JPH0513979B2 - - Google Patents

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JPH0513979B2
JPH0513979B2 JP62069145A JP6914587A JPH0513979B2 JP H0513979 B2 JPH0513979 B2 JP H0513979B2 JP 62069145 A JP62069145 A JP 62069145A JP 6914587 A JP6914587 A JP 6914587A JP H0513979 B2 JPH0513979 B2 JP H0513979B2
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particles
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polyester
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Norihiro Nomi
Kinji Hasegawa
Hisashi Hamano
Hideo Kato
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Teijin Ltd
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Teijin Ltd
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  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Description

【発明の詳现な説明】
〔産業䞊の利甚分野〕 本発明は二軞配向ポリ゚ステルフむルムに関
し、曎に詳しくは球状シリカ埮粒子ずこれより倧
きい他の䞍掻性無機粒子ずを含有し、平坊で、滑
り性、耐削り性等に優れた二軞配向ポリ゚ステル
フむルムに関する。 〔埓来技術〕 ポリ゚チレンテレフタレヌトフむルムに代衚さ
れるポリ゚ステルフむルムは、その優れた物理
的、化孊的特性の故に、広い甚途に甚いられ、䟋
えば磁気テヌプ甚、コンデンサヌ甚、写真甚、包
装甚、OHP甚等に甚いられおる。 ポリ゚ステルフむルムにおいおは、その滑り性
や耐削れ性がフむルムの補造工皋および各甚途に
おける加工工皋の䜜業性の良吊、さらにはその補
品品質の良吊を巊右する倧きな芁因ずな぀おい
る。これらが䞍足するず、䟋えばポリ゚ステルフ
むルム衚面に磁性局を塗垃し、磁気テヌプずしお
甚いる堎合には、磁性局塗垃時におけるコヌテむ
ングロヌルずフむルム衚面ずの摩擊が激しく、た
これによるフむルム衚面の摩耗も激しく、極端な
堎合にはフむルム衚面ぞのしわ、擊り傷等が発生
する。たた磁性局塗垃埌のフむルムをスリツトし
おオヌデむオ、ビデオたたはコンピナヌタヌ甚テ
ヌプ等に加工した埌でも、リヌルやカセツト等か
らの匕き出し、巻き䞊げその他の操䜜の際に、倚
くのガむド郚、再生ヘツド等ずの間で摩耗が著し
く生じ、擊り傷、歪の発生、さらにはポリ゚ステ
ルフむルム衚面の削れ等による癜粉状物質を析出
させる結果、磁気蚘録信号の欠萜、即ちドロツプ
アりトの倧きな原因ずなるこずが倚い。 䞀般にフむルムの滑り性の改良には、フむルム
衚面に凹凞を付䞎するこずによりガむドロヌル等
ずの間の接觊面積を枛少せしめる方法が採甚され
おおり、倧別しお(i)フむルム原料に甚いる高分子
の觊媒残枣から䞍掻性の埮粒子を析出せしめる方
法ず、(ii)䞍掻性の無機埮粒子を添加せしめる方法
が甚いられおいる。これら原料高分子䞭の埮粒子
は、その倧きさが倧きい皋、滑り性の改良効果が
倧であるのが䞀般的であるが、磁気テヌプ、特に
ビデオ甚のごずき粟密甚途には、その粒子が倧き
いこず自䜓がドロツプアりト等の欠点発生の原因
ずもなり埗るため、フむルム衚面の凹凞は出来る
だけ埮现である必芁があり、これら盞反する特性
を同時に満足すべき芁求がなされおいるのが珟状
である。 たた、䞊蚘䞍掻性埮粒子を含有するポリ゚ステ
ルからなるフむルムは、通垞二軞延䌞によ぀お該
埮粒子ずポリ゚ステルの境界に剥離が生じ、該埮
粒子の囲りにボむドが圢成されおいる。このボむ
ドは、埮粒子が倧きいほど、圢状が板状から粒状
もしくは塊状に近づくほど、たた埮粒子が単䞀粒
子で倉圢しにくいほど、そしおたた未延䌞フむル
ムを延䌞する際に延䌞面積倍率が倧きいほど、た
た䜎枩で行うほど倧きくなる。このボむドは、倧
きくなればなるほど突起の圢状がゆるやかな圢ず
なり摩擊係数を高くするず共に繰り返し䜿甚時に
生じた二軞配向ポリ゚ステルフむルムのボむド䞊
の小さな傷スクラツチによ぀おも粒子の脱萜
が起り、耐久性を䜎䞋させるずずもに削れ粉発生
の原因ずな぀おいる。䞍掻性埮粒子ずしお䟋えば
炭酞カルシりム、酞化チタン、カオリン、コロむ
ド状シリカ等の皮たたは皮以䞊倧粒子ず小
粒子の組合せ添加するこずが埓来から良く行な
われおいるが、これら埮粒子は倧きなボむドを圢
成するこずから䞊述の問題を内圚しおおり、この
改善が望たれおいる。 〔発明の目的〕 本発明者は、これら䞍郜合を解消し、小粒子呚
蟺のボむドを少なくし䞔぀フむルム衚面が適床に
粗れるこずによ぀おフむルムの滑り性ず耐削れ性
が工堎し、しかも各甚途に適した衚面性の二軞配
向ポリ゚ステルフむルムを埗るべく鋭意怜蚎の結
果、本発明に到達した。 埓぀お、本発明の目的は、ボむドが少なく、平
坊で、滑り性、耐削れ性等に優れた二軞配向ポリ
゚ステルフむルムを提䟛するこずにある。 〔発明の構成・効果〕 本発明の目的は、本発明によれば、ポリ゚ステ
ル䞭に、第成分ずしお平均粒埄が0.4〜3Όで
あり、粒埄比長埄短埄が1.0〜1.2でありか
぀䞋蚘匏で衚わされる盞察暙準偏差が0.5以䞋で
ある球状シリカ粒子を0.005〜重量含有し、
第成分ずしお平均粒埄が第成分ず同じかこれ
より倧きいが0.4〜3Όの範囲にある他の䞍掻性
無機粒子を0.005〜重量含有するこずを特城
ずする二軞配向ポリ゚ステルフむルムによ぀お達
成される。 ここで、 Di個々の粒子の面積円盞圓埄Ό 面積円盞圓埄の平均倀 粒子の個数 を衚わす。 ここで、球状シリカ粒子の長埄、短埄、面積円
盞圓埄は粒子衚面に金属を蒞着しおのち電子顕埮
鏡にお䟋えば䞇〜䞇倍に拡倧した像から求
め、平均粒埄、粒埄比は次匏で求める。 平均粒埄 枬定粒子の面積円盞圓埄の総話枬定粒子の
数 粒埄比 シリカ粒子の平均長埄該粒子の平均短埄 本発明におけるポリ゚ステルずは芳銙族ゞカル
ボン酞を䞻たる酞成分ずし、脂肪族グリコヌルを
䞻たるグリコヌル成分ずするポリ゚ステルであ
る。かかるポリ゚ステルは実質的に線状であり、
そしおフむルム圢成性特に溶融成圢によるフむル
ム圢成性を有する。芳銙族ゞカルボン酞ずしお
は、䟋えばテレフタル酞、ナフタレンゞカルボン
酞、む゜フタル酞、ゞプニル゚タンゞカルボン
酞、ゞプニルゞカルボン酞、ゞプニル゚ヌテ
ルゞカルボン酞、ゞプニルスルホンゞカルボン
酞、ゞプニルケトンゞカルボン酞、アンスラセ
ンゞカルボン酞等を挙げるこずができる。脂肪族
グリコヌルずしおは、䟋えば゚チレングリコヌ
ル、トリメチレングリコヌル、テトラメチレング
リコヌル、ペンタメチレングリコヌル、ヘキサメ
チレングリコヌル、デカメチレングリコヌル等の
劂き炭玠数〜10のポリメチレングリコヌルある
いはシクロヘキサンゞメタノヌルの劂き脂肪族ゞ
オヌル等を挙げるこずができる。 本発明においお、ポリ゚ステルずしおは䟋えば
アルキレンテレフタレヌト及び又はアルキレン
ナフタレヌトを䞻たる構成成分ずするものが奜た
しく甚いられる。 かかるポリ゚ステルのうちでも、䟋えばポリ゚
チレンテレフタレヌト、ポリ゚チレン−−
ナフタレヌトはもちろんのこず、䟋えば党ゞカル
ボン酞成分の80モル以䞊がテレフタル酞及び
又は−ナフタレンゞカルボン酞であり、党
グリコヌル成分の80モル以䞊が゚チレングリコヌ
ルである共重合䜓が奜たしい。その際党酞成分の
20モル以䞋のゞカルボン酞はテレフタル酞及
び又は−ナフタレゞカルボン酞以倖の䞊
蚘芳銙族ゞカルボン酞であるこずができ、たた䟋
えばアゞピン酞、セバチン酞の劂き脂肪族ゞカル
ボン酞シクロヘキサン−−ゞカルボン酞
の劂き環肪族ゞカルボン酞等であるこずができ
る。たた、党グリコヌル成分の20モル以䞋は、
゚チレングリコヌル以倖の䞊蚘グリコヌルである
こずができ、あるいは䟋えばハむドロキノン、レ
ゟルシン、−ビス−ヒドロキシプニ
ルプロパンの劂き芳銙族ゞオヌル−ゞ
ヒドロキシメチルベンれンの劂き芳銙環を含む脂
肪族ゞオヌルポリ゚チレングリコヌル、ポリプ
ロピレングリコヌル、ポリテトラメチレングリコ
ヌルの劂きポリアルキレングリコヌルポリオキ
シアルキレングリコヌル等であるこずもでき
る。 たた、本発明で甚いるポリ゚ステルには、䟋え
ばヒドロキシ安息銙酞の劂き芳銙族オキシ酞ω
−ヒドロキシカプロン酞の劂き脂肪族オキシ酞等
のオキシカルボン酞に由来する成分を、ゞカルボ
ン酞成分およびオキシカルボン酞成分の総量に察
し20モル以䞋で共重合或は結合するものも包含
される。 さらに本発明におけるポリ゚ステルには実質的
に線状である範囲の量、䟋えば党酞成分に察し
モル以䞋の量で、官胜以䞊のポリカルボン酞
又はポリヒドロキシ化合物、䟋えばトリメリツト
酞、ペンタ゚リスリトヌル等を共重合したものを
も包含される。 䞊蚘ポリ゚ステルは、それ自䜓公知であり、䞔
぀それ自䜓公知の方法で補造するこずができる。 䞊蚘ポリ゚ステルずしおは、−クロロプノ
ヌル䞭の溶液ずしお35℃で枬定しお求めた固有粘
床を玄0.4〜玄0.9のものが奜たしい。 本発明の二軞配向ポリ゚ステルフむルムはその
フむルム衚面に倚数の埮现な突起を有しおいる。
それらの倚数の埮现な突起は本発明によればポリ
゚ステル䞭に分散しお含有される倚数の球状シリ
カ埮粒子第成分ず、これず同じ平均粒埄
が、これより倧粒埄の他の䞍掻性無機粒子第
成分に由来する。 これら䞍掻性粒子を分散含有するポリ゚ステル
は、通垞ポリ゚ステルを圢成するための反応時、
䟋えば゚ステル亀換法による堎合の゚ステル亀換
反応䞭あるいは重瞮合反応䞭の任意の時期、又は
盎接重合法による堎合の任意の時期に、球状シリ
カ埮粒子ず他の䞍掻性無機粒子をそれぞれたたは
䞀緒に奜たしくはグリコヌルのスラリヌずし
お反応系䞭に添加するこずにより補造するこず
ができる。奜たしくは、重瞮合反応の初期䟋えば
固有粘床が玄0.3に至るたでの間に、これら䞍掻
性粒子を反応系䞭に添加するのが奜たしい。 本発明においおポリ゚ステル䞭に分散含有させ
る第成分ずしおの球状シリカ埮粒子は平均粒埄
が0.4Ό〜3Όでありか぀粒埄比長埄短埄
が1.0〜1.2であるシリカ埮粒子である。この埮粒
子は個々の圢状が極めお真球に近い球状であ぀
お、埓来から滑剀ずしお知られおいるシリカ粒子
が10Ό皋床の超埮现な塊状粒子か、これらが
凝集しお0.5Ό皋床の凝集物凝集粒子を圢成
しおいるのずは著しく異なる点に特城がある。球
状シリカ埮粒子の平均粒埄は奜たしくは0.45〜2ÎŒ
曎には0.49〜0.9Όである。 この平均粒埄が3Όを超えるず衚面平坊性が
䞍充分であり、奜たしくない。たた球状シリカ埮
粒子の粒埄比長埄短埄は奜たしくは1.0〜
1.15、曎に奜たしくは1.0〜1.1である。 たた、球状シリカ粒子は粒埄分垃がシダヌプで
あるこずが必芁で、分垃の急峻床を衚わす盞察暙
準偏差が0.5以䞋であるこずが必芁であり、0.3以
䞋、特に0.12以䞋であるこずが奜たしい。この盞
察暙準偏差は次匏で衚わされる。 ここで、 Di個々の粒子の面積円盞圓埄Ό 粒子の枬定個数 を衚わす。 盞察暙準偏差が0.5以䞋の球状シリカ埮粒子を
甚いるず、該埮粒子が球状で䞔぀粒床分垃が極め
お急峻であるこずから、フむルムの衚面に圢成さ
れる小突起の分垃は極めお均䞀性が高く、小突起
高さのそろ぀た、滑り性の優れたポリ゚ステルフ
むルムが埗られる。 球状シリカ埮粒子は、䞊述の条件を満せば、そ
の補法、その他に䜕ら限定されるものではない。
䟋えば、球状シリカ埮粒子は、オルトケむ酞゚チ
ル〔SiOC2H54〕の加氎分解から含氎シリカ
〔SiOH4〕単分散球を぀くり、曎にこの含氎シ
リカ単分散球を脱氎化凊理しおシリカ結合〔≡Si
−−Si≡〕を䞉次元的に成長させるこずで補造
できる日本化孊䌚誌′81、No.、P.1503。 SiOC2H544H2O →SiOH44C2H5OH ≡Si−OHHO−Si≡ →≡Si−−Si≡H2O 本発明においお第成分ずしおの球状シリカ埮
粒子の添加量は、ポリ゚ステルに察しお0.005〜
重量ずする必芁があり、奜たしくは0.01〜
1.5重量、曎に奜たしくは0.02〜1.0重量であ
る。この添加量が0.005重量未満では、滑り性
や耐削れ性の向䞊効果が䞍充分ずなり、䞀方重
量を超えるず衚面平坊性が䜎䞋し、奜たしくな
い。 本発明においおポリ゚ステル䞭に分散含有させ
る第成分ずしおの他の䞍掻性無機粒子は、前蚘
球状シリカ埮粒子ず異なる組成、圢状のものであ
぀お、平均粒埄が第成分ず同じかこれより倧き
いが0.4〜3Όの範囲にあるものである。このう
ち第成分より倧きい平均粒埄のものが奜たし
く、その唆は0.1Ό以䞊が奜たしい。この他の䞍
掻性無機粒子ずしおは、カオリン、ベントナむ
ト、酞化チタン、炭酞カルシりム、倚孔質シリカ
等を䟋瀺するこずができる。これらは皮たたは
皮以䞊を甚いるこずができる。かかる他の䞍掻
性無機粒子の平均粒埄は、0.46〜2.1Ό、曎には
0.5〜1.0Όであるこずが奜たしい。所定の平均
粒埄の粒子を埗るためには埓来から知られおいる
粒子調敎法を甚いるこずができ、䟋えば粉砕凊
理、分玚操䜜等を斜しお所定の平均粒埄、粒床分
垃にするこずが奜たしい。 本発明においお第成分ずしおの䞍掻性無機粒
子の含有量は、ポリ゚ステルに察しお0.005〜
重量ずする必芁があり、奜たしくは0.01〜1.5
重量、曎に奜たしくは0.02〜1.0重量である。
この含有量が0.005重量未満では滑り性や耐削
れ性の向䞊効果が䞍充分ずなり、䞀方重量を
超えるず衚面平坊性が䜎䞋し、奜たしくない。 本発明の二軞配向ポリ゚ステルフむルムは埓来
から蓄積された二軞延䌞フむルムの補造法に順じ
お補造できる。䟋えば、球状シリカ埮粒子及び他
の䞍掻性無機粒子を含有するポリ゚ステルを溶融
補膜ずし非晶質の未延䌞フむルムずし、次いで該
未延䌞フむルムを二軞方向に延䌞し、熱固定し、
必芁であれば匛緩熱凊理するこずによ぀お補造さ
れる。その際、フむルム衚面特性は、球状シリカ
埮粒子や他の䞍掻性無機粒子の粒埄、量等によ぀
お、たた延䌞条件によ぀お倉化するので埓来の延
䌞条件から適宜遞択する。たた、密床、熱収瞮率
等も延䌞、熱凊理時の枩床、倍率、速床等によ぀
お倉化するので、これらの特性を同時に満足する
条件を定める。䟋えば、延䌞枩床は段目延䌞枩
床䟋えば瞊方向延䌞枩床T1がTg−10
〜Tg45℃の範囲䜆し、Tgポリ゚ステ
ルのガラス転移枩床から、段目延䌞枩床䟋
えば暪方向延䌞枩床T2がT1〜T1
40℃の範囲から遞択するずよい。たた、延䌞
倍率は䞀軞方向の延䌞倍率が2.5以䞊、特に倍
以䞊でか぀面積倍率が倍以䞊、特に10倍以䞊ず
なる範囲から遞択するずよい。曎にたた、熱固定
枩床は180〜250℃、曎には200〜230℃の範囲から
遞択するずよい。 本発明の二軞配向ポリ゚ステルフむルムは埓来
のものに比しおボむドの少ないフむルムである
が、特に球状シリカ埮粒子の呚蟺におけるボむド
が小さい特城がある。この球状シリカ埮粒子呚蟺
のボむドが小さい理由は球状シリカ埮粒子のポリ
゚ステルぞの芪和性の良さず、曎に粒子そのもの
が極めお真球に近いこずから、延䌞においお滑剀
呚蟺の応力が均等に䌝播し、ポリ゚ステルず滑剀
の界面の䞀郚に応力が集䞭しないこずによるず掚
枬される。 本発明においおは、その粒埄分垃が極めおシダ
ヌプである球状シリカ埮粒子の添加によりポリ゚
ステルフむルムの衚面に圢成された小突起の分垃
は極めお均䞀性が高く、小突起の高さのそろ぀た
ポリ゚ステルフむルムが埗られる。 その様な球状シリカ埮粒子を、曎に他の䞍掻性
無機埮粒子ずずもに含有させるこずによ぀お滑り
性を曎に向䞊させ、耐削れ性及び耐すりきず性の
優れた二軞配向ポリ゚ステルフむルムを埗るこず
が可胜ずなる。 本発明の二軞配向ポリ゚ステルフむルムは、均
䞀な凹凞衚面特性、すぐれた滑り性及び耐削れ性
を有し、すりきず、癜粉等の発生量が著しく少な
いずいう特城を有する。この二軞配向ポリ゚ステ
ルフむルムはこれらの特性を掻かしお各皮の甚途
に広く甚いるこずができる。䟋えば、磁気蚘録甚
䟋えばビデオ甚、オヌデむオ甚、コンピナヌタヌ
甚などのベヌスフむルムずしお甚いるず、優れた
電磁倉換特性、滑り性、走行耐久性等が埗られ
る。たたコンデンサヌ甚途に甚いるず、䜎い摩擊
係数、すぐれた巻回性、䜎い぀ぶれ荷重、高い透
明性等が埗られる。䞊述のように、この二軞配向
ポリ゚ステルフむルムは磁気蚘録媒䜓のベヌスフ
むルム特に磁気テヌプのベヌスフむルムに甚いる
のが奜たしいが、これに限定されるものでなく、
電気甚途、包装甚途および蒞着甚フむルム等の他
の分野広も広く適甚する事が出来る。曎に、フむ
ルム片面もしくは䞡面に易接着凊理、コロナ凊理
等の衚面加工を行う事も出来る。 〔実斜䟋〕 以䞋、実斜䟋を掲げお本発明を曎に説明する。
なお本発明における皮々の物性倀および特性は以
䞋の劂く枬定されたものである。 (1) 球状シリカ粒子の粒埄 球状シリカ粒子粒埄の枬定には次の状態があ
る。 (1) 粉䜓から、平均粒埄、粒埄比等を求める堎
合 (2) フむルム䞭の粒子の平均粒埄、粒埄比等を
求める堎合 (1) 粉䜓からの堎合 電顕詊料台䞊に粉䜓を個々の粒子ができるだ
け重ならないよう散圚せしめ、金スパツタヌ装
眮により衚面に金薄膜蒞着盞局厚み200〜300
Åを圢成せしめ、操䜜型電子顕埮鏡にお䟋え
ば䞇〜䞇倍の倍率で芳察し、日本レギナレ
ヌタヌ(æ ª)補ルヌれツクスLuzex500にお、
少なくずも100個の粒子の長埄Dli、短埄
Dsi及び面積円盞圓埄Diを求める。そ
しお、これらの次匏で衚わされる数平均倀をも
぀お、粒子の長埄Dl、短埄Ds、平均粒
埄を衚わす。 Dlo 〓 〓=1Dli、 Dso 〓 〓=1Dsi、 o 〓 〓=1Di (2) フむルム䞭の粒子の堎合 詊料フむルム小片を走査型電子顕埮鏡甚詊
料台に固定し、日本電子(æ ª)補スパツタヌリン
グ装眮JFC−1100型むオンスパツタリング
装眮を甚いおフむルム衚面に䞋蚘条件にお
むオン゚ツチング凊理を斜す。条件は、ベル
ゞダヌ内に詊料を蚭眮し、玄10-3Torrの真
空状態たで真空床を䞊げ、電圧0.25kV、電
流12.5にお玄10分間むオン゚ツチングを
実斜する。曎に同装眮にお、フむルム衚面に
金スパツタヌを斜し、走査型電子顕埮鏡にお
10000〜30000倍の倍率で芳察し、日本レギナ
レヌタヌ(æ ª)補ルヌれツクス500にお少なくず
も100個の粒子の長埄Dli、短埄Dsi及
び面積円盞圓埄Diを求める。以䞋、䞊
蚘(1)ず同様に行なう。 (2) シリカ粒子以倖の粒子の粒埄等 (1) 平均粒埄 島接補䜜所補CP−50型セントリプグル
パヌテむクル サむズ アナラむザヌCen
−trifugal Particle Size Analyserを甚い
お枬定し、埗られた遠心沈降曲線を基に算出
した各粒埄の粒子ずの存圚量ずの積算曲線か
ら、50マスパヌセントに盞圓する粒埄を読み
取り、この倀を䞊蚘平均粒埄ずするBook
「粒床枬定技術」日刊工業新聞瀟発行、1975
幎、頁242〜247参照。 (2) 粒埄比 フむルム小片を゚ポキシ暹脂にお固定成圢
し、ミクロトヌムにお玄600Åの厚みの超薄
切片フむルムの流れ方向に平行に切断す
る。を䜜成する。この詊料を投䞋型電子顕
埮鏡日立補䜜所補−800型におフむ
ルム䞭の滑剀の断面圢状を芳察し、滑剀の長
軞ず短軞の比で衚わす。 (3) 盞察暙準偏差倀 (1)項の積算曲線より差分粒床分垃を求め、
盞察暙準偏差の䞋蚘定矩匏にもずづいお盞察
暙準偏差を算出する。 ここで Di(1)項で求めた各々の粒埄 (1)項で求めた平均粒埄 (1)項で積算曲線を求めたずきの分割数 φi各粒埄の粒子の存圚確立マスパヌセン
ト を衚わす。 (3) フむルム衚面粗さRa 䞭心線平均粗さRaずしおJIS−B0601で
定矩される倀であり、本発明では(æ ª)小坂研究所
の觊針匏衚面粗さ蚈SURFCORDER SE−
30Cを甚い枬定する。枬定条件等は次の通り
である。 (a) 觊針先端半埄2Ό (b) 枬定圧力 30mg (c) カツトオフ 0.25mm (d) 枬定長 2.5mm (e)デヌダヌのたずめ方 同䞀詊料に぀いお回繰返し枬定し、最も倧
きい倀を぀陀き、残り぀のデヌタヌの平均
倀の小数点以䞋桁目を四捚五入し、小数点以
䞋桁目たで衚瀺する。 (4) ボむド比 䞊蚘(1)−(2)の方法に埓぀おフむルム䞭衚
面の滑剀呚蟺を暎露し、少なくずも50個の固
䜓埮粒子の長埄ずボむドの長埄を枬定し、次匏 ボむド比ボむドの長埄固䜓埮粒子の長埄 で求めるボむド比の数平均倀で衚わす。 (5) フむルムの摩擊係数Όk 枩床20℃、湿床60の環境で、巟1/2むンチ
に裁断したフむルムを、固定棒衚面粗さ0.3ÎŒ
に角床Ξ152180πラゞアン152°
で接觊させお毎分200cmの速さで移動摩擊
させる。入口テンシペンT1が35ずなるよう
にテンシペンコントロヌラヌを調敎した時の出
口テンシペンT2を、フむルムが90
走行したのち出口テンシペン怜出機で怜出し、
次匏で走行摩擊係数Όkを算出する。 ÎŒk2.303ΞlogT2T1 0.868logT235 (6) 削れ性 ベヌスフむルムの走行面の削れ性を段のミ
ニスヌパヌカレンダヌを䜿甚しお評䟡する。カ
レンダヌはナむロンロヌルずスチヌルロヌルの
段カレンダヌであり、凊理枩床は80℃、フむ
ルムにかかる線圧は200Kgcm、フむルムスピ
ヌドは50分で走行させる。フむルムを党長
2000走行させた時点でカンレダヌのトツプロ
ヌラヌに付着する汚れで、ベヌスフむルムの削
れ性を評䟡する。 段階刀定 ◎ ナむロンロヌルの汚れ党くなし ○ ナむロンロヌルの汚れほずんどなし △ ナむロンロヌルがやや汚れる × ナむロンロヌルが汚れる ×× ナむロンロヌルがひどく汚れる。 (7) スクラツチ刀定 å·Ÿ1/2むンチに裁断したフむルムを、䞊蚘(5)
の合擊係数枬定装眮を甚いおフむルム面が固定
棒に152°の角床で觊媒する様にかけ、20cm
sec速床で10走行させ、これを50回繰返した
埌の1/2むンチ巟ベヌスフむルムの衚面に入぀
たクラツチの倪さ、深さ、数を総合しお次の
段階刀定する。 段階刀定 ◎ 1/2むンチ巟ベヌスフむルムに党くスクラツ
チが認められない ○ 1/2むンチ巟ベヌスフむルムにほずんどスク
ラツチが認められない △ 1/2むンチ巟ベヌスフむルムにスクラツチが
認められる䜕本か × 1/2むンチ巟ベヌスフむルムに倪いスクラツ
チが䜕本が認められる ×× 1/2むンチ巟ベヌスフむルムに倪く深いス
クラツチが倚数党面に認められる −比范䟋 〜− ゞメチルテレフタレヌトず゚チレングリコヌル
ずを、゚ステル亀換觊媒ずしお酢酞マンガンを、
重合觊媒ずしお䞉酞化アンチモンを、安定剀ずし
お亜燐酞を、曎に滑剀ずしお第衚に瀺す無機粒
子を甚いお垞法により重合し、固有粘床オル゜
クロロプノヌル、35℃0.52のポリ゚チレンテ
レフタレヌトを埗た。 このポリ゚チレンテレフタレヌトのペレツトを
170℃、時間也燥埌抌出機ホツパヌに䟛絊し、
溶融枩床280〜300℃で溶融し、この溶融ポリマヌ
をmmのスリツト状ダむを通しお衚面仕䞊げ0.3S
皋床、衚面枩床20℃の回転冷华ドラム䞊に圢成抌
出し、200Όの未延䌞フむルムを埗た。 このようにしお埗られた未延䌞フむルムを75℃
にお予熱し、曎に䜎速、高速のロヌル間で15mm侊
方より900℃の衚面枩床のIRヒヌタヌ本にお加
熱し、3.6倍に延䌞し急冷し、続いおステンタヌ
に䟛絊し105℃にお暪方向に3.7倍に延䌞した。埗
られた二軞延䌞フむルムを205℃の枩床で秒間
熱固定し、厚み15Όの熱固定二軞配向フむルム
を埗た。 これらフむルムの特性を第衚に瀺す。
【衚】
【衚】 比范䟋−、−、−のものは走行時の摩擊係
数が高く、䞔぀スクラツチが倚数認められ䞍満足
なものである。 比范䟋−、−、−、−のものは走行性は
良いものの、カレンダヌ工皋にお癜粉が発生し、
䞍満足なものである。 −実斜䟋 〜− カオリンの代りに第衚に瀺す第成分ずしお
の球状シリカ日本觊媒化孊工業(æ ª)補及び第
成分ずしおの他の䞍掻性無機埮粒子を甚いる以倖
は比范䟋−ず同様に行぀お二軞配向ポリ゚ステ
ルフむルムを埗た。 これらのフむルムの特性を第衚に瀺す。
【衚】
【衚】 実斜䟋  第衚蚘茉の滑剀を甚いる以倖は比范䟋−ず
同様に行぀お二軞配向フむルムを埗た。このフむ
ルムは優れた走行性を有しながらも衚面は極めお
平坊であり、䞔぀耐削れ性及び耐スクラツチ性に
特に優れたものであ぀た。これらの特性を第衚
に瀺す。
【衚】
【衚】

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  ポリ゚ステル䞭に、第成分ずしお平均粒埄
    が0.4〜3Ό未満であり、粒埄比長埄短埄
    が1.0〜12でありか぀䞋蚘匏で衚わされる盞察暙
    準偏差が0.5以䞋である球状シリカ粒子を0.005〜
    重量の割合で含有し、第成分ずしお平均粒
    埄が第成分ず同じか、これより倧きいが0.4〜
    3Όの範囲にある他の䞍掻性無機粒子を0.005〜
    重量含有しおなる二軞配向ポリ゚ステルフむ
    ルム。 ここで、 Di個々の粒子の面積円盞圓埄Ό 面積円盞圓埄の平均倀 粒子の個数 を衚わす。
JP6914587A 1987-03-25 1987-03-25 二軞配向ポリ゚ステルフむルム Granted JPS63235342A (ja)

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CN107084995B (zh) * 2017-05-18 2019-08-02 䞭囜烟草总公叞郑州烟草研究院 䞀种烟支密床分垃均匀性的定量评价方法

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