JPS584587B2 - 回転式粘性剤塗布方法およびその装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基板の表面に粘性剤を塗布する回転式粘性剤塗
布方法およびその装置に関し、特に、粘性剤の粘度が小
さい場合に基板に粘性剤を均一な膜厚に塗布する方法お
よびその装置を提供しようとするものである。

まず、従来の回転式粘性剤塗布装置について第１図とと
もに説明する。

この第１図において、１は基板であり、この基板１は試
料ホルダ２に記載されている。

そして、この試料ホルダ２はモニタ３の回転軸に支持さ
れ、かつ、このモータ３によって回転される。

４は、上記基板１、試料ホルダ２、モータ３を収納する
容器である。

５はこの容器４に載置される蓋である。

上記構成において、基板１上に粘性剤を滴下し、モータ
３を駆動すると、粘性剤は基板１上に広が名 ０ しかし、粘性剤の粘度が低いと基板１の周端から飛散し
た粘性剤の一部は容器４の内壁面ではね返り、再度、基
板１に付着する。

この粘性剤の再付着番とより、基板１上の粘性剤表面に
凹凸が生じ、膜厚が不均一となった。

本発明は、上記従来の回転式粘性剤塗布装置の欠点を解
消しようとするものであり、以下に本発明の実施例につ
いて第２〜３図とともに説明する。

第２図は本発明の一実施例を示す回転式ホトレジスト塗
布装置の縦断面図である。

この第２図において、１１はセラミック基板、ガラス基
板、シリコン基板等の基板で、容器１２に載置されてい
る。

容器１２には蓋１３が設けられており、この容器１２と
蓋１３とにより密閉容器が構成されている。

容器１２は連通部１４を介してモータ１５に接続されて
おり、この連通部１４内部を貫通する孔１６から、密閉
容器内の空気を引くと、密閉容器内に真空状態となる。

１７はモータ１５が固定された支持容器である。

なお、１８は容器１２の内部周端に設けられたホトレジ
スト溜めである上記構成において、ホトレジストの粘度
が低い場合には基板１１上にホトレジストを滴下し、蓋
１３を固定し、密閉容器内を真空状態にしてからモータ
１５を駆動するとホトレジストは基板１１上の全面に広
がる。

この時基板１１の端部から飛散するホトレジストは、密
閉容器内が真空状態であるので、空気の抵抗が無く、落
下速度が速くなり、基板１１に再付着する以前に容器１
２の底壁に落下する。

このため、基板１１上のホトレジストの膜厚は均一とな
る。

例えば、ホトレジストの粘度が６０ｃｐ，モータｌ５の
回転速度が８００ｒｐｍ，基板１１が基板寸法５０ｍｍ
×１４０ｍｍであると、第４図イに示すような、基板１
１の一方端近傍部Ｂ１中央部Ａ１他方端近傍部Ｃの各長
手方向におけるホトレジストの膜厚分布は第３図口に示
すようになった。

この第３図口から膜厚がかなり均一となっていることが
わかる。

なお、基板１１と密閉容器とは同速度で回転するので飛
散するホトレジストは相対的に直進することとなり、ホ
トレジストの糸引きが無くなる。

以上のように本発明は粘性剤が滴下された基板を密閉容
器内に固定し、この密閉容器を真空状態で回転すること
によって基板に粘性剤を塗布する方法および、粘性剤を
塗布すべき基板を内部に固定する密閉容器と、この密閉
容器を回転部材と、前記密閉容器内を真空状態にする手
段とを備えた装置であり、特に粘性剤の粘度が低い場合
には密閉容器内を真空状態にしているので、粘性剤のは
ね返りや、糸引きが無くなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の回転式粘性剤塗布装置の縦断面図、第２
図は本発明の一実施例を示す回転式粘性剤塗布装置の縦
断面図、第３図イは同装置に用いられた基板の平面図、
第３図口は同基板上のホトレジストの膜厚分布図である
。 １１・・・・・・基板、１２・・・・・・容器、１３・
・・・・・蓋、１５・・・・・・モータ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 粘性剤が滴下された基板を密閉容器内部に固定し、
   この密閉容器を真空状態で回転して前記基板に前記粘性
   剤を塗布することを特徴とする回転式粘性剤塗布方法。 ２ 粘性剤を塗布すべき基板を内部に固定する密閉容器
   と、この密閉容器を回転する回転部材と、前記密閉容器
   内を真空状態にする手段とを備えてなる回転式粘性剤塗
   布装置。