JPS6325488A - ガス配分装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、ガス配分装置に関し、特に室と、加熱装置と
、前記室内に高温のガスを配分するための装置とからな
る高温ガス処理装置に関する。

〔従来の技術および解決しようとする問題点〕装入材は
、高温ガスの作用下で室内で処理される。この高温ガス
は、特殊な流入装置を介して装入材に対して供給される
。前記室は、減圧下または高圧下に置くことができる。

装入材は、これを加熱されたガスの作用に対して露出さ
せることにより熱処理および（または）化学的作用を受
けるようにことができる。この状態は、時には、装入材
を静的なガスの雰囲気が内部で加熱される熱処理炉内に
置かれることにより生じる。一方、装入材は、適当な入
口と出口により室内で生成される一定の高温ガス流に曝
されるようにすることができる。

熱処理炉にガス人１１とガス出口が備えられた装置は公
知である。ガスは、最初にガス・ヒータにより加熱され
、次いで片側から導入され、処理される装入材に対して
供給される。ガスは、再び反対側から流出する。ガス流
の良好な配分を達成するため、ガス流入装置を炉の中間
に設けることもできる。

次いで、ガス流は中間部から対称的に装入材に対して両
側へ拡散し、反対側から流出する。

これらの方法は、ガス配分の均一性を著しく欠くという
欠点を有する。更に、多くのプロセスにおける擾乱要因
と見做されるべき指向性を持つガス流が生じる結果とな
り、このため望ましくない。特に多くの化学プロセスに
おいては、還元に閏年するガスが全ての即において装入
材の周囲で均等に流れることが非常に重要となる。

（問題点を解決するための手段〕 本発明は、熱処理路内で高温のガス流を装入材に対して
搬送することが可能で、その結果ガスの配分の均一性が
増加し、がっ平均的に指向性のあるガス流が生じない装
置の提供を試みるものである。

本発明の第１の特質によれば、高温ガスによる処理のた
めの装置が提供され、本装置は高温ガスの供給のため室
内に少なくとも１つの三方弁が設けられた加熱装置を備
えた室を有する。

本発明の第２の特質によれば、高温のガス流を制御する
ための三方弁が提供され、この弁はガス流入装置と第１
と第２のガス流出装置とを備えたハウジングと、このハ
ウジング内方で回転するように取ト１けられかつガス流
入側に２つの開口を、またガス情出側に１つの開口が設
けられた弁ケースと、この弁ケースの位置を前記ハウジ
ングに対して変更することができ、その結果ガス流入装
置が交互に第１のガス流出装置と第２のガス流出装置に
対して結合されるようにする枢着部とからなり、前記ハ
ウジングと弁ケースはｌ’　０００　”Ｃより高い温度
での使用に適する金属がらなり、前記弁ケースの外表面
がセラミックのコーティングを有する。

本発明による装置を用いると、高温のガス流が室内の加
熱装置の内部で反転させることができるようになり、こ
のためガス流が交互に片側もしくは他の側から装入材を
貫流しあるいはその周囲を流れるようになる。

このため、概して、指向性のあるガス流が回避され、ま
たガスの配分の充分な均一性が確保される。

ガス流は前厄て加熱されねばならないため、１つのガス
・プレビータと、１つ以上の適当な高温ガス弁があり、
この弁は室内のガスの流れを制御する。高温ガス弁は、
三方弁の形態で構成され、高温（＋０００乃至１８００
℃）における使用に特に適している。

この形式の従来の弁においては、このような温度におけ
る使用は、弁ケースと弁ディスクとが相互に接触し、高
温においては溶着するおそれがある。この事態を避ける
ため、弁ケースの外表面にはセラミック層その他の摩耗
防止層が設けられている。弁は、高温のガス流を随時一
方もしくは他方のガス人口へ搬送する。

本発明の望ましい実施態様については、単なる例示とし
て図面に関して以下に記述する。

〔実施例〕

第１図においては、室は番号１で示され、その内部で装
入材２が高温ガスの作用下で処理される。前記室の内部
は、加熱装置３によって処理特有の温度に置かれる。同
室は、結合部４を介して選択的に減圧し、あるいは高圧
下に置くことができる。ガス人［１部５は前記室内にあ
る。導入されたガスはガス・プレヒータフによって加熱
される。三方弁８は、ガス流の配分を行なう。

この弁は以下に述べる特殊な構造形°態を有するが、こ
れはこの弁が加熱装置３の内部で使用され高温のガス流
がこれを流通するためである。

この弁は、高温ガスが交互に左側および右側から装入材
２の周囲に流れるように操作される。

ガス人［１部５および三方弁８と対応するガス出口、お
よび更に別の三方弁はガスを引出すため設けることがで
きる。更にまた、ガス人口部およびガス出口部の１ｂ制
御は、複数の弁システムによって行なうこともできる。

第２図は、高温ガス弁８を示している。ハウジング１０
に設けられているのは、ガス入口ソケット１４と２つの
ガス出口ソケット１５．１６とである。

ハウジング１０の内部には弁ケース１１があり、この弁
ケースにはガスの入口側に２つの開口１７が設けられ、
ガス出口側には１つの開口１Ｂが設けられている。枢着
部１３により、弁ケース１１は、ガス人口ソケット１４
がガス出口ソケット１５またはガス出口ソケット１６の
いずれかと結合される位置へ動かすことができる。ハウ
ジング１０および弁ケース１１は、１０００℃より高い
高温度における使用に適する金属（耐熱鋼またはモリブ
デンが望ましい）製である。弁の内張り材１１の外表面
にはセラミック・コーティング＋２が施されている。

更に別の実施態様として、弁ケース１１の外表面には、
例えば金属酸化物もしくは金属窒化物の如き別の耐摩耗
層を設けることができ、あるいはまた弁ケース１１を完
全にセラミックからなるようにすることもできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による装置を示す概略断面図、および第
２図は高温ガス弁を示す断面図である。 １・・・室、２・・・装入材、３・・・加熱装置、４・
・・結合部、５・・・ガス人口部、・・・ガス・ブレヒ
ータ、８・・・三方弁、１０・・・ハウジング、１１・
・・弁ケース、１２・・・セラミック・コーティング、
１３・・・枢着部、１４・・・ガス入口ソケット、１５
．１６・・・ガス出口ソケット、１７．１８・・・開口
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、加熱装置を備えた室を含む高温ガスによる処理装置
   において、高温ガスの供給のため前記室内に少なくとも
   １つの三方弁が設けられることを特徴とする装置。 ２、前記三方弁が、前記室内の加熱装置の内部に設けら
   れることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の装置
   。 ３、前記室を抜気し、あるいは該室を圧力下に置くため
   の結合部が設けられることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項または第２項に記載の装置。 ４、前記室内に少なくとも１つのガスを排出するための
   少なくとも１つの高温ガス弁が更に設けられることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項乃至第３項のいずれかに
   記載の装置。 ５、前記室が、高温ガスを供給しかつ排出するための複
   数の三方弁を収容することを特徴とする特許請求の範囲
   第１項乃至第４項のいずれかに記載の装置。 ６、高温ガス流を制御するための三方弁に おいて、ガス入口装置と、第１と第２のガス出口装置と
   を備えたハウジングと、該ハウジング内部で回転するよ
   うに取付けられ、かつ前記ガス入口側に２つの開口と前
   記ガス出口側に１つの開口が設けられた弁ケースと、該
   弁 ケースの位置が前記ハウジングに対して変更することが
   でき、その結果前記ガス入口装置が交互に前記第１のガ
   ス出口装置と第２の ガス出口装置とに結合される枢着部とからなり、前記ハ
   ウジングおよび前記弁ケースが、１０００℃より高い温
   度における使用に適する金属からなり、前記弁ケースの
   外表面がセラミック・コーティングを保持することを特
   徴とする三方弁。 ７、前記弁ケースの金属が耐熱鋼またはモリブデンであ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第６項記載の弁。 ８、前記弁ケースの外表面が耐摩耗材料のコーティング
   を保持することを特徴とする特許請求の範囲第６項また
   は第７項に記載の弁。 ９、前記耐摩耗材料が金属酸化物または金属窒化物であ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第８項記載の弁。 １０、前記弁ケースが完全にセラミックからなることを
   特徴とする特許請求の範囲第６項記載の弁。