JPS63250303A - 殺菌剤 - Google Patents
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
Landscapes
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はスルホン7Zド化合物を有効成分とする殺菌剤
を提供するものである。
を提供するものである。
(従来の技術及び発明が解決しようとする問題点)従来
、スルホン7ξド化合物については数多くのものが合成
されている。例えば米国特許2.588.968 Kは
下記一般式(ただし、Xはメチル基、フェニル基を示し
xlは水素原子、フルキル基を示す。)で表されるスル
ホンアミド化合物及びその製造方法ならびに誼スルホン
7ミド化合物が高分子化合物の合成原料として有用であ
ることが記載されている。しかしながら、上記以外の用
途については全く記載されていない。従って、上記一般
式(A)で示される化合物が上記以外の他のどのような
用途に有用であるのか推測できない。例えば上記一般式
(A)で示される化合物について、医・農薬としての応
用等は全く予想され得ないものであり、従って、現在に
至るまで上記一般式(A)で表されるスルホニル7ミド
誘導体の生理活性に関する研究は全くなされていなかっ
た。
、スルホン7ξド化合物については数多くのものが合成
されている。例えば米国特許2.588.968 Kは
下記一般式(ただし、Xはメチル基、フェニル基を示し
xlは水素原子、フルキル基を示す。)で表されるスル
ホンアミド化合物及びその製造方法ならびに誼スルホン
7ミド化合物が高分子化合物の合成原料として有用であ
ることが記載されている。しかしながら、上記以外の用
途については全く記載されていない。従って、上記一般
式(A)で示される化合物が上記以外の他のどのような
用途に有用であるのか推測できない。例えば上記一般式
(A)で示される化合物について、医・農薬としての応
用等は全く予想され得ないものであり、従って、現在に
至るまで上記一般式(A)で表されるスルホニル7ミド
誘導体の生理活性に関する研究は全くなされていなかっ
た。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らは、高い抗菌活性を有するスルホンアミド化
合物について研究を行った。その結果、特定のスルホン
アミド化合物が大腸菌、水虫菌、ゴマ負枯病Y1等、幅
広い11種に強い抗菌活性を有して優れたR菌剤となり
得ることを確認し、本発明を完成させるに至ったζ・ すなわち、本発明は、一般式(1) %式% 〔ただし、Rは置換または非置換の7リール基、ヘテロ
アリール基な示し、R及びR3は同種または異種の水素
原子またはアルキル基を示し、Rは置換または非置換の
7リール基、ヘテロアリール基またはアルキル基(置換
アルキル基の内、ハロゲン原子で置換されたものは除く
)を示す〕 で表されるスルホンアミド化合物を有効成分とする殺菌
剤である。
合物について研究を行った。その結果、特定のスルホン
アミド化合物が大腸菌、水虫菌、ゴマ負枯病Y1等、幅
広い11種に強い抗菌活性を有して優れたR菌剤となり
得ることを確認し、本発明を完成させるに至ったζ・ すなわち、本発明は、一般式(1) %式% 〔ただし、Rは置換または非置換の7リール基、ヘテロ
アリール基な示し、R及びR3は同種または異種の水素
原子またはアルキル基を示し、Rは置換または非置換の
7リール基、ヘテロアリール基またはアルキル基(置換
アルキル基の内、ハロゲン原子で置換されたものは除く
)を示す〕 で表されるスルホンアミド化合物を有効成分とする殺菌
剤である。
本発明において、上記一般式(1)中、R及びR1で示
される置換または非置換の7リール基は特に限定されず
に使用できる。かかる非置換の7リール基の具体例を示
すと、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙
げられる。また、前記の置換アリール基の置換基の種類
は特に制限されないが、原料入手の容易さから、ハロゲ
ン原子、アルキル基、フルコキシ基、アルキルチオ基、
アルキルアミ/基1=)F基、シアノ基及びアルフキジ
アルキル基等が好適である。上記ハロゲン原子の具体例
としては、塩素、臭素、フッ素、!つ素の各原子が挙げ
られる。上記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、
エチル基、n−ブーピル基、 1so−プロピル基、n
−ブチル基等が挙げられる。また、これらのフルキル基
はハロゲン原子等の置換基で一部または全部の水素が置
換されていてもよく、その具体例としては、クロロメチ
ル基、プーモメチル基、フルオーメチル基9M−トメチ
ル基。
される置換または非置換の7リール基は特に限定されず
に使用できる。かかる非置換の7リール基の具体例を示
すと、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基等が挙
げられる。また、前記の置換アリール基の置換基の種類
は特に制限されないが、原料入手の容易さから、ハロゲ
ン原子、アルキル基、フルコキシ基、アルキルチオ基、
アルキルアミ/基1=)F基、シアノ基及びアルフキジ
アルキル基等が好適である。上記ハロゲン原子の具体例
としては、塩素、臭素、フッ素、!つ素の各原子が挙げ
られる。上記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、
エチル基、n−ブーピル基、 1so−プロピル基、n
−ブチル基等が挙げられる。また、これらのフルキル基
はハロゲン原子等の置換基で一部または全部の水素が置
換されていてもよく、その具体例としては、クロロメチ
ル基、プーモメチル基、フルオーメチル基9M−トメチ
ル基。
ジクaaメチル基、ジフルオロメチル基、トリクays
メチル基、トリフルオpメチル基。
メチル基、トリフルオpメチル基。
クジジエチル基、フルオpエチル基、ジクロルエチル基
、トリフルオpエチル基、シアノメチル基、ヒドロキシ
メチル基等が挙げられる。また、上記フルコキシ基も特
に制限されないが、その具体例を示すと、メトキシ基。
、トリフルオpエチル基、シアノメチル基、ヒドロキシ
メチル基等が挙げられる。また、上記フルコキシ基も特
に制限されないが、その具体例を示すと、メトキシ基。
エトキシ基、n−プロポキシ基、 1so−プpボキシ
基、n−グトキシ基等が代表的である。
基、n−グトキシ基等が代表的である。
j!K、上記フルキルチオ基も特に制限されないが1代
表的なものを例示すれば、メチルチオ基、エチルチオ基
、n−プロピルチオ基。
表的なものを例示すれば、メチルチオ基、エチルチオ基
、n−プロピルチオ基。
1so−ブービルチオ基等が挙げられる。また上記アル
キル7!ノ基の具体例を示すと、メチルアミノ基、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。さら
Kまだ、上記アルフキジアルキル基も特に制限されない
。
キル7!ノ基の具体例を示すと、メチルアミノ基、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。さら
Kまだ、上記アルフキジアルキル基も特に制限されない
。
その具体例を示すと、メトキシメチル基、メトキシエチ
ル基、メトキシプッビル基、エトキシメチル基等が挙げ
られる。R及びR8で示される置換アリール基の置換基
の数は、原料入手の容易さから1〜3であることが好ま
しい。また置換基の数が複数の場合には、それぞれの置
換基は互いに同種または異種であってもよい。
ル基、メトキシプッビル基、エトキシメチル基等が挙げ
られる。R及びR8で示される置換アリール基の置換基
の数は、原料入手の容易さから1〜3であることが好ま
しい。また置換基の数が複数の場合には、それぞれの置
換基は互いに同種または異種であってもよい。
前記一般式(1)中、R及びRで示される置換または非
置換のヘテロアリール基は、4HC限定されずに使用で
きる。#非置換ヘテロアリール基の具体例を示すと、フ
リル基、チェニル基、ピロリル基、ピリジル基、ベンゾ
フリル基、ベンゾチェニル基、インドリル基。
置換のヘテロアリール基は、4HC限定されずに使用で
きる。#非置換ヘテロアリール基の具体例を示すと、フ
リル基、チェニル基、ピロリル基、ピリジル基、ベンゾ
フリル基、ベンゾチェニル基、インドリル基。
キノリル基、ピラゾリル基等が挙げられる。
また、上記置換へテジアリール基の置換基の種類及びそ
の数は前記した置換アリール基で例示した置換基の種類
及びその数が同様に採用される。
の数は前記した置換アリール基で例示した置換基の種類
及びその数が同様に採用される。
前記一般式(1)中、R、R及びB で示されるアルキ
ル基は、特に制限されず直鎖状または分校状のものが用
いられる。また、その炭素数も#に制限されないが、原
料人手の容易さから1−〇であることが好適である。該
フルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、 1so−プロピル基。
ル基は、特に制限されず直鎖状または分校状のものが用
いられる。また、その炭素数も#に制限されないが、原
料人手の容易さから1−〇であることが好適である。該
フルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、 1so−プロピル基。
n−ズチル基、n−ヘキシル基等が挙げられる。また、
Rで示される置換のアルキル基としては、前記した非置
換のアルキル基中の水素の全部あるいは一部がフルコキ
シ基、アルキルチオ基、シアノ基、アルケニル基、アル
ケニルオキシ基、アリール基またはへテロ7リール基等
で置換されたものが好適である。
Rで示される置換のアルキル基としては、前記した非置
換のアルキル基中の水素の全部あるいは一部がフルコキ
シ基、アルキルチオ基、シアノ基、アルケニル基、アル
ケニルオキシ基、アリール基またはへテロ7リール基等
で置換されたものが好適である。
このような置換フルキル基の具体例を示すとメトキシメ
チル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキ
シエチル基、メトキシプロピル基、7リルオキシエチル
基、メチルチオエチル基、エチル千オニチル基、シアノ
メチル基、シアノエチル基、アリル基、アリルオキシエ
チル基、フェニルメチル基、フリルメチル基、チェニル
メチル基等が挙げられる。前記フェニルメチル基、フリ
ルメチル基。
チル基、エトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキ
シエチル基、メトキシプロピル基、7リルオキシエチル
基、メチルチオエチル基、エチル千オニチル基、シアノ
メチル基、シアノエチル基、アリル基、アリルオキシエ
チル基、フェニルメチル基、フリルメチル基、チェニル
メチル基等が挙げられる。前記フェニルメチル基、フリ
ルメチル基。
チェニルメチル基等、アリールまたはへテロ7リール基
で置換されたフルキル基の場合、該7リールまたはヘテ
pアリール基には置換基があってもよく、前記R及びR
で示される置換7リール基及びヘテー7リール基の置換
基の条件がそのまま適用できる。ただし、前記Rで示さ
れる置換フルキル基がハシアルキル基である場合は本発
明から除かれる。
で置換されたフルキル基の場合、該7リールまたはヘテ
pアリール基には置換基があってもよく、前記R及びR
で示される置換7リール基及びヘテー7リール基の置換
基の条件がそのまま適用できる。ただし、前記Rで示さ
れる置換フルキル基がハシアルキル基である場合は本発
明から除かれる。
本発明の前記一般式(1)中で示されるスルホンアミド
化合物は一部新規化合物、例えばR及び/またはR3が
置換または非置換のへゾロ7リール基であるものを含む
。これらの新規化合物については、次の手段によってそ
の構造を確認することができる。
化合物は一部新規化合物、例えばR及び/またはR3が
置換または非置換のへゾロ7リール基であるものを含む
。これらの新規化合物については、次の手段によってそ
の構造を確認することができる。
(イ) 赤外吸収スペクトル(IR)を測定することに
より、1600〜16500I+ にビニル基の二重
結合に基づく吸収、1370〜1320備 及び118
0〜11fiOcm″′1にスルホンアミド基のスルホ
ニル結合に基づく吸収等を観察することができる。代表
例として、N−(2,2−ジメチル−1−(2’−7リ
ル) )エチニルベンゼンスルホン7ミドの赤外吸収ス
ペクトルを第1図に示した。
より、1600〜16500I+ にビニル基の二重
結合に基づく吸収、1370〜1320備 及び118
0〜11fiOcm″′1にスルホンアミド基のスルホ
ニル結合に基づく吸収等を観察することができる。代表
例として、N−(2,2−ジメチル−1−(2’−7リ
ル) )エチニルベンゼンスルホン7ミドの赤外吸収ス
ペクトルを第1図に示した。
(ロ)質量スペクトル(MS)を測定し、観察される各
ピーク(一般にはイオン質量数mをイオンの荷電数eで
除したm/・で表される数)に相当する組成式を求める
ことにより、測定に供した化合物の分子量ならびに該分
子内における各原子団の結合様式を知ることができる。
ピーク(一般にはイオン質量数mをイオンの荷電数eで
除したm/・で表される数)に相当する組成式を求める
ことにより、測定に供した化合物の分子量ならびに該分
子内における各原子団の結合様式を知ることができる。
すなわち、測定に供した試料を一般式
%式%
で表した場合、一般に分子イオンピーク(以下、Moと
略記する)が分子中に含有されるハロゲン原子の個数に
応じて同位体存在比に従った強度比で観察されるため、
測定に供した化合物の分子量を決定することができる。
略記する)が分子中に含有されるハロゲン原子の個数に
応じて同位体存在比に従った強度比で観察されるため、
測定に供した化合物の分子量を決定することができる。
また前記一般式で示される化合物につい【は、
等に対応する特徴的なピークが観察され、蚊分子の結合
様式を知ることができる。
様式を知ることができる。
(ハ)IH−核磁気共鳴スペクトル(’H−NMR)を
測定することにより、前記一般式で表される本発明の化
合物中に存在する水素原子の結合様式を知ることができ
る。咳化合物の’)I−NMR(δppm :テトラメ
チルシラン基準9重りpaホルム溶媒)の代表例として
、N−(2,2−ジメチル−1−(2’−フリル)〕エ
テニルベンゼンスルホンアミドについての’H−NMR
ik第2図に示す。
測定することにより、前記一般式で表される本発明の化
合物中に存在する水素原子の結合様式を知ることができ
る。咳化合物の’)I−NMR(δppm :テトラメ
チルシラン基準9重りpaホルム溶媒)の代表例として
、N−(2,2−ジメチル−1−(2’−フリル)〕エ
テニルベンゼンスルホンアミドについての’H−NMR
ik第2図に示す。
その鱗析結果を示すと次のとおりである。
C且II 0匹3
(dh/(c)
1、6 s ppm及び1.88 ppm ICそれぞ
れ3個分のプロトンに相当する単一線が認められメチル
基(e)及び(d)によるものと帰属できる。6.9〜
7.0 ppm及び7.4〜7.6 ppmkそれぞれ
1個及び2個分のプF)ンに相当する多重線が認められ
、7ラン環(・)′に置換したブートンによるものと帰
属できる。
れ3個分のプロトンに相当する単一線が認められメチル
基(e)及び(d)によるものと帰属できる。6.9〜
7.0 ppm及び7.4〜7.6 ppmkそれぞれ
1個及び2個分のプF)ンに相当する多重線が認められ
、7ラン環(・)′に置換したブートンによるものと帰
属できる。
7.0〜7.1 ppmに1個分のプロトンに相当する
幅広い単一線が認められ、アミノ基のプロトン(b)に
よるものと帰属できる。
幅広い単一線が認められ、アミノ基のプロトン(b)に
よるものと帰属できる。
?、 23 ppmに5個分のプロトンに相当する単一
線が認められ、ベンゼン環(a)に置換したプロトンに
よるものと帰属できる。
線が認められ、ベンゼン環(a)に置換したプロトンに
よるものと帰属できる。
に)元素分析によって、炭素、水素、童素。
硫黄(及びハロゲンを含む場合にはハロゲン)の各重量
%を求め、さらに認知された各元素の重量%の和を10
0から減じることにより、酸素の重量%を算出すること
ができ、従って、該化合物の組成式を決定することかで
會る。
%を求め、さらに認知された各元素の重量%の和を10
0から減じることにより、酸素の重量%を算出すること
ができ、従って、該化合物の組成式を決定することかで
會る。
本発明のスルホンアミド化合物は前記一般式中のR、R
1−R8の種類によってその性状が異なるが、一般に常
温常圧においては、無色、淡黄色、淡褐色の固体または
液体でありある一定温度以上になると分解する傾向にあ
る。
1−R8の種類によってその性状が異なるが、一般に常
温常圧においては、無色、淡黄色、淡褐色の固体または
液体でありある一定温度以上になると分解する傾向にあ
る。
本発明の化合物は、ベンゼン、エーテル。
アセトン、アルコール、りaロホルム、7セトニトリル
、 N、N−ジメチルホルムアミド。
、 N、N−ジメチルホルムアミド。
ジメチルスルホキシド等の一般有機溶媒に可溶であるが
、水にはほとんど溶けない。
、水にはほとんど溶けない。
本発明の前記一般式(りで示されるスルホン7ξド化合
物の製造方法は特に限定されるものではなく、とのよ5
な製造方法でもよい。
物の製造方法は特に限定されるものではなく、とのよ5
な製造方法でもよい。
特に好適な製造方法を示すと次のとおりである。
一般式
%式%(2)
(ただし、Rは置換または非置換の7リール基またはヘ
テロアリール基を示し、n l 、 n 1は同種また
は異種の水素1子またはフルキル基を示す。) で表されるイミン化合物と、一般式 %式%(3) (ただし、R8は置換または非置換の7リール基、ヘテ
ロアリール基またはフルキル基を示し、2はハーゲン原
子、080.Rまたは080、CF、を示す。) で表されるスルホン酸ハライドまたはスルホン酸無水物
とを反応させることによって、前記一般式(1)で表さ
れるスルホン7ミド化合物が得られる。
テロアリール基を示し、n l 、 n 1は同種また
は異種の水素1子またはフルキル基を示す。) で表されるイミン化合物と、一般式 %式%(3) (ただし、R8は置換または非置換の7リール基、ヘテ
ロアリール基またはフルキル基を示し、2はハーゲン原
子、080.Rまたは080、CF、を示す。) で表されるスルホン酸ハライドまたはスルホン酸無水物
とを反応させることによって、前記一般式(1)で表さ
れるスルホン7ミド化合物が得られる。
該反応において、イミン化合物とスルホン酸ハライドま
たはスルホン酸無水物との仕込みモル比は必要に応じて
適宜決定すればよいが1通常等モルもしくはスルホン酸
ハライドまたはスルホン酸無水物を少し過剰に用いるの
が一般的である。また反応には一般に有機溶媒を用いる
のが好ましく、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ク
ールホルム、N、N−ジメチルホルムアミド等が好適に
使用される。
たはスルホン酸無水物との仕込みモル比は必要に応じて
適宜決定すればよいが1通常等モルもしくはスルホン酸
ハライドまたはスルホン酸無水物を少し過剰に用いるの
が一般的である。また反応には一般に有機溶媒を用いる
のが好ましく、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、ク
ールホルム、N、N−ジメチルホルムアミド等が好適に
使用される。
また反応においては、ハロゲン化水素またはスルホン酸
が副生ずる。このハロゲン化水素またはスルホン酸は反
応系内で、一般式(2)で表されるイミン化合物と反応
し、生成物の収率を低下させる1因になるので1通常は
反応系内にハロゲン化水素捕捉剤を共存させることが好
ましい。咳ハpゲン化水素捕捉剤は特に限定されず公知
のものを使用することができるが、一般に好適に使用さ
れるハロゲン化水素捕捉剤として、トリメチルアミン、
トリエチルアミン等の17フルキルアiン;ピリジン;
ジアザビシクロオクタン;ナトリウムアルコラード;炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。反応にお
ける原料の添加順序は特に限定されないが、一般に溶媒
に前記一般式(2)で示されるイミン化合物を溶解して
反応器に仕込み、溶媒に溶解した前記一般式(3)で示
されるスルホン酸ハライドまたはスルホン蒙無水物を攪
拌下に添加するのがよい。
が副生ずる。このハロゲン化水素またはスルホン酸は反
応系内で、一般式(2)で表されるイミン化合物と反応
し、生成物の収率を低下させる1因になるので1通常は
反応系内にハロゲン化水素捕捉剤を共存させることが好
ましい。咳ハpゲン化水素捕捉剤は特に限定されず公知
のものを使用することができるが、一般に好適に使用さ
れるハロゲン化水素捕捉剤として、トリメチルアミン、
トリエチルアミン等の17フルキルアiン;ピリジン;
ジアザビシクロオクタン;ナトリウムアルコラード;炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。反応にお
ける原料の添加順序は特に限定されないが、一般に溶媒
に前記一般式(2)で示されるイミン化合物を溶解して
反応器に仕込み、溶媒に溶解した前記一般式(3)で示
されるスルホン酸ハライドまたはスルホン蒙無水物を攪
拌下に添加するのがよい。
勿論、連続的に反応系に原・料を添加し、生成した反応
物を連続的に該反応系から取出すこともできる。反応温
度は広い範囲から選択でき、一般には一20℃〜150
℃、好ましくは0℃〜100℃の範囲で選べば十分であ
る。
物を連続的に該反応系から取出すこともできる。反応温
度は広い範囲から選択でき、一般には一20℃〜150
℃、好ましくは0℃〜100℃の範囲で選べば十分であ
る。
反応時間は原料の種類によっても違うが、通常5分〜1
0日間、好ましくは1〜40時間の範囲から選べば十分
である。また、反応中においては、攪拌を行うのが好ま
しい。
0日間、好ましくは1〜40時間の範囲から選べば十分
である。また、反応中においては、攪拌を行うのが好ま
しい。
反応系から目的生成物、すなわち、前記一般式(1)で
示されるスルホンアミド化合物な単離生成する方法は、
特に限定されず公知の方法を採用できる。例えば、反応
液から過剰の反応試薬及び生成する塩を除去した後、残
渣をベンゼン、トルエン、クロロホルム等の有機溶媒で
抽出する。咳有機層については、芒硝、塩化カルシウム
等の乾燥剤で乾燥した後有機溶媒を留去し、目的物を得
る。精製手段は必要に応じて実施すれば曳いが、再結晶
。
示されるスルホンアミド化合物な単離生成する方法は、
特に限定されず公知の方法を採用できる。例えば、反応
液から過剰の反応試薬及び生成する塩を除去した後、残
渣をベンゼン、トルエン、クロロホルム等の有機溶媒で
抽出する。咳有機層については、芒硝、塩化カルシウム
等の乾燥剤で乾燥した後有機溶媒を留去し、目的物を得
る。精製手段は必要に応じて実施すれば曳いが、再結晶
。
クロマトグラフィー、真空蒸留等が好適に使用すること
ができる。
ができる。
また、該反応においては、前記一般式(1)で表される
化合物の他に、下記一般式 %式% (ただし、R,R、R及びRは前記一般式(1)と同じ
。) で表される化合物が生成する場合がある。
化合物の他に、下記一般式 %式% (ただし、R,R、R及びRは前記一般式(1)と同じ
。) で表される化合物が生成する場合がある。
本発明の前記一般式(りで示されるスルホンアミド化合
物は、ゴマ葉枯病菌や萎ちょう病菌等の植物病厘薗、水
虫薗や大腸菌等に対して強い抗菌活性を有しているため
、殺菌剤として有用である。これらの特性は公知のスル
ホンアミド化合物では認められていなかったものである
。
物は、ゴマ葉枯病菌や萎ちょう病菌等の植物病厘薗、水
虫薗や大腸菌等に対して強い抗菌活性を有しているため
、殺菌剤として有用である。これらの特性は公知のスル
ホンアミド化合物では認められていなかったものである
。
本発明の化合物は、例えば担子菌類、そう菌類、子のう
菌類、不完全菌類及び細菌類等VcMする多種病厘薗に
対して広範囲に適用することができる。特に、本発明の
スルホンアミド化合物は、枯草菌、ゴマ葉枯病菌、萎チ
ョウ病菌、白鮮菌及び大腸菌等に優れた殺菌力を示すも
のである。
菌類、不完全菌類及び細菌類等VcMする多種病厘薗に
対して広範囲に適用することができる。特に、本発明の
スルホンアミド化合物は、枯草菌、ゴマ葉枯病菌、萎チ
ョウ病菌、白鮮菌及び大腸菌等に優れた殺菌力を示すも
のである。
(実施例)
本発明をさらに具体的に説明するため、以下、実施例及
び合成例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
び合成例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例
に限定されるものではない。
合成例 1
α−イングロビルーフル7リデンアミン1、501のク
ーロホルム(10I+Ij)W!液k。
ーロホルム(10I+Ij)W!液k。
1.4−ジアザビシクジ−(2,2,2)オクタン1.
47N&210jLヘンゼンスルホニルクロライド2.
3211のりg+−ホルム(12mg)を滴下した。−
晩攪拌後、反応液を氷水中に注加し、りI:I−ホルム
で抽出した。クロロホルム層を無水硫激ナトリウムで乾
燥後、クロロホルムを留去し、・残渣をシリカゲルクロ
マト(ベンゼン/7セトン)Kより精製すると、淡褐色
固体が0.75Ii得られた。
47N&210jLヘンゼンスルホニルクロライド2.
3211のりg+−ホルム(12mg)を滴下した。−
晩攪拌後、反応液を氷水中に注加し、りI:I−ホルム
で抽出した。クロロホルム層を無水硫激ナトリウムで乾
燥後、クロロホルムを留去し、・残渣をシリカゲルクロ
マト(ベンゼン/7セトン)Kより精製すると、淡褐色
固体が0.75Ii得られた。
このものの!Rを測定した結果は第1図に示すとおりで
ある。
ある。
その元素分析値は、C60,58%、H5,45%、N
5.00%であって1組成式C1,H,,No、8(2
77,34)に対する計算値であるC60.63%、H
5,45%、N5.05%に良く一致した。
5.00%であって1組成式C1,H,,No、8(2
77,34)に対する計算値であるC60.63%、H
5,45%、N5.05%に良く一致した。
またMBfk’lA定したところ、m/・277にMe
に対応するピーク、m/・136にMe−80←コ)に
対応する各ピークを示した。
に対応するピーク、m/・136にMe−80←コ)に
対応する各ピークを示した。
また、’H−NMR(δ: ppm ;テトラメチルシ
ラン基準9重りp−ホルム溶媒)を測定した結果を第2
図に示した。その解析結果は次のとおりであった。
ラン基準9重りp−ホルム溶媒)を測定した結果を第2
図に示した。その解析結果は次のとおりであった。
(a) (b) (a)
1、68 ppm及び1.88 ppmにそれぞれプロ
トン3個分の単一線を示し、(c)及び(d)のメチル
プロトンに相当した。6.9〜7.0 ppm及び7.
4〜7.6 ppmにそれぞれプロトン1個及びプty
)72個分の多重線を示し、(@)のフラン環のブート
ンに相当した。7.0〜7.1ppmKプロトン1側分
の幅広い単−麓を示しくb)のアミ7基のプレトンに相
当した。7.23ppmにプロトン5個分の単一線を示
し、(、&”)のベンゼン環のプロトンに相当した。
トン3個分の単一線を示し、(c)及び(d)のメチル
プロトンに相当した。6.9〜7.0 ppm及び7.
4〜7.6 ppmにそれぞれプロトン1個及びプty
)72個分の多重線を示し、(@)のフラン環のブート
ンに相当した。7.0〜7.1ppmKプロトン1側分
の幅広い単−麓を示しくb)のアミ7基のプレトンに相
当した。7.23ppmにプロトン5個分の単一線を示
し、(、&”)のベンゼン環のプロトンに相当した。
上記の結果から、単離生成物が、N −(2゜2−ジメ
チル−1−(2’−フリル)〕エチニルベンゼンスルホ
ン7ミドであることが明らかとなった。収率は24.8
%であった。
チル−1−(2’−フリル)〕エチニルベンゼンスルホ
ン7ミドであることが明らかとなった。収率は24.8
%であった。
また、この反応においては、上記化合物の他に、薄層ク
ロマトにおいて(溶媒系;ベンゼンニア七トン÷30:
1)Rf値が0.7〜0.8のととろく濃いスポットが
存在した。(ちなみに、上記化合物のRf値は0.4〜
0.5であった。)このスポットの化合物を前記と同様
にシリカゲルカラムクルマドで単離精製すると、淡褐色
固体が1.169得られた。
ロマトにおいて(溶媒系;ベンゼンニア七トン÷30:
1)Rf値が0.7〜0.8のととろく濃いスポットが
存在した。(ちなみに、上記化合物のRf値は0.4〜
0.5であった。)このスポットの化合物を前記と同様
にシリカゲルカラムクルマドで単離精製すると、淡褐色
固体が1.169得られた。
その元素分析値は、C60,43%、 H5,47%、
N 4.98%であって、組成式Cl4H1゜NO,
S(277,34)VC対する計算値であルC60,6
3%、H5,45%、N5.05%に良く一致した。
N 4.98%であって、組成式Cl4H1゜NO,
S(277,34)VC対する計算値であルC60,6
3%、H5,45%、N5.05%に良く一致した。
またMSを測定したところ、m/・278にMe+I
IC対応するピーク、 m / * 136にMe−
80−f3に対応する各ピークを示した。
IC対応するピーク、 m / * 136にMe−
80−f3に対応する各ピークを示した。
また、’H−NMR(δ:ppm; テトラメチルシラ
ン基準1重りT:Ipホルム溶媒)を測定した結果は次
のとおりであった。
ン基準1重りT:Ipホルム溶媒)を測定した結果は次
のとおりであった。
(・)(a)
1、24 ppmにプロトン6個分の二重線を示し、(
b)及び((+)のメチルプロトンに相当した。3.7
2 ppmにブートン1個分の五重線を示し、(d)の
ブートンに相当した。6.4〜6.6ppm及び7.8
〜8.1 ppmにそれぞれプロトン1個及び2個分の
多重線を示し、(・)のフラン環のブートンに相当した
。7.2〜7.7 ppmにプロトン5個分の多重線を
示し、(a)のベンゼン環のプロトンに相当した。
b)及び((+)のメチルプロトンに相当した。3.7
2 ppmにブートン1個分の五重線を示し、(d)の
ブートンに相当した。6.4〜6.6ppm及び7.8
〜8.1 ppmにそれぞれプロトン1個及び2個分の
多重線を示し、(・)のフラン環のブートンに相当した
。7.2〜7.7 ppmにプロトン5個分の多重線を
示し、(a)のベンゼン環のプロトンに相当した。
上記の結果から、単離生成物が、α−インプpピルフル
7リデンーベンゼンスルホニルアミンであり、酸反応に
おいては、上記化合物も生成することが明らかとなった
。収率は38.3%であった。
7リデンーベンゼンスルホニルアミンであり、酸反応に
おいては、上記化合物も生成することが明らかとなった
。収率は38.3%であった。
合成例 2
合成例1と同様な方法により種々の下記一般式で示され
る化合物、 R−C−NH8O,R (ただし、R,R”〜R8は第1表に記した。)を合成
した。合成した化合物の収率1元素分析値を第1表に示
した。
る化合物、 R−C−NH8O,R (ただし、R,R”〜R8は第1表に記した。)を合成
した。合成した化合物の収率1元素分析値を第1表に示
した。
また、llIl表における略記はそれぞれ次に示すとお
りである。
りである。
Et;エチル基、n−Pr;ノルマルプロピル基、1s
oPr;イソプロピル基、n−Bu;ノルマルズチル基
、n4x”、ノルマルヘキシル基。
oPr;イソプロピル基、n−Bu;ノルマルズチル基
、n4x”、ノルマルヘキシル基。
実施例 1
1.5%寒天を含む栄養培地を121℃で15分加熱滅
薗した後、50℃まで冷却し、これにあらかじめ生育さ
せておいた菌体または抱子を無菌水に懸濁したものを入
れて曳く混合し、シャーレに注入して平板に固化させた
。
薗した後、50℃まで冷却し、これにあらかじめ生育さ
せておいた菌体または抱子を無菌水に懸濁したものを入
れて曳く混合し、シャーレに注入して平板に固化させた
。
合成例2で合成したN −(1−(4’−りahaフェ
ニル) −2,2−ジメチル〕エテエ/レベンゼンスル
ホンアミド(化合物421)を約15%含有しているメ
タノール溶液に、直径@wxの円型口紙を浸し、1紙上
で余剰分を除き、固化した寒天培地上に置いた。約30
℃で24〜48時間培養後、阻止円の直径を測定した。
ニル) −2,2−ジメチル〕エテエ/レベンゼンスル
ホンアミド(化合物421)を約15%含有しているメ
タノール溶液に、直径@wxの円型口紙を浸し、1紙上
で余剰分を除き、固化した寒天培地上に置いた。約30
℃で24〜48時間培養後、阻止円の直径を測定した。
対照の細菌、かびとして、エッシエリッチ7φコリB
(Eseh@richia colt B )+バ
チラスーサブチリス(Batillus su−bt
llom )、7スペルギルス・ニゲル(Asper
glllug niger )、コクリオボラス・
ミャペ7ナス(Cochliobolusmlyabe
anus )* )す:lフイトン・ルブラム(Tri
chophyton rubrum)。
(Eseh@richia colt B )+バ
チラスーサブチリス(Batillus su−bt
llom )、7スペルギルス・ニゲル(Asper
glllug niger )、コクリオボラス・
ミャペ7ナス(Cochliobolusmlyabe
anus )* )す:lフイトン・ルブラム(Tri
chophyton rubrum)。
7サリウム拳オキシスポラム(Fusariumoxy
sporum)を用いて行った。抗菌試験の結果を第2
表に示した。
sporum)を用いて行った。抗菌試験の結果を第2
表に示した。
第 2 表
実施例 2
合成例1及び合成例2で合成した化合物を実施例1と同
様な方法で抗菌試験を行い、阻止内の直径を測定した。
様な方法で抗菌試験を行い、阻止内の直径を測定した。
その結果をs3表に示した。ただし、効果のないものに
ついては−で表した。
ついては−で表した。
第1図及び第2図は合成例1で得られたスルホンアミド
化合物のIRスペクトル及びπ−NMRスペクトルをそ
れぞれ示す。
化合物のIRスペクトル及びπ−NMRスペクトルをそ
れぞれ示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ただし、Rは置換または非置換のアリール基またはヘ
テロアリール基を示し、R^1及びR^2は同種または
異種の水素原子またはアルキル基を示し、R^3は置換
または非置換のアリール基、ヘテロアリール基またはア
ルキル基(ただし、置換アルキル基の内、ハロゲン原子
で置換されたものは除く)を示す〕 で表されるスルホンアミド化合物を有効成分とする殺菌
剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62082954A JPH07108843B2 (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | 殺菌剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62082954A JPH07108843B2 (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | 殺菌剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63250303A true JPS63250303A (ja) | 1988-10-18 |
JPH07108843B2 JPH07108843B2 (ja) | 1995-11-22 |
Family
ID=13788614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62082954A Expired - Lifetime JPH07108843B2 (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | 殺菌剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07108843B2 (ja) |
-
1987
- 1987-04-06 JP JP62082954A patent/JPH07108843B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07108843B2 (ja) | 1995-11-22 |
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