JPS63221132A - 二軸配向ポリエステルフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は二軸配向ポリエステルフィルムに関し、更に詳
しく特定の球状シリカ微粒子を含有し、耐削れ性に優れ
、更に滑り性、耐クラッチ性、加工時の作業性等の改善
された二軸配向ポリエステルフィルムに関する。

［従来技術］ ポリエチレンテレフタレートフィルムに代表されるポリ
エステルフィルムは、その優れた物理的。

化学的特性の故に、広い用途に用いられ、例えば磁気テ
ープ用、コンデンサー用、写真用、包装用。

ＯＨＰ用等に用いられている。

ポリエステルフィルムにおいてはその滑り性や耐削れ性
がフィルムの製造工程および各用途における加工工程の
作業性の良否、さらにはその製品品質の良否を左右する
大きな要因となっている。

これらが不足すると、例えばポリエステルフィルム表面
に磁性層を塗布し、磁気テープとして用いる場合には、
磁性層塗布時におけるコーティングロールとフィルム表
面との摩擦が激しく、またこれによるフィルム表面の摩
耗も激しく、極端な場合にはフィルム表面へのしわ、擦
り傷等が発生する。また磁性層塗布後のフィルムをスリ
ットしてオーディオ、ビデオまたはコンピューター用テ
ープ等に加工した後でも、リールやカセット等からの引
き出し、巻き上げその他の操作の際に、多くのガイド部
、再生ヘッド等との間で摩耗が著しく生じ、擦り傷、歪
の発生、さらにはポリエステルフィルム表面削れ等によ
る白粉状物質を析出させる結果、磁気記録信号の欠落、
即ちドロップアウトの大きな原因となることが多い。

一般にフィルムの滑り性の改良には、フィルム表面凹凸
を付与することによりガイドロール等との間の接触面積
を減少せしめる方法が採用されており、大別して（１）
フィルム原料を用いる高分子の触媒残渣から不活性の微
粒子を析出せしめる方法と、■不活性の無機微粒子を添
加せしめる方法が用いられている。これら原料高分子中
の微粒子は、その大きさが大きい程、滑り性の改良効果
が大であるのが一般的であるが、磁気テープ、特にビデ
オ用のごとき精密用途には、その粒子が大きいこと自体
がドロップアウト等の欠点発生の原因ともなり得るため
、フィルム表面の凹凸は出来るだけ微細である必要があ
り、これら相反する特性を同時に満足すべき要求がなさ
れているのが現状である。

また、上記不活性微粒子を含有するポリエステルからな
るフィルムは、通常二軸延伸によって該微粒子とポリエ
ステルの境界に１１１Ｍが生じ、艙微粒子の囲りにボイ
ドが形成されている。このボイドは、微粒子が大きいほ
ど、形状が板状より球状はど、また微粒子が単一粒子で
変形しにくいほど、そしてまた未延伸フィルムを延伸す
る際に延伸面積倍率が大きいほど、また低温で行うほど
大きくなる。このボイドは、大きくなればなる程突起の
形状がゆるやかな形となり摩擦係数を高くすると共に繰
り返し使用時に生じた二軸配向ポリエステルフィルムの
ボイド上の小さなｆｌ（スクラッチ）によっても粒子の
脱落が起り、耐久性を低下させるとともに削れ粉発生の
原因となっている。不活性微粒子として炭酸カルシウム
、酸化チタン、カオリン等を添加することが従来から良
く行なわれているが、これら微粒子は大きなボイドを形
成することから上述の問題を内在しており、この改善も
望まれている。

［発明の目的］ 本発明者は、これら不都合を解消し、不活性微粒子周辺
のボイドが小さく且つフィルム表面が適度に粗れること
によってフィルムの滑り性と耐削れ性が向上し、しかも
各用途に適した表面性の二軸配向ポリエステルフィルム
を得るために鋭意検討の結果、本発明に至ったものであ
る。

従って、本発明の目的は、ボイドが小さく、フィルム表
面の粗れが均一で表面凹凸がそろっており、滑り性、耐
削れ性、１ｗスクラッチ性及び加工時における作業性に
優れた二軸配向ポリエステルフィルムを提供することに
ある。

［発明の構成・効果］ 本発明の目的は、本発明によれば、ポリエステル中に平
均粒径が０．３μｍ〜４μｍでありかつ粒径比（長径／
短径）が１．０〜１，２である球状シリカ粒子を１重量
％より多く４重量％以下の割合で分散含有させてなる二
軸配向ポリエステルフィルムによって達成される。

ここで、球状シリカ粒子の長径、短径１面積円相当径は
、粒子表面に金薄ＷＡ層を蒸着したのち走査型電子顕微
鏡にて例えば１万〜３万倍に拡大した像から求め、平均
粒径９粒径比を次式で求める。

平均粒径＝測定粒子の面槓円相当径の総Ｓ／測定粒子数 粒径比＝シリカ粒子の平均長径／該粒子の平均短径 本発明におけるポリエステルとは、芳香族ジカルボン酸
を主たる酸成分とし、脂肪族グリコールを主たるグリコ
ール成分とするポリエステルである。かかるポリエステ
ルは実質的に線状であり、そしてフィルム形成性特に溶
融成形によるフィルム形成性を有する。芳香族ジカルボ
ン酸としては、例えばテレフタル酸、ナフタレンジカル
ボン酸。

イソフタル酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸。

ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボ
ン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸。

ジフェニルケトンジカルボン酸、アンスラセンジカルボ
ン酸等を挙げることができる。脂肪族グリコールとして
は、例えばエチレングリコール、トリメチレングリコー
ル、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコ
ール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレグリコー
ル等の如き炭素数２〜１０のポリメチレングリコールあ
るいはシクロヘキサンジメタツールの如き脂環族ジオー
ル等を挙げることができる。

本発明において、ポリエステルとしては例えばアルキレ
ンテレフタレート及び／又はアルキレンナフタレートを
主たる構成成分とするものが好ましく用いられる。

かかるポリエステルのうちでも例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートはも
ちろんのこと、例えば全ジカルボン酸成分の８０モル％
以上がテレフタル酸及び／又は２，６−ナフタレンジカ
ルボン酸であり、全グリコール成分の８０モル％以上が
エチレングリコールである共重合体が好ましい、その際
全酸成分の２０モル％以下はテレフタル酸及び／又は２
，６−ナフタレンジカルボン酸以外の上記芳香族ジカル
ボン酸であることができ、また例えばアジピン酸。

セパチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸；シクロヘキサ
ン−１，４−ジカルボン酸の如き脂環族ジカルボン酸等
であることができる。また、全グリコール成分の２０モ
ル％以下は、エチレングリコール以外の上記グリコール
であることができ、あるいは例えばハイドロキノン、レ
ゾルシン、　２．２−ビス（４−しドロキシフェニル）
プロパン等の如き芳香族ジオール：１．４−ジヒドロキ
シメチルベンゼンの如き芳香環を含む脂肪族ジオール；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール。

ポリテトラメチレングリコール等の如きポリアルキレン
グリコール（ポリオキシアルキレングリコール）等であ
ることもできる。

また、本発明で用いるポリエステルには、例えばヒドロ
キシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸；ω−ヒドロキシカ
プロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に
由来する成分を、ジカルボン酸成分およびオキシカルボ
ン酸成分の総量に対し２０モル％以下で共重合或は結合
するものも包含される。

さらに本発明におけるポリエステルには、実質的に線状
である範囲の量、例えば全酸成分に対し２モル％以下の
量で、３官能以上のポリカルボン酸又はポリしドロキシ
化合物、例えばトリメリット酸、ベンタエリンリトール
等を共重合したものも包含される。

上記ポリエステルは、それ自体公知であり、且つそれ自
体公知の方法で製造することができる。

上記ポリエステルとしては、０−タロロアエノール中の
溶液として３５℃で測定して求めた固有粘度が約０．４
〜０．９のものが好ましい。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムはそのフィルム
表面に多数の微細な突起を有している。

それらの多数の微細な突起は、本発明によればポリエス
テル中に分散して含有される多数の球状シリカ粒子に由
来する。

球状シリカ粒子を分散含有するポリエステルは、通常ポ
リエステルを形成するための反応時、例えばエステル交
換法による場合のエステル交換反応中あるいは重縮合反
応中の任意の時期、又は直接重合法による場合の任意の
時期に、球状シリカ粒子（好ましくはグリコール中のス
ラリーとして）を反応系中に添加することにより製造す
ることができる。好ましくは、重縮合反応の初期例えば
固有粘度が約０．３に至るまでの間に、球状シリカ粒子
を反応系中に添加するのが好ましい。

本発明のおいてポリエステル中に分散含有させる球状シ
リカ粒子は平均粒径が０゜３〜４μｍでありかつは粒径
比（長径／短径）が１．０〜１．２である球状シリカ粒
子である。この球状シリカ粒子は個々の形状が極めて真
球に近い球状であって、従来から滑剤として知られてい
るシリカ粒子が１０ｍμｍ程度の超微細な塊状粒子か、
これらが凝集して０．５μｍ程度の凝集物（″ａ集粉粒
子を形成しているのとは著しく異なる点に特徴がある。

球状シリカ粒子の平均粒径は、好ましくは０．３〜３μ
ｍ、更に好ましくは０．３〜２μｍである。

この平均粒径が４μｍ超えると、フィルム表面が粗れす
ぎて好ましくない。また球状シリカ粒子の粒径比は、好
ましくは１．０〜１．１５．更に好ましくは１，０〜１
．１である。

また球状シリカ粒子は粒径分布がシャープであることが
好ましく、分布の急峻度を表わす相対標準偏差が０．５
以下、更に好ましくは０．３以下、特に０．１５以下で
あることが好ましい。

この−相対標準偏差は次式で表わされる。

相対標準偏差＝ ここで、Ｄｉ；個々の粒子の面積円相当径（μｍ）Ｄ：
面積円相当径の平均値 （＝（Σ　Ｄｉ）／ｎｌ（μｍ） ｉ＝１ ｎ：粒子の測定個数 を表わす。

相対標準偏差が０．５以下の球状シリカ粒子を用いると
、該粒子が球状で且つ粒度分布が極めて急峻であること
から、フィルム表面突起の高さが極めて均一となり、同
じ突起の数であっても従来のらのに比して、滑り性が極
めて良好となる。

球状シリカ粒子は、上述の条件を満たせば、その製法、
その他に何ら限定されるものではない。

例えば、球状シリカ粒子は、オルトケイ酸エチル［Ｓ　
ｉ　（ＯＣｚ　Ｈｓ　＞ａ　］の加水分解から含水シリ
カ［３１（ＯＨ）　ａ　］単分散球をつくり、更にこの
含水シリカ単分散球を脱水化処理してシリカ結合［ミｓ
　１−ｏ−ｓ　ｉ　＝］を三次元的に成長させることで
製造できる。（日本化学会誌′８１゜Ｎｏ、　９．　Ｐ
、１５０３　）　。

Ｓ　ｉ　（ＯＣｚ　Ｈａ　）　ａ　＋４　Ｈｚ　Ｏ→Ｓ
　ｉ　（ＯＨ）　ａ　＋４ＣＺ　Ｈ５０ＨミＳ　ｉ　−
ＯＨ＋ＨＯ−Ｓ　ｉ　＝ →＝３　ｉ　−０−３ｉ　＝＋）（２０本発明において
球状シリカ粒子の添加量は、ポリエステルに対して１重
量％より多く４重量％以下とする必要があり、好ましく
は１重量％より多く３重量％以下、更に好ましくは１重
量％より２重量％以下である。添加量が４重量％を超え
ると耐削れ性が低下し、好ましくない。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは従来から蓄積
された二軸配向フィルムの製造法に順じて製造できる０
例えば、球状シリカ粒子を含有するポリエステルを溶融
製膜して非晶質の未延伸フィルムとし、次いで該未延伸
フィルムを二軸方向に延伸し、熱固定し、必要であれば
弛緩熱処理することによって製造される。その際、フィ
ルム表面特性は、球状シリカ粒子の粒径、量等によって
、また延伸条件によって変化するので従来の延伸条件か
ら適宜選択する。また密度、熱収縮率等も延伸、熱処理
時の温度１倍率、速度等によって変化するので、これら
の特性を同時に満足する条件を定める０例えば、延伸温
度は１段目延伸温度（例えば縦方向延伸温度：Ｔ１）が
（’ｒ’ｇ−１０）〜（Ｔｇ＋４５）’Ｃの範囲（但し
、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）から、２段目
延伸温度（例えば横方向延伸温度二Ｔ２）が（’ｒ’ｘ
＋５）〜（Ｔ１＋４０）’Ｃの範囲から選択するとよい
。

また、延伸倍率は一軸方向の延伸倍率が２．５以上、特
に３倍以上でかつ面Ｎ＠率が８倍以上、特に１０倍以上
となる範囲から選択するとよい。更にまた、熱固定温度
は１８０〜２５０℃、更には２００〜２３０’Ｃの範囲
から選択するとよい。

本発明における二軸配向ポリエステルフィルムは、従来
のものに比してボイドの極めて小さいフイルムであるが
、このボイドが小さい理由は、球状シリカ粒子のポリエ
ステルへの親和性の良さと、更に粒子そのものが極めて
真球に近いことから、延伸において滑剤周辺の応力が均
等に伝播し、ポリエステルと滑剤の界面の一部に応力が
集中しないことによると推測される。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、均一な凹凸
表面特性、すぐれた滑り性及び耐削れ性を有し、すりき
す、白粉等の発生量が著しく少なく、また、加工時の作
業性にすぐれるという特徴を有する。この二軸配向ポリ
エステルフィルムは、これらの特性を活かして各種の用
途に広く用いることができる。例えば、磁気記録用例え
ばビデオ用、オーディオ用、コンピューター用などのベ
ースフィルムとして用いると、すぐた電磁変換特性。

滑り性、走行耐久性等が得られる。またコンデンサー用
途に用いると、低い摩擦係数、すぐれた巻回性、低いつ
ぶれ荷重、高い透明性等が得られる。

上述のように、この二軸配向ポリエステルフィルムは磁
気記録媒体のベースフィルム特に磁気テープのベースフ
ィルムに用いるのが好ましいが、これに限定されるもの
でなく、電気用途、包装用途および蒸着用フィルム等の
他の分野へも広く適用する事が出来る。

［実施例］ 以下、実施例を掲げて本発明を更に説明する。

なお本発明における種々の物性値および特性は以下の如
く測定されたものである。

（１）　　シリカ粒子の粒径 粒子粒径の測定には次の状態かある。

１）シリカ粉体から、平均粒径、粒径比等を求める場合 ２）フィルム中のシリカ粒子の平均粒径、粒径比等を求
める場合。

１）シリカ粉体からの場合： 電顕試料台上にシリカ粉体を個々の粒子ができるだけ重
ならないように散在せしめ、金スパッター装置により、
この表面に金薄膜蒸着層を厚み２００人〜３００八で形
成せしめ、走査型電子類ｍ鏡にて例えば１００００〜３
００００倍で観察し、日本レギュレーター■製ルーゼッ
クス５００にて、少なくとも１００個の粒子の長径（Ｄ
ｌｉ）　、短径（Ｄｓｉ）及び面積円相当径（Ｄｌ）を
求める。

そして、これらの次式で表わされる数平均値をもって、
シリカ粒子の長径（Ｄ　！　）　、短径（ＤＳ）、平均
粒径（Ｄ）を表わす。

ｎ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　ｎＤＩ−（Σ　Ｄ　Ｉｉ）　／ｎ、Ｄ　ｓ　＝　（
Σ　Ｄｓｉ）／ｎ１＝１　　　　　　　　　　ｉ＝１ Ｄ＝（Σ　Ｄ　ｉ　）　／　ｎ １＝１ ２）フィルム中のシリカ粒子の場合： 試料フィルム小片を走査型電子顕微鏡用試料台に固定し
、日本電子■製スパッターリング装置（ＪＦＣ−１１０
０型イオンスパツターリング装置）を用いてフィルム表
面に下記条件にてイオンエツチング処理を施す。条件は
ペルジャー内に試料を設置、し、約１０°’　Ｔｏｒｒ
の真空状態まで真空度を上げ、電圧０．２５Ｋ　Ｖ　、
電流１Σ二５１Ａにて約１０分間イオンエツチングを実
施する。更に同装置にてフィルム表面に金スパヅターを
施し、走査型電子顕微鏡にて例えば１００００〜３００
００倍で観察し、日本レギュレーター■製ルーゼヅスク
５００にて少なくとも１００個の粒子の長径（Ｄｌｉ）
、短径（Ｄｓｉ）及び面積円相当径（Ｄｌ）を求める。

以下、上記１）と同様に行なう。

（２シリカ粒子以外の粒子の粒径比等 １）平均粒径 島津製作所製ＣＰ−５０型セントリフニゲルパーティク
ル　サイズ　アナライザー（Ｃｅｎｔｒｉｆｕｇａｌ　
　Ｐａｒｔｉｃｌｅ　５ｉｚｅ　Ａｎａｌｙｓｅｒ　）
を用いて測定し、得られた遠心沈降曲線を基に算出した
各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マス
パーセントに相当する粒径を読み取り、この値を上記平
均粒径とする（Ｂｏｏｋｒ粒度測定技術Ｊ日刊工業傅新
間社発行、　１９７５年９頁２４２〜２４７参照）。

２）粒径比 フィルム小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロト
ームにて約６００人の厚みの超薄切片（フィルムの流れ
方向に平行に切断する。）を伶成する。この試料を透過
型電子型機ｆｉ（日立製作所製：Ｈ−８００型）にてフ
ィルム中の滑剤（粒子）の断面形状を観察し、滑剤の長
軸と短軸の比で表わす。

３）相対標準偏差値 シリカ粒子の場合と同様にて測定を行ない、球状以外の
粒子はフィルム厚み方向について粒子の粒径比から体積
を算出し、等価球としたときの直径をもって粒径とし、
相対標準偏差値を算出する。

［３１フィルム表面粗さくＲａ） 中心線平均粗さくＲａ）としてＪＩＳ−８０６０１で定
義される値であり、本発明では■小板研究所の触針式表
面粗さ計（ＳＵＲＦＣＯＲＤＥＩＩ　ＳＥ　−３０Ｃ）
を用いて測定する。測定条件等は次の通りである。

ｆａ）触針先端半径　＝　２μｍ （ｂ）測定圧力　　　＝　３０■ （ｃ）カットオフ　　、　　０．２５甫（ｄ）測定長　
　　　：０．５間 （ｅ）データーのまとめ方 同−試料について５回繰返し測定し、最も大きい値を１
つ除き、残り４つのデーターの平均値の小数点以下４桁
目を四捨五入し、少数魚具下３桁目まで表示する。

（午　ボイド比 上記（ｉｌ−２）の方法に従ってフィルム中（表面）の
滑剤周辺を暴露し、少なくとも５０個の固体微粒子の長
径とボイドの長径を測定し、次式ボイドの長径 ボイド比＝□ 固体微粒子の長径 で求めるボイド比の数平均値で表わす。

（５）　　フィルムの掌擦係数（μｋ）温度２０℃、湿
度６０％の環境で、中１／２インチに裁断したフィルム
を固定棒（表面粗さ０．３μｍ）に角度θ＝　（１５２
／　１８０）πラジアン（１５２°）で接触させて毎分
２００　ａｍの速さで移動（摩擦）させる、入口テンシ
ョンＴ１が３５ｇとなるようにテンションコントローラ
ーを調整した時の出口テンション（Ｔｚ：ｇ＞をフィル
ムが９０ｍ送行したのちに出口テンション検出機で検出
し、次式で走行摩耗係数μｋを算出する。

μｋ　＝　（２，３０３／θ）　１０ｇ（Ｔ２　／　Ｔ
ｌ　）＝０．８６８１０！ＩＩ（Ｔｚ　／　３５　）＋
ｅ　　ダクトファブリック　削れ性 温度り０℃、湿度６０％の環境で、巾１／２インチに裁
断したフィルムを、固定棒（角度６０゜のコーナを持つ
）上に巻付けたクリーニングティシュに角度θ＝　（１
０／１８０）πラジアンで接触させて毎分１００ｍの速
さで移動させる。入口テンションＴ１が５０ｇ「となる
ようにテンションコントローラーを調整しつつ、全長１
００ｍ走行させた時点でのクリーニングティシュに付着
する汚れ状態をもって下記基準でベースフィルムの削れ
性を評価する。

く４段階判定〉 ◎　：ティシュ上の汚れ全くなし Ｏ：ティシュ上の汚れはほとんどない ×　：ティシュ上に汚れがうつすら見える。

×Ｘ：ティシュ上に汚れが線状に明確に見える。

（７）ヘーズ（曇り度） ＪＩＳ−Ｋ　　６７４に準じ、日本精密光学社製積分球
式）ｆ　Ｔ　Ｒメータによるフィルムのヘーズを求める
。

（８）　　スクラッチ判定 磁気コーテングテープ（１／２インチ巾）を上記（３１
の摩擦係数測定装置を用いて、テープのベースフィルム
面が固定棒に１５２°の角度で接触する様にかけ、５■
／　ｓｅｃ速度で２０ｍ走行させ、これを３０回繰返し
な後の１／２インチ巾ベースフィルムの表面に入ったス
クラッチの太さ、深さ、数を総合して次の５段階で判定
する。

く５段階判定〉 ◎　１／２インチ巾ベースフィルムに全くスクラッチが
認められない ０１／２インチ巾ベースフィルムにほとんどスクラッチ
が認められない △　１／２インチ中ベースフィルムにスクラッチか認め
られる（何本か） ×　１／２インチ中ベースフィルムに太いスクラッチが
何本か認められる ｘｘ　　１／２インチ巾ベースフィルムに太く深いスク
ラッチが多数全面に認められる ０）静摩擦係数（フィルム／フィルム掌擦）重ね合せた
２枚のフィルムの下側に固定したガラス板を置き、重ね
合せたフィルム下側（ガラス板と接しているフィルム）
のフィルムを定速ロールにて引取り（約１０〜１５■／
分）、上側のフィルムの一端（下側フィルムの引取り方
向と逆端）に検出器を固定してフィルム／フィルム間の
引張力を検出する。尚、その時に用いるスレッドは重さ
１〜５　ｋｇ　、下側面積１０〜１００ＣＩＩ２のもの
を使用する。

比較例１ ジメチルテレフタレートとエチレングリコールとを、エ
ステル交換触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として
三酸化アンチモンを、安定剤として亜隣酸を、更に滑剤
として平均粒径１゜２μｍ、粒径比１０．０のカオリン
を用いて常法により重合し、固有粘度（オルソクロロフ
ェノール、３５℃）０．６２のポリエチレンテレフタレ
ートを得た。

このポリエチレンテレフタレートのベレットを１７０℃
、３時間乾燥後押出機ホッパーに供給し、溶融温度２８
０〜３００℃で溶融し、この溶融ポリマーを１１１ｍ１
のスリット状ダイを通して表面仕上げ０．３　Ｓ程度、
表面温度２０℃の回転冷却ドラム上に押出し、４００μ
ｍの未延伸フィルムを得た。

このようにして得られた未延伸フィルムを７５℃にて予
熱し、更に低速、高速のロール間で１５閣上方より９０
０℃の表面温度のＩＲヒーター１本にて加熱して３．６
倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給し１０５
℃にて横方向に３゜７倍に延伸した。得られな二軸配向
フィルムを２０５℃の温度で５秒間熱固定し、厚み３０
μｍの熱固定二軸配向フィルムを得た。

得られたフィルムはボイド比１．７であり、且つカレン
ダーでは白粉が付着し、不満足なものであった。

更にこのフィルムの特性を第１表に示す。

比較例２ カオリンの代りに平均粒径０．８μｍ、粒径比１．５の
炭酸カルシウムを用いる以外は比較例１と同様にして、
ポリエチレンテレフタレートのベレットを得た。

このベレ・ｙ　トを用いて、比較例１と同様にして厚み
３０μｍの二軸配向フィルムを得た。このフィルムはボ
イド比２．０であり、走行性は良いものの、ダストファ
ブリック処理にて白粉が発生した。

更にこのフィルムの特性を第１表に示す。

比較例３ カオリンの代りに平均粒径０，４μｍ、粒径比２．０の
酸化チタンを用いる以外は比較例と同様にしてポリエチ
レンテレフタレートのベレットを得た。

このベレットを用いて、比較例１と同様にして厚み３０
μｍの二軸配向フィルムを得た。このフィルムのボイド
比は１．８であり、フィルム間摩擦が高く、作業生が悪
い、また走行性が悪く、Ｄ／Ｆ処理工程や走行系で白粉
が発生し、このままの状態ではテープとして利用出来な
いため裏面への易滑層塗布処理を余儀なくされた。この
フィルムの特性を第１表に示す。

第１表 実施例１〜５及び比較例４ カオリンの代り第２表に示す平均粒径及び粒子粒径比に
調整されたシリカ微粒子を用いる以外は比較例１と同様
に行ってポリエチレンテレフタレートのペレットを得た
。

このペレットを用いる以外は比較例１と同様に行って厚
み３０μｍの熱固定二軸配向ポリエステルフィルムを得
た。このフィルムの特性を第２表に示す。

実施例で得た二軸配向フィルムはいずれも優れた滑り性
、耐スクラッチ性を示すとともにＤ／Ｆ処理工程でも餠
削れ性も極めて良好であり、更にフィルム−フィルム間
摩擦も小さく、作業性も良好でいずれも優れた品質のも
のであった。

一方、比較例４で示す様な、球状シリカの粒径が４μｍ
を越える場合、ダストファブリック処理で白粉が発生し
耐削れ性が劣る。

実施例６．７ 実施例１．２における延伸倍率を縦方向４．５倍、横方
向３．６倍に変更する以外は実施例３．４と同様に行っ
て、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィル
ムの特性を第２表に示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ポリエステル中に平均粒径が０．３〜４μｍであり
   かつ粒径比（長径／短径）が１．０〜１．２である球状
   シリカ粒子を１重量％より多く４重量％以下の割合で分
   散含有させてなる二軸配向ポリエステルフィルム。 ２、球状シリカ粒子の下記式で表わされる相対標準偏差
   が０．５以下である特許請求の範囲第１項記載の二軸配
   向ポリエステルフィルム。 相対標準偏差＝ ▲数式、化学式、表等があります▼ ここで Ｄｉ：個々の粒子の面積円相当径（μｍ） ＠Ｄ＠：面積円相当径の平均値 ▲数式、化学式、表等があります▼（μｍ） ｎ：粒子の個数 を表わす。