JPS63251435A - 二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分！ｌ！’Ｆ］ 本発明は二軸配向ポリエステルフィルムに関し、更に詳
しくは特定の球状シリカ粒子とテレフタル酸金属塩また
はアルキレンテレフタレート成分（及びリン成分）を含
む金属塩の粒子とからなる滑剤か添加され、耐削れ性、
滑り性に優れ、更に耐スクラッチ性の改善された二軸配
向ポリエステルフィルムに関する。

［従来技術］ ポリエチレンテレフタレートフィルムに代表されるポリ
エステルフィルムは、その優れた物理的。

化学的特性の故に、広い用途に用いられ、例えば磁気テ
ープ用、コンデンサー用、写真用、包装用。

ＯＨＰ用等に用いられている。

ポリエステルフィルムにおいてはその滑り性や耐削れ性
かフィルムの製造工程および各用途における加工］−程
の作業性の良否、さらにはその製品品質の良否を左右す
る大きな要因となっている。

これらか不足すると、例えばポリエステルフィルム表面
に磁性層を塗布し、磁気デープとして用いる場合には、
磁性層塗布時におけるコーティングロールとフィルム表
面との摩擦が激しく、またこれによるフィルム表面の摩
耗も激しく、極端な場合にはフィルム表面へのしわ、擦
り傷等が発生する。また磁性層塗布後のフィルムをスリ
ットしてオーディオ、ビデオまたはコンピューター用テ
ープ等に加工した後でも、リールやカセット等からの引
き出し、巻き上げその他の操作の際に、多くのカイト部
、再生ヘッド等との間で摩耗が著しく生じ、擦り傷、歪
の発生、さらにはポリエステルフィルム表面削れ等によ
る白粉状物質を析出させる結果、磁気記録信号の欠落、
即ちドロップアラ１〜の大きな原因となることが多い。

一般にフィルムの滑り性の改良には、フィルム表面凹凸
を付与することによりカイトロール等との間の接触面積
を減少せしめる方法が採用されており、大別して（１）
フィルム原料に用いる高分子の触媒残渣から不活性の微
粒子を析出せしめる方法と、（ｎ）不活性の無Ｒ微粒子
を添加せしめる方法が用いられている。これら原料高分
子中の微粒子は、その大きさが大きい程、滑り性の改良
効果か大であるのが一般的であるか、磁気テープ、特に
ビデオ用のごとき精密用途には、その粒子が大きいこと
自体がドロップアウト宿の欠点発生の原因ともなり得る
ため、フィルム表面の凹凸は出来るだけ微細である必要
かあり、これら相反する特性を同時に満足すべき要求が
なされているのが現状である。

また、上記不活性微粒子を含有するポリエステルからな
るフィルムは、通常二軸延伸によって該微粒子とポリエ
ステルの境界に剥離が生じ、該微粒子の囲りにボイドが
形成されている。このボイドは、微粒子か大きいほど、
形状か板状より球状はど、また微粒子が単一粒子で変形
しにくいほど、そしてまた未延伸フィルムを延伸する際
に延伸面Ｍ＠率が大きいほど、また低温で行うほど大き
くなる。このボイドは、大きくなれはなる程突起の形状
がゆるやかな形となり摩擦係数を高くすると共に繰り返
し使用時に生じた二軸配向ポリエステルフィルムのボイ
ド上の小さな傷（スクラッチ）によっても粒子の脱落か
起り、耐久性を低下させるとともに削れ粉発生の原因と
なっている。不活性微粒子として、炭酸カルシウム、酸
化チタン。

カオリン等の１種又は２種以上（大粒子と小粒子の組合
せ）を添加することか従来から良く行なわれている（特
開昭５１−３４２７２号、特開昭５２−７８９５３号。

特開昭５２−７８９５４号、特開昭５３−４１３５５号
、特開昭５３−７１１５４号等）か、これら微粒子は大
きなボイドを形成することから上述の問題を内在してお
り、この改善も望まれている。まて、ポリエステルＶ造
時に析出させた析出粒子（例えはポリエステルオルゴマ
−金属塩等）はボイドが小さく、削れ性か良いか、走行
性、耐スクラッチ性に劣る等の欠点を有している。

［発明の目的］ 本発明者は、これら不都合を解消し、不活性微粒子周辺
のボイドが小さく且つフィルム表面か適度に粗れること
によってフィルムの滑り性と耐削れ性が向−卜し、しか
も各用途に適した表面の二軸配向ポリエステルフィルム
を得るために鋭意検討の結果、本発明に至ったものであ
る。

従って、本発明の目的は、ボイドか小さく、フィルム表
面の粗れが均一で表面凹凸かそろっており、滑り性、耐
削れ性、耐スクラッチ性に優れた二軸配向ポリエステル
フィルムを提供することにある。

［発明の構成・効果］ 本発明の目的は、本発明によれば、ポリエステル中に、
滑剤として、平均粒径が０．０５〜４μｍでありかつ粒
径比（長径／短径）が１．０〜１．２であろ球状シリカ
粒子（Ａ）を０．００５〜３重量％及び平均粒径が０．
０５〜５μｍである、テレフタル酸金属塩またはアルキ
レンテレフタレート成分を含む金属塩の粒子（Ｂ）を０
．００５〜３重量％添加含有させてなる二軸配向ポリエ
ステルフィルムによって達成される。

ここで、球状シリカ粒子の長径、短径１面積円相当径は
、粒子表面に金薄ｌＱ層を蒸着したのち走査型電子顕微
鏡にて例えば１万〜３万倍に拡大した像から求め、３Ｖ
均粒径１粒径比を次式で求める。

平均粒径−測定粒子の面積円相当径の総和／測定匂子の
数 粒径比−シリカ粒子の平均長径／該粒子の平均短径 本発明におけるポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸
を主たる酸成分とし、脂肪族クリコールを主たるクリコ
ール成分とするポリエステルである。かかるポリニスデ
ルは実質的に線状であり、そしてフィルム形成性特に溶
融成形によるフィルム形成性を有する。芳香族ジカルボ
ン酸としては、例えばテレフタル酸、ナフタレンジカル
ボン酸。

イソフタル酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸。

ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボ
ン酸、ジフェニルスルポンジカルボン酸。

ジフェニルケトンジカルボン酸、アンスラセンジカルボ
ン酸等を挙げることができる。脂肪族クリコールとして
は、例えばエチレンクリコール、トリメヂレンクリコー
ル、テトラメチレンクリコール、ペンタメチレングリコ
ール、ヘキサメチレンクリ：Ｉ−ル、デカメチレクリコ
ール等の如き炭素数２〜１０のポリメチレンクリ：１−
ルあるいはシクロヘキサンジメタツールの如き脂環族ジ
オール等を挙げることができる。

本発明において、ポリエステルとしては例えはアルキレ
ンテレフタレート及び／又はアルキレンナフタレートを
主たる構成成分とするものか好ましく用いられる。

かかるポリニスデルのうちでも例えばポリエチレンテレ
フタレー１−　、ポリエチレン−２，６−ナフタレート
はもちろんのこと、例えば全ジカルボン酸成分の８０モ
ル％以上かテレフタル酸及び／又は２．６−ナフタレン
ジカルボン酸であり、全クリコール成分の８０モル％以
上がエチレンクリコールである共重合体が好ましい。そ
の際全酸成分の２０モル％以下はテレフタル酸及び／又
は２，６−ナフタレンジカルボン酸以外の」−記芳香族
ジカルボン酸であることができ、また例えばアジピン酸
、セパチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸；シクロヘキ
サン−１，４−ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸
等であることができる。また、全クリコール成分の２０
モル％以下は、エチレンクリコール以外の上記グリコー
ルであることができ、あるいは例えばハイドロキノン、
レゾルシン、２，２−ヒス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン等の如き芳香族ジオール；１，４−ジヒドロキ
シメチルベンゼンの如き芳香環を含む脂肪族ジオール：
ポリエチレンクリコール、ポリプロピレンクリコール、
ポリテトラメチレンクリコール等の如きポリアルキレン
クリコール（ポリオキシアルキレンクリコール）等であ
ることもできる。

また、本発明でおけるポリエステルには、例えばヒトｏ
−ｊシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸：ω−ヒドロキシ
カプ１７ン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン
酸に由来する成分を、ジカルボン酸成分およびオキシカ
ルボン酸成分の総社に対し２０モル％以下で共重合或は
結合するものも包含される。

さらに本発明におけるポリエステルには実質的に線状で
ある範囲の量、例えは全酸成分に対し２モル％以下の量
で、３官能以上のポリカルボン酸又はポリヒドロキシ化
合物、例えはトリメリット酸、ペンタエリンリトール等
を共重合したものも包含される。

上記ポリエステルは、それ計体公知であり、且つそれ自
体公知の方法で製造することかできる。

上記ポリエステルとしては、０−クロロフェノール中の
溶液として３５℃で測定して求めた固有粘度が約０．４
〜約０．９のものか好ましい。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムはそのフィルム
表面に多数の微細な突起を有している。

それらの多数の微細な突起は、本発明によればポリエス
テル中に分散して含有される２種の滑剤、すなわち球状
シリカ粒子（Ａ）と、テレフタル酸金属、またはアルキ
レンテレフタレート成分を含む金属塩の粒子（Ｂ）とよ
り成る粒子に由来する。

かかる滑剤を分散含有するポリエステルは、通常ポリエ
ステルを形成するだめの反応時、例えばエステル交換法
による場合のエステル交換反応中あるいは重縮合反応中
の任意の時期、又は直接重合法による場合の任意の時期
に、上記粒子（好ましくはグリコール中のスラリーとし
て）を反応系中に添加することにより製造することかで
きる。

好ましくは、重縮合反応の初期例えは固有粘度か約０．
３に至るまでの間に、球状シリカ粒子等を反応系中に添
加するのが好ましい。粒子（Ａ）と粒子（Ｂ）はそれぞ
れまたは−緒に添加することができる６ 本発明のおいてポリエステル中に分散含有させる球状シ
リカ粒子（Ａ、　）は平均粒径か０，０５〜４μｍであ
りかつは粒径比（長径／短径）が１，０〜１．２である
球状シリカ粒子である。この球状シリカ粒子は個々の形
状か極めて真球に近い球状であって、従来から滑剤とし
て知られているシリカ粒子か１０ｍμｍ程度の超微細な
坤状粒子か、これらか凝集して０．５μｍ程度の凝集物
（凝集粒子）を形成しているのとは著しく異なる点に特
徴がある。

球状シリカ粒子の平均粒径は、好ましくは０．１〜３μ
ｍ、更に好ましくは０．１〜２μｍである。

この平均粒径か０．０５μｍ未満では滑り性や、耐スク
ラッチ性の向上効果か不充分であり、酊ましくない。ま
た平均粒径か４μｍを超えるとフィルム表面が粗れすぎ
て好ましくない。また球状シリカ粒子の粒径比は、好ま
しくは１，０〜１．１５．更に好ましくは１．０〜１．
１である。

また球状シリカ粒子は粒径分布がシャープであることが
好ましく、分布の急峻度を表わす相対標準偏差か０．５
以下、更に好ましくは０．４以下、特に０．３以下であ
ることが好ましい。

この相対標準偏差は次式で表わされる。

相対標準偏差− ここで、Ｄ１１個々の粒子の面積用相当径（μｍ）Ｄ＝
面面積和相当径平均値 （−（Σ　Ｄｉ）／ｎ）（μｍ） ｉ＝１ ｎ：粒子の測定個数 を表わす。

相対標準偏差か０．５以下の球状シリカ粒子を用いると
、該粒子か球状で且つ粒度分布が極めて急峻であること
から、フィルム表面突起の高さか極めて均一となる。更
にフィルム表面の個々の突起は、滑剤周辺のボイドが小
さいために突起形状か非常にシャープであり、従って同
じ突起の数であっても滑り性か極めて良好となる。

球状シリカ粒子は、」−述の条件を満たせは、その製法
、その他に何ら限定されるものではない。

例えは、球状シリカ粒子は、オルトケイ酸エチル［Ｓ　
ｉ　（ＯＣ２Ｈ５）　ａ　］の加水分解から含水シリカ
［Ｓ　ｉ　（ＯＨ）　４　］単分散球をつくり、更にこ
の含水シリカ単分散球を脱水化処理してシリカ結合［＝
Ｓｉ　−０−３ｉ　＝］を三次元的に成長させることで
製造できる（日本化学会誌’　８１．１１０９　、　Ｐ
、１５０３　）。

Ｓ　ｊ　（ＯＣ２Ｈ５）　ａ　＋　４）Ｉｚ　Ｏ→　Ｓ
　　ｉ　　　（ＯＨ）　　　ａ　　　＋　４Ｃ２Ｈ５０
Ｈ三　Ｓ　　４　−　ＯＨ＋ＨＯ−８ｉ　　＝→　＝Ｓ
ｉ−０−３ｔ　　壬　＋　ト■　２　０本発明において
ポリエステル中に分散含有さぜるテレフタル酸金属塩ま
たはアルキレンテレフタレート成分を含む金属塩の粒子
（以下、金属塩粒子と言うことかある）（Ｂ）は平均粒
径が０．０５〜５μｍ、好ましくは０．１〜３μｍ、更
に好ましくは０．３〜２μｍである。この平均粒子か０
．０５μｍ未満では、滑り性や、耐割れ性の向上効果か
不充分であり、好ましくない。また、この平均粒径が−
１，４− ５μｍを超えると、フィルム表面か粗れずぎて、妻子ま
しくない。

かかる金属塩粒子（Ｂ）の具体例としては、（ｎ−０〜
３） （Ω−０，１，２、ｌｎ＝０．１） （ｎ　＝Ｏ〜・３） （頂＝０．１，２、ｍ二〇、１） （ｍ＝ｏ、１） −１５−−〜 等を例示できる。金属塩粒子を形成する金属としては、
アルカリ金属、アルカリ上類等が好ましく例示される。

金属塩粒子（Ｂ）は、その製法によって限定されること
はない。代表例として、テレフタル酸カルシウム粒子の
製造例について述べると、塩化カルシウム水溶液にテレ
フタル酸水溶液を加えてテレフタル酸カルシウムを析出
させ、該テレフタル酸カルシウムを分離、水洗、乾燥し
、次いで無水のテレフタル酸カルシウムをクリコール例
えばエチレングリコール等に分散させてスラリーとし、
更に該スラリーを常法の粒度調整処理例えば粉砕処理、
分級処理等にかけて所定の平均粒径のテレフタル酸カル
シウムを分散させたクリコールスラリーを得ることかで
きる。また、エチレンテレフタレート成分、或はこれと
リン成分を含む金属塩の粒子は内部析出粒子を製造する
公知の方法によって製造することができるが、この粒子
製造は本発明におけるポリエステルを製造する系とは別
の系で行なう必要かある。

本発明において球状シリカ粒子（Ａ）の添加量は、ポリ
エステルに対して０．００５〜３，０重量％とする必要
があり、好ましくは０．０１〜１．０重量％。

更に好ましくは０，０５〜０．５重量％である。この添
加量か０．００５重量％未満では、滑り性や耐割れ性の
向上効果が不充分となり、一方３．０重量％を越えると
製造工程でのフィルムの切断が多発し、好ましくない。

また金属塩粒子（Ｂ）の添加量は、ポリエステルに対し
て０．００５〜３．０重量％とする必要かあり、好まし
くは０．０１〜１．０重量％、更に好ましくは０．０５
〜，０．５重量％である。この添加量が０．００５重量
％未満では、滑り性や耐削れ性、耐スクラッチ性の向上
効果が不充分となり、一方、３．０重量％を越えるとフ
ィルムの切断か多発し、好ましくない。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは従来から蓄積
された二軸配向フィルムの製造法に順じて製造できる。

例えは、球状シリカ粒子（Ａ）を含有するポリエステル
と金属塩粒子（Ｂ）を含有するポリエステルとを溶融混
合して押出し、溶融製膜して非晶質の未延伸フィルムと
し、次いで該−１７−一 未延伸フィルムを二軸方向に延伸し、熱固定し、必要で
あれば弛緩熱処理することによって製造される。その際
、フィルム表面特性は、球状シリカ粒子（Ａ）及び金属
塩粒子（Ｂ）の粒径、ｉ等によって、また延伸条件によ
って変化するので従来の延伸条件から適宜選択する。ま
た密度、熱収縮率等も延伸、熱処理時の温度１倍率、速
度等によって変化するので、これらの特性を同時に満足
する条件を定める。例えば、延伸温度は１段目延伸温度
（例えは縦方向延伸温度：Ｔ１）か（Ｔ　ｇ　−１０）
〜（’Ｉ″ｇ＋４５）°Ｃの範囲（但し、Ｔｇ：ポリエ
ステルのガラス転移温度）から、２段目延伸温度（例え
ば横方向延伸温度二Ｔ２）か（Ｔｚ＋５）〜（Ｔ１＋４
０）　℃の範囲から選択するとよい。また、延伸倍率は
一軸方向の延伸倍率か２．５以上、特に３倍以上でかつ
面積倍率か８倍以上、特に１０倍以上となる範囲から選
択するとよい。更にまた、熱固定温度は１８０〜２５０
℃、更には２００〜２３０’Ｃの範囲から選択するとよ
い。

本発明における二軸配向ポリエステルフィルムは、従来
のものに比してボイドの極めて小さいフィルムであるが
、このボイドが小さい理由は、球状シリカ粒子（Ａ）及
び金属塩粒子（Ｂ）のポリエステルの親和性の良さと、
更に球状シリカ粒子（Ａ）が極めて真球に近いことから
、延伸において滑剤周辺の応力が均等に伝播し、ポリエ
ステルと滑剤の界面の一部に応力が集中しないことによ
ると、また金属塩粒子（Ｂ）は延伸によって変形を起こ
し易く、この変形のため応力が緩和されることによると
、推測される。

本発明においては、その粒径分布が極めてシャープであ
る球状シリカ粒子の添加によりポリエステルフィルムの
表面に形成された突起の分布は極めて均一性か高く、突
起の高さのそろったポリエステルフィルムが得られる。

そして、このフィルムに金属塩粒子を更に含有させるこ
とによって削れ性を保持したまま、削れ性、耐スクラッ
ヂ性をより一層向上させることが可能となっている。

本発明における二、軸配向ポリエステルフィルムは、均
一・な凹凸表面特性、ずぐれた滑り性及び耐削れ性を有
し、すりきす、白粉等の発生量が著しく少ないという特
徴を有する。この二軸配向ポリエステルフィルムはこれ
らの特性を活かして各種の用途に広く用いることができ
る。例えは、磁気記録用例えはビデオ用、オーディオ用
、コーンピユータ−用などのベースフィルムとして用い
ると、優れた電磁変換特性、滑り性、走行耐久性等が得
られる。またコンデンサー用途に用いると、低いＩ２擦
係数、すぐれた右同性、低いつぶれ荷重、高い透明性等
が得られる。上述のように、この二軸配向ポリエステル
フィルムは磁気記録媒体のベースフィルム特に磁気テー
プのベースフィルムに用いるのか好ましいが、これに限
定されるものでなく、電気用途、包装用途および蒸着用
フィルム等の他の分野へも広く適用する事が出来る。ま
たフィルムはその月面または両面に易接着処理例えは易
接着７ｆｆｉコーチインク、コロナ処理等の表面処理が
施されていても良い。更にフィルムは帯電防止剤、紫外
線吸収剤１着色剤などの第３成分を含んでいてもかまわ
ない。

［実施例］ 以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。

なお本発明における種々の物性値および特性は以下の如
く測定されたものである。

（１）球状シリカ粒子の粒径 粒子粒径の測定には次の状態がある。

１）シリカ粉体から、平均粒径、粒径比等を求める場合 ２）フィルム中のシリカ粒子の平均粒径、粒径比等を求
める場合 １）シリカ粉体からの場合： 電顕試料台上にシリカ粉体を個々の粒子かできるたけ重
ならないように散在せしめ、金スパッター装置により、
この表面に金薄膜蒸着層を厚み２００人〜３００人で形
成せしめ、走査型電子顕微鏡にて例えば１ｏｏｏｏ〜３
００００倍で観察し、Ｅ１本レギュレーター■製ルーゼ
ックス５００にて、少なくとも１００個の粒子の長径（
Ｄｌｉ）、短径（ＤＳｌ）及び面積用相当径（Ｄｉ）を
求める。

そして、これらの次式で表わされる数平均値を−２１，
−− もって、シリカ粒子の長径（Ｄ　Ｉ　）　、短径（Ｄｓ
）、平均粒径（Ｄ）を表わす。

ｎ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
ｎＤＩ−（Σ　Ｄ　ｌｉ）　／ｎ、Ｄ　ｓ　＝　（Σ　
Ｄｓｉ）／ｎ１＝１　　　　　　　　　　ｉ＝１ Ｄ＝（Σ　Ｄ　ｉ　）　／　ｎ １＝１ ２）フィルム中のシリカ粒子の場合： 試料フィルム小片を走査型電子顕微鏡用試料台に固定し
、日本電子■製スパッターリング装’ｉｌｌ　（ＪＦＣ
１１００型イオンスパツターリング装置）を用いてフィ
ルム表面に下記条件にてイオンエツチング処理を施す。

条件はペルジャー内に試料を設置し、約１０−３Ｔｏｒ
ｒの真空状態まで真空度を」−げ、電圧０．２５１（Ｖ
、電流１２．５　ＩｎＡにて約１０分間イオンエツチン
グを実施する。更に同装置にてフィルム表面に金スパッ
ターを施し、走査型電子顕微鏡にて例えば１００００〜
３００００倍で−，２２−− 観察し、日本レギュレーター■製ルーゼッスク５００に
て少なくとも１００個の粒子の長径（Ｄｌｉ）、短径（
Ｄｓｉ）及び面積用相当径（Ｄｉ）を求める。以下、上
記１）と同様に行なう。

（２）球状シリカ粒子以外の粒子の粒径等１）粒子の平
均粒径（ＤＰ） 島津製作所製ＣＰ−５０型セントリフユクルパーティク
ル　サイズ　アナライザー（Ｃｅｎｔｒｉｆｕａａｌ　
　Ｐａｒｔｉｃｌｅ　５ｉｚｅ　Ａｎａｌｙｓｅｒ　）
を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出し
た各粒径の粒子とその存在星との積算曲線から、５０マ
スバーセン１〜に相当する粒径を読み取り、この値を」
−記平均粒径とする（Ｂｏｏｋｒ粒度測定技術」日刊工
業新聞社発行、　１９７５年２頁２４２〜２４７参照）
。

２）粒径比 フィルム小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロト
ームにて約６００人の厚みの超薄切片（フィルムの流れ
方向に平行に切断する）を作成する。この試料を透過型
電子顕微鏡（日立製作所製：）Ｉ−８００型）にてフィ
ルム中の滑剤（粒子）の断面形状を観察し、粒子の長軸
と短軸の比で表わし、１０点の粒子の断面形状の平均値
で表わす。

３）相対標準偏差値 球状シリカの場合と同様にて測定を行、ない、球状以外
の粒子はフィルム厚み方向について粒子の粒径比から体
積を算出し、等偏球としたときの直径をもって粒径とし
、相対標準偏差値を算出する。

（３）　　フィルム表面粗さくＲａ） 中心線平均イ■さくＲａ）として月５−ＢＯ６０１で定
義される値であり、本発明では■小板研究所の触針式表
面粗さ計（ＳＵＲｒＣＯＲＤＥＲＳＥ　−３０Ｃ）を用
いて測定する。測定条件等は次の通りである。

（ａ）触針先端半径　＝　２μｍ （ｂ）測定圧力　　　：　３０■ （Ｃ）カットオフ　　：　　０．２５ｍｍ（ｄ）測定長
　　　　：０．５ｍｍ （ｅ）データーのまとめ方 同一試料について５回繰返し測定し、最も大きい値を１
つ除き、残り４つのデーターの平均値の小数点以下４桁
目を四捨五入し、少数点以下３桁目まで表示する。

（４）　　ボイド比 上記（１１−２）の方法に従ってフィルム中（表面）の
滑剤周辺を暴露し、少なくとも５０個の固体微粒子の長
径とボイドの長径を測定し、次式ボイドの長径 ボイド比−一一一一一一−−−−−−−−−−−一固体
微粒子の長径 で求めるボイド比の数平均値で表わす。

（５）　　フィルムの摩擦係数（μｋ）温度２０°Ｃ１
湿度６０％の環境で、中１／２インチに裁断したフィル
ムを固定棒（表面粗さ０．３μｍ）に角度θ＝　（１５
２／１８０　）πラジアン（１５２°）で接触させて毎
分２００　ａｍの速さで移動（摩擦）させる。入口テン
ション］゛１が３５ｇとなるようにテンションコントロ
ーラーを調整した時の出口テンション（Ｔ’ｚ：ｇ）を
フィルムか９０ｍ送行したの−２５〜 ちに出口テンション検出機で検出し、次式で走行摩耗係
数μｋを算出する。

μｋ　＝　（２，３０３／θ）　ｌｏｑ　　（Ｔｚ　／
　Ｔ　ｚ　）＝０．８６８１０ｇｆＴｚ　／３５＞ （６）削れ性 ベースフィルムの走行面の削れ性を５段のミニスーパー
カレンターを使用して評価する。カレンダーはナイロン
ロールとスチールロールの５段カレンダーであり、処理
温度は８０°Ｃ、フィルムにかかる線圧は２００　ｋｇ
／　ａｎ、フィルムスピードは５０ｍ／分で走行させる
。走行フィルムは全長２０００ｍ走行させた時点でカレ
ンターのトップローラ−に付着する汚れで、ベースフィ
ルムの削れ性を評価する。　◎　ナイロンロールの汚れ
全くなし○　ナイロンロールの汚れほとんどなし×　ナ
イ１′：１ンロールか汚れる ××　ナイロンロールかひどく汚れる （７）ヘース（曇り度） ＪＩＳ−Ｋ　　６７４に準じ、日本精密光学社製、積分
球式ＨＴ’　Ｒメーターによりフィルムのヘースを求め
る２ （８）耐スクラッチ性 １／２インチ［［Ｊに切断したフィルムを上記（５）の
摩擦係数測定装置を用いて、フィルム面が固定棒に１５
２°の角度で接触する様にかけ、２０■／　ｓｅｃ速度
で１０ｍ走行させ、これを５０回繰返した後の該フィル
ムの表面に入ったスクラッチの太さ、深さ。

数を総合して次の５段階で判定する。

く５段階判定〉 ◎　１／２インチｒＬＪのフィルムに全くスクラッチか
認められない ０１／２インチ中のフィルムにほとんどスクラッチか認
められない △　１／２インチ［［Ｊのフィルムにスクラッチが認め
られる（何本か） ×　１／２インチ中のフィルムに太いスクラッチか何本
か認められる ｘｘ　　１．／２インチ巾のフィルムに太く深いスクラ
ッチが多数全面に認められる 比較例１〜９ ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エ
ステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として
三酸化アンチモンを、安定剤として亜燐酸を、更に滑剤
として第１表に示す添加粒子を添加して、常法により重
合し、固有粘度（オルソクロロフェノール、３５℃）　
０．６２のポリエチレンテレフタレートを得た。

このポリエチレンテレフタレートのペレットを１７０℃
で３時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、溶融温度２８
０〜３００°Ｃで溶融し、この溶融ポリマーを１　ｍｍ
のスリット状ダイを通して表面仕上げ０．３５程度、表
面温度２０℃の回転冷却ドラム上に形成押出し、２００
μｍの未延伸フィルムを得た。

このようにして得られた未延伸フィルムを７５°Ｃにて
予熱し、更に低速、高速のロール間で１５ｍｍ上方より
９００°Ｃの表面温度のＩＲヒーター１本にて加熱して
３．６倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給し
、１０５℃にて横方向に３．７倍に延伸した。得られた
二軸配向フィルムを２０５℃の温度で５秒間熱固定し、
厚み１５μｍの熱固定二軸配向フィルムを得た。

このフィルムの特性を第１表に示す６ なお、ここで用いたテレフタル酸カルシウム粒子は次の
方法で調製した。

１０ｗｔ％の塩化カルシウム水溶液中に５ｗｔ％のテレ
フタル酸ナトリウム水溶液を加えてテレフタル酸カルシ
ウムの白色沈澱物を生成させた。このテレフタル酸カル
シウムを分離、水洗後２００　℃で加熱し、無水塩とし
た。このテレフタル酸カルシウム無水塩をボールミルで
粉砕後、エチレングリコールに分散させてスラリーとし
、次いで分級し、所定の粒径のテレフタル酸カルシウム
グリコールスラリーを得た。

実施例１〜８ 滑剤として第２表に示ず２種の添加粒子を用いる以外は
比較例１〜・つと同様に行って二軸配向ポリエステルフ
ィルムを得た。

これらのフィルムの特性を第２表に示すか、これらフィ
ルムは耐削れ性、走行性、耐スクラッチ性に優れている
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ポリエステル中に、滑剤として、平均粒径が０．０
   ５〜４μｍでありかつ粒径比（長径／短径）が１．０〜
   １．２である球状シリカ粒子（Ａ）を０．００５〜３重
   量％、及び平均粒径が０．０５〜５μｍである、テレフ
   タル酸金属塩またはアルキレンテレフタレート成分を含
   む金属塩の粒子（Ｂ）を０．００５〜３重量％添加含有
   させてなる二軸配向ポリエステルフィルム。 ２、球状シリカ粒子（Ａ）の下記式で表わされる相対標
   準偏差が０．５以下である特許請求の範囲第１項記載の
   二軸配向ポリエステルフィルム。 相対標準偏差＝ ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｄｉ：個々の粒子の面積円相当径（μｍ） Ｄ：面積円相当径の平均値 ▲数式、化学式、表等があります▼ ｎ：粒子の個数 を表わす。 ３、粒子（Ｂ）がテレフタル酸カルシウムである特許請
   求の範囲第１項記載の二軸配向ポリエステルフィルム。