JPS63242371A - 塗布材料の塗布装置 - Google Patents
塗布材料の塗布装置Info
- Publication number
- JPS63242371A JPS63242371A JP7912887A JP7912887A JPS63242371A JP S63242371 A JPS63242371 A JP S63242371A JP 7912887 A JP7912887 A JP 7912887A JP 7912887 A JP7912887 A JP 7912887A JP S63242371 A JPS63242371 A JP S63242371A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dust preventing
- wafer
- vacuum chuck
- coating material
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 19
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 101100327917 Caenorhabditis elegans chup-1 gene Proteins 0.000 description 1
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Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は塗布材料の塗布装置に関するもので、特に半
導体装置の製造等に際し行なわれる写真製版に用いられ
る塗布材料の塗布装置に関するものである。
導体装置の製造等に際し行なわれる写真製版に用いられ
る塗布材料の塗布装置に関するものである。
［従来の技術］
第３図は従来の半導体装置製造装置のレジスト塗布、現
像装置の構造を示す図であり、図において、１はコータ
ーカップ、３はウェハ、４は真空チャック、５はレジス
ト吐出手段、７は排気ダクトである。ウェハ３上にレジ
ストまたは現像液を滴下させ、真空チャックを回転させ
ることによりレジストまたは現像液を均一に延ばし、そ
のときに発生するレジスト、現像液の飛び散りを排気ダ
クト７から吸引してミストのウェハ３への封管を防いで
いる。
像装置の構造を示す図であり、図において、１はコータ
ーカップ、３はウェハ、４は真空チャック、５はレジス
ト吐出手段、７は排気ダクトである。ウェハ３上にレジ
ストまたは現像液を滴下させ、真空チャックを回転させ
ることによりレジストまたは現像液を均一に延ばし、そ
のときに発生するレジスト、現像液の飛び散りを排気ダ
クト７から吸引してミストのウェハ３への封管を防いで
いる。
［発明が解決しようとする問題点］
従来の回転塗布、現像装置では、排気ダクト７により塗
布時に塗布材料から発生するミストを強制的に吸引して
いるため、コーターカップ１内に空気の流れが発生しそ
れに伴って塗布材料が散乱され、厚い膜厚を得ようとす
る際に塗布材料を均一に塗布することが困難であった。
布時に塗布材料から発生するミストを強制的に吸引して
いるため、コーターカップ１内に空気の流れが発生しそ
れに伴って塗布材料が散乱され、厚い膜厚を得ようとす
る際に塗布材料を均一に塗布することが困難であった。
また、装置自体も排気の配管で複雑なものとなるという
問題点があった。
問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、排気を行なわずに塗布時に発生するミストの
ウェハ上への付着を防ぎ、均一な膜厚を得ることを目的
とする。
たもので、排気を行なわずに塗布時に発生するミストの
ウェハ上への付着を防ぎ、均一な膜厚を得ることを目的
とする。
［間居点を解決するための手段］
この発明に係る塗布材料の塗布装置は、コーターカップ
内に防塵手段を形成するとともに、排気のための排気ダ
クトを除去したものである。
内に防塵手段を形成するとともに、排気のための排気ダ
クトを除去したものである。
［作用］
この発明における塗布材料の塗布装置は、塗布時に塗布
材料から発生したミストを防塵手段で捕捉するようにし
たため、ミストのウェハ上への付着を防ぐことができる
。
材料から発生したミストを防塵手段で捕捉するようにし
たため、ミストのウェハ上への付着を防ぐことができる
。
［発明の実施例］
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図（ａ）は塗布装置の平面図、第１図（ｂ）は第１図（
ａ）図のＡ−Ａに沿った断面図を示す。
図（ａ）は塗布装置の平面図、第１図（ｂ）は第１図（
ａ）図のＡ−Ａに沿った断面図を示す。
図において、真空チャック４に吸着されたウェハ３にレ
ジストまたは現像液をレジスト吐出ノズル５から滴下し
真空チャック４を回転させ塗布、現像液をウェハ全面に
均一に延ばす。このとき、余分なレジスト、現像液はウ
ェハ３の端より飛び散り、防塵板２に当たり跳ね返るが
、第１図（ａ）に示すように防塵板２を回転方向に対し
て接線方向に拡がるように配置すれば、第２図に示すよ
うにウェハ３の端より飛び散ったレジストは図中の矢印
の方向へ飛び防塵板２ｂに当たる。防塵板２ｂに当たっ
たレジストは跳ね返るが、そのときの跳ね返る方向は矢
印の方向で、防塵板２ａの裏面に当たりウェハ３には付
着することはない。
ジストまたは現像液をレジスト吐出ノズル５から滴下し
真空チャック４を回転させ塗布、現像液をウェハ全面に
均一に延ばす。このとき、余分なレジスト、現像液はウ
ェハ３の端より飛び散り、防塵板２に当たり跳ね返るが
、第１図（ａ）に示すように防塵板２を回転方向に対し
て接線方向に拡がるように配置すれば、第２図に示すよ
うにウェハ３の端より飛び散ったレジストは図中の矢印
の方向へ飛び防塵板２ｂに当たる。防塵板２ｂに当たっ
たレジストは跳ね返るが、そのときの跳ね返る方向は矢
印の方向で、防塵板２ａの裏面に当たりウェハ３には付
着することはない。
またこの防塵板の角度を真空チャック４の回転数に合わ
せて変化させることにより、いかなる回転数にも対応し
得る。
せて変化させることにより、いかなる回転数にも対応し
得る。
なお上記実施例では回転塗布、現像装置について説明し
たが、スピンドライヤー等の回転力を利用した装置でも
上記実施例と同様の効果を奏する。
たが、スピンドライヤー等の回転力を利用した装置でも
上記実施例と同様の効果を奏する。
［発明の効果］
以上のように、この発明によれば、防塵板を肢塗布物体
の外周に設は排気を行なわずにレジスト、現像液のよう
な塗布材料の跳ね返りを防ぐことができるため、均一に
レジスト塗布、あるいは均一に現像ができる。また排気
配管が不要となり、装置自体の簡素化も可能である。
の外周に設は排気を行なわずにレジスト、現像液のよう
な塗布材料の跳ね返りを防ぐことができるため、均一に
レジスト塗布、あるいは均一に現像ができる。また排気
配管が不要となり、装置自体の簡素化も可能である。
第１図は、この発明の一実施例による塗布材料の塗布装
置の構造を示す平面図、断面図で、第２図は動作原理図
、第３図は従来の塗布材料の塗布装置の断面図である。 １はコーターカップ、２は防塵板、３はウニ／Ｘ。 ４は真空チャック、５はレジスト吐出ノズル、６はレジ
スト現像液の飛び散る方向、７は排気ダクトである。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
置の構造を示す平面図、断面図で、第２図は動作原理図
、第３図は従来の塗布材料の塗布装置の断面図である。 １はコーターカップ、２は防塵板、３はウニ／Ｘ。 ４は真空チャック、５はレジスト吐出ノズル、６はレジ
スト現像液の飛び散る方向、７は排気ダクトである。 なお、図中、同一符号は同一、または相当部分を示す。
Claims (3)
- （１）被塗布物体に塗布材料を塗布するための装置であ
って、被塗布物体を保持して回転させる手段と、前記保
持回転手段に保持された被塗布物体に塗布材料を供給す
る手段と、前記保持回転手段に保持された被塗布物体の
外周に被塗布物体の接線方向に曲率を有するよう設けた
複数の不連続な防塵手段とからなる塗布材料の塗布装置
。 - （２）前記塗布材料をレジストおよび現像液としたこと
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の塗布材料の
塗布装置。 - （３）前記防塵手段の取付角度は、被塗布物体を保持し
て回転するための手段の回転数に応じて変化させること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の塗布材料の
塗布装置。（４）前記塗布物体に塗布材料を塗布する装
置を回転式乾燥機としたことを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7912887A JPS63242371A (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 塗布材料の塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7912887A JPS63242371A (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 塗布材料の塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63242371A true JPS63242371A (ja) | 1988-10-07 |
Family
ID=13681305
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7912887A Pending JPS63242371A (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 塗布材料の塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63242371A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115198222A (zh) * | 2022-07-21 | 2022-10-18 | 刘玉笼 | 一种金属薄膜加工生产线 |
-
1987
- 1987-03-30 JP JP7912887A patent/JPS63242371A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115198222A (zh) * | 2022-07-21 | 2022-10-18 | 刘玉笼 | 一种金属薄膜加工生产线 |
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