合物であつた。 比較例 2 7―クロロ―1―エチル―6―フルオロ―オキ
ソ―1,4―ジヒドロキノリン―3―カルボン酸
0.281g、ピペラジン0.362g及びピリジン0.56ml
の混液を6時間加熱還流した。反応液を80℃で減
圧乾固し、残渣に水を加え、酢酸でPH77〜7.5に
調整し、ジクロロメタンで抽出した。抽出液から
減圧下に溶媒を留去し、固形物を得た。 この固形物をNMR(溶媒:CF3COOH)測定し
て、2位プロトンの比較を行つた結果、7位置換
体と6位置体が75:25の混合物であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 (式中、X1及びX2は同じ又は異なるハロゲン原
子を、R1は低級アルキル基を意味する。) で表わされる化合物を、式 (式中、R2は水素原子又は低級アルキル基を意
味する。)で表わされるピペラジン類と反応させ
ることを特徴とする式 (式中、X1,R1及びR2は前記に同じである。) で表わされる化合物の製造法 2 特許請求の範囲第1項においてR1がエチル
基、R2が水素原子、X1がフツ素原子である化合
物の製造法
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23368482A JPS59122470A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | キノリン−3−カルボン酸誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23368482A JPS59122470A (ja) | 1982-12-27 | 1982-12-27 | キノリン−3−カルボン酸誘導体の製造法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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1982
- 1982-12-27 JP JP23368482A patent/JPS59122470A/ja active Granted
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JPS59122470A (ja) | 1984-07-14 |
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