JPS60251119A - 大粒子径シリカゾルの製造法 - Google Patents

大粒子径シリカゾルの製造法

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JPS60251119A
JPS60251119A JP10554184A JP10554184A JPS60251119A JP S60251119 A JPS60251119 A JP S60251119A JP 10554184 A JP10554184 A JP 10554184A JP 10554184 A JP10554184 A JP 10554184A JP S60251119 A JPS60251119 A JP S60251119A
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acid
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高濃度の大粒子径シリカゾルの製造法の改良
に関する。
大粒子径シリカゾルは、一般に13ET法による比表面
積の測定値から算出される粒子径が約20暉以上である
コロイダルシリカの分散液であり1紙の表面処理剤、高
分子材料の改質剤。
フィルムの表面処理剤、研磨剤等に用いられているが1
次第に高性能のものが要望され2例えば、半導体材料の
研磨用、フィルムの表面処理用等には40〜100準の
粒径な有し、しかも粒径の揃った球形の粒子からなるシ
リカゾルが望まれている。
従来の技術 大粒子径シリカゾルの製造法としては、既に。
特公昭46−20157号公報に記載の方法が知られて
いる。この方法は、珪酸アルカリの水溶液に90℃以上
の温度で水を蒸発除去しながら活性珪酸の水性コロイド
溶液を添加することにより粒子径50〜60mμのシリ
カの高濃度水性ゾルを得る方法であるが、多量の水の蒸
発除去のために多大の熱量を要すのみならず、得られた
ゾル中のコロイド状シリカの粒径が不揃いとなり易い欠
点を有する。別の例としては、特開昭58−11041
7号公報に記載の方法も知られている。同公報には、ア
ルカリ水溶液に活性シリカゾル水溶液を8102/′M
2o(但し9Mはアルカリ金属原子を表わす。)モル比
が1分間当り01〜10となる速度でアルカリ金属の可
溶性塩40〜1000 ppmの存在下70℃以上の温
度で添加した後、熱処理し更に限外濾過法で濃縮するこ
とにより粒子径約9〜27朝のシリカゾルを得る方法が
開示されているが、この方法によると40mμ以上の大
粒子であってかつその粒径の揃ったシリカゾルは得らな
い。
従来、シリカゾルのシリカ粒子の径が揃っているか否か
は、シリカゾルのシリカの粒子を電子顕微鏡写真に撮影
し、写真に映ったシリカ粒子像を画像解析する方法によ
って行なわれていたが、これによる表示は適確ではない
。ジャーナルオブケミカルフイジックス< Journ
alofChemical Physicsl第57巻
第11号(1972年12月)第4814頁に記載の準
弾性し−ザー光敗乱法(以下、レーザー散乱法という。
)により測定される平均粒子径りと粒子径の標準偏差S
との比S/Dで表わされる変動係数はシリカゾルのシリ
カ粒子径の分布を表現するのに極めて適し、この値は小
さい程径がよく揃っていることを表わす。この変動係数
の値で表わすと。
従来の製造法で得られた大粒子径7リカゾルの変動係数
は06近辺又はそれ以上である。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、平均粒子径が40〜120mμであるコロイ
ダルシリカ粒子が上記変動係数o2以下の値を示す程に
径が揃っている高濃度かつ安定なりす力ゾルを効率よく
製造できる改良された方法の提供を目的とする。
問題点を解決するための手段 本発明の大粒子径シリカゾルの製造法は、下記a、b、
c及びd工程を包含することを%徴とする。
a、8102として1.5〜8重量%のアルカリ金属珪
酸塩水溶液に、PH2〜4.81022〜6重量%の活
性珪酸の水性コロイド溶液を、 5102/M20(但
し1Mは前記アルカリ金属珪酸塩のアルカリ金属原子で
あるK又はNaを表わす。)モル比が20〜40となる
まで90〜150℃で充分な攪拌下に徐々に添加する工
程 す、a工程に引き続き、a工程により得られた反応混合
液を90〜150℃で攪拌上反応を完結せしめる工程 c、b工程により得られた反応混合液に、該液中の前記
アルカリ金属珪酸塩に由来するアルカリ当量の40〜9
0チに相当する当量の酸を添加した後、得られた反応混
合液を90〜150℃で熟成する工程 (LC工程により得られたシリカゾルを微細多孔性膜に
より濃縮する工程。
本発明のa工程に用いられるアルカリ金属珪酸塩水溶液
は、アルカリ金属珪酸塩を水に溶解させることによって
容易に得られる強アルカリ性の液である。アルカリ金属
珪酸塩は、カリウム又はナトリウム等の珪酸塩であり、
これらは5i02/M20 (但し9Mは前記に同じで
あり、以下も同様である。)モル比が異なる種々のもの
が知られているが、水に溶解させたとき完全な溶液が得
られるものが好ましく9通常上記モル比として1〜4.
5程度のものが用いられる。″また。
これら用いられるアルカリ金属珪酸塩としては。
シリカゾルをゲル化せしめるような不純物を含有しない
ものが好ましく、純度が高ければ市販工業製品で充分で
ある。特に安価に入手し得る高純度のモル比2〜4程度
の珪酸ナトリウムが好ましい。
本発明のa工程に用いられる活性珪酸の水性コロイド溶
液は、溶解珪酸及び粒子径6nψ以下の珪酸の低重合粒
子が水中に共存する酸性の液である。この液は反応活性
が高く、従ってまた不安定でもあり9本発明に用いられ
るものとしては製造直後のものが好ましい。上記活性珪
酸の水性コロイド溶液は、前記の如きアルカリ金属珪酸
塩の希薄水溶液からアルカリ金属イオンを除去すること
により9例えば1通常の水素型陽イオン交換樹脂で上記
アルカリ金属珪酸塩の希薄水溶液を処理することにより
容易に得られる。
本発明のC工程に用いられる酸としては、無機酸、有機
酸のいずれでもよいが、純度の高い市販工業製品の硫酸
、塩酸、硝酸等が好ましく。
%に反応容器がステンレス鋼製のときは硫酸が好ましい
。これら用いられる酸は2〜20チ程度の水溶液である
ものが更に好ましい。
改 本発明の嶌工程に用いられる微細多孔性膜は。
通常コロイド粒子の分散液の濃縮に用いられる市販工業
製品でよく、孔径として5〜20 m71程度の限外濾
過膜が好ましい。本発明のa工程〜d工程には、耐酸性
、耐アルカリ性及び耐圧性の反応容器9強力攪拌機、温
度制御装置、定量ポンプ等を備えた通常の製造装置を用
いることができる。
作用 本発明のC工程は、珪酸の重合反応を起させてシリカの
微細な核粒子を析出させた後、この核粒子の周りに更に
珪酸を反応沈着させることによりシリカ粒子を成長させ
、はぼ球形の径が揃っ友50〜100mμ程度のシリカ
粒子を水中に生成せしめる工程であり、この工程で得ら
れた液は、伺未反応珪酸、未成長ソリ力粒子等を含有す
る反応混合液である。この反応混合液は。
充分な安定性を欠くものであるから、C工程の期間中に
濃縮が起らないように保つ必要がある。
反応温度が沸点以上のときは、水の蒸発が起らないよう
に加圧下に行なうのがよい。本発明のb工程は、C工程
で得られた反応混合液中の未反応珪酸及び未成長シリカ
粒子を消失せしめるための反応完結工程であり、C工程
に引き続いて行なわれ、この工程によって7リカの粒径
は40〜120mμにまで成長させることができる。
本発明のC工程は、b工程で得られた反応混合液から安
定なシリカゾルをつくるための工程である。このC工程
で行なわれる酸の添加をそれに替ってC工程又はb工程
で行なったり或いはその中間で行なうと反応混合液の安
定性が失なわれ、また充分なシリカ粒子の成長が妨げら
れたり、或いは場合によってはゲル化が起ることもある
。C工程での酸の添加によって1反応混合液中に存する
アルカリを中和して塩を生成せしめると共に、所定粒径
のコロイダル/り力の安定化のためのアルカリのみを残
存せしめることができる。従って、C工程での酸の添加
により、この残存アルカリと液中シリカのモル比が51
02/!A20トシテ70〜150Vc調節されると共
に、d工程での濃縮の際に必要な塩をシリカゾル中に共
存せしめることができる。本発明のd工程は、C工程に
よって得られ友低a度のシリカゾルを高濃度の安定な製
品シリカゾルにするために、微細多孔性膜を通して水と
共に、製品シリカゾル中に残存していてはゾルの安定化
に妨げとなる量のアルカリ金属イオン及び酸根をも除去
するための工程である。d工程によって得られたシリカ
ゾルは安定なゾルであるから。
そのま\製品として前記各種用途に使用できる他、更に
このゾルには各種の変成を施すこともできる。
本発明の製造法に、径が大きくかつ揃っているコロイダ
ルシリカ粒子からなる高濃度かつ安定なゾルを効率よく
つくるために、a工程〜d工程において史に条件を必要
とする。C工程に用いられるアルカリ金属珪酸塩の水溶
液は。
5102濃度として1.5重量%以下では液中に存する
アルカリが不足し、か\る液に活性珪酸の水性コロイド
溶液を添加しても充分なシリカ粒子の成長が起らず、ま
たSiO2濃度8重量−以上の液を用いるとC工程にお
いて添加すべき酸の量が増大し、この多量の酸を添加す
るとシリカゾル中に高濃肛に塩が生成する友めにゾルの
安定性が低下する。塩の濃度を低下させるためにシリカ
ゾルを水で薄めるとd工程において除去丁べき水量が増
大し好ましくない。かぐしてa工程には* biO’2
濃度として1.5〜8重量−のアルカリ金稿珪酸塩水溶
液が用いられる。a工程に用いられる活性珪酸の水性コ
ロイド溶液は、珪酸以外の酸根な多量に含有しない場合
にはPHが2以上を示すものであり、塩酸、硫酸等の如
き他の酸を多量に含有せしめると、アルカリ金属珪酸塩
との反応により塩が形成され1反応混合液中のシリカ粒
子の円滑な成長の妨げとなり易い。また活性珪酸の水性
コロイド溶液のPHが5以上では、この液は安定性に乏
しくなり。
増粘乃至ゲル化が起こり易い。この活性珪酸の水性コロ
イド溶液は、増粘したものはシリカの核粒子の生成及び
成長に適さず、 5i02濃度についても通常6重量−
以上のものは適当でない。
8102濃度6重量−以上の活性珪酸のコロイド水溶液
は、アルカリ金属珪酸塩の水溶液を水素型陽イオン交換
樹脂で処理することによりつくる方法によっては、その
際増粘が著るしくな!11TjIjいからである。また
、活性珪酸の水性コロイド溶液の8102濃度が2重量
%以下では9反応混合液中水分含量が高くなり、d工程
における除去すべき水量が増大し生産効率が低下する。
かくしてa工8VCは、 PH2−5,5iO22−6
重量%の活性珪酸の水性コロイド溶液が用いられる。
a工程におけるアルカリ金属珪酸塩に活性珪酸の水性コ
ロイド溶液を添加することを90℃以下で行なうと30
rnIJ以上の径のコロイダルシリカ粒子を生成させ難
く、まi、150℃以上で行なうと生成したコロイダル
シリカ粒子の形状がまゆ状となり易<、120mμ以下
の径の揃ったコロイダルシリカ粒子からなる7リカゾル
が得られない。かくしてa工程において活性珪酸の水性
コロイド溶液の添加j490〜150℃で行なわれる。
a工程において、アルカリ金桐珪酸塩に活性珪酸の水性
コロイド溶液を一時に又は短時間に添加すると50mμ
以上の径の7す力粒子を生成させることができないので
、充分な攪拌下に少しづつ徐々に添加する必要がある。
しかしあまり長時間を費して添加すると、生成シリカ粒
子の径が揃い難い。添加すべき活性珪酸の水性コロイド
溶液の量は1反応混合液中阻02/M20モル比が20
〜40となる量である。モル比が10となるまでに2〜
6時間を、更に9モル比10〜40となるまでに4〜1
6時間を要す如き速度が好ましい。この活性珪酸の水性
コロイド溶液全量の添加によって8102濃度として2
〜6重量%の反応混合液が得られる。反応混合液中のモ
ル比が20以下ではC工程における添加すべき酸の量が
増大し、また1モル比40以上では径が揃ったシリカゾ
ルを得難い。上記a工程に引麹続き、b工程において上
記反応混合液をやはり充分な攪拌下に90〜150℃で
反応を続行させることにより1粒子径40〜120■の
径の揃ったコロイダルシリカ粒子に成長を完結させるこ
とができる。この反応の完結は、05〜2時間程度で終
了し、 PH10,2〜112の液が得られる。
上記a工程とb工程の終了によってはソ目的とする粒径
及び粒径分布を有するコロイダルシリカの反応混合液が
得られるが、この液は伺多iのアルカリを含有し、この
液を濃縮するのみでは安定なりす力ゾルは得られない。
b工程で得られた反応混合液には、a工程に用いられた
アルカリ金属珪酸塩に由来するアルカリか含まれ、この
アルカリ当量の40〜90チに相当する当量の酸をC工
程において添加することにより、シリカゾルの安定化を
妨害する過剰のアルカリを中和して塩に変化させること
ができる。
生成した塩の濃度は800〜4500 ppm程度であ
るから、この塩の存在は、d工程におけるゾルの濃縮の
際ゾルのゲル化を防いで安定化せしめる作用もする。更
に、上記酸の添加によって中和されないで残存するアル
カリ金属とシリカのモル比を5i02/MzOモル比と
して70〜150にfA節することができ、40〜12
0mμのコロイダルシリカ粒子の安定化に必要な上記モ
ル比に相当するアルカリを同残存せしめることができる
。添加すべき酸の濃度が高過ぎても、また一時に或いは
短時間に添加してもゲル化が起り易く、2〜20チ程度
の酸を充分な攪拌下体々に上記反応混合液に添加するの
が好ましい。酸の添加後に90〜150℃で熟成する必
要があるので、上記酸の添加もはy上記温度で行なうの
が好ましい。C工程における90〜150°Cでの熟成
は、酸の添加による中和反応1粒径及び形状を充分な安
定状態に到達させ、安定なゾルを形成させる作用をする
。熟成はやはり充分な攪拌下に行なうのが好ましく、不
要な長時間を避けて2〜12時間程度がよい。C工程の
終了によって8102濃度2〜6重i′チの安定なシリ
カゾルが得られる。しかし、このシリカゾルは。
このま\では特殊な用途を除き製品として用いることが
できない。このシリカゾルを蒸発法によって濃縮すると
、前記の如く多大の熱量を要すのみならず、液中に存在
する塩の濃度がゾルに増粘又はゲル化を起させる程に高
まり好ましくない。C工程において、微細多孔性膜な通
して水を除去して濃縮すると同時に、水の除去によって
次第にゾルの濃度は高まるので、その安定化を妨げる過
剰の酸根とアルカリ金属イオンを除去される水と共にゾ
ルの外へ排出させ、ゾルの安定化に費する量の酸根とア
ルカリ金属イオンをゾル中に残存せしめることができる
。C工程終了後のシリカゾルとして、 Si○2濃度2
〜6重量%、5102/M20モル比70〜150及び
塩の濃度800〜4500 ppmは上記効率的な微細
多孔性膜による濃縮を達成させるための要件である。C
工程終了後のゾル中に上記濃度以上の塩が存在すると、
ゾルに水を加えて塩濃度を低下させながら濃縮すること
を要したり、或いはC工程終了後のゾル中の塩濃度が上
記濃度以下であるときは、安定化に不足する量の塩をゾ
ルに補給する必要があり、共に効率的でない。C工程に
おける濃縮には、透析膜、逆浸透膜等も用い得るが、濃
縮速度が小さい。濃縮速度の大きい限外p過膜を用いる
のが好捷しい。C工程における濃縮は、室温〜80℃程
度で行なうことかで色るが、濃縮速度を高めるには高温
がよい。C工程の終了により9粒径40〜120 mp
変動係数の値02以下を示す径の揃ったコロイダルシリ
カy 51o2として30〜55重量%含有し、 5i
02/M20モル比60〜200.塩濃度500〜30
00 ppm、 PH8,5〜10.0 、粘度50 
CP以下の安定なシリカゾルが得られる。勿論濃縮度の
低い段階で終了させることにより5102として30重
量%以下の7リカゾルも得られる。
実施例 実施例1 攪拌機、コンデンサー及び滴下ロートを備えた5ノのガ
ラス製反応器に5i02/Na2Oモル比323の市販
工業用ナトリウム水ガラスと水とを投入して5102と
して367重′jk%の珪酸ナトリウム水溶液6002
を調製し、攪拌上加熱して水の沸騰還流状態に保った。
別途、希釈珪酸ナトリウム水溶液を水素型陽イオン交換
樹脂で処理することにより、 5i02濃度36重倉チ
、PH2,8の室温の活性珪酸の水性コロイド溶液40
00tを調製し、直ちにこれを上記還流状態にめる反応
器中の珪酸す) IJウム水溶液中へ沸騰状態を保ちな
がら定量ボン1を用いて12時間を要して添加して反応
混合液を生成させた。引き続きこの反応混合液を還流状
態を保ちながら1時間加熱を続けて反応を完結させ友。
こ\に得られた反応混合液は8102濃度36重量%r
 8102/Na2OモjLt比24.4 、 PI(
10,13であった。次いでこの反応混合液に、還流下
10重itチのa酸水溶液751を05時間を擬して添
加した後、引き続き還流下8時間熟成することによりS
iO2′a度3.55重量%、硫酸す) IJウム濃[
j370ppm 5i02/Na2Oモル比74.6 
、 k’H10,0のシリカゾルを得た。このシリカゾ
ルのシリカ粒子径をBleT法により測定したところ5
0mμであった。
次いで、このシリカゾルをポリサルホン製管状限外濾過
膜を使用した市販工業製品の限外F!架装置用いて、室
温で8i02 濃度約40重量%となるまで濃縮した。
濃縮中、液は安定であり。
極めて円滑であった。得られた高濃度のゾルは。
測定の結果5102濃度405重量% 、 −8in2
/全アル力リNa2Oモル比7o、 51o2/滴定法
Na2Oモル比418I硫酸ナトリウム濃度1770 
ppm、 B’FiT法による粒子径50節、米国コー
ルタ−社製の製品名0oulter N4の装置を用い
たレーザー散乱法による粒径の変動係数の値は0.17
.25℃の粘度A 50Pであり、更に安定性について
試験したところ、60℃1ケ月の保存後にも、また室温
で1年の保存後にも粘度の変化が全く認められなかった
実施例2 ステンレス鋼製の攪拌機、コンデンサー及び導管を備え
た内容積5ノの耐圧反応器に、実施例1に用いたものと
同じ水ガラスと水を投入し。
5102として41重量%の珪酸ナトリウム水溶液47
0fLfi製し、攪拌上加熱して130℃に保った。別
途、希釈珪酸ナトリウム水浴液を水素型陽イオン交換樹
脂で処理することにより。
室温の5i02 m度45重量%、PH2,8の活性珪
酸の水性コロイド溶液4100rを調製し、直ちVにれ
を9時間を要して150℃に保った反応器中へ定量ポン
プを用いて供給した。引き続き。
130℃を保ちながら1.5時間の加熱を続は反応を完
結させた。こ\に得られた反応混合液は。
5102濃度4.5重量%+ S102/Na 20モ
ル比54.2 。
PH10,7であった。次いでこの反応器中へ130℃
に保ったま\攪拌下に10重量%の硫酸水溶液651を
15?j間を要して添加した後、引き続き同温度で6時
間熟成することにより、 B102濃変4.4重量%、
硫酸ナトリウム濃度2090ppm。
5i02/Na2Oモル比103.PHI O,2,B
ET法粒子径76mμの7リカゾルを得た。次いでこの
ゾルを実施例IJC記載の限外濾過装置を用いて50℃
で、 Sin2濃度約50重量%までm縮した。濃縮は
極めて円滑であった。この得られた高濃度ゾルは、測定
の結果5102濃度500重i襲、 5in2/全Na
2Oモル比101 、Sin7滴定法Na2Oモル比8
60mM酸ナトリウム濃度1210 ppm、 BET
法による粒子径76 mll +実施例1に記載の装置
な用いたレーザー散乱法による勅子径の変動係数0.1
9.25℃の粘度5.8 (!Pであり、更に安定性に
ついて試験し友ところ、60℃1ケ月の保存後も粘度の
変化は認められなかつ友。
実施例3 実施例1に記載の反応器を使用し、これに5102/N
a2Oモル比2.89の市販工業用ナトリウム水ガラス
と水とを投入して8i02として4.2重量%の珪酸ナ
トリウム水溶液400fを調製し。
攪拌上加熱して水の沸騰還流状態に保った。別途、希釈
珪酸す) IJウム水溶液を水素型陽イオン交換樹脂で
処理することにより、 5in2@度4,1重i% 、
 PH5,0の室温の活性珪酸の水性コロイド溶液42
00fを調製し、直ちにこれを上記還流状態にある反応
器中の珪酸ナトリウム水溶液中へ沸騰状態を保ちながら
定量ポンプを用いて18時間を要して添加して反応混合
液を生成させた。引き続きこの反応混合液を還流状態を
保ちながら2時間加熱を続けて反応を完結させ丸こ\に
得られた反応混合液はSin、濃度4.1重量%、 8
102/Na2Oモル比32.5 、 PH10,6で
h ッfc。
次いでこの反応混合液に、還流下10重量%の硫酸水溶
液6Qfを05時間を要して添加した後、引き続き還流
下10時間熟成することによt) 5io2濃度4.1
重量優、硫酸す) IJウム濃度1920 ppm 、
 5102/Na2Oモル比88.8.PH9!9のシ
リカン゛ルを得た。このシリカッ′ルの7リ力粒子径を
B111T法により測定したところ64mμであった。
次いで、このシリカゾルを実施例1に記載の限外濾過装
置を用いて、室温で8102濃度約40重fチとなるま
で濃縮した。濃縮中。
液は安定であり、極めて円滑であった。得られた高濃度
のゾルは、測定の結果5102m度402重量%、S1
0ノNa2Oモル比906.5102/滴定法Na2O
モル比650.硫酸ナトリウム濃度1450 ppm。
BIT法による粒子径64mμ、前記同様レーザー散乱
法による粒径の変動係数の値は018゜25℃の粘度2
.8CPであり、更に安定性について試験したところ、
80°01ケ月の保存後にも粘度の変化が全く認められ
なかった。
比較例1 実施例1における熟成後のシリカゾルを、限外濾過装置
の代りに回転式蒸発器を用いて80℃で5in2濃度約
40重量%まで濃縮した。得られた高濃度ゾルは、 5
io2@度404重iチ、 Si○2/全Na2全Na
2冫 比252,硫酸根濃度1.8重iチ,PH10.2。
粘度6.8C!Pであったが,製造してから1日室温に
放置後に増粘ゲル化が起った。
比較例2 実施例1における製造法において,活性珪酸の水性コロ
イド溶液に1反応混合液中硫酸ナトリウムの濃度が2 
6 0 ppmとなる量硫酸ナトリウムを添加した活性
珪酸の水性コロイド溶液を使用し,かつ実施例1におけ
る硫酸の添加を行なわない方法に替えた他は実施例1と
同様にして5in23. 5重量% * S10 2/
Na 2 0モル比24.4,PH10、7の熟成後の
シリカゾルを得た。このゾルのプリ力の平均粒子径は4
5+nIiでめったが,形状はいびつでその径も揃って
いなかった。このゾルを実施例1と同様にして濃縮した
ところ。
シリカ濃度約50重量%に達したとき増粘が起り,これ
より高濃度には濃縮できなかった。また、別に,上記ゾ
ルを回転式蒸発器により濃縮したところ,PH11.0
,シリカ濃度約40重量%のゾルが得られたが.そのゾ
ルは50℃1週間の保存後に増粘,ゲル化した。
別途.硫酸す) IJウム濃度が2 0 0 0 pp
mとなるように替えた他は上記と同様にして実験したが
,活性珪酸の水性コロイド溶液の添加途中でコロイダル
シリカの凝集が起り,一部沈降物も生じ均一なゾルが得
られなかった。
比較例5 実施例11Cおける稀釈珪酸ナトリウム水溶液5202
に,最終反応混合液中の硫酸ナトリウム濃度が2 0 
0 0 ppmとなるように10重量%の硫酸ナトリウ
ム水溶液を10o2添加してio。
℃に加熱したところ,ゲル化が起ってシリカゲルが沈析
したために9反応混合液の製造が困難でおった。
発明の効果 上記の如く,蒸発法によらないで限外濾過法により効率
よく濃縮して高濃度シリカゾルを製造するには,適量の
塩をゾル中に存在せしめておく必要があり,ま7t,4
0mμ以上もの大粒子径シリカゾルをつくるには,塩を
存在せしめる時期として製造過程において一旦40m/
j以上のコロイダルシリカ粒子を生成せしめた後でなけ
ればならず.更に,40mμ以上もの大粒子径シリカゾ
ルをつくるには反応混液中s io 2/M,0モル比
を20〜40に設定し.更にこの粒子径のゾルが安定で
あるためにはモル比を70〜150に高めねばならない
。本発明の効果は,上記モル比の調節と塩の存在効果を
同時に満足させるために反応完結後の反応混合液に酸を
適量添加することによって効率的製造法を確立したこと
にある。
更に2本発明の方法によって得られた高濃度の大粒子径
シリカゾルは,極めて安定であり。
とh−v−にアルカj)仝属索酸(k物−アンモニア。
第4級アンモニウム水酸化物,水溶性アミン等を加える
ことによりPH10以上の強アルカリ性の安定なゾルも
得られ,また、陽イオン交換樹脂で処理することにより
PH4以下の安定なゾルも得られる。これらのゾルを混
合することによりPi(4〜8.5の安定なゾルを得る
こともできる。
このように種々に変成させたシリカゾルも,大粒子径で
おりながらしかもその径が揃っていて高濃度であるため
に,前記用途の他各種の用途に更に性能を向上させ得る
ゾルとして極めて有用である。
特許出願人 日産化学工業株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 a、b i O2として1.5〜8重量−のアルカリ金
    属珪酸塩水溶液に、 PH2〜5 、5i022〜6重
    量−の活性珪酸の水性コロイド溶液を、 5in2A2
    0(但し0Mは前記アルカリ金属珪酸塩のアルカリ金属
    原子であるに又ニNaを表わす。)モル比が20〜4o
    となるまで90〜150℃で充分な攪拌下に徐々に添加
    する工程す、a工程に引き続き、a工程により得られた
    反応混合液を90〜150℃で攪拌上反応を完結せしめ
    る工程 c、b工程により得られた反応混合液に、該液中の前記
    アルカリ金属珪酸塩に由来するアルカリ当量の40〜9
    0%に相当する当量の酸を添加した後、得られた反応混
    合液を90〜150℃で熟成する工程 eL、c工程により得られたシリカゾルを微細多孔性膜
    により濃縮する工程 を包含することを特徴とする安定な高濃度大粒子径シリ
    カゾルの製造法。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63251435A (ja) * 1987-04-08 1988-10-18 Teijin Ltd 二軸配向ポリエステルフイルム
JPS63254135A (ja) * 1987-04-13 1988-10-20 Teijin Ltd ポリエステルフイルム
JPS63254134A (ja) * 1987-04-13 1988-10-20 Teijin Ltd ポリエステルフイルム
WO1998056715A1 (en) * 1997-06-09 1998-12-17 Akzo Nobel N.V. Polysilicate microgels
JP2012106912A (ja) * 2010-10-19 2012-06-07 Sumitomo Rubber Ind Ltd シリカの製造方法及びタイヤ用ゴム組成物
JP2012106911A (ja) * 2010-10-20 2012-06-07 Sumitomo Rubber Ind Ltd シリカの製造方法及びゴム組成物

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63251435A (ja) * 1987-04-08 1988-10-18 Teijin Ltd 二軸配向ポリエステルフイルム
JPH0458817B2 (ja) * 1987-04-08 1992-09-18 Teijin Ltd
JPS63254135A (ja) * 1987-04-13 1988-10-20 Teijin Ltd ポリエステルフイルム
JPS63254134A (ja) * 1987-04-13 1988-10-20 Teijin Ltd ポリエステルフイルム
JPH0684443B2 (ja) * 1987-04-13 1994-10-26 帝人株式会社 ポリエステルフイルム
JPH0684442B2 (ja) * 1987-04-13 1994-10-26 帝人株式会社 ポリエステルフイルム
WO1998056715A1 (en) * 1997-06-09 1998-12-17 Akzo Nobel N.V. Polysilicate microgels
JP2012106912A (ja) * 2010-10-19 2012-06-07 Sumitomo Rubber Ind Ltd シリカの製造方法及びタイヤ用ゴム組成物
JP2012106911A (ja) * 2010-10-20 2012-06-07 Sumitomo Rubber Ind Ltd シリカの製造方法及びゴム組成物

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