JPH02252232A - レジスト塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） 本発明は、レジスト塗布装置に関する。

（従来の技術） 例えば半導体ウェハ等の基板に所定の処理液、例えばフ
す！・レジスト液、現像液、洗浄液等を供給して処理を
行う基板処理装置には、基板を回転させて例えばフォト
レジスト液を基板に塗布したり、現像液、洗浄液等を基
板面から除去（乾燥）するものがある。このような装置
は、一般にスピンナーと称されている。

第４図および第５図は、このような基板処理装置の一例
として半導体ウェハ１にフォトレジスト液を塗布するレ
ジスト塗布装置の構成を示すもので、例えば真空チャッ
ク等により半導体ウェハ１を吸着保持する保持台２は、
回転駆動機構３に接続されており、半導体ウェハ１を高
速回転可能に構成されている。

また、保持台２の上方には、半導体ウェハ１表面に所定
量のフォトレジスト液を供給可能に構成されたレジスト
供給装置のノズル４が設けられている。そして、このノ
ズル４から供給したフォトレジスト液を半導体ウェハ１
を高速回転させることにより、半導体ウェハ１の全面に
均一に塗布するよう構成されている。

さらに、保持台２の周囲には、上記フォトレジスト液の
塗布時に半導体ウェハ１から飛散する余いる。このカッ
プ５は、例えば樹脂等からなる下カップ６と内カップ７
と外カップ８とから構成されている。

すなわち、下カップ６は、環状の容器状に構成されてお
り、その内側には仕切りリング６ａが設けられ、仕切り
リング６ａの外周側には液体排出口９が、内周側には排
気口１０が設けられている。

また、内カップ７は、下カップ６の内周側の側壁６ｂ上
に載置され、仕切りリング６ａとの間に間隔を設けて下
カップ６の上部を覆う如く環状に構成されており、外カ
ップ８は、下カップ６の外周側の側壁６Ｃ上に載置され
半導体ウェハ１上部を残して下カップ６および内カップ
７の上部を覆う如く環状に構成されている。

そして、半導体ウェハ１の高速回転に伴って飛散した余
剰のフォトレジスト液は、カップ５内から下カップ６の
底部に設けられた液体排出口９を通って外部に導出され
るよう構成されている。また、この時、余剰のフォトレ
ジスト液の一部は、ミスト状になって飛散するので、排
気口１０から排気を行うことにより、第４図に矢印で示
すような気体流を形成し、このミスト状のフォトレジス
ト液がカップ５の外部に飛散することを防止するよう構
成されている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、上記説明の従来のレジスト塗布装置では
、第５図に矢印で示すように（矢印の長さは排気流の相
対的な強弱を示す）、カップ５内の排気流が排気口１０
の近傍で強く、排気口１０の反対側（液体排出口９の近
傍で）で弱くなる。

このため排気流の弱い部分で発生したミスト状の処理液
（フォトレジスト液）が排気されず、例えばミスト状の
処理液がカップ５の外部に漏洩したり、例えば半導体ウ
ェハ１の不所望部位等に付着したりするという問題があ
った。

本発明は、かかる従来の事情に対処してなされたもので
、従来に較べてカップ内の排気を均一化することができ
、ミスト状となった処理液がカップ外へ飛散したり、半
導体ウェハの不所望部位等に付着することを防止するこ
とのできるレジスト塗布装置を提供しようとするもので
ある。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） すなわち本発明のレジスト塗布装置は、被処理基板にレ
ジスト液を供給する処理液供給手段と、前記被処理基板
を回転させる駆動手段と、前記被処理基板の周囲を囲む
如く設けられ該被処理基板の回転に伴って飛散する前記
レジスト液を捕集するカップと、このカップ内から排気
する排気手段と、前記カップ内に該カップと同軸的に設
けられ、前記排気手段による排気を均一化する環状のオ
リフィスとを備えたことを特徴とする。

（作　用） 本発明のレジスト塗布装置では、被処理基板の回転に伴
って飛散する処理液を捕集するカップ内に、排気手段に
よる排気を均一化する環状のオリフィ、スがこのカップ
と同軸的に設けられている。

したがって、従来のレジスト塗布装置のように特に排気
流速の低い部位等が形成されることがなく、ミスト状と
なった処理液がカップ外へ飛散したり、半導体ウェハの
不所望部位等に付着することを防止することができる。

（実施例） 以下、本発明を半導体ウェハにフォトレジスト液を塗布
するレジスト塗布装置に適用した実施例を図面を参照し
て説明する。

例えば真空チャック等により半導体ウェハ１１を吸着保
持する保持台１２は、モータ等の回転駆動機構１３に接
続されており、半導体ウニｌ＼１１を高速回転可能に構
成されている。

また、保持台１２の上方には、半導体ウェハ１１表面に
所定量のフォトレジスト液を供給可能に構成されたレジ
スト供給装置のノズル１４が設けられている。そして、
このノズル１４から１供給滴下されたフォトレジスト液
を半導体ウエノＸ１１を高速回転させることにより、半
導体ウニ１Ｘ１１の全面に均一に塗布するよう構成され
ている。

さらに、保持台１２の周囲には、上記フォトレジスト液
の塗布時に半導体ウエノ１１１から飛散する余剰のフォ
トレジスト液を捕集し、外部へ飛散することを防止する
ためのカップ１５が、半導体ウェハ１１の周囲を囲む如
く設けられている。このカップ１５は、例えば樹脂等か
ら形成された下カップ１６と、内カップ１７と、外カッ
プ１８とから構成されている。

すなわち、下カップ１６は、環状容器形状に構成されて
おり、第２図にも示すようにその内側には、下カップ１
６と同心的に環状のオリフィス１９が設けられている。

このオリフィス１９は、直径例えば５ＩＩＩＩＩ−１Ｏ
■の円孔からなる整流孔１９ａを等間隔例えば１０〜２
０度おきに設けて構成されている。そして、下カップ１
６底部のオリフィス１９内側には、図示しない排気装置
に接続された排気口２０が設けられている。また、下カ
ップ１６底部のオリフィス１９内側には、余剰のレジス
ト液を排出するための液体排出口２１が設けられている
。なお、整流孔１９ａはどのような形状としてもよいが
、一つの整流孔１９ａの大きさを小さくし、多数設ける
ことが好ましく、少なくとも排気口２０の径に対して、
一つの整流孔１９ａの径を１１５以下とすることが好ま
しい。

また、内カップ１７は、上記下カップ１６の形状に合せ
て環状に構成されており、下カップ１６の内側の側壁１
６ａとオリフィス１９の上に載置され、側壁１６ａとオ
リフィス１９との間に排気室２２を形成する如（設けら
れている。

さらに、外カップ１８は、上記下カップ１６の形状に合
せて環状に構成されており、下カップ１６の外側の側壁
１６ｂ上に載置され半導体ウエノ１１１上部を残して下
カップ１６および内カップ１７の上部を覆う如く構成さ
れている。

すなわち、半導体ウェハ１１の高速回転に伴ってカップ
１５内に飛散した余剰のフォトレジスト液は、下カップ
１６の底部に設けられた液体排出口２１を通って外部に
導出されるよう構成されている。また、この時、余剰の
フォトレジスト液の一部は、ミスト状になって飛散する
ので、排気口２０から排気を行うことにより、図示矢印
の如く気体流を形成し、このミスト状のフォトレジスト
液がカップ１５の外部に飛散することを防止するよう構
成されている。

この時、オリフィス１９により排気気体流が制限され、
排気室２２内外で若干の圧力差が生じ、排気室２２内の
圧力はほぼ均一になる。したがって、オリフィス１９の
各整流孔１９ａから排気室２２内に流入する気体流量は
、場所によらずほぼ均一となる。例えば直径２０ｃｍの
オリフィス１９に直径９ＩＩＩＩＩｌの整流孔１９ａを
１５度おきに設けた場合、排気流量のばら付きを±１０
％以内とすることができた。

このため、従来のレジスト塗布装置のように特に排気流
速の低い部位等が形成されることがなく、ミスト状とな
ったフォトレジスト液がカップ１５外へ飛散したり、半
導体ウエノ＼１１の不所望部位等に付着することを防止
することができる。

なお、上記実施例では、本発明をレジスト塗布装置に適
用した実施例について説明したが、本発明はかかる実施
例に限定されるものではなく、般にスピンナーと称され
る装置であれば、例えば現像装置、洗浄装置等に適用す
ることができることはもちろんである。

また、上記実施例では、複数の円形の整流孔１９ａ有す
るオリフィス１９を設けた例について説明したが、例え
ば第３図に示すように上部から切り込みを設ける如く形
成された例えばＵ字状の整流孔３０ａを有するオリフィ
ス３０、あるいはパンチングメタルまたはメツシュ状の
部材等を用いたオリフィス等排気気体流を均一化するこ
とのできるものであればどのような形状のオリフィスを
用いてもよい。

［発明の効果］ 上述のように、本発明のレジスト塗布装置では、従来に
較べてカップ内の排気を均一化することができ、ミスト
状となった処理液がカップ外へ飛散したり、半導体ウェ
ハの不所望部位等に付着することを防止することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明の一実施例のレジスト塗布
装置の構成を示す図、ＴＳ３図は第１図の変形例を示す
図、第４図および第５図は従来のレジスト塗布装置の構
成を示す図である。 １１・・・・・・半導体ウェハ、１２−・・・・・・保
持台、１３・・・・・・回転駆動機構、１４・・・・・
・レジスト供給用のノズル、１５・・・・・・カップ、
１６・・・・・・下カップ、１７・・・・・・内カップ
、１８・・・・・・外カップ、１９・・・・・・オリフ
ィス、１９ａ・・・・・・整流孔、２０・・・・・・排
気口、２１・・・・・・液体排出口、２２・・・・・・
排気室。 出願人　　　　　　東京エレクトロン株式会社出願人　
　　　　　チル九州株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）被処理基板にレジスト液を供給する処理液供給手
   段と、前記被処理基板を回転させる駆動手段と、前記被
   処理基板の周囲を囲む如く設けられ該被処理基板の回転
   に伴って飛散する前記レジスト液を捕集するカップと、
   このカップ内から排気する排気手段と、前記カップ内に
   該カップと同軸的に設けられ、前記排気手段による排気
   を均一化する環状のオリフィスとを備えたことを特徴と
   するレジスト塗布装置。